JPH112384A

JPH112384A - 配管システム

Info

Publication number: JPH112384A
Application number: JP9155492A
Authority: JP
Inventors: Koji Watanabe; 浩二渡邊
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-06-12
Filing date: 1997-06-12
Publication date: 1999-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】組み立てた配管の占有面積が小さく、バル
ブ、フィルタ等の機能部品の交換が容易であり、かつ搬
送するガスを均一に加熱し得る配管システムを提供する
こと。【解決手段】フィルタ１１、エアオペレートバルブ２
１等が集積されて着脱可能に固定され、内部にガス流路
３７が形成された集積ブロック３１を接続して配管を組
み立てる配管システムにおいて、集積ブロック３１のガ
ス流路３７にほぼ平行にボディの側面部に形成させた溝
にテープヒータ４１が挿入され、テープヒータ４１は温
度制御装置４７に接続されて通電されることにより、集
積ブロック３１が加熱されて所定の温度に保持され、エ
アオペレートバルブ２１等を経てガス流路３７を搬送さ
れるガスが均一に加熱される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は配管システムに関す
るものであり、更に詳しくは、組み立てられた時の占有
面積が小さく、バルブ、フィルタ等の機能部品の交換が
容易であり、搬送するガスを均等に加熱し得る配管シス
テムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造においては、周知
のように、５００〜１０００℃の範囲内における所定の
温度に保持したＣＶＤ炉内にウェーハを装填し、原料ガ
ス、例えばシラン（ＳｉＨ₄ ）、ジクロロシラン（Ｓｉ
Ｈ₂ Ｃｌ₂ ）等を導入して熱分解させ、ウェーハ上に薄
膜を形成させることが行われる。また、形成された薄膜
にドナーやアクセプタを熱拡散させるために、所定の温
度に保持した拡散炉内に薄膜の形成されたウェーハを装
填し、ドナーやアクセプタとなる元素を含むドーパント
ガスを導入することが行われている。そして、ドナーと
なるリン（Ｐ）や砒素（Ａｓ）にはホスフィン（ＰＨ
₃ ）、三酸化塩化リン（ＰＣｌＯ₃ ）、アルシン（Ａｓ
Ｈ₃ ）、三塩化砒素（ＡｓＣｌ₃ ）など、アクセプタと
なる硼素（Ｂ）には三塩化硼素（ＢＣｌ₃ ）、水素化硼
素（Ｂ₂ Ｈ₆ ）などがドーパントガスとして使用されて
いる。

【０００３】これらのガスの中には液体状態の物があ
り、ＣＶＤ炉内、拡散炉内への導入時に加熱気化されて
不活性のキャリアガスと共に送り込まれる。しかし、ガ
スの種類によっては、ＣＶＤ炉や拡散炉へ送り込まれる
途中において冷却されてその一部が結露ないしは液化す
る場合があり、液化するとＳＵＳ配管内のガスの搬送を
妨げるほか、ＳＵＳ配管を腐食する原因にもなる。

【０００４】図９はそのようなガスを搬送する配管の一
部分を示す平面図であり、フィルタ、マスフローコント
ローラ、エアオペレートバルブ（ダイヤフラムによって
開閉される空気圧制御バルブ）等（以降、これらを総称
する場合は機能部品とする）がＳＵＳパイプによって連
結されている。すなわち、この配管３においては、窒素
（Ｎ₂ ）ガスがフィルタ（Ｆ）１１₁ からマスフローコ
ントローラ（ＭＦＣ）１５₁ を経由して導入され、ジク
ロロシラン（ＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ）ガスがフィルタ（Ｆ）１
１₂ からマスフローコントローラＭＦＣ）１５₂ を経由
して導入され、アンモニヤ（ＮＨ₃ ）ガスがフィルタ
（Ｆ）１１₃ からマスフローコントローラ（ＭＦＣ）１
５₃ を経由して導入されており、それらのガスはＣＶＤ
炉ＡまたはＣＶＤ炉Ｂへ搬送されるが、その配管３には
１１個のエアオペレートバルブ（ＡＶ）２１₁ から２１
₁₁、およびチェックバルブ（ＣＶ）２２₁ 、２２₂ が配
置されている。そして、図９において、Ｎ₂ ガスライン
を除く一点鎖線で囲んだ領域はＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガスのラ
インとＮＨ₃ ガスのラインであり、この領域において
は、パイプラインの外側にリボンヒータをスパイラル状
に巻き付けて、その全体を保温材でカバーし、更にその
上へアルミニウムテープを巻き付けて加熱、保温されて
おり、ＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガスとＮＨ₃ ガスとの結露、液化
が防がれている。

【０００５】しかし、上述のリボンヒータを複雑な形状
の機能部品やその継手部８、９に対して均一に巻き付け
ることは困難であり、リボンヒータが重なった箇所とリ
ボンヒータ間に空白のある箇所を生じ易いが、重なった
リボンヒータの直下域とリボンヒータ間の空白域とでは
加熱に差を生じ、均一な温度分布になっているとは必ず
しも言い難い状態となる。また、機能部品やＳＵＳパイ
プを接続している継手部８、９にもリボンヒータを巻き
付けているために、故障した機能部品やＳＵＳパイプの
交換は煩雑な作業となっている。更には、機能部品間は
全てＳＵＳパイプで接続されるので、全体的な配管長が
大となり、組み立てられた配管の占有面積が大となって
いる。

【０００６】なお先行技術として、ガスを搬送するため
の加熱パイプに関し、特開平７−１８３２４６号公報に
係る「処理装置及び処理ガス搬送パイプ」には、図１０
に示すように、ガスの流路９３を実質的に形成する内管
部材９１ａと、内管部材９１ａの外周全体を覆う発熱体
９１ｂと、発熱体９１ｂの外周全体を覆う外管部材９１
ｃとで構成され、内管部材９１ａと外管部材９１ｃには
四フッ化エチレン樹脂、発熱体９１ｂにはカーボンのよ
うな導電性微粒子を大量に分散混合した四フッ化エチレ
ン樹脂を使用して成形した処理ガス搬送パイプ９１が例
示されている。なお、発熱体９１ｂは電線９２によって
電源９６に接続されている。しかし、このような処理ガ
ス搬送パイプ９１を使用してもフィルタ、マスフローコ
ントローラ、エアオペレートバルブ等の機能部品は加熱
されずに残り、また、一般的には流路が複雑な機能部品
を例示の処理ガス搬送パイプ９１と同様に四フッ化エチ
レン樹脂で成形することは困難である。更には、多くの
機能部品間を処理ガス搬送パイプ９１で接続する配管で
あるから、全体的な配管長が大になることは避けられな
い。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上述の問題に
鑑みてなされ、組み立てられた配管は占有面積が小さ
く、必要な場合におけるフィルタ、バルブ等の機能部品
の交換が容易であり、搬送するガスを均一に加熱し得る
配管システムを提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記の課題は請求項１の
構成によって解決されるが、本発明の配管システムは、
フィルタ、バルブ等の機能部品が集積して固定され、内
部にガス流路が形成された集積ブロックのボディにヒー
タを取り付けて加熱可能とし、パイプによる接続部分は
可及的に少なくなるようにしている。このような配管シ
ステムによって組み立てられる配管は占有面積が小さ
く、機能部品の交換が容易であり、搬送するガスは均一
に加熱され結露ないしは液化を発生しない。

【０００９】

【発明の実施の形態】本発明の配管システムによる配管
は、フィルタ、マスフローコントローラ、エアオペレー
トバルブ等の機能部品が着脱可能に固定され、内部にガ
ス流路が形成された集積ブロックを接続して組み立てら
れるが、集積ブロックの加熱はそのボディに取り付けた
ヒータ、例えば、ボディ内のガス流路に沿って形成され
た溝または長孔にテープ状または棒状の抵抗加熱体を挿
入することによって行われる。

【００１０】集積ブロックは単独でヒータを有し、独立
して加熱されてもよく、または単独でヒータを有し、集
積ブロックが接続される時にヒータも同時に接続され
て、接続された複数の集積ブロックが一体的に加熱され
るようにしてもよく、更には連接された複数の集積ブロ
ックに共通のヒータを取り付けて、複数の集積ブロック
が一体的に加熱されるようにしてもよい。

【００１１】そして、集積ブロックを組み立てた配管が
単数の集積ブロックまたは連接された複数の集積ブロッ
クを単位として加熱温度を制御される。

【００１２】

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の配管システ
ムを実施例によって具体的に説明する。

【００１３】（実施例１）図１は実施の形態の配管シス
テムによる配管１の平面図であり、図２は図１の配管１
の一部分の斜視図である。すなわち、図１に示す配管１
は図９に示した従来例の配管３と同様に構成されてお
り、Ｎ₂ ガス、ＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガス、ＮＨ₃ガスをＣＶ
Ｄ炉ＡまたはＣＶＤ炉Ｂへ搬送する配管の一部である。
すなわち、フィルタ（Ｆ）１１₁ 、１１₂ 、１１₃ 、マ
スフローコントローラ（ＭＦＣ）１５₁ 、１５₂ 、１５
₃ 、および１１個のエアオペレートバルブ（ＡＶ）２１
₁ から２１₁₁までが数個の単位で集積ブロックに固定さ
れて組み立てられている。そしてこの配管１は従来例の
配管３と比較して配管の長さ、幅の何れもが６０〜７０
％となり配管１の占有面積は小さくなっている。なお、
従来例の配管３におけるチェックバルブ２２₁ 、２２₂
は省略されている。

【００１４】図２を参照して、矢印方向にガスが流れる
マスフローコントローラ１５の入口部１５Ｅはボルト３
１ｂによって集積ブロック３１₁ の下流端部３１Ｂと固
定され、また出口部１５Ｕはボルト３２ｂによって集積
ブロック３１₂ の上流端部３１Ｆと固定されており、集
積ブロック３１₁ の上面側には３個のエアオペレートバ
ルブ２１₂ 〜２１₄ が着脱可能に固定され、集積ブロッ
ク３１₂ 上面側には３個のエアオペレートバルブ２１₅
〜２１₇ が着脱可能に固定されている。更に、集積ブロ
ック３１₁ の下面側にはＮ₂ ガスを導入するパイプ５３
が取り付けられ、また、集積ブロック３１₁ と集積ブロ
ック３１₂ との下面側からパイプが取り出されて共通の
排気路５４が形成され真空排出ベントに接続されてい
る。

【００１５】そしてパイプ５３から導入されるＳｉＨ₂
Ｃｌ₃ ガスは例えばエアオペレートバルブ２１₂ を経由
し、集積ブロック３１₁ 内のガス流路を通ってその下流
端部３１Ｂからマスフローコントローラ１５の入口部１
５Ｅを経てマスフローコントローラ１５へ導かれる。ま
た集積ブロック３１₁ の上流端部から導入されるＮ₂ガ
スは例えばエアオペレートバルブ２１₃ を経由し、集積
ブロック３１₁ 内のガス流路を通ってＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガ
スと同様にマスフローコントローラ１５へ導かれるよう
になっている。マスフローコントローラ１５から下流側
へのガスの流れも上記に準ずる。そのほか、後述する
が、集積ブロック３１₁ のボディの側面部にはテープヒ
ータ４１₁ が挿入され、同じく集積ブロック３１₂ には
テープヒータ４１₂ が挿入されている。なお、以降にお
いては、例えば集積ブロック３１₁、３１₂ を一般的に
説明する場合には符号の添字は省略して、集積ブロック
３１とする。

【００１６】図３は集積ブロック３１に対するエアオペ
レートバルブ２１の固定方法を示す分解断面図である。
集積ブロック３１上面の固定部３５にはエアオペレート
バルブ２１の挿入部２３が挿入される挿入穴３６が形成
されており、その底面には導入側と排出側のガス流路３
７が開口され連通されている。また、固定部３５の外周
面には雄ねじ３９が形成されている。一方、エアオペレ
ートバルブ２１の挿入部２３の上端部には外径が大のフ
ランジ部２４が形成されており、かつ挿入部２３の外周
側には、雌ねじ２９を内面に有する有穴袋ナット２７が
別体として同軸に設けられており、有穴袋ナット２７の
穴２８には挿入部２３の上端部が遊嵌され、フランジ部
２４を介して有穴袋ナット２７に係合されている。

【００１７】そして、エアオペレートバルブ２１は、そ
の挿入部２３が集積ブロック３１の固定部３５の挿入穴
３６へ挿入されて、有穴袋ナット２７の雌ねじ２９と固
定部３５の雄ねじ３９とが螺合され、挿入部２３の下面
と挿入穴３６の底面とが、ガス通路を設けた金属ガスケ
ット３４を介して圧接されてリークフリーに固定され
る。このようにエアオペレートバルブ２１と集積ブロッ
ク３１とは熱伝達性の良好な金属同志の接触となるの
で、図３では図示されていないテープヒータによって集
積ブロック３１が加熱されると、その熱は直ちにエアオ
ペレートバルブ２１へ伝達される。従って、エアオペレ
ートバルブ２１自体にはヒータの取り付けを必要としな
いことから、上述のような固定方法とあいまって、エア
オペレートバルブ２１が故障した場合の交換は極めて容
易である。なお、集積ブロック３１の左端部は雄ねじ３
３が形成された連結部３２となっており、エアオペレー
トバルブ２１の有穴袋ナット２７と同様な有穴袋ナット
による継手部を備えたパイプまたは他の集積ブロックが
接続される。従ってまた、これらの交換も容易である。

【００１８】このような集積ブロックに対して、ヒータ
が取り付けられる。図４はエポキシ樹脂含浸ガラス織布
４４で抵抗加熱体４３を絶縁被覆したテープヒータ４１
を集積ブロック３１のボディの側面部に設けた溝に挿入
して加熱可能とされた集積ブロック３１を示す。図４の
Ａは集積ブロック３１の斜視図であり、図４のＢはその
断面図である。挿入されたテープヒータ４１の両端部を
電線４６によって電源付き温度制御装置４７と接続して
交流または直流を通電することにより、テープヒータ４
１が発熱し集積ブロック３１が加熱されて所定の温度に
保持され、ガス流路３７を流れるガスが加熱される。な
お、挿入したテープヒータ４１の外側にシーリング材と
して例えばフッ素樹脂の棒状の成形品を嵌め込んでもよ
い。

【００１９】また、図５は２個の集積ブロック３１₁ と
３１₂ とがマスフローコントローラ１５を挟んで設置さ
れ、直接に接触していない場合を示す側面図であるが、
そのような場合には、図５のＡに示すように、集積ブロ
ック３１₁ にはテープヒータ４１₁ 、集積ブロック３１
₂ にはテープヒータ４１₂ を挿入して、それぞれ独立に
加熱してもよく、また、図５のＢに示すように、集積ブ
ロック３１₁ と集積ブロック３１₂ とに共通のテープヒ
ータ４１₃ を挿入して加熱するようにしてもよい。

【００２０】そして、図１の配管１においては、Ｎ₂ ガ
スラインを除く、一点鎖線で囲んだＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガス
とＮＨ₃ ガスとの領域内の各集積ブロックにテープヒー
タが挿入されて加熱可能とされる。なお、加熱され温度
上昇される集積ブロック等に対しては、熱ロスを抑制す
るために、フレキシブルで着脱容易な耐熱性ラバ−また
はその他の保温材がかぶされる。

【００２１】実施例１の配管１は以上のように構成され
るが、次にその作用を説明する。上記のように構成され
る配管１において、ＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガスとＮＨ₃ ガスと
の流路が所定の温度に加熱される。すなわち、ＳｉＨ₂
Ｃｌ₂ ガスとＮＨ₃ ガスとの領域内の各集積ブロックに
挿入したテープヒータに例えば交流が通電されて、集積
ブロックは１００〜１５０℃の温度に維持される。ま
た、前述したように、図３を参照して、エアオペレート
バルブ２１は集積ブロック３１と金属同志の接触となっ
ているので、加熱された集積ブロック３１の熱は直ちに
エアオペレートバルブ２１へ伝達される。同様に、マス
フローコントローラ１５も、図２、図５を参照して、入
口側はボルト３１ｂによって集積ブロック３１₁ に直接
に固定され、出口側はボルト３２ｂによって集積ブロッ
ク３１₂ に直接に固定されているので、加熱された集積
ブロック３１₁ 、３１₂ の熱は直ちにマスフローコント
ローラ１５へ伝達される。このことは他のエアオペレー
トバルブやマスフローコントローラ、ないしはその他の
機能部品についても同様である。

【００２２】従って、それぞれの液状供給源から加熱気
化されて配管１へ送られてくるＳｉＨ₂ Ｃｌ₂ ガス、Ｎ
Ｈ₃ ガスは、集積ブロックの内部のガス流路や、マスフ
ローコントローラ、エアオペレートバルブ等の内部のガ
ス流路において液化されないので、ガスの搬送が妨げら
れたり、配管１の内部が液化されたガスによって腐食が
発生することはない。また、ガス流路に沿ってほぼ平行
に挿入されているテープヒータによって集積ブロック等
は全体的に均等に加熱され、かつ温度制御装置によって
温度制御されているので、ガスは加熱むらを生ずること
なく加熱されてＣＶＤ炉へ搬送され、均質な薄膜の形成
に寄与する。

【００２３】更には、集積ブロックの側面部の溝にテー
プヒータを挿入しているので、リボンヒータを巻き付け
る場合と比較して、配管の組み立て作業は著しく簡易化
される。また、エアオペレートバルブ、その他の機能部
品やパイプ、ないしは集積ブロック毎の交換が容易であ
り、それらの交換に要する時間と労務が大幅に削減され
る。

【００２４】（実施例２）図６は図１から図５までに示
した配管１とは機能部品や集積ブロックの形状が若干異
なるが、同じく本発明の配管システムによる配管２の側
面図である。すなわち、集積ブロック５１₁ から集積ブ
ロック５１₆ までの６個の集積ブロックは相互に継手部
５５によって接続されていること、集積ブロック５１₁
ないし集積ブロック５１₆ に固定されているマスフロー
コントローラ１６、エアオペレートバルブ２２の形状が
配管１に使用したものと異なるほか、配管１において形
状を示さなかったフィルタ１２、配管１においては示さ
れていないマニュアルバルブ１４、チェックバルブ１
７、レギュレータ１８、圧力ゲージ１９を固定したもの
となっている。なお、継手部５５は、図３においてエア
オペレートバルブ２１を集積ブロック３１に固定した方
法と同様な方法によるものである。

【００２５】継手部５５によって接続させていることも
あるが、集積ブロック５１₁ から５１₆ までの各集積ブ
ロックのボディのそれぞれにテープヒータ６１₁ からテ
ープヒータ６１₆ までを挿入して、各テープヒータ６１
₁ 〜６１₆ を温度制御装置６７と連結させている。従っ
て各テープヒータ６１₁ 〜６１₆ への電流値を制御する
ことにより、各集積ブロック毎に加熱温度を制御するこ
とができる。また、各機能部品を集積ブロックから容易
に取り外して新品と交換できるほか、集積ブロック単位
の交換も容易であり、メンテテナンスの工数を大幅に削
減し得ることは実施例１の場合と同様である。

【００２６】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、勿論、本発明はこれらに限られることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。

【００２７】例えば本実施の形態においては、集積ブロ
ックへのヒータの取り付けは、集積ブロックの側面部に
形成させた長さ方向の溝にテープヒータを挿入すること
によって行なったが、溝を形成させない集積ブロックの
ボディにテープヒータを機械的に治具で密接させて固定
してもよい。また、図７の集積ブロック３２の断面図に
示すように、集積ブロック３２のボディ内にガス流路３
８に平行に穿設した貫通孔内にシースヒータ４２（外套
のステンレスチューブ４９内で抵抗加熱体４５を絶縁体
マグネシヤ４８で被覆したもの）を挿入してもよい。

【００２８】また本実施の形態の図５のＢにおいて、複
数の集積ブロックに共通のテープヒータを挿入する場合
を示したが、集積ブロックの組み合わせ方は一定しない
のが一般であるから、共通のテープヒータを挿入する場
合は、集積ブロック等を組み立てて配管を完成した後に
行うことになる。これに対して、あらかじめヒータを内
蔵させた集積ブロックを使用し、集積ブロックの接続時
にヒータを同時に接続させることによっても接続された
集積ブロックを一体的に加熱し得る。例えば、図８はヒ
ータ８１を内蔵させた集積ブロック７１の側面図であ
り、集積ブロック７１同志は図示されていない継手部で
接続されている。集積ブロック７１の側面に形成した溝
７２の両端部において、絶縁体７３に支持された金属部
材７４間にヒータ８１を保持させると共に、金属部材７
４にコイルばね７６を介して端子７７を取り付けたもの
である。集積ブロック７１の左側において自由端となっ
ている端子７７は集積ブロック７１の左端面から飛び出
すが、右側において接続された端子７７は集積ブロック
７１の右端面まで押し込まれるようにすることにより、
接続された端子７７にはコイルばね７６の付勢による接
圧が確保され接触不良を防ぎ得る。このように、ヒータ
を内蔵させた集積ブロック同志を直接に接続させること
により配管の組み立ては著しく簡便化されるほか、配管
から集積ブロック単位での取り外しや、その後の取り付
けも極めて簡易化される。

【００２９】また本実施の形態を示す図面においては、
集積ブロック３１にガス流路３７を１本のみ示している
が、場合によっては２本以上を形成されていてもよいこ
とは言うまでもない。

【００３０】また本実施の形態においては、集積ブロッ
クの一方の側面部にのみ溝を形成させてテープヒータを
挿入する例を示したが、両方の側面部にテープヒータを
挿入するようにしてもよい。

【００３１】また本実施の形態においては、本発明の配
管システムをＣＶＤ炉へガスを供給する配管に適用した
場合を説明したが、本発明の配管システムはＣＶＤ炉以
外の熱拡散炉や熱酸化炉への配管にも適用される。ま
た、これら以外の液化され易い有機化合物、例えば塩化
エタンなどの蒸気を搬送する配管にも本発明の配管シス
テムは適用される。

【００３２】

【発明の効果】本発明は以上に説明したような形態で実
施され、次に記載するような効果を奏する。

【００３３】液化され易いガスを搬送する配管におい
て、配管の組み立てが容易で、占有面積が小さく、ヒー
タの取り付けやフィルタ、マスフローコントローラ、エ
アオペレートバルブ等の機能部品の交換が簡易であり、
搬送するガスを均一に加熱し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の配管の平面図である。

【図２】図１の一部分の斜視図である。

【図３】集積ブロックへのエアオペレートバルブの固定
方法を示す分解断面図である。

【図４】テープヒータを挿入した加熱可能な集積ブロッ
クを示し、Ａは斜視図、Ｂは断面図である。

【図５】２個の集積ブロックが離れて接続されている場
合におけるテープヒータの挿入を示し、Ａはテープヒー
タを分断させて挿入する場合、Ｂは共通のテープヒータ
を挿入する場合を示す。

【図６】実施例２の配管の側面図であり、それぞれの集
積ブロックが独立して温度制御される場合を示す。

【図７】ヒータの取り付けの変形例を示す断面図であ
る。

【図８】ヒータを内蔵させた集積ブロックの側面図であ
る。

【図９】実施例１の配管に対応する従来例の配管の平面
図である。

【図１０】先行技術の処理ガス搬送パイプの斜視図であ
る。

【符号の説明】

１……実施例１の配管、２……実施例２の配管、３……
従来例の配管、１１……フィルタ、１５……マスフロー
コントローラ、２１……エアオペレートバルブ、３１…
…集積ブロック、４１……テープヒータ。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フィルタ、マスフローコントローラ、空
気圧制御バルブ等の機能部品が集積して固定され、内部
にガス流路が形成された集積ブロックを接続して配管が
組み立てられる配管システムにおいて、前記集積ブロックのボディにヒータが取り付けられてお
り、前記ガス流路を搬送されるガスを加熱し得ることを
特徴とする配管システム。
【請求項２】前記ヒータが前記集積ブロックのボディ
の前記ガス流路にほぼ平行に形成された溝または長孔に
挿入されるテープ状または棒状の抵抗加熱体であること
を特徴とする請求項１に記載の配管システム。
【請求項３】前記集積ブロックがそれぞれ単独で前記
ヒータを取り付けており、各々独立して加熱されること
を特徴とする請求項１または請求項２に記載の配管シス
テム。
【請求項４】前記集積ブロックがそれぞれ単独で前記
ヒータを取り付けており、かつ前記集積ブロックの接続
時に前記ヒータも同時に接続されることを特徴とする請
求項１または請求項２に記載の配管システム。
【請求項５】連接された複数の前記集積ブロックが共
通の前記ヒータを有していることを特徴とする請求項１
または請求項２に記載の配管システム。
【請求項６】接続された前記集積ブロックが単数の前
記集積ブロックおよび／または連接された複数の前記集
積ブロックを単位として加熱温度が制御されることを特
徴とする請求項１から請求項５までの何れかに記載の配
管システム。