JPH11233244A - Ｃｖｄ装置用熱板 - Google Patents
Ｃｖｄ装置用熱板Info
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- JPH11233244A JPH11233244A JP4891698A JP4891698A JPH11233244A JP H11233244 A JPH11233244 A JP H11233244A JP 4891698 A JP4891698 A JP 4891698A JP 4891698 A JP4891698 A JP 4891698A JP H11233244 A JPH11233244 A JP H11233244A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 腐食性ガスによりプラズマクリーニングをす
るＣＶＤ装置内に設置する熱板において、高温環境下で
も変形が小さく表面平面度が良好で、また均熱で大型化
可能であり、更に劣化による頻繁な交換を必要としない
熱板を提供する。 【構成】 純アルミニウムプレートを重ね３層構造とす
る、詳しくは第１層に溝を設け該溝内にヒーターを入
れ、第１層と第２層を接着し、一方第３層に溝を設け該
溝内に補強材を入れて第３層と第２層とを接着して３層
構造とし、該ヒーター及び補強材は各層のいずれのプレ
ートにも接着させず溝内に収める。また前記構造の熱板
を複数枚平面状に組み合わせて一体とする。更に熱板表
面部の腐食ガス性に曝される面にアルミニウムの保護プ
レートを載置して覆った構成をとる。
るＣＶＤ装置内に設置する熱板において、高温環境下で
も変形が小さく表面平面度が良好で、また均熱で大型化
可能であり、更に劣化による頻繁な交換を必要としない
熱板を提供する。 【構成】 純アルミニウムプレートを重ね３層構造とす
る、詳しくは第１層に溝を設け該溝内にヒーターを入
れ、第１層と第２層を接着し、一方第３層に溝を設け該
溝内に補強材を入れて第３層と第２層とを接着して３層
構造とし、該ヒーター及び補強材は各層のいずれのプレ
ートにも接着させず溝内に収める。また前記構造の熱板
を複数枚平面状に組み合わせて一体とする。更に熱板表
面部の腐食ガス性に曝される面にアルミニウムの保護プ
レートを載置して覆った構成をとる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】 腐食性ガスを使用してチャンバ
ー内をプラズマクリーニングするＣＶＤ装置のチャンバ
ー内に設置し利用される熱板に関する。
ー内をプラズマクリーニングするＣＶＤ装置のチャンバ
ー内に設置し利用される熱板に関する。
【０００２】
【従来の技術】 半導体製造工程の中で、基板表面に酸
化シリコンの薄膜を形成するプラズマＣＶＤ成膜工程が
ある。該プラズマＣＶＤ装置は、排気管９２と吸気管９
１を有する反応チャンバー内９３に、基板９４を載置す
る、ヒーター９６を組み込んだ熱板９５と、熱板９５に
対して対向配置され高周波電力を供給する高周波電極９
７より概略構成されており、所定の温度に加熱された反
応チャンバー内９３の熱板９５上に基板９４を載置し、
反応ガスを供給し、前記電極９７に高周波電圧を印加し
てプラズマを発生させ、ガス分子を分離し、基板表面に
酸化シリコン薄膜を形成させるものである。
化シリコンの薄膜を形成するプラズマＣＶＤ成膜工程が
ある。該プラズマＣＶＤ装置は、排気管９２と吸気管９
１を有する反応チャンバー内９３に、基板９４を載置す
る、ヒーター９６を組み込んだ熱板９５と、熱板９５に
対して対向配置され高周波電力を供給する高周波電極９
７より概略構成されており、所定の温度に加熱された反
応チャンバー内９３の熱板９５上に基板９４を載置し、
反応ガスを供給し、前記電極９７に高周波電圧を印加し
てプラズマを発生させ、ガス分子を分離し、基板表面に
酸化シリコン薄膜を形成させるものである。
【０００３】しかし、上記のプラズマＣＶＤ成膜処理に
より成膜された酸化シリコン膜は、基板表面以外の熱板
９５やチャンバー内９３にも蒸着し付着、堆積する。こ
の堆積物は剥離または再蒸着などにより、異物となって
基板を汚染し、その品質を劣化させる等の問題があるた
め、定期的にチャンバー内部をクリーニングし、この汚
染を排除する必要がある。
より成膜された酸化シリコン膜は、基板表面以外の熱板
９５やチャンバー内９３にも蒸着し付着、堆積する。こ
の堆積物は剥離または再蒸着などにより、異物となって
基板を汚染し、その品質を劣化させる等の問題があるた
め、定期的にチャンバー内部をクリーニングし、この汚
染を排除する必要がある。
【０００４】そこで近年チャンバー内のクリーニング方
法としてプラズマによるガスクリーニングが行われてい
る。これはチャンバー内を低真空状態とし、微量の腐食
性ガス（ＮＦ3 、ＣＦ4 等）を該チャンバー内に供給
し、電極に高周波を印加してガスをプラズマ化させ、こ
れにより生じるフッ素ラジカルにより、各部に付着して
いる堆積物をフッ化、剥離して排気ガスとともにチャン
バー外に排出させるものである。
法としてプラズマによるガスクリーニングが行われてい
る。これはチャンバー内を低真空状態とし、微量の腐食
性ガス（ＮＦ3 、ＣＦ4 等）を該チャンバー内に供給
し、電極に高周波を印加してガスをプラズマ化させ、こ
れにより生じるフッ素ラジカルにより、各部に付着して
いる堆積物をフッ化、剥離して排気ガスとともにチャン
バー外に排出させるものである。
【０００５】上記クリーニング方法においては、腐食性
ガスが使用されるため、チャンバー内部には耐食性が求
められる。そこで本用途のチャンバー内部の材質には一
般的に比較的耐食性の高いアルミニウムや表面にアルマ
イト処理を施したアルミ系材料が用いられる。
ガスが使用されるため、チャンバー内部には耐食性が求
められる。そこで本用途のチャンバー内部の材質には一
般的に比較的耐食性の高いアルミニウムや表面にアルマ
イト処理を施したアルミ系材料が用いられる。
【０００６】当然チャンバー内部に設置される熱板にも
耐食性が求められるため、従来より熱板として、アルミ
ニウムや表面にアルマイト処理を施したアルミ系材料に
ヒーターを鋳込んだ、鋳込みヒーター等が使用されてい
た。
耐食性が求められるため、従来より熱板として、アルミ
ニウムや表面にアルマイト処理を施したアルミ系材料に
ヒーターを鋳込んだ、鋳込みヒーター等が使用されてい
た。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】 しかし従来の鋳込み
ヒーター等による熱板では、その製造工程での巣の発生
は避けられず、この巣が熱板表面の突起物、高温となっ
たときの内部ガスの放出といった問題を引き起こしてい
た。また、従来のアルミニウムの熱板では、高温での機
械的強度の弱さから、大きな歪みが生じるといった現象
があり、ワークへの均一な成膜のための平面度が十分に
得られないといった問題があった。更に熱板の材質のア
ルミ系材料と内部のヒーター材料（通常ニッケル−クロ
ム系合金）との高温にしたときの膨張率の違いによる、
更に大きな変形やヒーターの断線といった可能性も否定
できなかった。
ヒーター等による熱板では、その製造工程での巣の発生
は避けられず、この巣が熱板表面の突起物、高温となっ
たときの内部ガスの放出といった問題を引き起こしてい
た。また、従来のアルミニウムの熱板では、高温での機
械的強度の弱さから、大きな歪みが生じるといった現象
があり、ワークへの均一な成膜のための平面度が十分に
得られないといった問題があった。更に熱板の材質のア
ルミ系材料と内部のヒーター材料（通常ニッケル−クロ
ム系合金）との高温にしたときの膨張率の違いによる、
更に大きな変形やヒーターの断線といった可能性も否定
できなかった。
【０００８】また近年液晶ディスプレイに使用される薄
膜トランジスタ（ＴＦＴ）用プラズマＣＶＤ装置等に代
表されるように電子部品分野では成膜装置の大型化が進
んでおり、熱板に対しても大型化の要望が強まっている
が、従来の鋳込みヒーターでは前記した歪みの問題が熱
板の表面積を大きくするほど顕著となるため、大型化が
難しいといった問題もあった。
膜トランジスタ（ＴＦＴ）用プラズマＣＶＤ装置等に代
表されるように電子部品分野では成膜装置の大型化が進
んでおり、熱板に対しても大型化の要望が強まっている
が、従来の鋳込みヒーターでは前記した歪みの問題が熱
板の表面積を大きくするほど顕著となるため、大型化が
難しいといった問題もあった。
【０００９】更に腐食性ガスに対して比較的耐食性が高
いアルミニウムや表面にアルマイト処理を施したアルミ
系材料を使用しているといえども徐々に腐食が進むた
め、一定枚数を処理するごとに熱板を新品に交換する必
要があった。
いアルミニウムや表面にアルマイト処理を施したアルミ
系材料を使用しているといえども徐々に腐食が進むた
め、一定枚数を処理するごとに熱板を新品に交換する必
要があった。
【００１０】以上の問題点に鑑み、本発明は、アルミニ
ウムを使用しながら巣による問題がなく、高温環境下で
も変形が小さく表面平面度の高いＣＶＤ装置用熱板を提
供することを目的とする。
ウムを使用しながら巣による問題がなく、高温環境下で
も変形が小さく表面平面度の高いＣＶＤ装置用熱板を提
供することを目的とする。
【００１１】また、本発明の別の目的は、市場の要望に
鑑み、大型のワークに対応可能な表面積が大きく、しか
も均熱なＣＶＤ装置用熱板を提供することである。
鑑み、大型のワークに対応可能な表面積が大きく、しか
も均熱なＣＶＤ装置用熱板を提供することである。
【００１２】更に本発明の別な目的は、熱板を頻繁に交
換することを必要としない長寿命なＣＶＤ装置用熱板を
提供することである。
換することを必要としない長寿命なＣＶＤ装置用熱板を
提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】 本発明のＣＶＤ装置用
熱板は、３枚の純アルミニウムのプレートを重ね、その
異なる層間の一方にヒーター、他方に補強材を挟み込ん
で層間を接着して３層構造とする、詳しくは、第１層に
溝を設け該溝内にヒーターを入れ、第１層と第２層を接
着し、一方第３層に溝を設け該溝内に補強材を入れて第
３層と第２層と接着して３層構造とし、該ヒーター及び
補強材は各層のいずれのプレートにも接着させず溝内に
収める。
熱板は、３枚の純アルミニウムのプレートを重ね、その
異なる層間の一方にヒーター、他方に補強材を挟み込ん
で層間を接着して３層構造とする、詳しくは、第１層に
溝を設け該溝内にヒーターを入れ、第１層と第２層を接
着し、一方第３層に溝を設け該溝内に補強材を入れて第
３層と第２層と接着して３層構造とし、該ヒーター及び
補強材は各層のいずれのプレートにも接着させず溝内に
収める。
【００１４】また、前記構造の熱板を複数枚平面状に組
み合わせて並べ一体とする。
み合わせて並べ一体とする。
【００１５】更に前記構造の熱板の上部表面の腐食性ガ
スに曝される面に純アルミニウムの保護プレートを載置
して該表面を覆って解決手段とした。
スに曝される面に純アルミニウムの保護プレートを載置
して該表面を覆って解決手段とした。
【００１６】
【作用】 本発明の３層構造の熱板によれば、アルミプ
レートにヒーターを装着するのに鋳込みのような製造方
法をとらないため、元より巣の発生がなく、前記したよ
うな巣に起因する問題は排除され、また、補強材を入れ
たことにより、高温にしても歪み変形が小さく、更にプ
レートとヒーター、補強材が接着されていないため、高
温にしたときの膨張率の違いによる変形、ヒーターの破
損がない。即ち、アルミ材に比較してヒーターのシース
材（通常ニッケル−クロム系合金材）や補強材の鉄材は
熱膨張が小さいため、接着して固定した場合アルミニウ
ム板が変形したり、ヒーターが引っ張られ破損する可能
性があるが、これが排除される。
レートにヒーターを装着するのに鋳込みのような製造方
法をとらないため、元より巣の発生がなく、前記したよ
うな巣に起因する問題は排除され、また、補強材を入れ
たことにより、高温にしても歪み変形が小さく、更にプ
レートとヒーター、補強材が接着されていないため、高
温にしたときの膨張率の違いによる変形、ヒーターの破
損がない。即ち、アルミ材に比較してヒーターのシース
材（通常ニッケル−クロム系合金材）や補強材の鉄材は
熱膨張が小さいため、接着して固定した場合アルミニウ
ム板が変形したり、ヒーターが引っ張られ破損する可能
性があるが、これが排除される。
【００１７】近年の大型で均熱な熱板に対する要望に
は、複数の同一の熱板を平面に並べることで対応可能
で、更に一枚の大型熱板と比較しても歪みが小さく、小
型のものほど温度管理がきめ細かくできるため均熱性も
向上させることができる。
は、複数の同一の熱板を平面に並べることで対応可能
で、更に一枚の大型熱板と比較しても歪みが小さく、小
型のものほど温度管理がきめ細かくできるため均熱性も
向上させることができる。
【００１８】熱板表面を保護プレートで覆うことによ
り、腐食が進んだ場合でも熱板には腐食性ガスが直接触
れないため、保護プレートのみの交換で済み、熱板本体
は交換が不要となる。
り、腐食が進んだ場合でも熱板には腐食性ガスが直接触
れないため、保護プレートのみの交換で済み、熱板本体
は交換が不要となる。
【００１９】
【実施例】 以下本発明の実施例を図面を参考しながら
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００２０】図１、図２は本発明の実施例の熱板を示し
たもので、純アルミニウムプレート１（４００＊４５
０）の３層構造をなし、第１層のプレート１１と第２層
のプレート１２との層間にヒーター３が、第２層プレー
ト１２と第３層プレート１３の層間に補強材５を挟んで
熱板本体の基本構成をなす。より詳細には、第１層のプ
レート１１に溝２を切り、該溝２内にヒーター３（２ｋ
Ｗ＊８本）を入れる。尚、該ヒーター３の配置は熱板表
面が均熱となるよう計算し設計され、温度センサー（図
示せず）としてシース熱電対を取り付けた。一方第３層
のプレート１３にはプレート１３中心から放射状に溝４
を切り、該溝４内に超強力鋼（１８％Ｎｉマルエージン
グ鋼）よりなる補強材５を入れ、各々、層の溝を切った
面を第２層のプレート１２とろう材により接着して構成
する。尚、ろう材による接着のさい、ヒーター３及び補
強材５がいずれのプレート１とも接着されないようにヒ
ーター３及び補強材５には接着防止剤を予め施す。
たもので、純アルミニウムプレート１（４００＊４５
０）の３層構造をなし、第１層のプレート１１と第２層
のプレート１２との層間にヒーター３が、第２層プレー
ト１２と第３層プレート１３の層間に補強材５を挟んで
熱板本体の基本構成をなす。より詳細には、第１層のプ
レート１１に溝２を切り、該溝２内にヒーター３（２ｋ
Ｗ＊８本）を入れる。尚、該ヒーター３の配置は熱板表
面が均熱となるよう計算し設計され、温度センサー（図
示せず）としてシース熱電対を取り付けた。一方第３層
のプレート１３にはプレート１３中心から放射状に溝４
を切り、該溝４内に超強力鋼（１８％Ｎｉマルエージン
グ鋼）よりなる補強材５を入れ、各々、層の溝を切った
面を第２層のプレート１２とろう材により接着して構成
する。尚、ろう材による接着のさい、ヒーター３及び補
強材５がいずれのプレート１とも接着されないようにヒ
ーター３及び補強材５には接着防止剤を予め施す。
【００２１】前記手段で構成した熱板を第１層のプレー
ト１１を表面として平面上に縦横２枚、計４枚を並べて
一組の熱板（８００＊９００）とした。
ト１１を表面として平面上に縦横２枚、計４枚を並べて
一組の熱板（８００＊９００）とした。
【００２２】更に前記熱板の表面に一枚の熱板表面保護
のための保護プレート６（１１００＊１２００）を熱板
表面を完全に覆うように載置して本発明の熱板を構成し
た。
のための保護プレート６（１１００＊１２００）を熱板
表面を完全に覆うように載置して本発明の熱板を構成し
た。
【００２３】尚、上記熱板はプラズマＣＶＤ装置への使
用に限定したものではなく、同様なクリーニングを必要
とするエッチング装置にも使用できる。
用に限定したものではなく、同様なクリーニングを必要
とするエッチング装置にも使用できる。
【００２４】
【発明の効果】 本発明によれば、巣の発生を排除した
製造方法、補強材の効果更にヒーター及び補強材と熱板
のプレートが接着されていない構成の作用により、高温
でも表面の歪みが小さく平面度が良好なため、高温条件
下でもワークに均一な成膜を形成することが可能な熱板
を提供することができる。
製造方法、補強材の効果更にヒーター及び補強材と熱板
のプレートが接着されていない構成の作用により、高温
でも表面の歪みが小さく平面度が良好なため、高温条件
下でもワークに均一な成膜を形成することが可能な熱板
を提供することができる。
【００２５】歪みの小さい構造の前記熱板を複数枚平面
上に並べて構成するため、全体の歪み変形が小さく均熱
性の良好さを保ちながら、大面積化可能で、ワークの大
型化要望に対応できる。
上に並べて構成するため、全体の歪み変形が小さく均熱
性の良好さを保ちながら、大面積化可能で、ワークの大
型化要望に対応できる。
【００２６】熱板の腐食性ガス接触面に保護プレートを
載置することにより、熱板表面自体は腐食が進まず、保
護プレートのみの交換で済むため、熱板が長寿命化し低
コスト化が可能となる。
載置することにより、熱板表面自体は腐食が進まず、保
護プレートのみの交換で済むため、熱板が長寿命化し低
コスト化が可能となる。
【図１】 本発明の熱板の実施例を示す横断面図
【図２】 本発明の熱板の実施例を示す上面図（保護プ
レートは省略）
レートは省略）
【図３】 一般的なＣＶＤ装置の概略図
１． アルミニウムプレート １１．第１層のプレート １２．第２層のプレート １３．第３層のプレート ２． 溝（ヒーター用） ３． ヒーター ４． 溝（補強材用） ５． 補強材 ６． 保護プレート ９１．吸気管 ９２．排気管 ９３．チャンバー内 ９４．基板（ワーク） ９５．熱板 ９６．ヒーター ９７．高周波電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 柿崎 應岳 長野県埴科郡戸倉町大字磯部1490番地 株 式会社八光電機製作所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ＣＶＤ装置のチャンバー内に設置される
熱板において、アルミニウムプレートを重ね、接着して
３層構造とした熱板本体の異なるプレート層間の一方に
ヒーター、他方に補強材を組み込んだことを特徴とした
ＣＶＤ装置用熱板。 - 【請求項２】 請求項１の熱板を平面状に複数枚並べ一
体とした請求項１のＣＶＤ装置用熱板。 - 【請求項３】 熱板の表面にアルミニウムのプレートを
載置したことを特徴とする請求項１、又は２のＣＶＤ装
置用熱板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4891698A JP2883066B1 (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | Ｃｖｄ装置用熱板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4891698A JP2883066B1 (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | Ｃｖｄ装置用熱板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2883066B1 JP2883066B1 (ja) | 1999-04-19 |
| JPH11233244A true JPH11233244A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=12816587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4891698A Expired - Fee Related JP2883066B1 (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | Ｃｖｄ装置用熱板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2883066B1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002212734A (ja) * | 2001-01-22 | 2002-07-31 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | プラズマｃｖｄ装置におけるクリーニングモニタ方法及びプラズマｃｖｄ装置 |
| EP1760170A2 (en) | 2005-09-05 | 2007-03-07 | Japan Pionics Co., Ltd. | Chemical vapor deposition apparatus |
| JP2014146597A (ja) * | 2014-02-17 | 2014-08-14 | Sukegawa Electric Co Ltd | 基板加熱プレートヒータ |
| WO2021210677A1 (ja) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | 株式会社デンソー | ヒータ装置 |
-
1998
- 1998-02-12 JP JP4891698A patent/JP2883066B1/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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