JPH11240913A - α−オレフィン重合用固体触媒成分とそれを用いたα−オレフィン重合用触媒 - Google Patents
α−オレフィン重合用固体触媒成分とそれを用いたα−オレフィン重合用触媒Info
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- JPH11240913A JPH11240913A JP6790398A JP6790398A JPH11240913A JP H11240913 A JPH11240913 A JP H11240913A JP 6790398 A JP6790398 A JP 6790398A JP 6790398 A JP6790398 A JP 6790398A JP H11240913 A JPH11240913 A JP H11240913A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高立体規則性で、流動性のよいポリ−α−オ
レフィンを製造することができる重合用固体触媒成分及
び重合用触媒を提供する。 【解決手段】 マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび
電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBr2、
I2または一般式MXn(式中、Mは、Mg、Al、B、
Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、
Pd、Ag、Cd、La、Hf、Ta、W、Re、O
s、Ir、Pt、Au、Hgを表す。Xは、Br、I、
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基を表し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIで
ある。nは、Mの原子価を表す。)で示される化合物に
より処理したα−オレフィン重合用固体触媒成分であ
り、また(A)前記固体触媒成分、(B)有機アルミニ
ウム化合物、(C)アルキルアルコキシシラン化合物か
らなるα−オレフィン重合用触媒。
レフィンを製造することができる重合用固体触媒成分及
び重合用触媒を提供する。 【解決手段】 マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび
電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBr2、
I2または一般式MXn(式中、Mは、Mg、Al、B、
Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、
Pd、Ag、Cd、La、Hf、Ta、W、Re、O
s、Ir、Pt、Au、Hgを表す。Xは、Br、I、
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基を表し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIで
ある。nは、Mの原子価を表す。)で示される化合物に
より処理したα−オレフィン重合用固体触媒成分であ
り、また(A)前記固体触媒成分、(B)有機アルミニ
ウム化合物、(C)アルキルアルコキシシラン化合物か
らなるα−オレフィン重合用触媒。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、α−オレフィン重
合用固体触媒成分及びα−オレフィン重合用触媒に関す
る。
合用固体触媒成分及びα−オレフィン重合用触媒に関す
る。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】Mg、Ti、ハロゲン
および電子供与性化合物を必須成分とする触媒成分と有
機アルミニウム化合物、シラン化合物からなるα−オレ
フィン重合用触媒はよく知られている。その際、シラン
化合物を変えることによって、得られるポリ(α−オレ
フィン)の立体規則性を変化させることができる(特開
平7−109309号公報)。しかしながら、一般にシ
ラン化合物を変えて、ポリ(α−オレフィン)の立体規
則性を向上させようとすると、ポリマーのメルトフロー
レート(MFR)が低下する傾向にある。そこで、高立
体規則性で、高いMFRを有する、すなわち流動性のよ
い、ポリ(α−オレフィン)を製造することができる重
合触媒の開発が望まれていた。
および電子供与性化合物を必須成分とする触媒成分と有
機アルミニウム化合物、シラン化合物からなるα−オレ
フィン重合用触媒はよく知られている。その際、シラン
化合物を変えることによって、得られるポリ(α−オレ
フィン)の立体規則性を変化させることができる(特開
平7−109309号公報)。しかしながら、一般にシ
ラン化合物を変えて、ポリ(α−オレフィン)の立体規
則性を向上させようとすると、ポリマーのメルトフロー
レート(MFR)が低下する傾向にある。そこで、高立
体規則性で、高いMFRを有する、すなわち流動性のよ
い、ポリ(α−オレフィン)を製造することができる重
合触媒の開発が望まれていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、高立体規則
性で、流動性のよいポリ(α−オレフィン)を製造する
ことができる重合用固体触媒成分と、それを用いたα−
オレフィン重合用触媒を提供することを目的とする。
性で、流動性のよいポリ(α−オレフィン)を製造する
ことができる重合用固体触媒成分と、それを用いたα−
オレフィン重合用触媒を提供することを目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、α−オレ
フィンの重合触媒について検討を重ねた結果、固体成分
をBr、Iを含んだ特定の化合物で処理することにより
得られた固体触媒成分を用いて重合することにより、高
立体規則性で、かつ高い流動性を有するポリ(α−オレ
フィン)を製造できることを見出し、本発明を完成させ
た。
フィンの重合触媒について検討を重ねた結果、固体成分
をBr、Iを含んだ特定の化合物で処理することにより
得られた固体触媒成分を用いて重合することにより、高
立体規則性で、かつ高い流動性を有するポリ(α−オレ
フィン)を製造できることを見出し、本発明を完成させ
た。
【0005】すなわち、本発明の第1の発明は、マグネ
シウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を必
須成分とする固体成分をBr2、I2または一般式MXn
(式中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、V、C
r、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、
Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、L
a、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、
Hgを表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価
を表す。)で示される化合物により処理したα−オレフ
ィン重合用固体触媒成分である。また、本発明の第2の
発明は、(A)前記固体触媒成分、(B)有機アルミニ
ウム化合物、(C)アルキルアルコキシシラン化合物か
らなるα−オレフィン重合用触媒である。
シウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を必
須成分とする固体成分をBr2、I2または一般式MXn
(式中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、V、C
r、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、
Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、L
a、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、
Hgを表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価
を表す。)で示される化合物により処理したα−オレフ
ィン重合用固体触媒成分である。また、本発明の第2の
発明は、(A)前記固体触媒成分、(B)有機アルミニ
ウム化合物、(C)アルキルアルコキシシラン化合物か
らなるα−オレフィン重合用触媒である。
【0006】本発明の実施態様を以下に示す。 (イ)固体成分が、マグネシウム、チタン、ハロゲン、
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする成
分である前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ロ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、V、Cr、M
n、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、
Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、La、H
f、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hgを
表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なくと
も一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価を表
す。)で示される化合物により処理した前記請求項1記
載の固体触媒成分。 (ハ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、Sc、Ti、V、Cr、Mn、
Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、M
o、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、La、H
f、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hgの
金属を表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価
を表す。)で示される化合物により処理した前記請求項
1記載の固体触媒成分。 (ニ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、Bを表す。Xは、Br、I、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ
基を表し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIであ
る。nは、Mの原子価を表す。)で示される化合物によ
り処理した前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ホ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なくとも一個
はBrまたはIである。)硼素化合物により処理した前
記請求項1記載の固体触媒成分。 (ヘ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、I、アルキル基を表し、ただし、少なくとも
一個はBrまたはIである。)硼素化合物により処理し
た前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ト)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、Iを表す。)硼素化合物により処理した前記
請求項1記載の固体触媒成分。 (チ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲン、
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする固
体成分である前記請求項2記載のα−オレフィン重合用
触媒。 (リ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、
Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、C
d、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、
Au、Hgを表す。Xは、Br、I、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただ
し、少なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの
原子価を表す。)で示される化合物により処理した前記
請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (ヌ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、Sc、Ti、V、
Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Z
r、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、C
d、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、
Au、Hgの金属を表す。Xは、Br、I、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基を表
し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIである。n
は、Mの原子価を表す。)で示される化合物により処理
した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (ル)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、Bを表す。Xは、
Br、I、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基を表し、ただし、少なくとも一個はBr
またはIである。nは、Mの原子価を表す。)で示され
る化合物により処理した前記請求項2記載のα−オレフ
ィン重合用触媒。 (ヲ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBr又はIである。)硼素化合物により
処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触
媒。 (ワ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、I、アルキル基を表し、ただ
し、少なくとも一個はBr又はIである。)硼素化合物
により処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合
用触媒。 (カ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、Iを表す。)硼素化合物により
処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触
媒。 (ヨ)成分(B)がトリメチルアルミニウムである前記
請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (タ)成分(A)、成分(B)、成分(C)及び成分
(D)アルキル亜鉛からなる前記請求項2、前記(チ)
ないし前記(ヨ)記載のα−オレフィン重合用触媒。
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする成
分である前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ロ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、V、Cr、M
n、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、
Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、La、H
f、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hgを
表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なくと
も一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価を表
す。)で示される化合物により処理した前記請求項1記
載の固体触媒成分。 (ハ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、Sc、Ti、V、Cr、Mn、
Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Zr、Nb、M
o、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Cd、La、H
f、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、Au、Hgの
金属を表す。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの原子価
を表す。)で示される化合物により処理した前記請求項
1記載の固体触媒成分。 (ニ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分を一般式MXn(式
中、Mは、Mg、Al、Bを表す。Xは、Br、I、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ
基を表し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIであ
る。nは、Mの原子価を表す。)で示される化合物によ
り処理した前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ホ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、アリール
基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なくとも一個
はBrまたはIである。)硼素化合物により処理した前
記請求項1記載の固体触媒成分。 (ヘ)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、I、アルキル基を表し、ただし、少なくとも
一個はBrまたはIである。)硼素化合物により処理し
た前記請求項1記載の固体触媒成分。 (ト)マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須成分とする固体成分をBXn(式中、X
は、Br、Iを表す。)硼素化合物により処理した前記
請求項1記載の固体触媒成分。 (チ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲン、
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする固
体成分である前記請求項2記載のα−オレフィン重合用
触媒。 (リ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、B、Sc、Ti、
V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、
Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、C
d、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、
Au、Hgを表す。Xは、Br、I、アルキル基、アル
コキシ基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただ
し、少なくとも一個はBrまたはIである。nは、Mの
原子価を表す。)で示される化合物により処理した前記
請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (ヌ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、Sc、Ti、V、
Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn、Y、Z
r、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、C
d、La、Hf、Ta、W、Re、Os、Ir、Pt、
Au、Hgの金属を表す。Xは、Br、I、アルキル
基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基を表
し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIである。n
は、Mの原子価を表す。)で示される化合物により処理
した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (ル)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分を一般
式MXn(式中、Mは、Mg、Al、Bを表す。Xは、
Br、I、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ア
リールオキシ基を表し、ただし、少なくとも一個はBr
またはIである。nは、Mの原子価を表す。)で示され
る化合物により処理した前記請求項2記載のα−オレフ
ィン重合用触媒。 (ヲ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ
基、アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少
なくとも一個はBr又はIである。)硼素化合物により
処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触
媒。 (ワ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、I、アルキル基を表し、ただ
し、少なくとも一個はBr又はIである。)硼素化合物
により処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合
用触媒。 (カ)成分(A)がマグネシウム、チタン、ハロゲンお
よび電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBX
n(式中、Xは、Br、Iを表す。)硼素化合物により
処理した前記請求項2記載のα−オレフィン重合用触
媒。 (ヨ)成分(B)がトリメチルアルミニウムである前記
請求項2記載のα−オレフィン重合用触媒。 (タ)成分(A)、成分(B)、成分(C)及び成分
(D)アルキル亜鉛からなる前記請求項2、前記(チ)
ないし前記(ヨ)記載のα−オレフィン重合用触媒。
【0007】
【発明の実施の形態】I.α−オレフィン重合用固体触
媒成分(A) 本発明の第1の発明のα−オレフィン重合用固体触媒成
分(A)は、Ti、Mg、ハロゲンおよび電子供与性化
合物を必須とする固体成分を、Br2、I2または一般式
MXnで示される化合物により処理して得られる。以下
に項目毎に詳細に説明する。
媒成分(A) 本発明の第1の発明のα−オレフィン重合用固体触媒成
分(A)は、Ti、Mg、ハロゲンおよび電子供与性化
合物を必須とする固体成分を、Br2、I2または一般式
MXnで示される化合物により処理して得られる。以下
に項目毎に詳細に説明する。
【0008】1.Ti、Mg、ハロゲンおよび電子供与
性化合物を必須とする固体成分 本発明の固体触媒成分(A)に用いる固体成分は、マグ
ネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を
必須成分とし、必要に応じて金属酸化物を含むことがで
きる。固体成分は、それ自体公知の成分である。このよ
うな成分は通常、マグネシウム化合物、チタン化合物お
よび電子供与性化合物、さらに前記各化合物がハロゲン
を有しない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物をそれ
ぞれ接触することにより、調製される。以下各成分につ
いて説明する。
性化合物を必須とする固体成分 本発明の固体触媒成分(A)に用いる固体成分は、マグ
ネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子供与性化合物を
必須成分とし、必要に応じて金属酸化物を含むことがで
きる。固体成分は、それ自体公知の成分である。このよ
うな成分は通常、マグネシウム化合物、チタン化合物お
よび電子供与性化合物、さらに前記各化合物がハロゲン
を有しない化合物の場合は、ハロゲン含有化合物をそれ
ぞれ接触することにより、調製される。以下各成分につ
いて説明する。
【0009】(1)マグネシウム マグネシウム化合物は、一般式MgRaRbで表される。
ここで、Ra及びRbは同一か異なる炭化水素基、OR基
(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。より詳細に
は、Ra及びRbの炭化水素基としては、炭素素1〜20
個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
アルキル基が、OR基としては、Rが炭素数1〜12個
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルア
ルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素、フッ素等が挙げられる。
ここで、Ra及びRbは同一か異なる炭化水素基、OR基
(Rは炭化水素基)、ハロゲン原子を示す。より詳細に
は、Ra及びRbの炭化水素基としては、炭素素1〜20
個のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アル
アルキル基が、OR基としては、Rが炭素数1〜12個
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルア
ルキル基が、ハロゲン原子としては塩素、臭素、ヨウ
素、フッ素等が挙げられる。
【0010】これら化合物の具体例を下記に示す。下記
化学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr:
プロピル、i−Pr:イソプロピル、Bu:ブチル、i
−Bu:イソブチル、t−Bu:ターシャリーブチル、
He:ヘキシル、Oct:オクチル、Ph:フェニル、
cyHe:シクロヘキシルをそれぞれ示す。
化学式において、Me:メチル、Et:エチル、Pr:
プロピル、i−Pr:イソプロピル、Bu:ブチル、i
−Bu:イソブチル、t−Bu:ターシャリーブチル、
He:ヘキシル、Oct:オクチル、Ph:フェニル、
cyHe:シクロヘキシルをそれぞれ示す。
【0011】MgMe2、MgEt2、Mg(i−Pr)
2、MgBu2、MgHe2、MgOct2、MgEtB
u、MgPh2、MgcyHe2、Mg(OMe)2、M
g(OEt)2、Mg(OBu)2、Mg(OHe)2、
Mg(OOct)2、Mg(OPh)2、Mg(OcyH
e)2、EtMgCl、BuMgCl、HeMgCl、
i−BuMgCl、t−BuMgCl、PhMgCl、
PhCH2MgCl、EtMgBr、BuMgBr、P
hMgBr、BuMgI、EtOMgCl、BuOMg
Cl、HeOMgCl、PhOMgCl、EtOMgB
r、BuOMgBr、EtOMgI、MgCl2、Mg
Br2、MgI2。
2、MgBu2、MgHe2、MgOct2、MgEtB
u、MgPh2、MgcyHe2、Mg(OMe)2、M
g(OEt)2、Mg(OBu)2、Mg(OHe)2、
Mg(OOct)2、Mg(OPh)2、Mg(OcyH
e)2、EtMgCl、BuMgCl、HeMgCl、
i−BuMgCl、t−BuMgCl、PhMgCl、
PhCH2MgCl、EtMgBr、BuMgBr、P
hMgBr、BuMgI、EtOMgCl、BuOMg
Cl、HeOMgCl、PhOMgCl、EtOMgB
r、BuOMgBr、EtOMgI、MgCl2、Mg
Br2、MgI2。
【0012】上記マグネシウム化合物は、固体成分を調
製する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウ
ム化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
XnM(OR)m-nのアルコキシ基含有化合物(式中、X
は水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20個の炭
化水素基、Mはホウ素、炭素、アルミニウム、ケイ素ま
たはリン原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、m
はMの原子価、m>n≧0を示す。)を接触させる方法
が挙げられる。
製する際に、金属マグネシウム又はその他のマグネシウ
ム化合物から調製することも可能である。その一例とし
て、金属マグネシウム、ハロゲン化炭化水素及び一般式
XnM(OR)m-nのアルコキシ基含有化合物(式中、X
は水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜20個の炭
化水素基、Mはホウ素、炭素、アルミニウム、ケイ素ま
たはリン原子、Rは炭素数1〜20個の炭化水素基、m
はMの原子価、m>n≧0を示す。)を接触させる方法
が挙げられる。
【0013】該アルコキシ基含有化合物の一般式のX及
びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et)、プロピル(Pr)、i−プロピル、(i−P
r)、ブチル(Bu)、i−ブチル(i−Bu)、ヘキ
シル(He)、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe)、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph)、トリル、キシリル等
のアリール基、フェネチル、3−フェニルピロピル等の
アルアルキル基が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
びRの炭化水素基としては、メチル(Me)、エチル
(Et)、プロピル(Pr)、i−プロピル、(i−P
r)、ブチル(Bu)、i−ブチル(i−Bu)、ヘキ
シル(He)、オクチル(Oct)等のアルキル基、シ
クロヘキシル(cyHe)、メチルシクロヘキシル等の
シクロアルキル基、アリル、プロペニル、ブテニル等の
アルケニル基、フェニル(Ph)、トリル、キシリル等
のアリール基、フェネチル、3−フェニルピロピル等の
アルアルキル基が挙げられる。これらの中でも、特に炭
素数1〜10個のアルキル基が望ましい。以下、アルコ
キシ基含有化合物の具体例を挙げる。
【0014】Mが炭素の場合の化合物 式C(OR)4に含まれるC(OMe)4、C(OEt)
4、C(OPr)4、C(OBu)4、C(Oi−B
u)4、C(OHe)4、C(OOct)4:式XC(O
R)3に含まれるHC(OMe)3、HC(OEt)3、
HC(OPr)3、HC(OBu)3、HC(OH
e)3、HC(OPh)3;MeC(OMe)3,Mec
(OEt)3、EtC(OMe)3、EtC(OE
t)3、cyHeC(OEt)3、PhC(OMe)3、P
hC(OEt)3、CH2ClC(OEt)3、MeCHB
rC(OEt)3、MeCHClC(OEt)3;ClC
(OMe)3、ClC(OEt)3、ClC(Oi−B
u)3、BrC(OEt)3;式X2C(OR)2に含まれ
るMeCH(OMe)2、MeCH(OEt)2、CH2
(OMe)2、CH2(OEt)2、CH2ClCH(OE
t)2、CHCl2CH(OEt)2、CCl3CH(OE
t)2、CH2BrCH(OEt)2、PhCH(OE
t)2。
4、C(OPr)4、C(OBu)4、C(Oi−B
u)4、C(OHe)4、C(OOct)4:式XC(O
R)3に含まれるHC(OMe)3、HC(OEt)3、
HC(OPr)3、HC(OBu)3、HC(OH
e)3、HC(OPh)3;MeC(OMe)3,Mec
(OEt)3、EtC(OMe)3、EtC(OE
t)3、cyHeC(OEt)3、PhC(OMe)3、P
hC(OEt)3、CH2ClC(OEt)3、MeCHB
rC(OEt)3、MeCHClC(OEt)3;ClC
(OMe)3、ClC(OEt)3、ClC(Oi−B
u)3、BrC(OEt)3;式X2C(OR)2に含まれ
るMeCH(OMe)2、MeCH(OEt)2、CH2
(OMe)2、CH2(OEt)2、CH2ClCH(OE
t)2、CHCl2CH(OEt)2、CCl3CH(OE
t)2、CH2BrCH(OEt)2、PhCH(OE
t)2。
【0015】Mがケイ素の場合の化合物 式Si(OR)4に含まれるSi(0Me)4、Si(O
Et)4、Si(OBu)4、Si(Oi−Bu)4、S
i(OHe)4、Si(OOct)4、Si(OP
h)4:式XSi(OR)3に含まれるHSi(OEt)
3、HSi(OBu)3、HSi(OHe)3、HSi
(OPh)3;MeSi(OMe)3、MeSi(OE
t)3、MeSi(OBu)3、EtSi(OEt)3、
PhSi(OEt)3、EtSi(OPh)3;ClSi
(OMe)3、ClSi(OEt)3、ClSi(OB
u)3、ClSi(OPh)3、BrSi(OEt)3;
式X2Si(OR)2に含まれるMe2Si(OMe)2、
Me2Si(OEt)2、Et2Si(OEt)2;MeC
lSi(OEt)2;CHCl2SiH(OEt)2;C
Cl3SiH(OEt)2;MeBuSi(OEt)2:
X3SiORに含まれるMe3SiOMe、Me3SiO
Et、Me3SiOBu、Me3SiOPh、Et3Si
OEt、Ph3SiOEt。
Et)4、Si(OBu)4、Si(Oi−Bu)4、S
i(OHe)4、Si(OOct)4、Si(OP
h)4:式XSi(OR)3に含まれるHSi(OEt)
3、HSi(OBu)3、HSi(OHe)3、HSi
(OPh)3;MeSi(OMe)3、MeSi(OE
t)3、MeSi(OBu)3、EtSi(OEt)3、
PhSi(OEt)3、EtSi(OPh)3;ClSi
(OMe)3、ClSi(OEt)3、ClSi(OB
u)3、ClSi(OPh)3、BrSi(OEt)3;
式X2Si(OR)2に含まれるMe2Si(OMe)2、
Me2Si(OEt)2、Et2Si(OEt)2;MeC
lSi(OEt)2;CHCl2SiH(OEt)2;C
Cl3SiH(OEt)2;MeBuSi(OEt)2:
X3SiORに含まれるMe3SiOMe、Me3SiO
Et、Me3SiOBu、Me3SiOPh、Et3Si
OEt、Ph3SiOEt。
【0016】Mがホウ素の場合の化合物 式B(OR)3に含まれるB(OEt)3、B(OBu)
3、B(OHe)3、B(OPh)3。
3、B(OHe)3、B(OPh)3。
【0017】Mがアルミニウムの場合の化合物 式Al(OR)3に含まれるAl(OMe)3、Al(O
Et)3、Al(OPr)3、Al(Oi−Pr)3、A
l(OBu)3、Al(Ot−Bu)3、Al(OHe)
3、Al(OPh)3。
Et)3、Al(OPr)3、Al(Oi−Pr)3、A
l(OBu)3、Al(Ot−Bu)3、Al(OHe)
3、Al(OPh)3。
【0018】Mがリンの場合の化合物 式P(OR)3に含まれるP(OMe)3、P(OEt)
3、P(OBu)3、P(OHe)3、P(OPh)3。
3、P(OBu)3、P(OHe)3、P(OPh)3。
【0019】更に、前記マグネシウム化合物は、周期表
第II族又は第IIIa族金属(M′)の有機化合物と
の錯体も使用することができる。該錯体は一般式MgR
aRb・p(M′Rc q)で表される(RaおよびRbは前記
と同義)。該金属(M′)としては、アルミニウム、亜
鉛、カルシウム等であり、RCは炭素数1〜12個のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基である。また、qは金属M′の原子価を、pは0.
1〜10の数を示す。M′RC qで表される化合の具体例
としては、AlMe3、AlEt3、Al(i−B
u)3、AlPh3、ZnMe2、ZnEt2、ZnB
u2、ZnPh2、CaEt2、CaPh2等が挙げられ
る。
第II族又は第IIIa族金属(M′)の有機化合物と
の錯体も使用することができる。該錯体は一般式MgR
aRb・p(M′Rc q)で表される(RaおよびRbは前記
と同義)。該金属(M′)としては、アルミニウム、亜
鉛、カルシウム等であり、RCは炭素数1〜12個のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルアルキ
ル基である。また、qは金属M′の原子価を、pは0.
1〜10の数を示す。M′RC qで表される化合の具体例
としては、AlMe3、AlEt3、Al(i−B
u)3、AlPh3、ZnMe2、ZnEt2、ZnB
u2、ZnPh2、CaEt2、CaPh2等が挙げられ
る。
【0020】(2)チタン チタン化合物は、三価および四価のチタン化合物であ
り、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チタ
ン、トリクロロエトキシチタン、トリクロロブトキシチ
タン、ジクロロジエトキシチタン、ジクロロジブトキシ
チタン、ジクロロジフェノキシチタン、クロロトリエト
キシチタン、クロロトリブトキシチタン、テトラブトキ
シチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。これ
らの中でも、四塩化チタン、トリクロロエトキシチタ
ン、ジクロロジブトキシチタン、ジクロロジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
り、それらを例示すると、四塩化チタン、四臭化チタ
ン、トリクロロエトキシチタン、トリクロロブトキシチ
タン、ジクロロジエトキシチタン、ジクロロジブトキシ
チタン、ジクロロジフェノキシチタン、クロロトリエト
キシチタン、クロロトリブトキシチタン、テトラブトキ
シチタン、三塩化チタン等を挙げることができる。これ
らの中でも、四塩化チタン、トリクロロエトキシチタ
ン、ジクロロジブトキシチタン、ジクロロジフェノキシ
チタン等の四価のチタンハロゲン化物が望ましく、特に
四塩化チタンが望ましい。
【0021】(3)電子供与性化合物 電子供与性化合物としては、カルボン酸類、カルボン酸
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素若しくは酸素を介して結合したリン、
ヒ素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエ
ーテル類、チオエステル類、炭素エステル等が挙げられ
る。これらのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カ
ルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコ
ール類、エーテル類が好ましく用いられる。
無水物、カルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化
物、アルコール類、エーテル類、ケトン類、アミン類、
アミド類、ニトリル類、アルデヒド類、アルコレート
類、有機基と炭素若しくは酸素を介して結合したリン、
ヒ素およびアンチモン化合物、ホスホアミド類、チオエ
ーテル類、チオエステル類、炭素エステル等が挙げられ
る。これらのうちカルボン酸類、カルボン酸無水物、カ
ルボン酸エステル類、カルボン酸ハロゲン化物、アルコ
ール類、エーテル類が好ましく用いられる。
【0022】(a)カルボン酸類 カルボン酸の具体例としては、ギ酸、酢酸、プロピオン
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族
モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、
シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカ
ルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン
酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、
アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケ
イ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリト酸、ヘミ
メリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、メリト酸等の
芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。
酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、ピバリン
酸、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等の脂肪族
モノカルボン酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸等の脂肪
族ジカルボン酸、酒石酸等の脂肪族オキシカルボン酸、
シクロヘキサンモノカルボン酸、シクロヘキセンモノカ
ルボン酸、シス−1,2−シクロヘキサンジカルボン
酸、シス−4−メチルシクロヘキセン−1,2−ジカル
ボン酸等の脂環式カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、
アニス酸、p−第三級ブチル安息香酸、ナフトエ酸、ケ
イ皮酸等の芳香族モノカルボン酸、フタル酸、イソフタ
ル酸、テレフタル酸、ナフタル酸、トリメリト酸、ヘミ
メリト酸、トリメシン酸、ピロメリト酸、メリト酸等の
芳香族多価カルボン酸等が挙げられる。
【0023】(b)カルボン酸無水物 カルボン酸無水物としては、上記のカルボン酸類の無水
物が使用し得る。
物が使用し得る。
【0024】(c)カルボン酸エステル カルボン酸エステルとしては、上記のカルボン酸類のモ
ノ又は多価エステルを使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハ
ク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエ
チル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、
アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバシ
ン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチ
ル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸
ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シク
ロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香
酸エチル、p−トルイル酸メチル、p−第三級ブチル、
安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸
エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、
フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタ
ル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル
酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチ
ル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸トリエチル、ト
リメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テトラメチル、ピ
ロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸テトラブチル等
が挙げられる。
ノ又は多価エステルを使用することができ、その具体例
として、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、イソ酪
酸イソブチル、ピバリン酸プロピル、ピバリン酸イソブ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタク
リル酸エチル、メタクリル酸イソブチル、マロン酸ジエ
チル、マロン酸ジイソブチル、コハク酸ジエチル、コハ
ク酸ジブチル、コハク酸ジイソブチル、グルタル酸ジエ
チル、グルタル酸ジブチル、グルタル酸ジイソブチル、
アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジブチル、セバシ
ン酸ジイソブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジ
ブチル、マレイン酸ジイソブチル、フマル酸モノメチ
ル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソブチル、酒石酸
ジエチル、酒石酸ジブチル、酒石酸ジイソブチル、シク
ロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチル、安息香
酸エチル、p−トルイル酸メチル、p−第三級ブチル、
安息香酸エチル、p−アニス酸エチル、α−ナフトエ酸
エチル、α−ナフトエ酸イソブチル、ケイ皮酸エチル、
フタル酸モノメチル、フタル酸モノブチル、フタル酸ジ
ブチル、フタル酸ジイソブチル、フタル酸ジヘキシル、
フタル酸ジオクチル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシ
ル、フタル酸ジアリル、フタル酸ジフェニル、イソフタ
ル酸ジエチル、イソフタル酸ジイソブチル、テレフタル
酸ジエチル、テレフタル酸ジブチル、ナフタル酸ジエチ
ル、ナフタル酸ジブチル、トリメリト酸トリエチル、ト
リメリト酸トリブチル、ピロメリト酸テトラメチル、ピ
ロメリト酸テトラエチル、ピロメリト酸テトラブチル等
が挙げられる。
【0025】(d)カルボン酸ハロゲン化物 カルボン酸ハロゲン化物としては、上記のカルボン酸類
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸アイオダイ
ド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸ブロミ
ド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン
酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミ
ド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、
メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダイド、ク
ロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸ブロミ
ド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グルタル酸
クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸クロリド、
アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸
ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブロミド、
フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸クロリ
ド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリ
ド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−シクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベン
ゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイル酸ブロ
ミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブロミド、
α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸
ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、
イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テ
レフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げら
れる。また、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン
酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリ
ド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモ
ノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
の酸ハロゲン化物を使用することができ、その具体例と
して、酢酸クロリド、酢酸ブロミド、酢酸アイオダイ
ド、プロピオン酸クロリド、酪酸クロリド、酪酸ブロミ
ド、酪酸アイオダイド、ピバリン酸クロリド、ピバリン
酸ブロミド、アクリル酸クロリド、アクリル酸ブロミ
ド、アクリル酸アイオダイド、メタクリル酸クロリド、
メタクリル酸ブロミド、メタクリル酸アイオダイド、ク
ロトン酸クロリド、マロン酸クロリド、マロン酸ブロミ
ド、コハク酸クロリド、コハク酸ブロミド、グルタル酸
クロリド、グルタル酸ブロミド、アジピン酸クロリド、
アジピン酸ブロミド、セバシン酸クロリド、セバシン酸
ブロミド、マレイン酸クロリド、マレイン酸ブロミド、
フマル酸クロリド、フマル酸ブロミド、酒石酸クロリ
ド、酒石酸ブロミド、シクロヘキサンカルボン酸クロリ
ド、シクロヘキサンカルボン酸ブロミド、1−シクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸クロリド、シス−4−メチルシクロヘ
キセンカルボン酸ブロミド、塩化ベンゾイル、臭化ベン
ゾイル、p−トルイル酸クロリド、p−トルイル酸ブロ
ミド、p−アニス酸クロリド、p−アニス酸ブロミド、
α−ナフトエ酸クロリド、ケイ皮酸クロリド、ケイ皮酸
ブロミド、フタル酸ジクロリド、フタル酸ジブロミド、
イソフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジブロミド、テ
レフタル酸ジクロリド、ナフタル酸ジクロリドが挙げら
れる。また、アジピン酸モノメチルクロリド、マレイン
酸モノエチルクロリド、マレイン酸モノメチルクロリ
ド、フタル酸ブチルクロリドのようなジカルボン酸のモ
ノアルキルハロゲン化物も使用し得る。
【0026】(e)アルコール類 アルコール類は、一般式RdOHで表される。式におい
てRdは炭素数1〜12個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキルである。その具
体例としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、、ブタノールイソブタノール、
ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、2−エチ
ルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコ
ール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、p−ターシャリー−ブチルフェノール、n−オクチ
ルフェノール等である。
てRdは炭素数1〜12個のアルキル、アルケニル、シ
クロアルキル、アリール、アルアルキルである。その具
体例としては、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、イソプロパノール、、ブタノールイソブタノール、
ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、2−エチ
ルヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコ
ール、アリルアルコール、フェノール、クレゾール、キ
シレノール、エチルフェノール、イソプロピルフェノー
ル、p−ターシャリー−ブチルフェノール、n−オクチ
ルフェノール等である。
【0027】(f)エーテル類 エーテル類は、一般式ReORfで表される。式において
Re、 Rfは炭素数1〜12個のアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルであり、
ReとRfは同じでも異なっていてもよい。その具体例と
しては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソアミ
ルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテル、ジアリ
ルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリルエー
テル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチルフェニ
ルエーテル等である。
Re、 Rfは炭素数1〜12個のアルキル、アルケニ
ル、シクロアルキル、アリール、アルアルキルであり、
ReとRfは同じでも異なっていてもよい。その具体例と
しては、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、
ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジイソアミ
ルエーテル、ジ−2−エチルヘキシルエーテル、ジアリ
ルエーテル、エチルアリルエーテル、ブチルアリルエー
テル、ジフェニルエーテル、アニソール、エチルフェニ
ルエーテル等である。
【0028】(4)ハロゲン ハロゲン含有化合物としては、ハロゲン化炭化水素、ハ
ロゲン含有アルコール、水素−ケイ素結合を有するハロ
ゲン化ケイ素化合物、周期表第IIIa族、IVa族、
Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドとい
う。)等が挙げられる。
ロゲン含有アルコール、水素−ケイ素結合を有するハロ
ゲン化ケイ素化合物、周期表第IIIa族、IVa族、
Va族元素のハロゲン化物(以下、金属ハライドとい
う。)等が挙げられる。
【0029】(a)ハロゲン化炭化水素 ハロゲン化炭化水素としては、炭素数1〜12個の飽和
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
およびポリハロゲン置換体が使用される。それら化合物
の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライ
ド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレン
クロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイ
ド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩
化炭素、四臭化炭素、四ヨウ化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロロエタン,1,2−ジブロモエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロロエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン,1,1,2,
2−テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン、ヘキ
サクロロエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロロプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィン等が挙げられる。脂環式化合物ではク
ロロシクロプロパン、テトラクロロシクロペンタン、ヘ
キサクロロシクロペンタジエン、ヘキサクロロシクロヘ
キサン等が挙げられる。芳香族化合物ではクロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、o−ジクロロベンゼン、p−ジク
ロロベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサブロモベ
ンゼン、ベンゾトリクロライド、p−クロロベンゾトリ
クロライド等が挙げられる。これらの化合物は、一種の
みならず二種以上用いてもよい。
又は不飽和の脂肪族、脂環式及び芳香族炭化水素のモノ
およびポリハロゲン置換体が使用される。それら化合物
の具体的な例は、脂肪族化合物では、メチルクロライ
ド、メチルブロマイド、メチルアイオダイド、メチレン
クロライド、メチレンブロマイド、メチレンアイオダイ
ド、クロロホルム、ブロモホルム、ヨードホルム、四塩
化炭素、四臭化炭素、四ヨウ化炭素、エチルクロライ
ド、エチルブロマイド、エチルアイオダイド、1,2−
ジクロロエタン,1,2−ジブロモエタン、1,2−ジ
ヨードエタン、メチルクロロホルム、メチルブロモホル
ム、メチルヨードホルム、1,1,2−トリクロロエチ
レン、1,1,2−トリブロモエチレン,1,1,2,
2−テトラクロロエチレン、ペンタクロロエタン、ヘキ
サクロロエタン、ヘキサブロモエタン、n−プロピルク
ロライド、1,2−ジクロロプロパン、ヘキサクロロプ
ロピレン、オクタクロロプロパン、デカブロモブタン、
塩素化パラフィン等が挙げられる。脂環式化合物ではク
ロロシクロプロパン、テトラクロロシクロペンタン、ヘ
キサクロロシクロペンタジエン、ヘキサクロロシクロヘ
キサン等が挙げられる。芳香族化合物ではクロロベンゼ
ン、ブロモベンゼン、o−ジクロロベンゼン、p−ジク
ロロベンゼン、ヘキサクロロベンゼン、ヘキサブロモベ
ンゼン、ベンゾトリクロライド、p−クロロベンゾトリ
クロライド等が挙げられる。これらの化合物は、一種の
みならず二種以上用いてもよい。
【0030】(b)ハロゲン含有アルコール ハロゲン含有アルコールとしては、一分子中に一個又は
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中
の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子が
ハロゲン原子で置換された化合物を使用できる。ハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素原子が挙
げられ、塩素原子が望ましい。
二個以上の水酸基を有するモノ又は多価アルコール中
の、水酸基以外の任意の一個又は二個以上の水素原子が
ハロゲン原子で置換された化合物を使用できる。ハロゲ
ン原子としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素原子が挙
げられ、塩素原子が望ましい。
【0031】それら化合物を例示すると、2−クロロエ
タノール、1−クロロ−2−プロパノール、3−クロロ
−1−プロパノール、1−クロロ−2−メチル−2−プ
ロパノール、4−クロロ−1−ブタノール、5−クロロ
−1−ペンタノール、6−クロロ−1−ヘキサノール、
3−クロロ−1,2−プロパンジオール、2−クロロシ
クロヘキサノール、4−クロロベンズヒドロール、
(m,o,p)−クロロベンジルアルコール、4−クロ
ロカテコール、4−クロロ−(m,o)−クレゾール、
6−クロロ−(m,o)−クレゾール、4−クロロ−
3,5−ジメチルフェノール、クロロハイドロキノン、
2−ベンジル−4−クロロフェノール、4−クロロ−1
−ナフトール、(m,o,p)−クロロフェノール,p
−クロロ−α−メチルベンジルアルコール、2−クロロ
−4−フェニルフェノール、6−クロロチモール、4−
クロロレゾルシン、2−ブロモエタノール、3−ブロモ
−1−プロパノール、1−ブロモ−2−プロパノール、
1−ブロモ−2−ブタノール、2−ブロモ−p−クレゾ
ール、1−ブロモ−2−ナフトール、6−ブロモ−2−
ナフトール、(m,o,p)−ブロモフェノール、4−
ブロモレゾルシン、(m,o,p)−フルオロフェノー
ル,p−イオドフェノール:2,2−ジクロロエタノー
ル、2,3−ジクロロ−1−プロパノール、1,3−ジ
クロロ−2−プロパノール、3−クロロ−1−(α−ク
ロロメチル)−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−
1−プロパノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノー
ル、2,4−ジブロモフェノール、2,4−ジブロモ−
1−ナフトール:2,2,2ートリクロロエタノール、
1,1,1−トリクロロ−2−プロパノール、β,β,
β,−トリクロロ−tert−ブタノール、2,3,4
−トリクロロフェノール、2,4,5−トリクロロフェ
ノール、2,4,6−トリクロロフェノール、2,4,
6−トリブロモフェノール、2,3,5−トリブロモ−
2−ヒドロキシトルエン、2,3,5−トリブロモ−4
−ヒドロキシトルエン、2,2,2−トリフルオロエタ
ノール、α,α,α−トリフルオロ−m−クレゾール、
2,4,6−トリイオドフェノール:2,2,4,6−
テトラクロロフェノール、テトラクロロハイドロキノ
ン、テトラクロロビスフェノールA、テトラブロモビス
フェノールA、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−
プロパノール、2,3,5,6−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等があげられる。
タノール、1−クロロ−2−プロパノール、3−クロロ
−1−プロパノール、1−クロロ−2−メチル−2−プ
ロパノール、4−クロロ−1−ブタノール、5−クロロ
−1−ペンタノール、6−クロロ−1−ヘキサノール、
3−クロロ−1,2−プロパンジオール、2−クロロシ
クロヘキサノール、4−クロロベンズヒドロール、
(m,o,p)−クロロベンジルアルコール、4−クロ
ロカテコール、4−クロロ−(m,o)−クレゾール、
6−クロロ−(m,o)−クレゾール、4−クロロ−
3,5−ジメチルフェノール、クロロハイドロキノン、
2−ベンジル−4−クロロフェノール、4−クロロ−1
−ナフトール、(m,o,p)−クロロフェノール,p
−クロロ−α−メチルベンジルアルコール、2−クロロ
−4−フェニルフェノール、6−クロロチモール、4−
クロロレゾルシン、2−ブロモエタノール、3−ブロモ
−1−プロパノール、1−ブロモ−2−プロパノール、
1−ブロモ−2−ブタノール、2−ブロモ−p−クレゾ
ール、1−ブロモ−2−ナフトール、6−ブロモ−2−
ナフトール、(m,o,p)−ブロモフェノール、4−
ブロモレゾルシン、(m,o,p)−フルオロフェノー
ル,p−イオドフェノール:2,2−ジクロロエタノー
ル、2,3−ジクロロ−1−プロパノール、1,3−ジ
クロロ−2−プロパノール、3−クロロ−1−(α−ク
ロロメチル)−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−
1−プロパノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノー
ル、2,4−ジブロモフェノール、2,4−ジブロモ−
1−ナフトール:2,2,2ートリクロロエタノール、
1,1,1−トリクロロ−2−プロパノール、β,β,
β,−トリクロロ−tert−ブタノール、2,3,4
−トリクロロフェノール、2,4,5−トリクロロフェ
ノール、2,4,6−トリクロロフェノール、2,4,
6−トリブロモフェノール、2,3,5−トリブロモ−
2−ヒドロキシトルエン、2,3,5−トリブロモ−4
−ヒドロキシトルエン、2,2,2−トリフルオロエタ
ノール、α,α,α−トリフルオロ−m−クレゾール、
2,4,6−トリイオドフェノール:2,2,4,6−
テトラクロロフェノール、テトラクロロハイドロキノ
ン、テトラクロロビスフェノールA、テトラブロモビス
フェノールA、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−
プロパノール、2,3,5,6−テトラフルオロフェノ
ール、テトラフルオロレゾルシン等があげられる。
【0032】(c)水素−ケイ素結合を有するハロゲン
化ケイ素化合物 水素−ケイ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物とし
ては、HSiCl3、H2SiCl2、H3SiCl、H
(CH3)SiCl2、H(C2H5)SiCl2、H(t
−C4H9)SiCl2、H(C6H5)SiCl2、H(C
H3)2SiCl、H(i−C3H7)2SiCl、H2(C
2H5)SiCl、H2(n−C4H9 )SiCl、H
2(C6H4CH3)SiCl、HSiCl(C6H5)2等
が挙げられる。
化ケイ素化合物 水素−ケイ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物とし
ては、HSiCl3、H2SiCl2、H3SiCl、H
(CH3)SiCl2、H(C2H5)SiCl2、H(t
−C4H9)SiCl2、H(C6H5)SiCl2、H(C
H3)2SiCl、H(i−C3H7)2SiCl、H2(C
2H5)SiCl、H2(n−C4H9 )SiCl、H
2(C6H4CH3)SiCl、HSiCl(C6H5)2等
が挙げられる。
【0033】(d)金属ハライド 金属ハライドとしては、B、Al、Ga、In、Tl、
Si、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Biの塩化物、
フッ化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特にBC
l3、BBr3,BI3、AlCl3、AlBr3、GaC
l3、GaBr3、InCl3、TlCl3、SiCl4、S
nCl4、SbCl5、SbF5等が好適である。
Si、Ge、Sn、Pb、As、Sb、Biの塩化物、
フッ化物、臭化物、ヨウ化物が挙げられ、特にBC
l3、BBr3,BI3、AlCl3、AlBr3、GaC
l3、GaBr3、InCl3、TlCl3、SiCl4、S
nCl4、SbCl5、SbF5等が好適である。
【0034】(5)金属酸化物 (A)成分の固体成分には、金属酸化物を坦体として用
いることもできる。金属酸化物は、元素の周期表第II
族〜第IV族の群から選ばれる元素の酸化物であり、そ
れらを例示すると、B2O3、MgO、Al2O3、SiO
2、CaO、TiO2、ZnO、ZrO2、SnO2、Ba
O、ThO2等が挙げられる。これらの中でもB2O3、
MgO、Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2が好ま
しく、特にSiO2が好ましい。さらに、これら金属酸
化物を含む複合酸化物、例えばSiO2−MgO、Si
O2−Al2O3、SiO2−TiO2、SiO2−V2O5、
SiO2−Cr2O3、SiO2−TiO2−MgO等を使
用することもできる。
いることもできる。金属酸化物は、元素の周期表第II
族〜第IV族の群から選ばれる元素の酸化物であり、そ
れらを例示すると、B2O3、MgO、Al2O3、SiO
2、CaO、TiO2、ZnO、ZrO2、SnO2、Ba
O、ThO2等が挙げられる。これらの中でもB2O3、
MgO、Al2O3、SiO2、TiO2、ZrO2が好ま
しく、特にSiO2が好ましい。さらに、これら金属酸
化物を含む複合酸化物、例えばSiO2−MgO、Si
O2−Al2O3、SiO2−TiO2、SiO2−V2O5、
SiO2−Cr2O3、SiO2−TiO2−MgO等を使
用することもできる。
【0035】これら金属酸化物は、通常粉末状のものが
使用される。粉末の大きさおよび形状等の形態は、得ら
れるオレフィン重合体の形態に影響を及ぼすことが多い
ので、適宜調節することが望ましい。金属酸化物は、使
用にあたって被毒物質を除去する等の目的から、可能な
限り高温で焼成し、さらに大気と直接接触しないように
取り扱うのが望ましい。
使用される。粉末の大きさおよび形状等の形態は、得ら
れるオレフィン重合体の形態に影響を及ぼすことが多い
ので、適宜調節することが望ましい。金属酸化物は、使
用にあたって被毒物質を除去する等の目的から、可能な
限り高温で焼成し、さらに大気と直接接触しないように
取り扱うのが望ましい。
【0036】(6)固体成分の調製 マグネシウム化合物(成分1)、チタン化合物(成分
2)、電子供与性化合物(成分3)、更に必要に応じて
接触させることのできる金属酸化物およびハロゲン含有
化合物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在
下、混合撹拌するか、機械的に共粉砕することによりな
される。接触は40〜150℃の加熱下で行うことがで
きる。不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロ
ヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
2)、電子供与性化合物(成分3)、更に必要に応じて
接触させることのできる金属酸化物およびハロゲン含有
化合物との接触は、不活性媒体の存在下、又は不存在
下、混合撹拌するか、機械的に共粉砕することによりな
される。接触は40〜150℃の加熱下で行うことがで
きる。不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オク
タン等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロ
ヘキサン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
【0037】本発明における固体成分の望ましい調整法
としては、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子
供与性化合物を必須成分とする固体成分の場合は、、特
開昭63−264607号公報、同58−198503
号公報、同62−146904号公報等に開示されてい
る方法が挙げられる。より詳細には、 (イ)金属マグネシウム、(ロ)ハロゲン化炭化水
素、(ハ)一般式XnM(OR)m-nの化合物(前記のア
ルコキシ基含有化合物と同じ)を接触させることにより
得られるマグネシウム含有固体を(ニ)ハロゲン含有ア
ルコールと接触させ、次いで(ホ)電子供与性化合物及
び(ヘ)チタン化合物と接触させる方法(特開昭63−
264607号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
(ニ)電子供与性化合物と接触させる(必要に応じてハ
ロゲン化チタン化合物を接触させる)方法(特開昭62
−146904号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、(ハ)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)
チタン化合物を接触させる方法(特開昭58−1985
03号公報)である。これらの中でもの方法が望まし
い。
としては、マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび電子
供与性化合物を必須成分とする固体成分の場合は、、特
開昭63−264607号公報、同58−198503
号公報、同62−146904号公報等に開示されてい
る方法が挙げられる。より詳細には、 (イ)金属マグネシウム、(ロ)ハロゲン化炭化水
素、(ハ)一般式XnM(OR)m-nの化合物(前記のア
ルコキシ基含有化合物と同じ)を接触させることにより
得られるマグネシウム含有固体を(ニ)ハロゲン含有ア
ルコールと接触させ、次いで(ホ)電子供与性化合物及
び(ヘ)チタン化合物と接触させる方法(特開昭63−
264607号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、(ハ)ハロゲン化チタン化合物を接触させ、次いで
(ニ)電子供与性化合物と接触させる(必要に応じてハ
ロゲン化チタン化合物を接触させる)方法(特開昭62
−146904号公報)、 (イ)マグネシウムジアルコキシドと(ロ)水素−ケ
イ素結合を有するハロゲン化ケイ素化合物を接触させた
後、(ハ)電子供与性化合物と接触させ、次いで(ニ)
チタン化合物を接触させる方法(特開昭58−1985
03号公報)である。これらの中でもの方法が望まし
い。
【0038】上記のようにして固体成分は調製される
が、固体成分は必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄し
てもよく、更に乾燥してもよい。固体成分中には、好ま
しくはMgが5〜40重量%、Tiが1〜2.5重量
%、ハロゲンが30〜70重量%、電子供与性化合物が
0〜20重量%含まれる。
が、固体成分は必要に応じて前記の不活性媒体で洗浄し
てもよく、更に乾燥してもよい。固体成分中には、好ま
しくはMgが5〜40重量%、Tiが1〜2.5重量
%、ハロゲンが30〜70重量%、電子供与性化合物が
0〜20重量%含まれる。
【0039】また、マグネシウム、チタン、ハロゲン、
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする固
体成分の望ましい調整法としては、特開昭58−162
607号公報、同55−94909号公報、同55−1
15405号公報、同57−108107号公報、同6
1−21109号公報、同61−174204号公報、
同61−174205号公報、同61−174206号
公報、同62−7706号公報等に開示されている方法
が挙げられる。より詳細には、 金属酸化物とマグネシウムジアルコキシドとの反応生
成物を、電子供与性化合物および4価のハロゲン化チタ
ンと接触させる方法(特開昭58−162607号公
報)、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド化
合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物および四塩化
チタンと接触させる方法(特開昭55−94909号公
報)、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合物
との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電子
供与性化合物およびハロゲン化ケイ素化合物と接触させ
る方法(特開昭55−115405号公報、同57−1
08107号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボン酸
もしくはその誘導体およびチタン化合物を接触させる方
法(特開昭61−174204号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
水素−ケイ素結合を有するケイ素化合物、電子供与性化
合物およびチタン化合物を接触させる方法(特開昭61
−174205号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
ハロゲン元素もしくはハロゲン含有化合物、電子供与性
化合物およびチタン化合物を接触させる方法(特開昭6
1−174206号公報)、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウムおよびハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物およびチタン化合物
と接触させる方法(特開昭61−21109号公報)、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウムおよびヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に担当)を接触させることによって得られる固体
をハロゲン含有アルコールと接触させ、さらに電子供与
性化合物およびチタン化合物と接触させる方法(特開昭
62−7706号公報)である。これらの中でも〜
の方法が、特におよびの方法が望ましい。
金属酸化物および電子供与性化合物を必須成分とする固
体成分の望ましい調整法としては、特開昭58−162
607号公報、同55−94909号公報、同55−1
15405号公報、同57−108107号公報、同6
1−21109号公報、同61−174204号公報、
同61−174205号公報、同61−174206号
公報、同62−7706号公報等に開示されている方法
が挙げられる。より詳細には、 金属酸化物とマグネシウムジアルコキシドとの反応生
成物を、電子供与性化合物および4価のハロゲン化チタ
ンと接触させる方法(特開昭58−162607号公
報)、 無機酸化物とマグネシウムヒドロカルビルハライド化
合物との反応生成物を、ルイス塩基化合物および四塩化
チタンと接触させる方法(特開昭55−94909号公
報)、 シリカ等の多孔質担体とアルキルマグネシウム化合物
との反応生成物を、チタン化合物と接触させる前に電子
供与性化合物およびハロゲン化ケイ素化合物と接触させ
る方法(特開昭55−115405号公報、同57−1
08107号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
オルト位にカルボキシル基を持つ芳香族多価カルボン酸
もしくはその誘導体およびチタン化合物を接触させる方
法(特開昭61−174204号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
水素−ケイ素結合を有するケイ素化合物、電子供与性化
合物およびチタン化合物を接触させる方法(特開昭61
−174205号公報)、 金属酸化物、アルコキシ基含有マグネシウム化合物、
ハロゲン元素もしくはハロゲン含有化合物、電子供与性
化合物およびチタン化合物を接触させる方法(特開昭6
1−174206号公報)、 金属酸化物、ジヒドロカルビルマグネシウムおよびハ
ロゲン含有アルコールを接触させることによって得られ
る反応生成物を、電子供与性化合物およびチタン化合物
と接触させる方法(特開昭61−21109号公報)、 金属酸化物、ヒドロカルビルマグネシウムおよびヒド
ロカルビルオキシ基含有化合物(前記アルコキシ基含有
化合物に担当)を接触させることによって得られる固体
をハロゲン含有アルコールと接触させ、さらに電子供与
性化合物およびチタン化合物と接触させる方法(特開昭
62−7706号公報)である。これらの中でも〜
の方法が、特におよびの方法が望ましい。
【0040】金属酸化物を含有する固体成分中には、好
ましくはMgが2〜12%、Tiが1〜5%、ハロゲン
が10〜35重量%、金属酸化物が30〜70重量%、
電子供与性化合物が0〜20重量%含まれる。
ましくはMgが2〜12%、Tiが1〜5%、ハロゲン
が10〜35重量%、金属酸化物が30〜70重量%、
電子供与性化合物が0〜20重量%含まれる。
【0041】2.固体成分の処理による固体触媒成分
(A)の製造 (1)本発明の固体触媒成分(A)は、前記固体成分を
Br2、I2または一般式MXnで示される化合物により
処理して製造される。本発明で用いる一般式MXnで示
される化合物において、Mは、Mg、Al、B、Sc、
Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、
Ag、Cd、La、Hf、Ta、W、Re、Os、I
r、Pt、AuまたはHgであり、好ましくはAl、
B、Ti、Zn、Pdであり、より好ましくはAl、B
である。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なく
とも一個はBrまたはIである。Xは同一でも異なる組
み合わせでもよい。アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等、アルコ
キシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ等、アリール基
としては、フェニル等、及びアリールオキシ基として
は、フェノキシ等を挙げることができる。これらの内で
Brの化合物が好ましい。nは上記のMの原子価であ
る。ここで、MXn(Xはそれぞれ独立してCl、R
(R=アルキル基、アリル基、フェニル基、アリールオ
キシ基、アルコキシ基))を用いた場合は、MFR向上
の効果がほとんど期待できないので、これらを用いるこ
とはできない。したがって、本発明において使用できる
MXn化合物は上述のように限定される。
(A)の製造 (1)本発明の固体触媒成分(A)は、前記固体成分を
Br2、I2または一般式MXnで示される化合物により
処理して製造される。本発明で用いる一般式MXnで示
される化合物において、Mは、Mg、Al、B、Sc、
Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Z
n、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Pd、
Ag、Cd、La、Hf、Ta、W、Re、Os、I
r、Pt、AuまたはHgであり、好ましくはAl、
B、Ti、Zn、Pdであり、より好ましくはAl、B
である。Xは、Br、I、アルキル基、アルコキシ基、
アリール基、アリールオキシ基を表し、ただし、少なく
とも一個はBrまたはIである。Xは同一でも異なる組
み合わせでもよい。アルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル等、アルコ
キシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イ
ソプロポキシ、ブトキシ、t−ブトキシ等、アリール基
としては、フェニル等、及びアリールオキシ基として
は、フェノキシ等を挙げることができる。これらの内で
Brの化合物が好ましい。nは上記のMの原子価であ
る。ここで、MXn(Xはそれぞれ独立してCl、R
(R=アルキル基、アリル基、フェニル基、アリールオ
キシ基、アルコキシ基))を用いた場合は、MFR向上
の効果がほとんど期待できないので、これらを用いるこ
とはできない。したがって、本発明において使用できる
MXn化合物は上述のように限定される。
【0042】具体的な化合物としては、トリブロモ硼
素、エチルジブロモ硼素、トリヨード硼素、エチルジヨ
ード硼素、エトキシジブロモ硼素、フェニルジブロモ硼
素、フェノキシジブロモ硼素、イソプロポキシジヨード
硼素、フェニルジヨード硼素、フェノキシジヨード硼
素、トリブロモアルミニウム、トリヨードアルミニウ
ム、エチルジブロモアルミニウム、ジブロモ亜鉛、ジブ
ロモパラジウム、テトラブロモチタニウム、テトラヨー
ドチタニウム、エチルアルミニウムセスキブロマイド等
が挙げられ、最も好ましくはBrを少なくとも一個含む
硼素化合物である。
素、エチルジブロモ硼素、トリヨード硼素、エチルジヨ
ード硼素、エトキシジブロモ硼素、フェニルジブロモ硼
素、フェノキシジブロモ硼素、イソプロポキシジヨード
硼素、フェニルジヨード硼素、フェノキシジヨード硼
素、トリブロモアルミニウム、トリヨードアルミニウ
ム、エチルジブロモアルミニウム、ジブロモ亜鉛、ジブ
ロモパラジウム、テトラブロモチタニウム、テトラヨー
ドチタニウム、エチルアルミニウムセスキブロマイド等
が挙げられ、最も好ましくはBrを少なくとも一個含む
硼素化合物である。
【0043】(2)処理方法は、Br2、I2または一般
式MXnで示される化合物を不活性媒体の存在下、又は
不存在下、混合撹拌するか、機械的に共粉砕することに
よりなされる。処理は40〜150℃の加熱下で行う。
不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキ
サン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
式MXnで示される化合物を不活性媒体の存在下、又は
不存在下、混合撹拌するか、機械的に共粉砕することに
よりなされる。処理は40〜150℃の加熱下で行う。
不活性媒体としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
等の飽和脂肪族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキ
サン等の飽和脂環式炭化水素、ベンゼン、トルエン、キ
シレン等の芳香族炭化水素が使用し得る。
【0044】II.α−オレフィン重合用触媒 本発明の第2の発明である重合用触媒は、上記固体触媒
成分(A)を用いて、(B)有機アルミニウム化合物及
び(C)アルコキシシラン化合物、または必要に応じて
(B)有機アルミニウム化合物、(C)アルコキシシラ
ン化合物及び(D)アルキル亜鉛と組み合わせた触媒で
ある。以下に詳細に説明する。
成分(A)を用いて、(B)有機アルミニウム化合物及
び(C)アルコキシシラン化合物、または必要に応じて
(B)有機アルミニウム化合物、(C)アルコキシシラ
ン化合物及び(D)アルキル亜鉛と組み合わせた触媒で
ある。以下に詳細に説明する。
【0045】1.成分(A)固体触媒成分 上記I.で得られた固体触媒成分を用いる。
【0046】2.成分(B)有機アルミニウム化合物 成分(B)有機アルミニウム化合物としては、例えば一
般式: (Rk)rAl(Y)3-r (ここで、Rkはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基から選ばれる基であり、Yはそれぞれ独立し
て、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基お
よび水素原子から選ばれる基であり、rは0≦r≦3の
範囲の任意の数である。)で示される化合物であるが、
これに限定されない。好ましくは、次に示す化合物から
1種単独または2種以上の組合せを選択し、使用するこ
とができる。
般式: (Rk)rAl(Y)3-r (ここで、Rkはそれぞれ独立して、アルキル基および
アリール基から選ばれる基であり、Yはそれぞれ独立し
て、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基お
よび水素原子から選ばれる基であり、rは0≦r≦3の
範囲の任意の数である。)で示される化合物であるが、
これに限定されない。好ましくは、次に示す化合物から
1種単独または2種以上の組合せを選択し、使用するこ
とができる。
【0047】(i)ジアルキルアルミニウムモノハライ
ド、例えばジメチルアルミニウムクロリド、ジメチルア
ルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミ
ニウムフルオライド、ジプロピルアルミニウムクロリ
ド、ジ(n−ブチル)アルミニウムクロリド、ジイソブ
チルアルミニウムクロリド、ジ(n−ヘキシル)アルミ
ニウムクロリド、ジ(n−オクチル)アルミニウムクロ
リド等が挙げられる。
ド、例えばジメチルアルミニウムクロリド、ジメチルア
ルミニウムブロマイド、ジエチルアルミニウムクロリ
ド、ジエチルアルミニウムブロマイド、ジエチルアルミ
ニウムフルオライド、ジプロピルアルミニウムクロリ
ド、ジ(n−ブチル)アルミニウムクロリド、ジイソブ
チルアルミニウムクロリド、ジ(n−ヘキシル)アルミ
ニウムクロリド、ジ(n−オクチル)アルミニウムクロ
リド等が挙げられる。
【0048】(ii)アルキルアルミニウムジハライ
ド、例えばメチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジフルオライ
ド、メチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニ
ウムジブロマイド、プロピルアルミニウムジクロリド、
n−ブチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリド、n−ヘキシルアルミニウムジクロリ
ド、n−オクチルアルミニウムジクロリド等が挙げられ
る。
ド、例えばメチルアルミニウムジクロリド、エチルアル
ミニウムジクロリド、エチルアルミニウムジフルオライ
ド、メチルアルミニウムジブロマイド、エチルアルミニ
ウムジブロマイド、プロピルアルミニウムジクロリド、
n−ブチルアルミニウムジクロリド、イソブチルアルミ
ニウムジクロリド、n−ヘキシルアルミニウムジクロリ
ド、n−オクチルアルミニウムジクロリド等が挙げられ
る。
【0049】(iii)アルキルアルミニウムセスキハ
ライド、例えばメチルアルミニウムセスキクロリド、エ
チルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウム
セスキブロマイド、プロピルアルミニウムセスキクロリ
ド、n−ブチルアルミニウムセスキクロリド、イソブチ
ルアルミニウムセスキクロリド、n−ヘキシルアルミニ
ウムセスキクロリド、n−オクチルアルミニウムセスキ
クロリド、エチルアルミニウムセスキフルオライド等が
挙げられる。
ライド、例えばメチルアルミニウムセスキクロリド、エ
チルアルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウム
セスキブロマイド、プロピルアルミニウムセスキクロリ
ド、n−ブチルアルミニウムセスキクロリド、イソブチ
ルアルミニウムセスキクロリド、n−ヘキシルアルミニ
ウムセスキクロリド、n−オクチルアルミニウムセスキ
クロリド、エチルアルミニウムセスキフルオライド等が
挙げられる。
【0050】(iv)ジアルキルアルミニウムモノアル
コキシド、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジ
エチルアルミニウムエトキシド、ジプロピルアルミニウ
ムエトキシド、ジイソプロピルアルミニウムエトキシ
ド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジ(n−ブ
チル)アルミニウムエトキシド、ジ(n−ヘキシル)ア
ルミニウムエトキシド、ジ(n−オクチル)アルミニウ
ムエトキシド等が挙げられる。
コキシド、例えばジメチルアルミニウムメトキシド、ジ
エチルアルミニウムエトキシド、ジプロピルアルミニウ
ムエトキシド、ジイソプロピルアルミニウムエトキシ
ド、ジイソブチルアルミニウムエトキシド、ジ(n−ブ
チル)アルミニウムエトキシド、ジ(n−ヘキシル)ア
ルミニウムエトキシド、ジ(n−オクチル)アルミニウ
ムエトキシド等が挙げられる。
【0051】(v)アルキルアルミニウムジアルコキシ
ド、例えばメチルアルミニウムジエトキシド、エチルア
ルミニウムジエトキシド、プロピルアルミニウムジエト
キシド、n−ブチルアルミニウムジエトキシド、イソブ
チルアルミニウムジエトキシド、n−ヘキシルアルミニ
ウムジエトキシド、n−オクチルアルミニウムジエトキ
シド等が挙げられる。
ド、例えばメチルアルミニウムジエトキシド、エチルア
ルミニウムジエトキシド、プロピルアルミニウムジエト
キシド、n−ブチルアルミニウムジエトキシド、イソブ
チルアルミニウムジエトキシド、n−ヘキシルアルミニ
ウムジエトキシド、n−オクチルアルミニウムジエトキ
シド等が挙げられる。
【0052】(vi)トリアルコキシアルミニウム、例
えばトリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニ
ウム等が挙げられる。
えばトリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニ
ウム等が挙げられる。
【0053】(vii)アルキルアルミノキサン、例え
ばメチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン等が挙
げられる。
ばメチルアルミノキサン、エチルアルミノキサン等が挙
げられる。
【0054】(viii)アルキルアルミニウムアルコ
キシハライド、例えばメチルアルミニウムメトキシクロ
リド、エチルアルミニウムメトキシクロリド、エチルア
ルミニウムエトキシクロリド、エチルアルミニウムエト
キシブロマイド、イソブチルアルミニウムメトキシクロ
リド、イソブチルアルミニウムエトキシクロリド、イソ
ブチルアルミニウムエトキシブロマイド、イソブチルア
ルミニウムイソプロポキシクロリド、イソブチルアルミ
ニウムイソプロポキシブマイド等が挙げられる。
キシハライド、例えばメチルアルミニウムメトキシクロ
リド、エチルアルミニウムメトキシクロリド、エチルア
ルミニウムエトキシクロリド、エチルアルミニウムエト
キシブロマイド、イソブチルアルミニウムメトキシクロ
リド、イソブチルアルミニウムエトキシクロリド、イソ
ブチルアルミニウムエトキシブロマイド、イソブチルア
ルミニウムイソプロポキシクロリド、イソブチルアルミ
ニウムイソプロポキシブマイド等が挙げられる。
【0055】(ix)ジアルキルアルミニウムモノフェ
ノキシド、例えばジエチルアルミニウムフェノキシド、
ジイソブチルアルミニウムフェノキシド等が挙げられ
る。
ノキシド、例えばジエチルアルミニウムフェノキシド、
ジイソブチルアルミニウムフェノキシド等が挙げられ
る。
【0056】(x)トリアルキルアルミニウム、例えば
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ト
リプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウ
ム、トリブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリヘキシルアルミニウム等が挙げられる。
トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、ト
リプロピルアルミニウム、トリイソプロピルアルミニウ
ム、トリブチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリヘキシルアルミニウム等が挙げられる。
【0057】上記のアルキル基は、好ましくは炭素数1
〜18のアルキル基であり、アルコキシ基は好ましくは
炭素数1〜10のアルコキシ基であり、ハライドは好ま
しくはクロリドおよびブロマイドである。アリール基
は、例えばフェニル基等であり、アリールオキシ基は、
例えばフェノキシ基等である。
〜18のアルキル基であり、アルコキシ基は好ましくは
炭素数1〜10のアルコキシ基であり、ハライドは好ま
しくはクロリドおよびブロマイドである。アリール基
は、例えばフェニル基等であり、アリールオキシ基は、
例えばフェノキシ基等である。
【0058】なかでも、トリアルキルアルミニウムが好
ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウム
は、その他の有機アルミニウム化合物、例えば、工業的
に入手しやすいジエチルアルミニウムクロリド、エチル
アルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキク
ロリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルア
ルミニウムハイドライドまたはこれらの混合物もしくは
錯化合物と併用することができる。
ましく、特にトリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウムが好ましい。また、トリアルキルアルミニウム
は、その他の有機アルミニウム化合物、例えば、工業的
に入手しやすいジエチルアルミニウムクロリド、エチル
アルミニウムジクロリド、エチルアルミニウムセスキク
ロリド、ジエチルアルミニウムエトキシド、ジエチルア
ルミニウムハイドライドまたはこれらの混合物もしくは
錯化合物と併用することができる。
【0059】3.成分(C)アルキルアルコキシシラン
化合物 アルキルアルコキシシラン化合物としては、例えば一般
式: R1Si(OR2)(OCH3)2 (上記式中、R1は、炭素数3〜6の分岐状または環状
のアルキル基であり、R2は炭素数3〜6の、分岐状ア
ルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である。)
で示されるアルキルトリアルコキシシランが挙げられ
る。R1としては、例えばイソプロピル基,t−ブチル
基、s−ブチル基、t−アミル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基等が挙げられる。R2としては、例え
ばイソプロピル基,t−ブチル,s−ブチル基,t−ア
ミル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−2
−ブテニル基、2−メチル−3−ブチニル基等が挙げら
れる。具体的化合物としては、例えばt−ブトキシシク
ロペンチルジメトキシシラン、イソプロポキシシクロペ
ンチルジメトキシシラン、s−ブトキシシクロペンチル
ジメトキシシラン、t−アミルオキシシクロペンチルジ
メトキシシラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキ
シ)シクロペンチルジメトキシシラン、(3−メチル−
2−ブテン−1−オキシ)シクロペンチルジメトキシシ
ラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シクロ
ペンチルジメトキシシラン、t−ブトキシシクロヘキシ
ルジメトキシシラン、イソプロポキシシクロヘキシルジ
メトキシシラン、s−ブトキシシクロヘキシルジメトキ
シシラン、tーアミルオキシシクロヘキシルジメトキシ
シラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シク
ロヘキシルジメトキシシラン、(3−メチル−2−ブテ
ン−1−オキシ)シクロヘキシルジメトキシシラン、
(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シクロヘキシ
ルジメトキシシラン等が挙げられる。
化合物 アルキルアルコキシシラン化合物としては、例えば一般
式: R1Si(OR2)(OCH3)2 (上記式中、R1は、炭素数3〜6の分岐状または環状
のアルキル基であり、R2は炭素数3〜6の、分岐状ア
ルキル基、アルケニル基またはアルキニル基である。)
で示されるアルキルトリアルコキシシランが挙げられ
る。R1としては、例えばイソプロピル基,t−ブチル
基、s−ブチル基、t−アミル基、シクロペンチル基、
シクロヘキシル基等が挙げられる。R2としては、例え
ばイソプロピル基,t−ブチル,s−ブチル基,t−ア
ミル基、2−メチル−3−ブテニル基、3−メチル−2
−ブテニル基、2−メチル−3−ブチニル基等が挙げら
れる。具体的化合物としては、例えばt−ブトキシシク
ロペンチルジメトキシシラン、イソプロポキシシクロペ
ンチルジメトキシシラン、s−ブトキシシクロペンチル
ジメトキシシラン、t−アミルオキシシクロペンチルジ
メトキシシラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキ
シ)シクロペンチルジメトキシシラン、(3−メチル−
2−ブテン−1−オキシ)シクロペンチルジメトキシシ
ラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シクロ
ペンチルジメトキシシラン、t−ブトキシシクロヘキシ
ルジメトキシシラン、イソプロポキシシクロヘキシルジ
メトキシシラン、s−ブトキシシクロヘキシルジメトキ
シシラン、tーアミルオキシシクロヘキシルジメトキシ
シラン、(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シク
ロヘキシルジメトキシシラン、(3−メチル−2−ブテ
ン−1−オキシ)シクロヘキシルジメトキシシラン、
(2−メチル−3−ブテン−2−オキシ)シクロヘキシ
ルジメトキシシラン等が挙げられる。
【0060】アルキルアルコキシシラン化合物として、
上記の他に、ラクトン基、カルボキシル基を含有するア
ルキルアルコキシシラン、環構成原子としてケイ素原
子、窒素原子を有する複素環式置換基を有するアルキル
アルコキシシランなども、好ましく使用することができ
る。
上記の他に、ラクトン基、カルボキシル基を含有するア
ルキルアルコキシシラン、環構成原子としてケイ素原
子、窒素原子を有する複素環式置換基を有するアルキル
アルコキシシランなども、好ましく使用することができ
る。
【0061】4.成分(D)アルキル亜鉛 さらに、本発明では、必要に応じて成分(D)として、
アルキル亜鉛を添加して用いることができる。アルキル
亜鉛としては、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等が挙げら
れる。
アルキル亜鉛を添加して用いることができる。アルキル
亜鉛としては、ジエチル亜鉛、ジメチル亜鉛等が挙げら
れる。
【0062】5.(A)、(B)、(C)、(D)成分
の割合 本発明の触媒は、上記した各成分から成るが、好ましく
は上記した成分(A)中のチタン1モル当たり、成分
(B)を70〜600モルおよび成分(C)を10〜3
0モルを配合する。より好ましくは成分(A)中のチタ
ン1モル当たり、成分(B)を90〜400モルおよび
成分(C)15〜25モル配合する。成分(D)を用い
る場合は、成分(D)は、成分(C)の1〜40倍量、
好ましくは10〜30倍量を配合する。
の割合 本発明の触媒は、上記した各成分から成るが、好ましく
は上記した成分(A)中のチタン1モル当たり、成分
(B)を70〜600モルおよび成分(C)を10〜3
0モルを配合する。より好ましくは成分(A)中のチタ
ン1モル当たり、成分(B)を90〜400モルおよび
成分(C)15〜25モル配合する。成分(D)を用い
る場合は、成分(D)は、成分(C)の1〜40倍量、
好ましくは10〜30倍量を配合する。
【0063】6.予備重合 本発明において、成分(A)は予備重合を行っても行わ
なくてもよく、予備重合を行う場合は、有機アルミニウ
ム(成分E)および所望により有機珪素化合物(成分
F)の存在下、オレフィンと接触させることにより行
う。有機アルミニウム(成分E)は前述の成分(B)に
記載されたとおりの化合物の中から1種以上選択して使
用できる。これらの中でもトリアルキルアルミニウム、
特にトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムが好ましい。また、有機珪素化合物(成分F)は前
述の成分(C)に記載された化合物がいずれも使用でき
るが、その他にもアルキル基およびアルコキシ基が合計
4個珪素原子に結合したものであれば使用可能である。
例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、テトライソブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシランメチルトリブトキシシラ
ン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリエトキシ
シランエチルトリイソブトキシシラン、プロピルトリエ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリ
エトキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、イソブチ
ルトリイソブトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、アリルトリメトキシシラン、ジメチルジイソプロポ
キシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジメチルジフ
ェノキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル
ジイソブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン、ジベンジルジエトキシシ
ラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプロポ
キシシラン、ジフェニルジアリルオキシシラン、メチル
フェニルジメトキシシラン、クロロフェニルジエトキシ
シランなどが挙げられる。好ましい有機珪素化合物(成
分F)は、t−ブトキシシクロペンチルジメトキシシラ
ン、イソプロポキシシクロペンチルジメトキシシランま
たはs−ブトキシシクロペンチルジメトキシシランが挙
げられる。
なくてもよく、予備重合を行う場合は、有機アルミニウ
ム(成分E)および所望により有機珪素化合物(成分
F)の存在下、オレフィンと接触させることにより行
う。有機アルミニウム(成分E)は前述の成分(B)に
記載されたとおりの化合物の中から1種以上選択して使
用できる。これらの中でもトリアルキルアルミニウム、
特にトリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウムが好ましい。また、有機珪素化合物(成分F)は前
述の成分(C)に記載された化合物がいずれも使用でき
るが、その他にもアルキル基およびアルコキシ基が合計
4個珪素原子に結合したものであれば使用可能である。
例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラブトキシシラン、テトライソブトキシシラ
ン、テトラフェノキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシランメチルトリブトキシシラ
ン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリエトキシ
シランエチルトリイソブトキシシラン、プロピルトリエ
トキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリ
エトキシシラン、ブチルトリブトキシシラン、イソブチ
ルトリイソブトキシシラン、ビニルトリエトキシシラ
ン、アリルトリメトキシシラン、ジメチルジイソプロポ
キシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジメチルジフ
ェノキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチル
ジイソブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、
ジフェニルジエトキシシラン、ジベンジルジエトキシシ
ラン、ジビニルジフェノキシシラン、ジアリルジプロポ
キシシラン、ジフェニルジアリルオキシシラン、メチル
フェニルジメトキシシラン、クロロフェニルジエトキシ
シランなどが挙げられる。好ましい有機珪素化合物(成
分F)は、t−ブトキシシクロペンチルジメトキシシラ
ン、イソプロポキシシクロペンチルジメトキシシランま
たはs−ブトキシシクロペンチルジメトキシシランが挙
げられる。
【0064】予備重合に使用されるオレフィンとして
は、エチレンの他、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキ
セン、4−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィンが
挙げられる。予備重合はノルマルブタン、イソブタン、
ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の不活性水素中で行うのが好ましい。予備重
合は通常100℃以下の温度、好ましくは−30℃〜+
30℃、更に好ましくは−20℃〜+20℃の温度で行
われる。重合方式はバッチ式、連続式のいずれでもよ
く、2段以上の多段で行ってもよい。
は、エチレンの他、プロピレン、1−ブテン、1−ヘキ
セン、4−メチル−1−ペンテン等のα−オレフィンが
挙げられる。予備重合はノルマルブタン、イソブタン、
ノルマルペンタン、イソペンタン、ヘキサン、ヘプタ
ン、オクタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、
キシレン等の不活性水素中で行うのが好ましい。予備重
合は通常100℃以下の温度、好ましくは−30℃〜+
30℃、更に好ましくは−20℃〜+20℃の温度で行
われる。重合方式はバッチ式、連続式のいずれでもよ
く、2段以上の多段で行ってもよい。
【0065】成分(E)は予備重合系での濃度が10〜
500ミリモル/リットル、好ましくは30〜200ミ
リモル/リットルになるように用いられ、また成分
(A)中のチタン1モル当たり1〜50,000モル、
好ましくは2〜1,000モルとなるように用いられ
る。成分(F)を用いる場合は、予備重合系での濃度が
1〜1,000ミリモル/リットル、好ましくは5〜2
00ミリモル/リットルになるように用いられる。予備
重合により、成分(A)中にオレフィンポリマーが取り
込まれるが、そのポリマー量は成分(A)1g当たり
0.1〜200g、特に0.5〜50gとするのが好ま
しい。このようにして調製された触媒成分は、前記の不
活性媒体で希釈あるいは洗浄することができるが、触媒
劣化を防止する観点から、特に洗浄するのが好ましい。
洗浄後、必要に応じて乾燥しても良い。触媒を保存する
場合ではできるだけ低温で保存するのが好ましく、−5
0℃〜+30℃、特に−20℃〜+5℃の温度範囲が推
奨される。
500ミリモル/リットル、好ましくは30〜200ミ
リモル/リットルになるように用いられ、また成分
(A)中のチタン1モル当たり1〜50,000モル、
好ましくは2〜1,000モルとなるように用いられ
る。成分(F)を用いる場合は、予備重合系での濃度が
1〜1,000ミリモル/リットル、好ましくは5〜2
00ミリモル/リットルになるように用いられる。予備
重合により、成分(A)中にオレフィンポリマーが取り
込まれるが、そのポリマー量は成分(A)1g当たり
0.1〜200g、特に0.5〜50gとするのが好ま
しい。このようにして調製された触媒成分は、前記の不
活性媒体で希釈あるいは洗浄することができるが、触媒
劣化を防止する観点から、特に洗浄するのが好ましい。
洗浄後、必要に応じて乾燥しても良い。触媒を保存する
場合ではできるだけ低温で保存するのが好ましく、−5
0℃〜+30℃、特に−20℃〜+5℃の温度範囲が推
奨される。
【0066】7.α−オレフィンの重合 上記のようにして予備重合したもしくは予備重合しない
成分(A)、成分(B)、成分(C)からなる触媒の存
在下、α−オレフィンの重合がなされる。なお、成分
(D)は、必須ではないが、MFR向上の観点から含ま
れることが好ましい。α−オレフィンとしては、炭素数
2〜10の直鎖状または分岐状のα−オレフィンが好ま
しく、例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、ペンテ
ン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン等が挙げられる。本
発明の触媒は、α−オレフィンの単独重合だけでなく、
2種以上のα−オレフィンの共重合にも使用できる。本
発明の触媒は、特に好ましくはプロピレンの単独重合お
よびこれらの共重合(ランダム共重合またはブロック共
重合のいずれであってもよい)に使用される。
成分(A)、成分(B)、成分(C)からなる触媒の存
在下、α−オレフィンの重合がなされる。なお、成分
(D)は、必須ではないが、MFR向上の観点から含ま
れることが好ましい。α−オレフィンとしては、炭素数
2〜10の直鎖状または分岐状のα−オレフィンが好ま
しく、例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、ペンテ
ン、ヘキセン、ヘプテン、オクテン等が挙げられる。本
発明の触媒は、α−オレフィンの単独重合だけでなく、
2種以上のα−オレフィンの共重合にも使用できる。本
発明の触媒は、特に好ましくはプロピレンの単独重合お
よびこれらの共重合(ランダム共重合またはブロック共
重合のいずれであってもよい)に使用される。
【0067】α−オレフィンの重合における反応条件
は、慣用の条件が使用できる。例えば、−20〜+15
0℃、好ましくは0〜100℃、1〜60気圧で、0.
5〜7時間行われる。重合反応は、気相で行っても液相
で行ってもよい。液相で行う場合には、前記の不活性媒
体中または液状モノマー中で行うことができる。また、
重合は回分式または連続式のいずれで行ってもよい。重
合反応は1段で行ってもよく、また重合条件を変えた
り、使用する単量体の種類を変えたりして2段以上で行
ってもよい。生成するポリマーの分子量を調節するため
に、重合反応系に、水素等公知の分子量制御剤を存在さ
せることができる。
は、慣用の条件が使用できる。例えば、−20〜+15
0℃、好ましくは0〜100℃、1〜60気圧で、0.
5〜7時間行われる。重合反応は、気相で行っても液相
で行ってもよい。液相で行う場合には、前記の不活性媒
体中または液状モノマー中で行うことができる。また、
重合は回分式または連続式のいずれで行ってもよい。重
合反応は1段で行ってもよく、また重合条件を変えた
り、使用する単量体の種類を変えたりして2段以上で行
ってもよい。生成するポリマーの分子量を調節するため
に、重合反応系に、水素等公知の分子量制御剤を存在さ
せることができる。
【0068】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明する。なお%は、特に断らない限り重量%である。 実施例1 (1)固体成分の調製 還流冷却器をつけた1リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム(純度99.
5%、平均粒径1.6mm)8.3gおよびn−ヘキサ
ン250mlを入れ、68度で1時間撹拌後、金属マグ
ネシウムを取り出し、65℃で減圧乾燥するという方法
で予備活性化した金属マグネシウムを得た。
明する。なお%は、特に断らない限り重量%である。 実施例1 (1)固体成分の調製 還流冷却器をつけた1リットルの反応容器に、窒素ガス
雰囲気下で、チップ状の金属マグネシウム(純度99.
5%、平均粒径1.6mm)8.3gおよびn−ヘキサ
ン250mlを入れ、68度で1時間撹拌後、金属マグ
ネシウムを取り出し、65℃で減圧乾燥するという方法
で予備活性化した金属マグネシウムを得た。
【0069】次に、この金属マグネシウムに、n−ブチ
ルエーテル140mlおよびn−ブチルマグネシウムク
ロリドのn−ブチルエーテル溶液(1.75モル/リッ
トル)0.5ml加えた懸濁液を55℃に保ち、さらに
n−ブチルエーテル50mlにn−ブチルクロリド3
8.5mlを溶解した溶液を50分間で滴下した。撹拌
下70℃で4時間反応を行った後、反応液を25℃に保
持した。次いで、この反応液にHC(OC2H5)35
5.7mlを1時間かけて滴下した。滴下終了後、60
℃で15分間反応を行い、反応性生成固体をn−ヘキサ
ン各300mlで6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥し
て、Mg:19.0%、28.9%%を含むマグネシウ
ム含有固体31.6gを回収した。
ルエーテル140mlおよびn−ブチルマグネシウムク
ロリドのn−ブチルエーテル溶液(1.75モル/リッ
トル)0.5ml加えた懸濁液を55℃に保ち、さらに
n−ブチルエーテル50mlにn−ブチルクロリド3
8.5mlを溶解した溶液を50分間で滴下した。撹拌
下70℃で4時間反応を行った後、反応液を25℃に保
持した。次いで、この反応液にHC(OC2H5)35
5.7mlを1時間かけて滴下した。滴下終了後、60
℃で15分間反応を行い、反応性生成固体をn−ヘキサ
ン各300mlで6回洗浄し、室温で1時間減圧乾燥し
て、Mg:19.0%、28.9%%を含むマグネシウ
ム含有固体31.6gを回収した。
【0070】還流冷却器、撹拌機および滴下ロートを取
り付けた300mlの反応容器に、窒素ガス雰囲気下、
マグネシウム含有固体6.3gおよびn−ヘプタン50
mlを入れ、懸濁液とし、室温で撹拌しながら2,2,
2−トリクロロエタノール20ml(0.02ミリモ
ル)とn−ヘプタン11mlとの混合溶液を滴下ロート
から30分かけて滴下し、さらに80℃で1時間撹拌し
た。得られた固体を濾過し、室温のn−ヘキサン各10
0mlで4回洗浄し、さらにトルエン各100mlで2
回洗浄して固体を得た。
り付けた300mlの反応容器に、窒素ガス雰囲気下、
マグネシウム含有固体6.3gおよびn−ヘプタン50
mlを入れ、懸濁液とし、室温で撹拌しながら2,2,
2−トリクロロエタノール20ml(0.02ミリモ
ル)とn−ヘプタン11mlとの混合溶液を滴下ロート
から30分かけて滴下し、さらに80℃で1時間撹拌し
た。得られた固体を濾過し、室温のn−ヘキサン各10
0mlで4回洗浄し、さらにトルエン各100mlで2
回洗浄して固体を得た。
【0071】上記の固体にトルエン40mlを加え、更
に四塩化チタン/トルエンの体積比が3/2になるよう
に四塩化チタンを加えて、90℃に昇温した。撹拌下、
フタル酸ジブチル2mlとトルエン5mlの混合溶液を
5分間かけて滴下した後、120℃で2時間撹拌した。
さらに、新たに、四塩化チタン/トルエンの体積比が3
/2になるように四塩化チタンを加えて、120℃で2
時間撹拌した。得られた固体物質を110℃で濾別し、
室温の各100mlのn−ヘキサンにて7回洗浄した。
かくして固体成分5.5gを得た。
に四塩化チタン/トルエンの体積比が3/2になるよう
に四塩化チタンを加えて、90℃に昇温した。撹拌下、
フタル酸ジブチル2mlとトルエン5mlの混合溶液を
5分間かけて滴下した後、120℃で2時間撹拌した。
さらに、新たに、四塩化チタン/トルエンの体積比が3
/2になるように四塩化チタンを加えて、120℃で2
時間撹拌した。得られた固体物質を110℃で濾別し、
室温の各100mlのn−ヘキサンにて7回洗浄した。
かくして固体成分5.5gを得た。
【0072】(2)固体触媒成分の調整 還流冷却器および撹拌機を取り付けた300mlの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分4gを入れ、
ヘプタン120mlを加えた。トリブロモ硼素のヘプタ
ン1mol/l溶液23mlを添加し、65℃で1時間
撹拌した。得られた処理固体を室温のn−ヘキサン各1
00mlで7回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の固体
触媒成分(A1)を得た。
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分4gを入れ、
ヘプタン120mlを加えた。トリブロモ硼素のヘプタ
ン1mol/l溶液23mlを添加し、65℃で1時間
撹拌した。得られた処理固体を室温のn−ヘキサン各1
00mlで7回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の固体
触媒成分(A1)を得た。
【0073】(3)プロピレンの重合 撹拌機を取り付けた1.5リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記(2)で得た固体
触媒成分(A1)4.2mg、トリエチルアルミニウム
1.6ミリモル、アミロキシシクロペンチルジメトキシ
シラン0.08ミリモルおよびn−ヘプタン7mlを混
合し、5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制
御剤としての水素を6000ml(常温、常圧)および
液体プロピレン1リットルを圧入した後、反応系を70
℃に昇温して、1時間プロピレンの重合を行った。重合
終了後、未反応のプロピレンと水素をパージし、重合物
を取り出して乾燥した。得られた重合物の全量は15
2.5gであり、そのメルトフローレート(MFR)は
98.4g/10分、熱ヘプタン不溶分(HI)は9
6.1%であった。なお、MFRは、ASTM D12
38にしたがって、230℃、2160g荷重の条件に
て測定し、HIは、改良ソックスレー抽出器で沸騰n−
ヘプタンにより6時間抽出した場合の残量である。これ
らの測定方法は、以下でも同様である。
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記(2)で得た固体
触媒成分(A1)4.2mg、トリエチルアルミニウム
1.6ミリモル、アミロキシシクロペンチルジメトキシ
シラン0.08ミリモルおよびn−ヘプタン7mlを混
合し、5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制
御剤としての水素を6000ml(常温、常圧)および
液体プロピレン1リットルを圧入した後、反応系を70
℃に昇温して、1時間プロピレンの重合を行った。重合
終了後、未反応のプロピレンと水素をパージし、重合物
を取り出して乾燥した。得られた重合物の全量は15
2.5gであり、そのメルトフローレート(MFR)は
98.4g/10分、熱ヘプタン不溶分(HI)は9
6.1%であった。なお、MFRは、ASTM D12
38にしたがって、230℃、2160g荷重の条件に
て測定し、HIは、改良ソックスレー抽出器で沸騰n−
ヘプタンにより6時間抽出した場合の残量である。これ
らの測定方法は、以下でも同様である。
【0074】実施例2〜3 実施例1の(3)において、アミロキシシクロペンチル
ジメトキシシランの代わりに、表1に示す化合物を使用
した以外は実施例1と同様にして、プロピレンの重合を
行った。結果を表1に示す。
ジメトキシシランの代わりに、表1に示す化合物を使用
した以外は実施例1と同様にして、プロピレンの重合を
行った。結果を表1に示す。
【0075】実施例4 実施例1の(3)において、トリエチルアルミニウムの
代わりに、トリメチルアルミニウムを使用した以外は実
施例1と同様にして、プロピレンの重合を行った。結果
を表1に示す。
代わりに、トリメチルアルミニウムを使用した以外は実
施例1と同様にして、プロピレンの重合を行った。結果
を表1に示す。
【0076】実施例5〜8 実施例1の(2)において、トリブロモ硼素の代わり
に、表1に示す化合物を使用し、その使用量を表1に示
す量にした以外は実施例1と同様にして、プロピレンの
重合を行った。結果を表1に示す。
に、表1に示す化合物を使用し、その使用量を表1に示
す量にした以外は実施例1と同様にして、プロピレンの
重合を行った。結果を表1に示す。
【0077】実施例9〜13 実施例1の(2)において、トリブロモ硼素の代わり
に、表2に示す化合物を使用し、その使用量を表2に示
す量にした以外は実施例1と同様にして、プロピレンの
重合を行った。結果を表2に示す。
に、表2に示す化合物を使用し、その使用量を表2に示
す量にした以外は実施例1と同様にして、プロピレンの
重合を行った。結果を表2に示す。
【0078】実施例14 実施例1の(3)において、さらにジエチル亜鉛1.6
mmol(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施
例1と同様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表
2に示す。
mmol(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施
例1と同様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表
2に示す。
【0079】実施例15 実施例4において、さらにジエチル亜鉛1.6mmol
(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施例1と同
様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表2に示
す。
(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施例1と同
様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表2に示
す。
【0080】実施例16 (1)固体成分の調製 滴下ロートおよび撹拌機を取り付けた200mlのフラ
スコを窒素ガスで置換した。このフラスコに、窒素気流
中において200℃で2時間、さらに700℃で5時間
焼成したところの酸化ケイ素(DAVISON社製、商
品名G−952)5gおよびn−ヘプタン40mlを入
れた。さらに、n−ブチルエチルマグネシウム(以下、
BEMと称する)の20%−n−ヘプタン溶液(テキサ
スアルキルズ社製、商品名MAGALA BEM)20
mlを加え、90℃で1時間撹拌した。
スコを窒素ガスで置換した。このフラスコに、窒素気流
中において200℃で2時間、さらに700℃で5時間
焼成したところの酸化ケイ素(DAVISON社製、商
品名G−952)5gおよびn−ヘプタン40mlを入
れた。さらに、n−ブチルエチルマグネシウム(以下、
BEMと称する)の20%−n−ヘプタン溶液(テキサ
スアルキルズ社製、商品名MAGALA BEM)20
mlを加え、90℃で1時間撹拌した。
【0081】得られた懸濁液を0℃に冷却した後、これ
に、テトラエトキシシラン11.2gを20mlのn−
ヘプタンに溶解した溶液を滴下ロートから30分間かけ
て滴下した。滴下終了後、2時間かけて50℃に昇温
し、50℃で1時間撹拌を続けた。撹拌終了後、デカン
テーションにより上澄液を除去し、生成した固体を60
mlのn−ヘプタンで、室温にて洗浄し、さらにデカン
テーションによって上澄液を除去した。このn−ヘプタ
ンによる洗浄処理をさらに4回行った。
に、テトラエトキシシラン11.2gを20mlのn−
ヘプタンに溶解した溶液を滴下ロートから30分間かけ
て滴下した。滴下終了後、2時間かけて50℃に昇温
し、50℃で1時間撹拌を続けた。撹拌終了後、デカン
テーションにより上澄液を除去し、生成した固体を60
mlのn−ヘプタンで、室温にて洗浄し、さらにデカン
テーションによって上澄液を除去した。このn−ヘプタ
ンによる洗浄処理をさらに4回行った。
【0082】上記固体に、50mlのn−ヘプタンを加
えて懸濁液とし、これに、2,2,2−トリクロロエタ
ノール8.0gを10mlのn−ヘプタンに溶解した溶
液を、滴下ロートから25℃にて15分間かけて滴下し
た。滴下終了後、25℃で30分間撹拌を続けた。撹拌
終了後、室温において、60mlのn−ヘプタンにて2
回、60mlのトルエンにて3回それぞれ洗浄を行っ
た。得られた固体(固体成分Iと称する)を分析したと
ころ、SiO2:36.6%、Mg:5.1%、Cl:
38.5%を含有していた。
えて懸濁液とし、これに、2,2,2−トリクロロエタ
ノール8.0gを10mlのn−ヘプタンに溶解した溶
液を、滴下ロートから25℃にて15分間かけて滴下し
た。滴下終了後、25℃で30分間撹拌を続けた。撹拌
終了後、室温において、60mlのn−ヘプタンにて2
回、60mlのトルエンにて3回それぞれ洗浄を行っ
た。得られた固体(固体成分Iと称する)を分析したと
ころ、SiO2:36.6%、Mg:5.1%、Cl:
38.5%を含有していた。
【0083】上記で得られた固体に、n−ヘプタン10
mlおよび四塩化チタン40mlを加え、90℃まで昇
温し、n−ヘプタン5mlに溶解したフタル酸ジn−ブ
チル0.6gを5分間かけて添加した。その後、115
℃に昇温し、2時間反応させた。90℃に降温した後デ
カンテーションにより上澄液を除き、n−ヘプタン70
mlで2回洗浄を行った。さらにn−ヘプタン15ml
と四塩化チタン40mlを加え、115℃で2時間反応
させた。反応終了後、得られた固体物質を60mlのn
−ヘキサンにて室温で8回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて1時間乾燥を行い、8.3gの固体成分を得
た。分析の結果、この成分Aには、Tiが3.1重量%
含まれており、その他にSi、Mg、Clおよびフタル
酸ジn−ブチルが含まれていることを確認した。
mlおよび四塩化チタン40mlを加え、90℃まで昇
温し、n−ヘプタン5mlに溶解したフタル酸ジn−ブ
チル0.6gを5分間かけて添加した。その後、115
℃に昇温し、2時間反応させた。90℃に降温した後デ
カンテーションにより上澄液を除き、n−ヘプタン70
mlで2回洗浄を行った。さらにn−ヘプタン15ml
と四塩化チタン40mlを加え、115℃で2時間反応
させた。反応終了後、得られた固体物質を60mlのn
−ヘキサンにて室温で8回洗浄を行った。次いで、減圧
下室温にて1時間乾燥を行い、8.3gの固体成分を得
た。分析の結果、この成分Aには、Tiが3.1重量%
含まれており、その他にSi、Mg、Clおよびフタル
酸ジn−ブチルが含まれていることを確認した。
【0084】(2)固体触媒成分の調整 還流冷却器および撹拌機を取り付けた300mlの反応
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分4gを入れ、
ヘプタン120mlを加えた。トリブロモ硼素のヘプタ
ン1mol/l溶液23mlを添加し、65℃で1時間
撹拌した。得られた処理固体を室温のn−ヘキサン各1
00mlで7回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の固体
触媒成分(A2)を得た。
容器に、窒素ガス雰囲気下、上記固体成分4gを入れ、
ヘプタン120mlを加えた。トリブロモ硼素のヘプタ
ン1mol/l溶液23mlを添加し、65℃で1時間
撹拌した。得られた処理固体を室温のn−ヘキサン各1
00mlで7回洗浄し、減圧乾燥して赤橙色粉末の固体
触媒成分(A2)を得た。
【0085】(3)プロピレンの重合 撹拌機を取り付けた1.5リットルのステンレス製のオ
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記(2)で得た固体
成分(A2)11.2mg、トリエチルアルミニウム
1.6ミリモル、アミロキシシクロペンチルジメトキシ
シラン0.08ミリモルおよびn−ヘプタン7mlを混
合し、5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制
御剤としての水素6000ml(常温、常圧)および液
体プロピレン1リットルを圧入した後、反応系を70℃
に昇温して、1時間プロピレンの重合を行った。重合終
了後、未反応のプロピレンと水素をパージし、重合物を
取り出して乾燥した。得られた重合物の全量は200g
であり、そのメルトフローレート(MFR)は108.
4g/10分、ヘプタン不溶分(HI)は95.8%で
あった。
ートクレーブに、窒素雰囲気下、上記(2)で得た固体
成分(A2)11.2mg、トリエチルアルミニウム
1.6ミリモル、アミロキシシクロペンチルジメトキシ
シラン0.08ミリモルおよびn−ヘプタン7mlを混
合し、5分間保持したものを入れた。次いで、分子量制
御剤としての水素6000ml(常温、常圧)および液
体プロピレン1リットルを圧入した後、反応系を70℃
に昇温して、1時間プロピレンの重合を行った。重合終
了後、未反応のプロピレンと水素をパージし、重合物を
取り出して乾燥した。得られた重合物の全量は200g
であり、そのメルトフローレート(MFR)は108.
4g/10分、ヘプタン不溶分(HI)は95.8%で
あった。
【0086】実施例17 実施例16の(2)において、トリブロモ硼素の代わり
に、エチルジブロモアルミニウムのヘプタン1mol/
l溶液35mlで処理した以外は実施例16と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表3に示す。
に、エチルジブロモアルミニウムのヘプタン1mol/
l溶液35mlで処理した以外は実施例16と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表3に示す。
【0087】比較例1 実施例1において、(2)のトリブロモ硼素処理を行わ
なかった以外は実施例1と同様にして、プロピレンの重
合を行った。結果を表4に示す。
なかった以外は実施例1と同様にして、プロピレンの重
合を行った。結果を表4に示す。
【0088】比較例2 比較例1において、さらにジエチル亜鉛1.6mmol
(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施例1と同
様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表4に示
す。
(シラン化合物の20倍量)を添加して、実施例1と同
様にしてプロピレンの重合を行った。結果を表4に示
す。
【0089】比較例3 実施例1の(2)において、トリブロモ硼素の代わりに
トリクロロ硼素を使用した以外は実施例1と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示す。
トリクロロ硼素を使用した以外は実施例1と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示す。
【0090】比較例4 実施例1の(2)において、トリブロモ硼素の代わりに
トリクロロアルミニウムを使用した以外は実施例1と同
様にして、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示
す。
トリクロロアルミニウムを使用した以外は実施例1と同
様にして、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示
す。
【0091】比較例5 実施例1の(2)において、トリブロモ硼素の代わりに
トリエトキシ硼素を使用した以外は実施例1と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示す。
トリエトキシ硼素を使用した以外は実施例1と同様にし
て、プロピレンの重合を行った。結果を表4に示す。
【0092】比較例6 実施例16において、(2)のトリブロモ硼素処理を行
わなかった以外は実施例16と同様にして、プロピレン
の重合を行った。結果を表4に示す。
わなかった以外は実施例16と同様にして、プロピレン
の重合を行った。結果を表4に示す。
【0093】
【表1】
【0094】
【表2】
【0095】
【表3】
【0096】
【表4】
【0097】
【発明の効果】本発明の触媒を用いてα−オレフィンの
重合反応を行うと、高立体規則性で、流動性がよく、し
かも高剛性のポリ(α−オレフィン)を得ることができ
る。
重合反応を行うと、高立体規則性で、流動性がよく、し
かも高剛性のポリ(α−オレフィン)を得ることができ
る。
【図1】本発明のα−オレフィン重合用触媒の調製工程
を模式的に示すフローチャートである。
を模式的に示すフローチャートである。
Claims (2)
- 【請求項1】 マグネシウム、チタン、ハロゲンおよび
電子供与性化合物を必須成分とする固体成分をBr2、
I2または一般式MXn(式中、Mは、Mg、Al、B、
Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、C
u、Zn、Y、Zr、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、
Pd、Ag、Cd、La、Hf、Ta、W、Re、O
s、Ir、Pt、Au、Hgを表す。Xは、Br、I、
アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキ
シ基を表し、ただし、少なくとも一個はBrまたはIで
ある。nは、Mの原子価を表す。)で示される化合物に
より処理したα−オレフィン重合用固体触媒成分。 - 【請求項2】 (A)請求項1記載の固体触媒成分、
(B)有機アルミニウム化合物、(C)アルキルアルコ
キシシラン化合物からなるα−オレフィン重合用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6790398A JPH11240913A (ja) | 1997-12-26 | 1998-03-03 | α−オレフィン重合用固体触媒成分とそれを用いたα−オレフィン重合用触媒 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-369011 | 1997-12-26 | ||
| JP36901197 | 1997-12-26 | ||
| JP6790398A JPH11240913A (ja) | 1997-12-26 | 1998-03-03 | α−オレフィン重合用固体触媒成分とそれを用いたα−オレフィン重合用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11240913A true JPH11240913A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=26409112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6790398A Pending JPH11240913A (ja) | 1997-12-26 | 1998-03-03 | α−オレフィン重合用固体触媒成分とそれを用いたα−オレフィン重合用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11240913A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155950A (ja) * | 2008-12-31 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法及びそれらによるα−オレフィン重合用触媒 |
| JP2010155949A (ja) * | 2008-12-31 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法及びα−オレフィン重合用触媒 |
| JP2010155948A (ja) * | 2008-12-30 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 |
-
1998
- 1998-03-03 JP JP6790398A patent/JPH11240913A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010155948A (ja) * | 2008-12-30 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分、α−オレフィン重合用触媒成分、α−オレフィン重合用触媒、及びそれを用いるα−オレフィン重合体の製造方法 |
| JP2010155950A (ja) * | 2008-12-31 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法及びそれらによるα−オレフィン重合用触媒 |
| JP2010155949A (ja) * | 2008-12-31 | 2010-07-15 | Japan Polypropylene Corp | α−オレフィン重合用固体触媒成分の製造方法、α−オレフィン重合用触媒成分の製造方法及びα−オレフィン重合用触媒 |
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