JPH11238907A - 広帯域サンプラモジュール - Google Patents
広帯域サンプラモジュールInfo
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- JPH11238907A JPH11238907A JP3905398A JP3905398A JPH11238907A JP H11238907 A JPH11238907 A JP H11238907A JP 3905398 A JP3905398 A JP 3905398A JP 3905398 A JP3905398 A JP 3905398A JP H11238907 A JPH11238907 A JP H11238907A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 12
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Landscapes
- Led Device Packages (AREA)
- Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光短パルスを発光する光半導体素子と受光素
子の電極部との光軸調整のみで又は光軸の無調整化で実
現できる広帯域サンプラモジュールを提供する。 【解決手段】 光半導体素子1と受光素子(フォトコン
ダクタ)4をパッケージ内に集積化したモジュールは、
光半導体素子1から発光される光短パルスと受光素子
(フォトコンダクタ)4の電極部との光軸調整のみで実
現することができる。又は、Si基板3の上に受光素子
(フォトコンダクタ)4の電極5パターンを形成し、半
田バンプ6によって電極5上に光半導体素子1を実装す
る。この時、高精度に実装するための位置合わせマーカ
ー7と半田バンプ6とのセルフアライメント効果によっ
て無調整で高精度に光半導体素子1の位置が決まる。
子の電極部との光軸調整のみで又は光軸の無調整化で実
現できる広帯域サンプラモジュールを提供する。 【解決手段】 光半導体素子1と受光素子(フォトコン
ダクタ)4をパッケージ内に集積化したモジュールは、
光半導体素子1から発光される光短パルスと受光素子
(フォトコンダクタ)4の電極部との光軸調整のみで実
現することができる。又は、Si基板3の上に受光素子
(フォトコンダクタ)4の電極5パターンを形成し、半
田バンプ6によって電極5上に光半導体素子1を実装す
る。この時、高精度に実装するための位置合わせマーカ
ー7と半田バンプ6とのセルフアライメント効果によっ
て無調整で高精度に光半導体素子1の位置が決まる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、広帯域サンプラモ
ジュールに関し、特に、光半導体素子から発生する短光
サンプリングパルスと、超高速な光スイッチ作用を有す
る光導電スイッチとを用いた広帯域サンプラモジュール
に関する。
ジュールに関し、特に、光半導体素子から発生する短光
サンプリングパルスと、超高速な光スイッチ作用を有す
る光導電スイッチとを用いた広帯域サンプラモジュール
に関する。
【0002】
【従来の技術】タイムドメインからみて、サンプリング
するためのパルス信号は、立ち上がり時間が鋭ければサ
ンプラーの帯域が向上される。つまり、サンプリングパ
ルスの高調波成分が周波数変換に寄与していることにな
る。これをフーリエ変換すると
するためのパルス信号は、立ち上がり時間が鋭ければサ
ンプラーの帯域が向上される。つまり、サンプリングパ
ルスの高調波成分が周波数変換に寄与していることにな
る。これをフーリエ変換すると
【0003】
【数1】 であらわされる。
【0004】ここで、f=n/Tと置くとCnのスペク
トラムエンベロープ11は図5の様にfが1/τの整数
倍でCn=0となる。これらの高調波成分が3dB落ち
るfまでがサンプラーの帯域を決定する。
トラムエンベロープ11は図5の様にfが1/τの整数
倍でCn=0となる。これらの高調波成分が3dB落ち
るfまでがサンプラーの帯域を決定する。
【0005】つまり、 f0 =0.32/τ となる。
【0006】これから、帯域fのサンプラーに必要とさ
れるτは、 τ < 320/f0 [ psec,GHZ ] また、サンプラー能率については、サンプリングゲート
13を時間τだけONになる単純なスイッチを決定す
る。ここでτはパルス幅τと同じである。
れるτは、 τ < 320/f0 [ psec,GHZ ] また、サンプラー能率については、サンプリングゲート
13を時間τだけONになる単純なスイッチを決定す
る。ここでτはパルス幅τと同じである。
【0007】等価回路を図6に示す。
【0008】負荷RL に消費されるパワー:PL を求め
る。負荷電圧EL はCによって平均化されるので、サン
プリングゲート13はτ/Tの分圧器として作用する。
ここで、
る。負荷電圧EL はCによって平均化されるので、サン
プリングゲート13はτ/Tの分圧器として作用する。
ここで、
【0009】
【数2】 この式から明らかの様にPL の最大値は、R0 =RL の
時である事が分かる。ゆえに、
時である事が分かる。ゆえに、
【0010】
【数3】 となる。
【0011】一方、信号源12から取り出し得る最大の
パワー:Pa は、
パワー:Pa は、
【0012】
【数4】 従って、変換能率ηは、
【0013】
【数5】 となる。
【0014】例えば、60GHzまでのサンプラーを想
定した場合上式から τ=320/60=5.3psec となり、サンプリング周波数1/T=1GHzの場合は η[dB]=20log5.3psec/1nsec=
−45.5dB となる。
定した場合上式から τ=320/60=5.3psec となり、サンプリング周波数1/T=1GHzの場合は η[dB]=20log5.3psec/1nsec=
−45.5dB となる。
【0015】この様な、超広帯域なサンプラーの実現は
困難である。
困難である。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】上述の様な、超広帯域
なサンプラーを実現しようとすると、サンプリングパル
スの短パルス化、スイッチ部の低VSWR(電圧定在波
比、Voltage StandingWave Ratio)化、インピーダンス
マッチング化回路構成、L、C成分の低減化、などの構
成が非常に重要となり、実現が困難なものとなる。
なサンプラーを実現しようとすると、サンプリングパル
スの短パルス化、スイッチ部の低VSWR(電圧定在波
比、Voltage StandingWave Ratio)化、インピーダンス
マッチング化回路構成、L、C成分の低減化、などの構
成が非常に重要となり、実現が困難なものとなる。
【0017】本発明の目的は、光短パルスを発光する光
半導体素子と受光素子の電極部との光軸調整のみで又は
光軸の無調整化で実現できる広帯域サンプラモジュール
を提供することにある。
半導体素子と受光素子の電極部との光軸調整のみで又は
光軸の無調整化で実現できる広帯域サンプラモジュール
を提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明の広帯域サンプラ
モジュールは、光半導体素子と受光素子とから構成さ
れ、光短パルスを発光する光半導体素子と受光素子の電
極部との光軸調整する手段を有する。
モジュールは、光半導体素子と受光素子とから構成さ
れ、光短パルスを発光する光半導体素子と受光素子の電
極部との光軸調整する手段を有する。
【0019】また、Si基板と、Si基板の上にパター
ンが形成された受光素子の電極と、半田バンプによって
電極上に実装された光半導体素子とから構成され、光半
導体素子の位置は、高精度に実装するための位置合わせ
マーカーと半田バンプとのセルフアライメント効果によ
って無調整で高精度に決められていてもよい。
ンが形成された受光素子の電極と、半田バンプによって
電極上に実装された光半導体素子とから構成され、光半
導体素子の位置は、高精度に実装するための位置合わせ
マーカーと半田バンプとのセルフアライメント効果によ
って無調整で高精度に決められていてもよい。
【0020】また、Si基板の電気配線部に形成された
光パルス発生ドライブ回路を内蔵してもよい。
光パルス発生ドライブ回路を内蔵してもよい。
【0021】また、光半導体素子は、面発光LDチップ
であってもよい。また、受光素子は、フォトコンダクタ
であってもよい。また、光パルス発生ドライブ回路は、
LDドライバICであってもよい。
であってもよい。また、受光素子は、フォトコンダクタ
であってもよい。また、光パルス発生ドライブ回路は、
LDドライバICであってもよい。
【0022】従って、光短パルスを発光する光半導体素
子(面発光LDチップ)と、受光素子(フォトコンダク
タ)の受光電極部との光軸調整のみで、広帯域なサンプ
ラモジュールが実現出来る。また、Siプラットホーム
による光軸の無調整化、電気デバイスである光パルス発
生ドライブ回路(LDドライバIC)の半導体プロセス
によるMMIC化によりさらなる特性の向上、小型化が
実現出来る。
子(面発光LDチップ)と、受光素子(フォトコンダク
タ)の受光電極部との光軸調整のみで、広帯域なサンプ
ラモジュールが実現出来る。また、Siプラットホーム
による光軸の無調整化、電気デバイスである光パルス発
生ドライブ回路(LDドライバIC)の半導体プロセス
によるMMIC化によりさらなる特性の向上、小型化が
実現出来る。
【0023】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、図
面を参照して説明する。
面を参照して説明する。
【0024】光半導体素子、外部光源からサンプリング
パルスを発生させる。例えば、ゲインスイッチ法、モー
ドロック方式により光の短パルスを発生させる。光のパ
ルス幅はpsecからfsecまで発生が可能である。
図1に発生させた光の短パルスの波形を示す。半値幅は
8.597psecである。受光素子は、その半導体基
板の吸収係数で使用する光源が限定されるが例として、
フォトコンダクタ(Lt−GaAs)の場合だと近赤外
光(850nm)が望ましい。
パルスを発生させる。例えば、ゲインスイッチ法、モー
ドロック方式により光の短パルスを発生させる。光のパ
ルス幅はpsecからfsecまで発生が可能である。
図1に発生させた光の短パルスの波形を示す。半値幅は
8.597psecである。受光素子は、その半導体基
板の吸収係数で使用する光源が限定されるが例として、
フォトコンダクタ(Lt−GaAs)の場合だと近赤外
光(850nm)が望ましい。
【0025】フォトコンダクタには、受光電極部が形成
されており、そこに光を照射する事で、キャリアが発生
しフォトンに変わる。そのフォトンのライフタイムがフ
ォトコンダクタの特性を決定する。周波数特性はフォト
コンダクタのインパルスレスポンスから見積もる事がで
き、100GHz以上と高い高周波特性を示す。即ち、
フォトコンダクタは、超高速な光スイッチ作用を有する
光導電スイッチとなる。
されており、そこに光を照射する事で、キャリアが発生
しフォトンに変わる。そのフォトンのライフタイムがフ
ォトコンダクタの特性を決定する。周波数特性はフォト
コンダクタのインパルスレスポンスから見積もる事がで
き、100GHz以上と高い高周波特性を示す。即ち、
フォトコンダクタは、超高速な光スイッチ作用を有する
光導電スイッチとなる。
【0026】これらをパッケージ内に集積化したモジュ
ールは、光半導体素子から発光される光短パルスと受光
素子(フォトコンダクタ)の電極部との光軸調整のみで
実現することができる。
ールは、光半導体素子から発光される光短パルスと受光
素子(フォトコンダクタ)の電極部との光軸調整のみで
実現することができる。
【0027】光半導体素子1を実装するためのSiプラ
ットホーム2を形成した例を図2に示す。Si基板3の
上に受光素子(フォトコンダクタ)4の電極5パターン
を形成し、半田バンプ6によって電極5上に光半導体素
子1を実装する。この時、高精度に実装するための位置
合わせマーカー7と半田バンプ6とのセルフアライメン
ト効果によって無調整で高精度に光半導体素子1の位置
が決まる。
ットホーム2を形成した例を図2に示す。Si基板3の
上に受光素子(フォトコンダクタ)4の電極5パターン
を形成し、半田バンプ6によって電極5上に光半導体素
子1を実装する。この時、高精度に実装するための位置
合わせマーカー7と半田バンプ6とのセルフアライメン
ト効果によって無調整で高精度に光半導体素子1の位置
が決まる。
【0028】光半導体素子1として面発光LDチップを
用いる。図3は面発光LDチップの電極形状を示した図
である。電極としてはp型電極100、n型電極10
1、駆動電極103がある。ここでは、p型電極10
0、がグランド面であり、このp型電極100には、バ
ンプ用パッド104a〜104fが形成されている。こ
の面発光LDチップでは、基板面に対して垂直方向に発
光面102から光が出射する。
用いる。図3は面発光LDチップの電極形状を示した図
である。電極としてはp型電極100、n型電極10
1、駆動電極103がある。ここでは、p型電極10
0、がグランド面であり、このp型電極100には、バ
ンプ用パッド104a〜104fが形成されている。こ
の面発光LDチップでは、基板面に対して垂直方向に発
光面102から光が出射する。
【0029】図2のSiプラットホーム2に付け加え
て、電気配線部8に電気的なデバイスである光パルス発
生ドライブ回路(本例では、LDドライバIC)9を形
成して、ドライバIC搭載LDモジュールとした例を、
図4に示す。
て、電気配線部8に電気的なデバイスである光パルス発
生ドライブ回路(本例では、LDドライバIC)9を形
成して、ドライバIC搭載LDモジュールとした例を、
図4に示す。
【0030】即ち、半導体プロセスによって、受光電極
部を形成し高速なスイッチ特性を示す受光素子(フォト
コンダクタ)4と、サンプリングパルスを発生する光半
導体素子(面発光LDチップ)1と光パルス発生ドライ
ブ回路(LDドライバIC)9を形成する。サンプリン
グ帯域は、サンプリングパルスを発生する光半導体素子
(面発光LDチップ)1と光パルス発生ドライブ回路
(LDドライバIC)9の特性で決定される。スイッチ
ングスピードは、受光素子(フォトコンダクタ)1の特
性で決められる。
部を形成し高速なスイッチ特性を示す受光素子(フォト
コンダクタ)4と、サンプリングパルスを発生する光半
導体素子(面発光LDチップ)1と光パルス発生ドライ
ブ回路(LDドライバIC)9を形成する。サンプリン
グ帯域は、サンプリングパルスを発生する光半導体素子
(面発光LDチップ)1と光パルス発生ドライブ回路
(LDドライバIC)9の特性で決定される。スイッチ
ングスピードは、受光素子(フォトコンダクタ)1の特
性で決められる。
【0031】従って、Siプラットホームによる光軸の
無調整化、電気デバイスの半導体プロセスによるMMI
C(モノリシック・マイクロ波IC、Monolithic Micro
waveIC )化によって、さらなる特性の向上、小型化も
期待できる。
無調整化、電気デバイスの半導体プロセスによるMMI
C(モノリシック・マイクロ波IC、Monolithic Micro
waveIC )化によって、さらなる特性の向上、小型化も
期待できる。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、光短パル
スを発光する光半導体素子(面発光LDチップ)と、受
光素子(フォトコンダクタ)の受光電極部との光軸調整
のみで、広帯域なサンプラモジュールが実現出来るとい
う効果がある。また、Siプラットホームによる光軸の
無調整化、電気デバイスである光パルス発生ドライブ回
路(LDドライバIC)の半導体プロセスによるMMI
C化によりさらなる特性の向上、小型化が実現出来る。
スを発光する光半導体素子(面発光LDチップ)と、受
光素子(フォトコンダクタ)の受光電極部との光軸調整
のみで、広帯域なサンプラモジュールが実現出来るとい
う効果がある。また、Siプラットホームによる光軸の
無調整化、電気デバイスである光パルス発生ドライブ回
路(LDドライバIC)の半導体プロセスによるMMI
C化によりさらなる特性の向上、小型化が実現出来る。
【図1】発生させた光の短パルスの波形を示す図であ
る。
る。
【図2】光半導体素子を実装するためのSiプラットホ
ームを形成した例を示す図である。
ームを形成した例を示す図である。
【図3】面発光LDチップの電極形状を示した図であ
る。
る。
【図4】図2のSiプラットホームに付け加えて、電気
配線部に電気的なデバイス(本例では、LDドライバI
C)を形成して、ドライバIC搭載LDモジュールとし
た例を示す図である。
配線部に電気的なデバイス(本例では、LDドライバI
C)を形成して、ドライバIC搭載LDモジュールとし
た例を示す図である。
【図5】Cnのスペクトラムエンベロープを示す図であ
る。
る。
【図6】等価回路を示す図である。
1 光半導体素子(面発光LDチップ) 2 Siプラットホーム 3 Si基板 4 受光素子(フォトコンダクタ) 5 電極5 6 半田バンプ 7 位置合わせマーカー 8 電気配線部(LDドライバIC搭載部) 9 光パルス発生ドライブ回路(LDドライバIC) 11 スペクトラムエンベロープ 12 信号源 13 サンプリングゲート 100 p型電極 101 n型電極 102 発光面 103 駆動電極 104a〜104f バンプ用パッド C 積分コンデンサー
Claims (6)
- 【請求項1】 光半導体素子と受光素子とから構成さ
れ、光短パルスを発光する前記光半導体素子と前記受光
素子の電極部との光軸調整する手段を有する広帯域サン
プラモジュール。 - 【請求項2】 Si基板と、該Si基板の上にパターン
が形成された受光素子の電極と、半田バンプによって前
記電極上に実装された光半導体素子とから構成され、 前記光半導体素子の位置は、高精度に実装するための位
置合わせマーカーと前記半田バンプとのセルフアライメ
ント効果によって無調整で高精度に決められた広帯域サ
ンプラモジュール。 - 【請求項3】 前記Si基板の電気配線部に形成された
光パルス発生ドライブ回路を内蔵する請求項2に記載の
広帯域サンプラモジュール。 - 【請求項4】 前記光半導体素子は、面発光LDチップ
である請求項1から請求項3の何れか1項に記載の広帯
域サンプラモジュール。 - 【請求項5】 前記受光素子は、フォトコンダクタであ
る請求項1から請求項3の何れか1項に記載の広帯域サ
ンプラモジュール。 - 【請求項6】 前記光パルス発生ドライブ回路は、LD
ドライバICである請求項3に記載の広帯域サンプラモ
ジュール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3905398A JPH11238907A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 広帯域サンプラモジュール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3905398A JPH11238907A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 広帯域サンプラモジュール |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238907A true JPH11238907A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=12542398
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3905398A Withdrawn JPH11238907A (ja) | 1998-02-20 | 1998-02-20 | 広帯域サンプラモジュール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11238907A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001015794A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-19 | Agilent Technol Inc | 光導電リレー、組立体および光導電リレーの組立方法 |
| WO2019202874A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体レーザ駆動装置およびその製造方法 |
| WO2021033438A1 (en) * | 2019-08-20 | 2021-02-25 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Distance measuring device, electronic equipment, and method for manufacturing distance measuring device |
-
1998
- 1998-02-20 JP JP3905398A patent/JPH11238907A/ja not_active Withdrawn
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001015794A (ja) * | 1999-06-18 | 2001-01-19 | Agilent Technol Inc | 光導電リレー、組立体および光導電リレーの組立方法 |
| WO2019202874A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体レーザ駆動装置およびその製造方法 |
| CN112005455A (zh) * | 2018-04-19 | 2020-11-27 | 索尼半导体解决方案公司 | 半导体激光驱动装置及其制造方法 |
| JPWO2019202874A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2021-05-13 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体レーザ駆動装置およびその製造方法 |
| JP2023145742A (ja) * | 2018-04-19 | 2023-10-11 | ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 | 半導体レーザ駆動装置およびその製造方法 |
| US11962123B2 (en) | 2018-04-19 | 2024-04-16 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Semiconductor laser drive device and method of manufacturing the same |
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| US12249806B2 (en) | 2018-04-19 | 2025-03-11 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Semiconductor laser drive device and method of manufacturing the same |
| WO2021033438A1 (en) * | 2019-08-20 | 2021-02-25 | Sony Semiconductor Solutions Corporation | Distance measuring device, electronic equipment, and method for manufacturing distance measuring device |
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