JPH11238787A - ウェハストッカー - Google Patents
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- JPH11238787A JPH11238787A JP4028998A JP4028998A JPH11238787A JP H11238787 A JPH11238787 A JP H11238787A JP 4028998 A JP4028998 A JP 4028998A JP 4028998 A JP4028998 A JP 4028998A JP H11238787 A JPH11238787 A JP H11238787A
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Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、し
かも、内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイ
ス特性を良好にすることができるウェハストッカーを提
供する。 【解決手段】 送風手段１ａを有しつつ、実質的に密閉
されるか又は一部が外気と置換される循環風路１と、そ
の循環風路１に介在し、開閉可能な扉２を有するウェハ
の収納部３と、前記循環風路１に介在し、循環気体中の
微粒子を除去する微粒子除去部４と、前記循環風路１に
介在し、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染
物質除去部５と循環気体の温度上昇を抑制する温度維持
機構６とを備えたウェハストッカー。
かも、内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイ
ス特性を良好にすることができるウェハストッカーを提
供する。 【解決手段】 送風手段１ａを有しつつ、実質的に密閉
されるか又は一部が外気と置換される循環風路１と、そ
の循環風路１に介在し、開閉可能な扉２を有するウェハ
の収納部３と、前記循環風路１に介在し、循環気体中の
微粒子を除去する微粒子除去部４と、前記循環風路１に
介在し、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染
物質除去部５と循環気体の温度上昇を抑制する温度維持
機構６とを備えたウェハストッカー。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高度な微粒子除去
と高度な化学汚染物質除去が要求される半導体産業にお
いて、ウェハを一時的に保管するために使用されるウェ
ハストッカーに関する。
と高度な化学汚染物質除去が要求される半導体産業にお
いて、ウェハを一時的に保管するために使用されるウェ
ハストッカーに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体産業においてウェハの
微細加工工程を行うにあたり、ウェハを一時的に保管す
るウェハストッカーは極めて重要な設備であった。しか
し、従来技術にあっては、クリーンルーム内の比較的清
澄度の高いゾーンに単に棚を設けたり、またクリーンベ
ンチ構造を有する上部にＵＬＰＡフィルタを設けて微粒
子対策のみを行っている状態であった。また、送風機を
内蔵するケース型も存在するが、これについても上述の
ＵＬＰＡフィルタのみによる対応であった。
微細加工工程を行うにあたり、ウェハを一時的に保管す
るウェハストッカーは極めて重要な設備であった。しか
し、従来技術にあっては、クリーンルーム内の比較的清
澄度の高いゾーンに単に棚を設けたり、またクリーンベ
ンチ構造を有する上部にＵＬＰＡフィルタを設けて微粒
子対策のみを行っている状態であった。また、送風機を
内蔵するケース型も存在するが、これについても上述の
ＵＬＰＡフィルタのみによる対応であった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来技術に
あっては、基本的に開放系の１パス方式であった。した
がって、ウェハキャリア或いはウェハキャリアボックス
を保管するウェハストッカーをクリーンルーム内に設置
することにより、放出される気流により、クリーンルー
ム内のダウンフローの気流を乱す欠点があった。そし
て、かかる気流の乱れは微粒子汚染や化学汚染を引き起
こす原因となる場合があった。
あっては、基本的に開放系の１パス方式であった。した
がって、ウェハキャリア或いはウェハキャリアボックス
を保管するウェハストッカーをクリーンルーム内に設置
することにより、放出される気流により、クリーンルー
ム内のダウンフローの気流を乱す欠点があった。そし
て、かかる気流の乱れは微粒子汚染や化学汚染を引き起
こす原因となる場合があった。
【０００４】また、従来技術にあっては、例えばクリー
ンルーム内の比較的清澄度の高いゾーンにウェハストッ
カーを配置しても、クリーンルームは様々な化学汚染を
受けているため、具体的には導入外気の化学汚染物質の
影響、並びにクリーンルーム構成材料としての塗装面、
シール材、ＨＥＰＡフィルタなど、金属を除くいろいろ
な材料からの発ガスは避けることができない現状にあ
る。更に、ウェハ微細加工工程において、いろいろな薬
品が用いられ、これらは排気しているものの、装置から
の微量リークは避けることができない。このようなクリ
ーンルーム内で発生する化学汚染物質は、クリーンルー
ムの循環量並びに排気量から考えて１０倍以上の濃縮を
受ける結果となり、より清澄空間が要求されるウェハス
トッカーにあっては、ＨＥＰＡ、ＵＬＰＡフィルタによ
る微粒子のみの除去対策だけでなく化学汚染物質の対策
が最重要課題となっていた。このような化学汚染物質
は、ウェハストッカー内に保管されるウェハに対し、時
間経過と共に付着量の増加が見られるために、保管時間
が短時間となり作業工程に支障をきたすのみでなく、有
機、無機の化学汚染物質のウェハへの付着は、ＩＣ等の
製品のデバイス特性を悪化させると言われている。
ンルーム内の比較的清澄度の高いゾーンにウェハストッ
カーを配置しても、クリーンルームは様々な化学汚染を
受けているため、具体的には導入外気の化学汚染物質の
影響、並びにクリーンルーム構成材料としての塗装面、
シール材、ＨＥＰＡフィルタなど、金属を除くいろいろ
な材料からの発ガスは避けることができない現状にあ
る。更に、ウェハ微細加工工程において、いろいろな薬
品が用いられ、これらは排気しているものの、装置から
の微量リークは避けることができない。このようなクリ
ーンルーム内で発生する化学汚染物質は、クリーンルー
ムの循環量並びに排気量から考えて１０倍以上の濃縮を
受ける結果となり、より清澄空間が要求されるウェハス
トッカーにあっては、ＨＥＰＡ、ＵＬＰＡフィルタによ
る微粒子のみの除去対策だけでなく化学汚染物質の対策
が最重要課題となっていた。このような化学汚染物質
は、ウェハストッカー内に保管されるウェハに対し、時
間経過と共に付着量の増加が見られるために、保管時間
が短時間となり作業工程に支障をきたすのみでなく、有
機、無機の化学汚染物質のウェハへの付着は、ＩＣ等の
製品のデバイス特性を悪化させると言われている。
【０００５】しかしながら、上述の如く、従来技術にあ
っては、ウェハストッカーは開放系で、かつＵＬＰＡフ
ィルタによる微粒子対策のみであり、例えクリーンルー
ムの循環系、導入系に対してケミカルフィルタを採用し
た設備にあっても上述のような様々な問題は解消されて
いないのが現状である。
っては、ウェハストッカーは開放系で、かつＵＬＰＡフ
ィルタによる微粒子対策のみであり、例えクリーンルー
ムの循環系、導入系に対してケミカルフィルタを採用し
た設備にあっても上述のような様々な問題は解消されて
いないのが現状である。
【０００６】従って、本発明の目的は、上記現状に鑑
み、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、
内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性
を良好にすることができるウェハストッカーを提供する
ことにある。
み、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、
内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性
を良好にすることができるウェハストッカーを提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
の本発明のウェハストッカーは、送風手段を有しつつ、
実質的に密閉されるか又は一部が外気と置換される循環
風路と、その循環風路に介在し、開閉可能な扉を有する
ウェハの収納部と、前記循環風路に介在し、循環気体中
の微粒子を除去する微粒子除去部と、前記循環風路に介
在し、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染物
質除去部と循環気体の温度上昇を抑制する温度維持機構
とを備えたことを特徴とする。
の本発明のウェハストッカーは、送風手段を有しつつ、
実質的に密閉されるか又は一部が外気と置換される循環
風路と、その循環風路に介在し、開閉可能な扉を有する
ウェハの収納部と、前記循環風路に介在し、循環気体中
の微粒子を除去する微粒子除去部と、前記循環風路に介
在し、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染物
質除去部と循環気体の温度上昇を抑制する温度維持機構
とを備えたことを特徴とする。
【０００８】上記構成において、前記循環風路が、外気
の導入口と循環気体の排気口を有して、循環気体の一部
を外気と置換するものであり、前記温度維持機構が、そ
の外気との置換により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものであることが、後述の作用効果の点から好ましい。
の導入口と循環気体の排気口を有して、循環気体の一部
を外気と置換するものであり、前記温度維持機構が、そ
の外気との置換により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものであることが、後述の作用効果の点から好ましい。
【０００９】また、前記収納部の扉に前記循環気体の排
気口を設けて、その扉が閉じた状態で、その扉の内部が
正圧に維持されるように、前記循環風路を構成してある
ことが、後述の作用効果の点から好ましい。
気口を設けて、その扉が閉じた状態で、その扉の内部が
正圧に維持されるように、前記循環風路を構成してある
ことが、後述の作用効果の点から好ましい。
【００１０】その際、前記収納部の扉を複数設けて、そ
の扉に対応する分割収納部を設けると共に、各扉に開口
面積を調整できるシャッタを排気口として設けてあるこ
とが、後述の作用効果の点から好ましい。
の扉に対応する分割収納部を設けると共に、各扉に開口
面積を調整できるシャッタを排気口として設けてあるこ
とが、後述の作用効果の点から好ましい。
【００１１】また、前記循環風路が、実質的に密閉され
たものであり、前記温度維持機構が、前記循環風路に介
在する冷却装置により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものであることが、後述の作用効果の点から好ましい。
たものであり、前記温度維持機構が、前記循環風路に介
在する冷却装置により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものであることが、後述の作用効果の点から好ましい。
【００１２】そして、前記化学汚染物質除去部が、活性
炭、イオン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこ
れらの組み合わせから構成されるフィルタであること
が、後述の作用効果の点から好ましい。
炭、イオン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこ
れらの組み合わせから構成されるフィルタであること
が、後述の作用効果の点から好ましい。
【００１３】〔作用効果〕そして、本発明によると、循
環風路が送風手段を有しつつ、実質的に密閉されるか又
は一部が外気と置換されるものであり、外部への気体の
排出量が少ないため、クリーンルーム内に置かれた場合
に、その内部の気流を乱して、外部に悪影響を与えるこ
とが少ない。また、循環気体中の微粒子を除去する微粒
子除去部と、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学
汚染物質除去部とが介在する循環風路にウェハの収納部
を設けてあるため、微粒子除去と化学汚染物質除去とを
行うことができ、しかも、循環風路が小容積の独立空間
であるために、循環風量を小さくして接触時間を大きく
することができ、前記の除去効果は極めて大きいものと
なる。例えば、循環風速を従来クリーンルーム内のＨＥ
ＰＡ、ＵＬＰＡフィルタの標準である０．５ｍ／ｓｅｃ
に対し０．２ｍ／ｓｅｃ以下であるために、上述の化学
汚染物質を対象としたフィルタに対する気体の接触時間
は倍以上とすることができる。更に、循環気体の温度上
昇を抑制する温度維持機構を備えるため、活性炭フィル
ターに対する有機物の吸着能力は安定する。このことに
より、吸着除去能力に低下をきたすことがない。その結
果、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、
内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性
を良好にすることができるウェハストッカーを提供する
ことができた。
環風路が送風手段を有しつつ、実質的に密閉されるか又
は一部が外気と置換されるものであり、外部への気体の
排出量が少ないため、クリーンルーム内に置かれた場合
に、その内部の気流を乱して、外部に悪影響を与えるこ
とが少ない。また、循環気体中の微粒子を除去する微粒
子除去部と、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学
汚染物質除去部とが介在する循環風路にウェハの収納部
を設けてあるため、微粒子除去と化学汚染物質除去とを
行うことができ、しかも、循環風路が小容積の独立空間
であるために、循環風量を小さくして接触時間を大きく
することができ、前記の除去効果は極めて大きいものと
なる。例えば、循環風速を従来クリーンルーム内のＨＥ
ＰＡ、ＵＬＰＡフィルタの標準である０．５ｍ／ｓｅｃ
に対し０．２ｍ／ｓｅｃ以下であるために、上述の化学
汚染物質を対象としたフィルタに対する気体の接触時間
は倍以上とすることができる。更に、循環気体の温度上
昇を抑制する温度維持機構を備えるため、活性炭フィル
ターに対する有機物の吸着能力は安定する。このことに
より、吸着除去能力に低下をきたすことがない。その結
果、クリーンルーム内の気流の乱れが少なく、しかも、
内部の化学汚染を有効に防止して、製品のデバイス特性
を良好にすることができるウェハストッカーを提供する
ことができた。
【００１４】前記循環風路が、外気の導入口と循環気体
の排気口を有して、循環気体の一部を外気と置換するも
のであり、前記温度維持機構が、その外気との置換によ
り、循環気体の温度上昇を抑制するものである場合、冷
却装置を設けることなく、簡易な機構により循環気体の
温度上昇を抑制することができる。
の排気口を有して、循環気体の一部を外気と置換するも
のであり、前記温度維持機構が、その外気との置換によ
り、循環気体の温度上昇を抑制するものである場合、冷
却装置を設けることなく、簡易な機構により循環気体の
温度上昇を抑制することができる。
【００１５】その際、前記収納部の扉に前記循環気体の
排気口を設けて、その扉が閉じた状態で、その扉の内部
が正圧に維持されるように、前記循環風路を構成してあ
る場合、扉の内部が正圧のため排気口から循環気体が排
気されるので、ウェハの収納直後の比較的汚染された気
体を直ちに排気口から排出して、微粒子除去部と化学汚
染物質除去部の負荷を少なくすることができる。また、
扉を開けると排気口の面積がより大きくなるの如く、収
納部からの排気量が増加して、ウェハの収納時に、ウェ
ハの近傍の汚染された気体を、収納部からのクリーンな
排気で除去することができる。
排気口を設けて、その扉が閉じた状態で、その扉の内部
が正圧に維持されるように、前記循環風路を構成してあ
る場合、扉の内部が正圧のため排気口から循環気体が排
気されるので、ウェハの収納直後の比較的汚染された気
体を直ちに排気口から排出して、微粒子除去部と化学汚
染物質除去部の負荷を少なくすることができる。また、
扉を開けると排気口の面積がより大きくなるの如く、収
納部からの排気量が増加して、ウェハの収納時に、ウェ
ハの近傍の汚染された気体を、収納部からのクリーンな
排気で除去することができる。
【００１６】また、前記収納部の扉を複数設けて、その
扉に対応する分割収納部を設けると共に、各扉に開口面
積を調整できるシャッタを排気口として設けてある場
合、前記収納部の扉を複数設けてあるため、必要な扉だ
けを開閉することで、扉を開ける際の外気からの汚染を
最小限にすることができる。また、各扉に開口面積を調
整できるシャッタを排気口として設けてあるため、総排
気量を調整できると共に、分割収納部の使用状況に応じ
て、各扉の排気量を調整することで、排気による上述の
効果を個別により高いものにすることができる。
扉に対応する分割収納部を設けると共に、各扉に開口面
積を調整できるシャッタを排気口として設けてある場
合、前記収納部の扉を複数設けてあるため、必要な扉だ
けを開閉することで、扉を開ける際の外気からの汚染を
最小限にすることができる。また、各扉に開口面積を調
整できるシャッタを排気口として設けてあるため、総排
気量を調整できると共に、分割収納部の使用状況に応じ
て、各扉の排気量を調整することで、排気による上述の
効果を個別により高いものにすることができる。
【００１７】また、前記循環風路が、実質的に密閉され
たものであり、前記温度維持機構が、前記循環風路に介
在する冷却装置により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものである場合、循環気体の排気が実質的に行われない
ため、クリーンルーム内に置かれた場合に、その内部の
気流を乱して、外部に悪影響を与えることが全くなくな
る。また、外気を導入する必要がないため、微粒子除去
部と化学汚染物質除去部の負荷を少なくすることがで
き、また、外気の導入口にフィルタ等を設ける必要もな
い。
たものであり、前記温度維持機構が、前記循環風路に介
在する冷却装置により、循環気体の温度上昇を抑制する
ものである場合、循環気体の排気が実質的に行われない
ため、クリーンルーム内に置かれた場合に、その内部の
気流を乱して、外部に悪影響を与えることが全くなくな
る。また、外気を導入する必要がないため、微粒子除去
部と化学汚染物質除去部の負荷を少なくすることがで
き、また、外気の導入口にフィルタ等を設ける必要もな
い。
【００１８】前記化学汚染物質除去部が、活性炭、イオ
ン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこれらの組
み合わせから構成されるフィルタである場合、簡易な装
置構成で、化学汚染物質の除去が効率良く行える。つま
り、内蔵されるケミカルフィルタ、すなわち微量揮散有
機物除去を目的とした活性炭フィルタ、並びに微量の揮
散無機物除去を対象とした陽、陰イオン交換体からなる
フィルタにより対応する化学汚染物質の除去が行え、イ
オン交換体に代わり、酸、アルカリ添着活性炭フィルタ
についても同様の効果が得られる。
ン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこれらの組
み合わせから構成されるフィルタである場合、簡易な装
置構成で、化学汚染物質の除去が効率良く行える。つま
り、内蔵されるケミカルフィルタ、すなわち微量揮散有
機物除去を目的とした活性炭フィルタ、並びに微量の揮
散無機物除去を対象とした陽、陰イオン交換体からなる
フィルタにより対応する化学汚染物質の除去が行え、イ
オン交換体に代わり、酸、アルカリ添着活性炭フィルタ
についても同様の効果が得られる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１に示すように、本実施形態の
ウェハストッカーは、送風手段１ａを有すると共に、外
気の導入口１ｂと循環気体の排気口１ｃを有して、循環
気体の一部を外気と置換する循環風路１を設けてある。
そして、その外気との置換により、比較的低温の外気を
導入することで、循環気体の温度上昇を抑制する温度維
持機構６を構成してある。なお、外気の導入口１ｂには
プレフィルタを設けてある。
に基づいて説明する。図１に示すように、本実施形態の
ウェハストッカーは、送風手段１ａを有すると共に、外
気の導入口１ｂと循環気体の排気口１ｃを有して、循環
気体の一部を外気と置換する循環風路１を設けてある。
そして、その外気との置換により、比較的低温の外気を
導入することで、循環気体の温度上昇を抑制する温度維
持機構６を構成してある。なお、外気の導入口１ｂには
プレフィルタを設けてある。
【００２０】前記の循環風路１の送風手段１ａの下流側
には、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染物
質除去部５と、循環気体中の微粒子を除去する微粒子除
去部４と、開閉可能な扉２を有するウェハの収納部３と
が順に介在している。そして、ウェハの収納部３の下方
に送風手段１ａを設けて、ウェハの収納部３の背面に化
学汚染物質除去部５と微粒子除去部４とを設けてある。
には、循環気体中の化学汚染物質を除去する化学汚染物
質除去部５と、循環気体中の微粒子を除去する微粒子除
去部４と、開閉可能な扉２を有するウェハの収納部３と
が順に介在している。そして、ウェハの収納部３の下方
に送風手段１ａを設けて、ウェハの収納部３の背面に化
学汚染物質除去部５と微粒子除去部４とを設けてある。
【００２１】化学汚染物質除去部５としては、活性炭、
イオン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこれら
の組み合わせから構成されるフィルタであることが好ま
しく、特に、活性炭とイオン交換体との組み併せが好適
に採用される。
イオン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこれら
の組み合わせから構成されるフィルタであることが好ま
しく、特に、活性炭とイオン交換体との組み併せが好適
に採用される。
【００２２】微粒子除去部４としては、ＵＬＰＡフィル
タ、ＨＥＰＡフィルタ等が好ましいが、微粒子除去の点
からＵＬＰＡフィルタが好適に採用される。
タ、ＨＥＰＡフィルタ等が好ましいが、微粒子除去の点
からＵＬＰＡフィルタが好適に採用される。
【００２３】ウェハの収納部３は、扉2 を複数設けて、
その扉２に対応する分割収納部３ａを、仕切り及び棚段
３ｂにより構成してある。棚段３ｂの扉２側の端辺と扉
２との間には隙間があり、化学汚染物質除去部５と微粒
子除去部４を通過した循環気体は、分割収納部３ａを通
過した後、前記隙間から下方へと流動する。なお、分割
収納部３ａには、ウェハを複数セットできるウェハキャ
リア或いはウェハキャリアボックスが収納される。
その扉２に対応する分割収納部３ａを、仕切り及び棚段
３ｂにより構成してある。棚段３ｂの扉２側の端辺と扉
２との間には隙間があり、化学汚染物質除去部５と微粒
子除去部４を通過した循環気体は、分割収納部３ａを通
過した後、前記隙間から下方へと流動する。なお、分割
収納部３ａには、ウェハを複数セットできるウェハキャ
リア或いはウェハキャリアボックスが収納される。
【００２４】図２に示すように各扉２には開口面積を調
整できるシャッタを排気口１ｃとして設けてあり、扉２
が閉じた状態で、その内部が正圧に維持されているた
め、分割収納部３ａを通過した循環気体の一部は、排気
口１ｃから排出される。扉２の内部を正圧に維持するた
め、循環風路１の送風手段１ａの上流部とウェハの収納
部３との間には、プレフィルタ等の圧損部１ｄが設けて
ある（図１参照）。具体的には内部を正圧に保持しなが
ら、約５％以下の排出量になるように、圧損部１ｄと排
気口１ｃが調整される。なお、シャッタは回転式であ
り、扉２にはガラス窓２ａと把手２ｂが設けられ、扉２
は観音開きで蝶番２ｃで本体に取付けられている。
整できるシャッタを排気口１ｃとして設けてあり、扉２
が閉じた状態で、その内部が正圧に維持されているた
め、分割収納部３ａを通過した循環気体の一部は、排気
口１ｃから排出される。扉２の内部を正圧に維持するた
め、循環風路１の送風手段１ａの上流部とウェハの収納
部３との間には、プレフィルタ等の圧損部１ｄが設けて
ある（図１参照）。具体的には内部を正圧に保持しなが
ら、約５％以下の排出量になるように、圧損部１ｄと排
気口１ｃが調整される。なお、シャッタは回転式であ
り、扉２にはガラス窓２ａと把手２ｂが設けられ、扉２
は観音開きで蝶番２ｃで本体に取付けられている。
【００２５】装置を構成する部材は、微粒子や化学汚染
物質を発生しにくいＳＵＳ等の金属から主に構成されて
いる。また、前面には操作パネル７が設けられ、送風手
段１ａの風力調整や、各部の圧力表示などができるよう
になっている。以上のようなウェハストッカーは、通
常、クリーンルーム内に設置される。
物質を発生しにくいＳＵＳ等の金属から主に構成されて
いる。また、前面には操作パネル７が設けられ、送風手
段１ａの風力調整や、各部の圧力表示などができるよう
になっている。以上のようなウェハストッカーは、通
常、クリーンルーム内に設置される。
【００２６】〔別実施形態〕以下に別実施形態を説明す
る。
る。
【００２７】（１）先の実施形態では、前記循環風路
が、外気の導入口と循環気体の排気口を有して、循環気
体の一部を外気と置換するものであり、前記温度維持機
構が、その外気との置換により、循環気体の温度上昇を
抑制するものである例を示したが、前記循環風路が、実
質的に密閉されたものであり、前記温度維持機構が、前
記循環風路に介在する冷却装置により、循環気体の温度
上昇を抑制するものであってもよく、その場合、前述の
ような作用効果が得られる。その場合、例えば循環風路
に冷却コイルを設ければよく、僅かにウェハストッカー
内部を正圧を保つために、送風手段の上流側でごく僅か
な外気を導入できるように、吸気部を設ければよい。
が、外気の導入口と循環気体の排気口を有して、循環気
体の一部を外気と置換するものであり、前記温度維持機
構が、その外気との置換により、循環気体の温度上昇を
抑制するものである例を示したが、前記循環風路が、実
質的に密閉されたものであり、前記温度維持機構が、前
記循環風路に介在する冷却装置により、循環気体の温度
上昇を抑制するものであってもよく、その場合、前述の
ような作用効果が得られる。その場合、例えば循環風路
に冷却コイルを設ければよく、僅かにウェハストッカー
内部を正圧を保つために、送風手段の上流側でごく僅か
な外気を導入できるように、吸気部を設ければよい。
【００２８】（２）先の実施形態では、扉２の内部を正
圧に維持するため圧損部１ｄを設けた例を示したが、圧
損部１ｄの代わりに、扉２の開閉に併せて閉開するシャ
ッタを設けてもよい。その場合、扉２が開くと完全に又
は一部が自動的に閉じるシャッタとして、扉２が開いた
時に、そこから排出される気体量を多くすればよい。こ
れによって、ウェハの収納時に、ウェハの近傍の汚染さ
れた気体を、収納部からのクリーンな排気でより効率よ
く除去することができる。
圧に維持するため圧損部１ｄを設けた例を示したが、圧
損部１ｄの代わりに、扉２の開閉に併せて閉開するシャ
ッタを設けてもよい。その場合、扉２が開くと完全に又
は一部が自動的に閉じるシャッタとして、扉２が開いた
時に、そこから排出される気体量を多くすればよい。こ
れによって、ウェハの収納時に、ウェハの近傍の汚染さ
れた気体を、収納部からのクリーンな排気でより効率よ
く除去することができる。
【００２９】（３）先の実施形態では、図１，２のよう
に送風手段１ａ、循環風路１、化学汚染物質除去部５、
微粒子除去部４、及び収納部３を配置した例を示した
が、これらの順序や配置は、図１，２のものに限定され
ず、本発明の目的に応じて適宜変更できる。
に送風手段１ａ、循環風路１、化学汚染物質除去部５、
微粒子除去部４、及び収納部３を配置した例を示した
が、これらの順序や配置は、図１，２のものに限定され
ず、本発明の目的に応じて適宜変更できる。
【００３０】（４）先の実施形態では、図１，２のよう
に外気の導入口１ｂを装置本体の下側に設ける例を示し
たが、天井に外気の導入口１ｂを設けてもよい。通常、
クリーンルーム内は上方から清浄度の高い気体が供給さ
れるため、上記構成によって、より清浄度の高い気体を
導入することができ、微粒子除去部と化学汚染物質除去
部の負荷を少なくすることができる。また、上方からの
気流の乱れも少なくすることができる。
に外気の導入口１ｂを装置本体の下側に設ける例を示し
たが、天井に外気の導入口１ｂを設けてもよい。通常、
クリーンルーム内は上方から清浄度の高い気体が供給さ
れるため、上記構成によって、より清浄度の高い気体を
導入することができ、微粒子除去部と化学汚染物質除去
部の負荷を少なくすることができる。また、上方からの
気流の乱れも少なくすることができる。
【００３１】
【実施例】以下に本発明の具体的な構成と効果を示す実
施例について説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
施例について説明するが、本発明はこれらに限定される
ものではない。
【００３２】図１，２に示す装置において、循環系の中
でクリーンエアー吹出し面であるＵＬＰＡフィルタの上
流側に、繊維活性炭フィルタ、イオン交換繊維フィルタ
を積層したクリーンウェハストッカー、具体的にはＵＬ
ＰＡフィルタの上流側から繊維活性炭不織布濾材、次い
で強酸性陽イオン交換繊維不織布濾材及び強塩基性陰イ
オン交換繊維不織布濾材の三枚積層のプリーツ型フィル
タを搭載してなるウェハストッカーを作製した。その性
能を、表１に示すが、表１は、揮散性無機物質に対する
除去効果を示した。
でクリーンエアー吹出し面であるＵＬＰＡフィルタの上
流側に、繊維活性炭フィルタ、イオン交換繊維フィルタ
を積層したクリーンウェハストッカー、具体的にはＵＬ
ＰＡフィルタの上流側から繊維活性炭不織布濾材、次い
で強酸性陽イオン交換繊維不織布濾材及び強塩基性陰イ
オン交換繊維不織布濾材の三枚積層のプリーツ型フィル
タを搭載してなるウェハストッカーを作製した。その性
能を、表１に示すが、表１は、揮散性無機物質に対する
除去効果を示した。
【００３３】
【表１】
【００３４】ブランク値との差が、各物質の濃度に相当
するが、表１の結果が示すように、循環送風機入口（ク
リーンルーム内）の濃度と比較して、保管棚の濃度がか
なり低いことが分かる。
するが、表１の結果が示すように、循環送風機入口（ク
リーンルーム内）の濃度と比較して、保管棚の濃度がか
なり低いことが分かる。
【００３５】表２は、各サンプリングした分析サンプル
（Tenax-GRを充填した濃縮管にサンプリングされたも
の）を熱脱着装置にセットし、ＧＣ−ＭＳを用いて分析
した。分析値はトルエン換算の有機物量を示した。
（Tenax-GRを充填した濃縮管にサンプリングされたも
の）を熱脱着装置にセットし、ＧＣ−ＭＳを用いて分析
した。分析値はトルエン換算の有機物量を示した。
【００３６】
【表２】
【００３７】表２の結果が示すように、有機物に関して
も、循環送風機入口（クリーンルーム内）の濃度と比較
して、保管棚の濃度がかなり低いことが分かる。
も、循環送風機入口（クリーンルーム内）の濃度と比較
して、保管棚の濃度がかなり低いことが分かる。
【００３８】以上の結果、有機物、無機物共に供給空気
源であるクリーンルーム内濃度に対してクリーンウェハ
ストッカー内の空気は９５％以上の除去率を示す清澄空
気となる。その結果、従来のウェハキャリアの設置棚と
本発明のクリーンウェハストッカー内で放置試験を行な
った場合、ウェハ表面に対する有機物の付着量はウェハ
ストッカーの場合が９８％以上の減少率を示した。ウェ
ハストッカー内の有機物の減少率よりもウェハ表面に対
する有機物の付着減少率が高いのは、ウェハに付着しや
すい分子量の大きい有機物の除去率が上記平均除去率よ
りも高いことによるものである。
源であるクリーンルーム内濃度に対してクリーンウェハ
ストッカー内の空気は９５％以上の除去率を示す清澄空
気となる。その結果、従来のウェハキャリアの設置棚と
本発明のクリーンウェハストッカー内で放置試験を行な
った場合、ウェハ表面に対する有機物の付着量はウェハ
ストッカーの場合が９８％以上の減少率を示した。ウェ
ハストッカー内の有機物の減少率よりもウェハ表面に対
する有機物の付着減少率が高いのは、ウェハに付着しや
すい分子量の大きい有機物の除去率が上記平均除去率よ
りも高いことによるものである。
【図１】ウェハストッカーの一例を示す縦断側面図
【図２】ウェハストッカーの一例を示す正面図
１ 循環風路 １ａ 送風手段 ２ 扉 ３ 収納部 ４ 微粒子除去部 ５ 化学汚染物質除去部 ６ 温度維持機構
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉岡 由 滋賀県大津市晴嵐２丁目９番１号 関西日 本電気株式会社内 (72)発明者 徳永 浩 滋賀県大津市晴嵐２丁目９番１号 関西日 本電気株式会社内 (72)発明者 服部 進司 兵庫県尼崎市金楽寺町２丁目２番33号 株 式会社タクマ内 (72)発明者 花山 勇一郎 兵庫県尼崎市金楽寺町２丁目２番33号 株 式会社タクマ内 (72)発明者 阪上 匠 兵庫県尼崎市金楽寺町２丁目２番33号 株 式会社タクマ内
Claims (6)
- 【請求項１】 送風手段を有しつつ、実質的に密閉され
るか又は一部が外気と置換される循環風路と、 その循環風路に介在し、開閉可能な扉を有するウェハの
収納部と、 前記循環風路に介在し、循環気体中の微粒子を除去する
微粒子除去部と、 前記循環風路に介在し、循環気体中の化学汚染物質を除
去する化学汚染物質除去部と循環気体の温度上昇を抑制
する温度維持機構とを備えたウェハストッカー。 - 【請求項２】 前記循環風路が、外気の導入口と循環気
体の排気口を有して、循環気体の一部を外気と置換する
ものであり、 前記温度維持機構が、その外気との置換により、循環気
体の温度上昇を抑制するものである請求項１に記載のウ
ェハストッカー。 - 【請求項３】 前記収納部の扉に前記循環気体の排気口
を設けて、その扉が閉じた状態で、その扉の内部が正圧
に維持されるように、前記循環風路を構成してある請求
項２記載のウェハストッカー。 - 【請求項４】 前記収納部の扉を複数設けて、その扉に
対応する分割収納部を設けると共に、各扉に開口面積を
調整できるシャッタを排気口として設けてある請求項３
記載のウェハストッカー。 - 【請求項５】 前記循環風路が、実質的に密閉されたも
のであり、 前記温度維持機構が、前記循環風路に介在する冷却装置
により、循環気体の温度上昇を抑制するものである請求
項１に記載のウェハストッカー。 - 【請求項６】 前記化学汚染物質除去部が、活性炭、イ
オン交換体、もしくは薬品添着活性炭、またはこれらの
組み合わせから構成されるフィルタである請求項１〜５
いずれか記載のウェハストッカー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4028998A JPH11238787A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | ウェハストッカー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4028998A JPH11238787A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | ウェハストッカー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238787A true JPH11238787A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12576455
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4028998A Pending JPH11238787A (ja) | 1998-02-23 | 1998-02-23 | ウェハストッカー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11238787A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002289678A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-04 | Sanki Sangyo Setsubi Kk | 基板ストック装置 |
| DE10350517A1 (de) * | 2003-10-29 | 2005-06-09 | Sieghard Schiller Gmbh & Co. Kg | Wafer-Stocker |
| JP2006128559A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム |
| JP2011049319A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Nippon Muki Co Ltd | クリーンストッカ |
| JP2012076898A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Daifuku Co Ltd | 物品搬送装置 |
| JP2013125957A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-24 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ冷却保管庫 |
| JP2018166170A (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| CN114724988A (zh) * | 2021-01-04 | 2022-07-08 | 南亚科技股份有限公司 | 晶圆容器 |
| CN116344413A (zh) * | 2023-03-28 | 2023-06-27 | 上海广川科技有限公司 | 一种用于半导体晶圆传输系统的晶圆暂存单元结构 |
| CN117133696A (zh) * | 2023-08-29 | 2023-11-28 | 新毅东(上海)科技有限公司 | 一种循环除尘式晶圆移动设备 |
-
1998
- 1998-02-23 JP JP4028998A patent/JPH11238787A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002289678A (ja) * | 2001-03-28 | 2002-10-04 | Sanki Sangyo Setsubi Kk | 基板ストック装置 |
| DE10350517A1 (de) * | 2003-10-29 | 2005-06-09 | Sieghard Schiller Gmbh & Co. Kg | Wafer-Stocker |
| JP2006128559A (ja) * | 2004-11-01 | 2006-05-18 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理システム |
| JP2011049319A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Nippon Muki Co Ltd | クリーンストッカ |
| US8757401B2 (en) | 2010-10-04 | 2014-06-24 | Daifuku Co., Ltd. | Article transport device |
| JP2012076898A (ja) * | 2010-10-04 | 2012-04-19 | Daifuku Co Ltd | 物品搬送装置 |
| TWI511912B (zh) * | 2010-10-04 | 2015-12-11 | 大福股份有限公司 | 物品搬送裝置 |
| JP2013125957A (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-24 | Mitsubishi Electric Corp | ウエハ冷却保管庫 |
| JP2018166170A (ja) * | 2017-03-28 | 2018-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| CN114724988A (zh) * | 2021-01-04 | 2022-07-08 | 南亚科技股份有限公司 | 晶圆容器 |
| CN114724988B (zh) * | 2021-01-04 | 2025-06-03 | 南亚科技股份有限公司 | 晶圆容器 |
| CN116344413A (zh) * | 2023-03-28 | 2023-06-27 | 上海广川科技有限公司 | 一种用于半导体晶圆传输系统的晶圆暂存单元结构 |
| CN116344413B (zh) * | 2023-03-28 | 2024-03-22 | 上海广川科技有限公司 | 一种用于半导体晶圆传输系统的晶圆暂存单元结构 |
| CN117133696A (zh) * | 2023-08-29 | 2023-11-28 | 新毅东(上海)科技有限公司 | 一种循环除尘式晶圆移动设备 |
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Legal Events
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