JPH112327A - Ｏリング及びこれを具備する装置 - Google Patents
Ｏリング及びこれを具備する装置Info
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- JPH112327A JPH112327A JP15406897A JP15406897A JPH112327A JP H112327 A JPH112327 A JP H112327A JP 15406897 A JP15406897 A JP 15406897A JP 15406897 A JP15406897 A JP 15406897A JP H112327 A JPH112327 A JP H112327A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】Ｏリングのつぶれを防止でき、かつ耐反応性に
富みシールドの良いＯリング及びこれを具備するＯリン
グを備えた装置を提供する。 【解決手段】平面形状は環状である弾性体で、断面形状
は円形であるＯリングであって、ＯリングはＯリングの
内周、外周、あるいは、内外周、上部、下部に沿って環
状の突起部が配置されている。また、突起部が耐腐食性
材料から構成されて耐腐食性・耐プラズマ性を有する。 【効果】Ｏリングの弾性が無くなってつぶれた場合も突
起部が容器間にクッション的に入っているため容器破損
の心配がない。また、容器の破損によりＯリングが損傷
することも防止できるため、Ｏリングの寿命を飛躍的に
伸ばすことができる。また、容器内・外部に反応性の高
い物質が有る場合、耐腐食性材料の突起が合成ゴム製の
Ｏリングを保護するため腐食に強くできるという効果を
奏する。
富みシールドの良いＯリング及びこれを具備するＯリン
グを備えた装置を提供する。 【解決手段】平面形状は環状である弾性体で、断面形状
は円形であるＯリングであって、ＯリングはＯリングの
内周、外周、あるいは、内外周、上部、下部に沿って環
状の突起部が配置されている。また、突起部が耐腐食性
材料から構成されて耐腐食性・耐プラズマ性を有する。 【効果】Ｏリングの弾性が無くなってつぶれた場合も突
起部が容器間にクッション的に入っているため容器破損
の心配がない。また、容器の破損によりＯリングが損傷
することも防止できるため、Ｏリングの寿命を飛躍的に
伸ばすことができる。また、容器内・外部に反応性の高
い物質が有る場合、耐腐食性材料の突起が合成ゴム製の
Ｏリングを保護するため腐食に強くできるという効果を
奏する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｏリング、及びこ
れを具備するＯリングを備えた装置に関する。
れを具備するＯリングを備えた装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】部材と部材を組み合わせて真空容器等を
構成する場合、メンテナンス等を考慮しＯリングを介し
て密閉性を確保している。このとき、Ｏリングは弾性体
で断面形状は円形のものが用いられる。図１６及び図１
７に従来のＯリングを示す。図１６はＯリングを具備す
る装置を上面からみた上面図で、図１７はＯリングを具
備する装置の断面図である。その構成を説明すると、１
０１はベースプレート、１０２は容器、１０３はベース
プレート１０１に設置されたＯリング枠、２００はＯリ
ング、２０１はＯリングの合成ゴム製の部位をそれぞれ
示している。
構成する場合、メンテナンス等を考慮しＯリングを介し
て密閉性を確保している。このとき、Ｏリングは弾性体
で断面形状は円形のものが用いられる。図１６及び図１
７に従来のＯリングを示す。図１６はＯリングを具備す
る装置を上面からみた上面図で、図１７はＯリングを具
備する装置の断面図である。その構成を説明すると、１
０１はベースプレート、１０２は容器、１０３はベース
プレート１０１に設置されたＯリング枠、２００はＯリ
ング、２０１はＯリングの合成ゴム製の部位をそれぞれ
示している。
【０００３】容器内部に反応性の高い物質が有る場合材
質には、合成ゴム製のＯリングに代えて、フッ素系の高
分子材料を用いている。例えば、プラズマエッチング装
置では真空中に反応ガスを導入し高周波印加によりプラ
ズマ化するが、真空のシールドに合成ゴム製のＯリング
を用いた場合、プラズマに曝された部分は徐々に劣化し
パーティクルを生じ、最後には亀裂が生じ真空を維持で
きなくなるからである。
質には、合成ゴム製のＯリングに代えて、フッ素系の高
分子材料を用いている。例えば、プラズマエッチング装
置では真空中に反応ガスを導入し高周波印加によりプラ
ズマ化するが、真空のシールドに合成ゴム製のＯリング
を用いた場合、プラズマに曝された部分は徐々に劣化し
パーティクルを生じ、最後には亀裂が生じ真空を維持で
きなくなるからである。
【０００４】また、特開平４−１９３９７０号の図１で
は、真空容器とこれに覗き窓を組合わせた装置を開示し
ており、真空容器の覗き窓に接触する面に切られた溝部
にゴム製のＯリング１２を配置し、かつ、容器の覗き窓
と接する内壁のテーパ部に金属製リングあるいは耐腐食
性の高い材料からなるリングを配置するようにして、Ｏ
リングがプラズマエッチングガス等から保護することを
記載している。
は、真空容器とこれに覗き窓を組合わせた装置を開示し
ており、真空容器の覗き窓に接触する面に切られた溝部
にゴム製のＯリング１２を配置し、かつ、容器の覗き窓
と接する内壁のテーパ部に金属製リングあるいは耐腐食
性の高い材料からなるリングを配置するようにして、Ｏ
リングがプラズマエッチングガス等から保護することを
記載している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、一般
に用いられる合成ゴム系のＯリングは柔軟な弾性体であ
り容器の外気遮断性に富む反面、耐薬品・耐プラズマ性
が低い。合成ゴム系のＯリングにかえて、耐腐食性を有
するフッ素樹脂からなるＯリングを使用した場合には、
弾性が低く外気遮断性が低くなってしまう。そのためフ
ッ素含有の合成ゴム等も開発されているが、高価であっ
たり、物理的な強度も低かったりする。容器内部に反応
性の高い物質が有る場合Ｏリングの材質は限られ、フッ
素系の合成ゴムを用いる場合等があるが通常の合成ゴム
系のＯリングに比べ１００倍から１０００倍ものコスト
がかかる。また、耐熱性に劣る物が多く交換品度も多く
なる等の問題点を有していた。
に用いられる合成ゴム系のＯリングは柔軟な弾性体であ
り容器の外気遮断性に富む反面、耐薬品・耐プラズマ性
が低い。合成ゴム系のＯリングにかえて、耐腐食性を有
するフッ素樹脂からなるＯリングを使用した場合には、
弾性が低く外気遮断性が低くなってしまう。そのためフ
ッ素含有の合成ゴム等も開発されているが、高価であっ
たり、物理的な強度も低かったりする。容器内部に反応
性の高い物質が有る場合Ｏリングの材質は限られ、フッ
素系の合成ゴムを用いる場合等があるが通常の合成ゴム
系のＯリングに比べ１００倍から１０００倍ものコスト
がかかる。また、耐熱性に劣る物が多く交換品度も多く
なる等の問題点を有していた。
【０００６】さらに、特開平４−１９３９７０号に記載
した方法では金属製あるいは耐腐食性の高い材料からな
るＯリングを容器内壁に保持する方法が困難である。
した方法では金属製あるいは耐腐食性の高い材料からな
るＯリングを容器内壁に保持する方法が困難である。
【０００７】また、容器が例えばガラスのように壊れや
すい場合、特に真空装置である場合Ｏリングのつぶれに
より容器とベースプレートが当接して破損することがあ
った。
すい場合、特に真空装置である場合Ｏリングのつぶれに
より容器とベースプレートが当接して破損することがあ
った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のＯリングは、平
面形状は環状である弾性体で断面形状は円形であるＯリ
ングであって、前記Ｏリングは環状の突起部を有するこ
とを特徴とする。
面形状は環状である弾性体で断面形状は円形であるＯリ
ングであって、前記Ｏリングは環状の突起部を有するこ
とを特徴とする。
【０００９】また、本発明のＯリングを具備した装置
は、平面形状は環状である弾性体で断面形状は円形であ
るＯリングを具備した装置であって、前記Ｏリングは環
状の突起部を有することを特徴とする。
は、平面形状は環状である弾性体で断面形状は円形であ
るＯリングを具備した装置であって、前記Ｏリングは環
状の突起部を有することを特徴とする。
【００１０】さらに、本発明のＯリングは、突起部が耐
腐食性材料からなることを特徴とする。
腐食性材料からなることを特徴とする。
【００１１】
【作用】本発明によれば、Ｏリングの弾性が無くなって
つぶれた場合も突起部が容器間にクッション的に入って
いるため容器破損の心配がない。また、容器の破損によ
りＯリングが損傷することも防止できるため、Ｏリング
の寿命を飛躍的に伸ばすことができる。また、容器内・
外部に反応性の高い物質が有る場合、耐腐食性材料の突
起が合成ゴム製のＯリングを保護するため腐食に強く、
合成ゴムの弾力性で気密性を高くできるという効果を奏
する。
つぶれた場合も突起部が容器間にクッション的に入って
いるため容器破損の心配がない。また、容器の破損によ
りＯリングが損傷することも防止できるため、Ｏリング
の寿命を飛躍的に伸ばすことができる。また、容器内・
外部に反応性の高い物質が有る場合、耐腐食性材料の突
起が合成ゴム製のＯリングを保護するため腐食に強く、
合成ゴムの弾力性で気密性を高くできるという効果を奏
する。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
【００１３】図１乃至図１５において、図中に示すＯリ
ングは図の左側がＯリングの内周側として説明する。
ングは図の左側がＯリングの内周側として説明する。
【００１４】図１乃至図１０を用いて、本願の第１の実
施例を説明する。図２、図４、図６、図８及び図１０は
Ｏリングの断面図を、図１、図３、図５、図７、図９
は、それぞれ、図２、図４、図６、図８、図１０に示し
たＯリングを備えた装置を示す。その構成を説明する
と、１０１はベースプレート、１０２は容器、１０３は
ベースプレート１０１に設置されたＯリング枠、２０１
は合成ゴム製のＯリングを示す。
施例を説明する。図２、図４、図６、図８及び図１０は
Ｏリングの断面図を、図１、図３、図５、図７、図９
は、それぞれ、図２、図４、図６、図８、図１０に示し
たＯリングを備えた装置を示す。その構成を説明する
と、１０１はベースプレート、１０２は容器、１０３は
ベースプレート１０１に設置されたＯリング枠、２０１
は合成ゴム製のＯリングを示す。
【００１５】図２に示すＯリングはＯリング内周側に、
図４のＯリングはＯリング外周側に、図６のＯリングは
Ｏリングの内周側と外周側の両方に、図８のＯリングは
Ｏリングの上部と下部に、図１０のＯリングはＯリング
下部に突起部が形成されている。図２、図４、図６、図
８、図１０のような突起部を持つＯリングを、それぞれ
図１、図３、図５、図７、図９の様に装置へ組み込み、
真空装置又は外気圧により容器１０２が、ベースプレー
ト１０１に押さえ付けられたとき、Ｏリングはベースプ
レートに垂直な方向に押しつぶされ、容器とベースプレ
ートの隙間にはＯリングの突起部がクッションとして介
在するため、直接容器とベースプレートが接触しない。
よって、容器とベースプレートの接触による容器の破損
が起こらず、また、容器とベースプレートが接触するこ
とによるパーティクルの発生も防止出来る。
図４のＯリングはＯリング外周側に、図６のＯリングは
Ｏリングの内周側と外周側の両方に、図８のＯリングは
Ｏリングの上部と下部に、図１０のＯリングはＯリング
下部に突起部が形成されている。図２、図４、図６、図
８、図１０のような突起部を持つＯリングを、それぞれ
図１、図３、図５、図７、図９の様に装置へ組み込み、
真空装置又は外気圧により容器１０２が、ベースプレー
ト１０１に押さえ付けられたとき、Ｏリングはベースプ
レートに垂直な方向に押しつぶされ、容器とベースプレ
ートの隙間にはＯリングの突起部がクッションとして介
在するため、直接容器とベースプレートが接触しない。
よって、容器とベースプレートの接触による容器の破損
が起こらず、また、容器とベースプレートが接触するこ
とによるパーティクルの発生も防止出来る。
【００１６】図１１乃至図１５を用いて、本願発明の第
２の実施例を説明する。
２の実施例を説明する。
【００１７】図１１乃至図１５はＯリングの断面図を示
しており、２０１はＯリングの合成ゴム製の部位、２０
２はＯリングのフッ素樹脂等の耐腐食性材料でできた板
状突起部位である。図１１では、板状突起部位が、Ｏリ
ング内周に沿って環状に設置されている。図１２では、
Ｏリングの外周に沿って板状突起部位が環状に設置さ
れ、図１３ではＯリングの内周、外周の両方に沿って板
状突起部位が環状に設置され、図１４ではＯリング下部
に沿って板状突起部位が環状に設置され、図１５ではＯ
リング上下部に沿って板状突起部位が環状に設置されて
いる例を示す。
しており、２０１はＯリングの合成ゴム製の部位、２０
２はＯリングのフッ素樹脂等の耐腐食性材料でできた板
状突起部位である。図１１では、板状突起部位が、Ｏリ
ング内周に沿って環状に設置されている。図１２では、
Ｏリングの外周に沿って板状突起部位が環状に設置さ
れ、図１３ではＯリングの内周、外周の両方に沿って板
状突起部位が環状に設置され、図１４ではＯリング下部
に沿って板状突起部位が環状に設置され、図１５ではＯ
リング上下部に沿って板状突起部位が環状に設置されて
いる例を示す。
【００１８】実施例１と同様に、真空装置又は外気圧に
より容器１０２が、ベースプレート１０１に押さえ付け
られたとき、Ｏリングはベースプレートに垂直な方向に
押しつぶされ、容器とベースプレートの隙間にはＯリン
グの突起部が介在するようになるため、板状突起部位が
クッションとして働き、容器とベースプレートとが直接
接触することを防止する。
より容器１０２が、ベースプレート１０１に押さえ付け
られたとき、Ｏリングはベースプレートに垂直な方向に
押しつぶされ、容器とベースプレートの隙間にはＯリン
グの突起部が介在するようになるため、板状突起部位が
クッションとして働き、容器とベースプレートとが直接
接触することを防止する。
【００１９】さらに、これらのＯリングについては、特
に耐薬品・耐プラズマ性が高い。例えばプラズマエッチ
ング装置では真空中に反応ガスを導入し高周波印加によ
りプラズマ化するが、これらの突起部を有するＯリング
を、反応雰囲気側に突起部が来るように設置すると、圧
力２Ｔｏｒｒで酸素１３００ＳＣＣＭを導入しマイクロ
波９００Ｗで励起した場合、Ｏリングは使用一年後でも
パーティクルの発生はなく真空の保持も十分行えた。ま
た、容器として、石英のベルジャーを使用した場合、突
起部のないＯリングを用いると、三ヶ月程度で石英の欠
け等が発生するが、本実施例によればベースプレートに
当たることなく運用できた。またこれらのＯリングは、
従来のＯリング溝の改造をせずに使えた。
に耐薬品・耐プラズマ性が高い。例えばプラズマエッチ
ング装置では真空中に反応ガスを導入し高周波印加によ
りプラズマ化するが、これらの突起部を有するＯリング
を、反応雰囲気側に突起部が来るように設置すると、圧
力２Ｔｏｒｒで酸素１３００ＳＣＣＭを導入しマイクロ
波９００Ｗで励起した場合、Ｏリングは使用一年後でも
パーティクルの発生はなく真空の保持も十分行えた。ま
た、容器として、石英のベルジャーを使用した場合、突
起部のないＯリングを用いると、三ヶ月程度で石英の欠
け等が発生するが、本実施例によればベースプレートに
当たることなく運用できた。またこれらのＯリングは、
従来のＯリング溝の改造をせずに使えた。
【００２０】また、コスト的にもフッ素樹脂等の反応性
の高い樹脂自体は手に入りやすい価格であり、２０ｃｍ
の環状板で合成ゴムと組み合わせた場合、フッ素含有ゴ
ムの２から３桁安価に用意できる。
の高い樹脂自体は手に入りやすい価格であり、２０ｃｍ
の環状板で合成ゴムと組み合わせた場合、フッ素含有ゴ
ムの２から３桁安価に用意できる。
【００２１】以上、本願発明の第１の実施例及び第２の
実施例ではプラズマ装置について説明しているが、一例
でありこれらに限られるわけではなく薬品の容器や、真
空容器、等様々な応用が可能である。また、本願発明の
Ｏリング及びＯリングを備えた装置は、既存のＯリング
用溝を使え装置の改造が必要なく拡張性に優れた物であ
る。
実施例ではプラズマ装置について説明しているが、一例
でありこれらに限られるわけではなく薬品の容器や、真
空容器、等様々な応用が可能である。また、本願発明の
Ｏリング及びＯリングを備えた装置は、既存のＯリング
用溝を使え装置の改造が必要なく拡張性に優れた物であ
る。
【００２２】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のＯリング及
びＯリングを備えた装置によれば、Ｏリングのつぶれに
よる交換頻度を飛躍的に延ばせた。また、ガラス容器、
石英容器やセラミック容器等の破損しやすい部品との組
み合わせにおいて、破損の回避が実現できた。
びＯリングを備えた装置によれば、Ｏリングのつぶれに
よる交換頻度を飛躍的に延ばせた。また、ガラス容器、
石英容器やセラミック容器等の破損しやすい部品との組
み合わせにおいて、破損の回避が実現できた。
【００２３】低コストで耐薬品・耐プラズマ性の高いの
シールドが実現でき、Ｏリングの劣化によるパーティク
ルの発生を抑え、真空の保持等にも優れた特性を得られ
る。
シールドが実現でき、Ｏリングの劣化によるパーティク
ルの発生を抑え、真空の保持等にも優れた特性を得られ
る。
【図１】本発明の一実施の形態を示すＯリングを備えた
装置の断面図。
装置の断面図。
【図２】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図３】本発明の一実施の形態を示すＯリングを備えた
装置の断面図。
装置の断面図。
【図４】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図５】本発明の一実施の形態を示すＯリングを備えた
装置の断面図。
装置の断面図。
【図６】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図７】本発明の一実施の形態を示すＯリングを備えた
装置の断面図。
装置の断面図。
【図８】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図９】本発明の一実施の形態を示すＯリングを備えた
装置の断面図。
装置の断面図。
【図１０】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１１】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１２】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１３】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１４】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１５】本発明の一実施の形態を示すＯリングの断面
図。
図。
【図１６】従来の形態を示すＯリングの上面図。
【図１７】従来の形態を示すＯリングを備えた装置の断
面図。
面図。
【符号の説明】 １０１．ベースプレート １０２．容器 １０３．Ｏリング枠 ２００．Ｏリング ２０１．合成ゴム製のＯリング ２０２．耐腐食性材料のＯリング
Claims (4)
- 【請求項１】平面形状は環状である弾性体で断面形状は
円形であるＯリングであって、前記Ｏリングは環状の突
起部を有することを特徴とするＯリング。 - 【請求項２】平面形状は環状である弾性体で断面形状は
円形であるＯリングを具備した装置であって、前記Ｏリ
ングは環状の突起部を有することを特徴とするＯリング
を具備した装置。 - 【請求項３】平面形状は環状である弾性体で断面形状は
円形であるＯリングであって、前記Ｏリングは耐腐食性
材料の環状の突起部を有することを特徴とするＯリン
グ。 - 【請求項４】平面形状は環状である弾性体で断面形状は
円形であるＯリングを具備した装置であって、前記Ｏリ
ングは耐腐食性材料の環状の突起部を有することを特徴
とするＯリングを具備した装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15406897A JPH112327A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | Ｏリング及びこれを具備する装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15406897A JPH112327A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | Ｏリング及びこれを具備する装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH112327A true JPH112327A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15576199
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15406897A Withdrawn JPH112327A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | Ｏリング及びこれを具備する装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH112327A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100643510B1 (ko) | 2005-01-20 | 2006-11-10 | 박현문 | 반도체 장비용 대형 오링의 제조장치 및 그 성형장치에의해 제조된 대형 오링 |
| JP2007251223A (ja) * | 2001-06-01 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2007295001A (ja) * | 2001-06-01 | 2007-11-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2020149925A (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-17 | オムロン株式会社 | センサ |
| JP2021036530A (ja) * | 2016-03-29 | 2021-03-04 | Ｓｐｐテクノロジーズ株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1997
- 1997-06-11 JP JP15406897A patent/JPH112327A/ja not_active Withdrawn
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007251223A (ja) * | 2001-06-01 | 2007-09-27 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2007295001A (ja) * | 2001-06-01 | 2007-11-08 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
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| WO2020189412A1 (ja) * | 2019-03-15 | 2020-09-24 | オムロン株式会社 | センサ |
| KR20210114048A (ko) * | 2019-03-15 | 2021-09-17 | 오므론 가부시키가이샤 | 센서 및 전자 기기 |
| CN113544808A (zh) * | 2019-03-15 | 2021-10-22 | 欧姆龙株式会社 | 传感器 |
| US11776770B2 (en) | 2019-03-15 | 2023-10-03 | Omron Corporation | Sensor and electronic device |
| CN113544808B (zh) * | 2019-03-15 | 2025-03-11 | 欧姆龙株式会社 | 传感器及电子设备 |
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