JPH11243126A - 真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄板状の基板を確実に搬送することができる
真空処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 薄板状の基板１を真空チャンバ１１内に
載置して真空処理を行う真空処理装置において、基板１
を長手方向に搬送する搬送路１４と、搬送路１４上を基
板１を押送して基板の真空チャンバ１１内への搬入およ
び真空チャンバ１１からの搬出を行う搬送爪４９ａを備
え、この搬送爪４９ａが基板１の端部と当接する当接部
に凹部４９ｂを設けてこの凹部４９ｂの下部を基板１の
下方へ突出して基板１を支持し基板１の下垂を防止する
支持部とした。これにより撓みやすい薄板状の基板であ
っても搬送時に搬送爪４９ａが基板１の端部から外れる
ことがなく、基板１を確実に搬送することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板を真空中で処理
する真空処理装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基板の表面処理を行う装置として、プラ
ズマ処理装置などの真空処理装置が知られている。この
真空処理装置は、減圧雰囲気下で対象物である基板の処
理を行うものであり、真空チャンバ内に基板を搬入して
載置した状態で真空チャンバ内部の真空吸引が行われ
る。真空チャンバ内に基板を搬入する方法として、一般
に搬送路上で基板を押送する方法が広く用いられてい
る。この方法は基板の幅寸法に対応した側面ガイドが設
けられた搬送路上に基板を載置し、基板の後端部を搬送
爪で押送することにより、真空チャンバへの搬入および
真空チャンバからの搬出を行うものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、真空チャン
バの内部は外部から遮断された密閉構造とする必要があ
るため、上記搬送路上に真空チャンバの内外を遮断する
側壁が下降する部分では搬送路は真空チャンバの側壁の
厚さに相当する隙間分だけ途切れて不連続となる。した
がって、この隙間部分を基板が通過する際には、基板の
隙間上の部分は搬送路によって下方から支持されておら
ず、基板そのものの剛性によって保持されている状態と
なる。

【０００４】しかしながら、テープ基板等薄板状の基板
を対象とする場合には、基板の剛性が小さいため基板の
端部が上記隙間上にあるときに基板の端部がたわみ下垂
し易い。この結果、搬送時に基板の後端部が搬送爪から
外れて搬送爪が基板の後端部を安定して押送することが
できず、搬送ミスを発生し易いという問題点があった。

【０００５】そこで本発明は、薄板状の基板を確実に搬
送することができる真空処理装置を提供することを目的
とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の真空処理装置
は、薄板状の基板を長手方向に搬送する搬送路と、真空
チャンバを構成する蓋部と、この蓋部を開閉する開閉手
段と、前記搬送路上を基板を押送して基板の真空チャン
バ内への搬入および真空チャンバからの搬出を行う搬送
爪と、前記真空チャンバ内を真空吸引する真空吸引手段
とを備え、前記搬送爪が基板の端部と当接する当接部の
下方に基板の下方へ突出して基板を支持し基板の下垂を
防止する支持部を設けた。

【０００７】本発明によれば、搬送爪が基板の端部と当
接する当接部の下方にこの基板の下方へ突出して基板を
支持し基板の下垂を防止する支持部を設けることによ
り、搬送爪が外れることなく、基板を確実に搬送するこ
とができる。

【０００８】

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態を図面を
参照して説明する。図１は本発明の一実施の形態のプラ
ズマクリーニング装置の斜視図、図２（ａ）は同プラズ
マクリーニング装置の側断面図、図２（ｂ）は同プラズ
マクリーニング装置の搬送爪の部分拡大図、図３は同プ
ラズマクリーニング装置の搬送路の平面図、図４は同プ
ラズマクリーニング装置の部分断面図である。

【０００９】まず、図１を参照して真空処理装置として
のプラズマクリーニング装置の全体構造を説明する。図
１において、１０はベース部材であり、ベース部材１０
の上面には、基板１の搬送路１４が設けられている。搬
送路１４は、基板１の幅に対応して長手方向に連続して
形成されており、この搬送路１４に基板１を載置し長手
方向に押送することにより基板１を搬送するものであ
る。

【００１０】搬送路１４上には、真空チャンバ１１が設
けられている。真空チャンバ１１はベース部材１０、ベ
ース部材１０に装着された電極１２（図２および図３参
照）及びベース部材１０上に配設された箱形の蓋部材１
３により構成される。蓋部材１３の外側面には２つの板
状のブラケット１５が固着されており、ブラケット１５
の端部はブロック１６に結合されている。ブロック１６
は、蓋部材１３の開閉手段１７に結合されている。開閉
手段１７はシリンダなどから成り、開閉手段１７を駆動
することにより、蓋部材１３は上下動し、真空チャンバ
１１が開閉する。

【００１１】図１において、ベース部材１０の側面に
は、ガイドレール４０が配設されている。ガイドレール
４０には、２個のスライダ４１，４２がスライド自在に
嵌合している。スライダ４１，４２にはブラケット４
３，４４がそれぞれ固着されている。ブラケット４３，
４４には、第１のシリンダ４５、第２のシリンダ４７が
それぞれ装着されている。第１のシリンダ４５のロッド
４６及び第２のシリンダ４７のロッド４８には、第１の
搬送アーム４９、第２の搬送アーム５０がそれぞれ結合
されている。

【００１２】第１の搬送アーム４９の先端部と第２の搬
送アーム５０の先端部は、搬送路１４上に延出して下向
きに屈曲しており、第１の搬送爪４９ａ及び第２の搬送
爪５０ａになっている。第１の搬送爪４９ａ及び第２の
搬送爪５０ａは、搬送路１４上に位置し、第１のシリン
ダ４５のロッド４６、第２のシリンダ４７のロッド４８
が突没することにより上下動する。

【００１３】ベース部材１０の側面には、第１のモータ
５７および第２のモータ５８が配設されている。第１の
モータ５７および第２のモータ５８の回転軸には、それ
ぞれプーリ５５，５６が装着されている。ベース部材１
０の側面には、プーリ５５，５６に対応して従動プーリ
５３，５４が設けられている。プーリ５５と従動プーリ
５３、プーリ５６と従動プーリ５４には、それぞれベル
ト５９，６０が調帯されている。ベルト５９，６０は連
結部材５１，５２によってブラケット４３，４４と結合
されている。

【００１４】したがって、第１のモータ５７、第２のモ
ータ５８が正逆駆動することによりベルト５９，６０は
水平方向に走行し、ブラケット４３，４４に装着されて
いる第１のシリンダ４５、第２のシリンダ４７は水平方
向に正逆移動する。この水平方向の正逆移動と、第１の
シリンダ４５および第２のシリンダ４７の上下動を組み
合わせることにより、第１の搬送爪４９ａおよび第２の
搬送爪５０ａは基板１を搬送路１４上で押送して搬送す
る。即ち、第１の搬送爪４９ａは上流側（図１において
左方）より基板１を真空チャンバ１１内に搬入する。ま
た第２の搬送爪５０ａは真空チャンバ１１内より、下流
側（図１において右方）へ基板１を搬出する。

【００１５】ベース部材１０の上流側には、基板１のロ
ーダ部２０が配設されている。ローダ部２０はＺ軸モー
タ２３を備えたＺテーブル２２を有しており、Ｚテーブ
ル２２には、マガジン２１が装着されている。マガジン
２１の内部には多数の基板１が水平姿勢で段積して収納
されている。２４はプッシャであり、マガジン２１内の
基板１を搬送路１４上に押し出す。

【００１６】また、ベース部材１０の下流側には、基板
１のアンローダ部３０が配設されている。アンローダ部
３０はＺ軸モータ３３を備えたＺテーブル３２を有して
おり、Ｚテーブル３２には、マガジン３１が装着されて
いる。マガジン３１内にはプラズマクリーニング処理済
みの基板１が第２の搬送爪５０ａにより挿入されて回収
される。

【００１７】次に、各図を参照して真空チャンバ１１の
構造を説明する。図２、図４において、ベース部材１０
には開口部１０ａが設けられており、開口部１０ａには
絶縁部材８を介して電極１２が下方より装着されてい
る。電極１２は高周波電源１９と電気的に接続されてい
る。また、図４に示すように真空チャンバ１１はベース
部材１０に設けられたパイプ１８を通じて真空吸引部６
２、プラズマガス供給部６３および大気開放弁６４と接
続されている。

【００１８】真空吸引部６２は真空チャンバ１１内を真
空吸引する。プラズマガス供給部６３は真空チャンバ１
１内にプラズマ発生用のガスを供給する。大気開放弁６
４を開放することにより、真空チャンバ１１内には真空
破壊用の空気が導入される。プラズマクリーニングの対
象となる基板１は、搬送路１４上を搬送されて真空チャ
ンバ１１内に搬入され、電極１２上に載置される。蓋部
材１３は電気的に接地部６１に接地され、電極１２に対
向する対向電極となっている。またベース部材１０上の
蓋部材１３の下端部が当接する部分には、シール部材１
０ｓが装着されている。

【００１９】次に、図２、図３を参照して搬送路１４お
よび第１の搬送爪４９ａ、第２の搬送爪５０ａの形状に
ついて説明する。図３に示すように搬送路１４は左右２
本の搬送レール１４ａ，１４ｂより構成されている。搬
送レール１４ａ，１４ｂの上部には切欠き部が形成され
ており、基板１はこれらの切欠き部上を摺動して搬送さ
れる。ベース部材１０および電極１２上には、搬送路１
４の幅に対応した幅寸法でガイド部材１０ｂ，１２ｂが
それぞれ装着されている。図２（ａ）、図３に示すよう
に、搬送路１４とガイド部材１０ｂは蓋部材１３の側壁
が下降する為の隙間Ｓによって隔てられている。すなわ
ち、搬送路１４はこの部分で途切れて不連続であり、こ
の隙間Ｓ上を基板１が通過する際には基板１の端部は搬
送路１４によって下方から支持されず、基板１の剛性の
みによって保持された状態となる。

【００２０】次に図２（ｂ）を参照して搬送爪４９ａの
形状について説明する。なお、第２の搬送爪５０ａにつ
いても同様である。図２（ｂ）に示すように第１の搬送
爪４９ａが基板１を押送する際に当接する側の端面に
は、凹部４９ｂが設けられている。押送時には基板１の
後端部は凹部４９ｂの内底部４９ｃに当接する。したが
って当接部である内底部４９ｃの下方の部分４９ｄは基
板１の下方に突出して基板１を支持し、基板１の下垂を
防止する支持部となっている。

【００２１】第１の搬送爪４９ａにこの凹部４９ｂを設
けることにより、基板１の搬送時に基板１の後端部は下
垂することなく、従って搬送爪４９ａから外れることな
く安定した状態で確実に押送される。押送時には、搬送
爪４９ａの下端部は電極１２の上面に長手方向に設けら
れた溝１２ａ（図４参照）の内部に嵌入した位置にあ
り、凹部４９ｂの高さ位置はこの状態で電極１２の上面
に載置された基板１を押送するのに適当な高さとなって
いる。

【００２２】次に図４を参照して電極１２の断面形状に
ついて説明する。図４に示すように、電極１２の上面に
はセラミックなどの絶縁体より成る左右一対のガイド１
２ｂが設けられており、基板１はこれらのガイド１２ｂ
によって両側面をガイドされている。ガイド１２ｂの上
面には水平方向内側に向かって突出する突起部１２ｃが
設けられている。突起部１２ｃは大気開放時の空気の流
れなどによって基板１が持ち上げられるのを防止する。

【００２３】この基板のプラズマクリーニング装置は上
記のような構成より成り、次に動作を説明する。まず、
図２（ａ）において、真空チャンバ１１が開いた状態、
すなわち蓋部材１３が上昇した状態で、第１の搬送爪４
９ａによって真空チャンバ１１内に基板１が搬入され
る。次いで蓋部材１３が下降して真空チャンバ１１が閉
じられる。この後、真空チャンバ１１内は真空吸引部６
２により真空吸引され、次いでプラズマガス供給部６３
によりプラズマ発生用ガスが真空チャンバ１１内に導入
される。次いで高周波電源１９を駆動して電極１２に高
周波電圧を印加することにより、真空チャンバ１１内に
はプラズマが発生する。その結果発生したイオンや電子
が基板１の表面に衝突することにより、基板１の表面の
プラズマクリーニングが行われる。

【００２４】プラズマクリーニングが終了すると、真空
チャンバ１１内には大気開放弁６４を介して空気が導入
される。このとき、前述のガイド１２ｂによって基板１
がガイドされているので基板１の位置ずれが発生しな
い。その後蓋部材１３を上昇させて真空チャンバ１１を
開く。次に、第１の搬送爪４９ａ、第２の搬送爪５０ａ
を下流側へ移動させることにより、新たな基板１を真空
チャンバ１１内に搬入するとともに、プラズマクリーニ
ング処理済みの基板１を真空チャンバ１１から搬出す
る。

【００２５】この搬入・搬出の過程において基板１は搬
送路１４からベース部材１０上へ、更に電極１２上へ乗
り移るが、搬送路１４とベース部材１０との隙間Ｓを通
過する際に、基板１の後端部は第１の搬送爪４９ａ，第
２の５０ａの凹部４９ｂ，５０ｂ内に嵌入しているので
基板１の後端部が下垂することがない。したがって基板
１は常に第１の搬送爪４９ａ，第２の搬送爪５０ａによ
って正常に押送され、搬送ミスを生じることがない。

【００２６】なお、本実施の形態では第１の搬送爪４９
ａ，第２の搬送爪５０ａの支持部の形状として凹４９
ｂ、５０ｂ部を形成する例を示しているが、これ以外の
他の形状、例えば第１の搬送爪４９ａ，第２の搬送爪５
０ａの下部を単に基板１の下方に突出させた形状など、
要は基板１の端部の下垂を防止できるような形状であれ
ばよい。

【００２７】

【発明の効果】本発明によれば、搬送爪が基板の端部と
当接する当接部の下方にこの基板の下方へ突出して基板
を支持し基板の下垂を防止する支持部を設けたので、撓
みやすい薄板上の基板であっても搬送時に基板の端部が
下垂して搬送爪から外れることがなく、基板を確実に搬
送することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態のプラズマクリーニング
装置の斜視図

【図２】（ａ）本発明の一実施の形態のプラズマクリー
ニング装置の側断面図 （ｂ）本発明の一実施の形態のプラズマクリーニング装
置の搬送爪の部分拡大図

【図３】本発明の一実施の形態のプラズマクリーニング
装置の搬送路の平面図

【図４】本発明の一実施の形態のプラズマクリーニング
装置の部分断面図

【符号の説明】

１ 基板 １０ ベース部材 １１ 真空チャンバ １２ 電極 １３ 蓋部材 １４ 搬送路 １７ 開閉手段 ４９ａ 第１の搬送爪 ４９ｃ 内底部 ５０ａ 第２の搬送爪 ６２ 真空吸引部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ // Ｈ０１Ｌ 21/3065 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｎ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】薄板状の基板を長手方向に搬送する搬送路
   と、真空チャンバを構成する蓋部と、この蓋部を開閉す
   る開閉手段と、前記搬送路上を基板を押送して基板の真
   空チャンバ内への搬入および真空チャンバからの搬出を
   行う搬送爪と、前記真空チャンバ内を真空吸引する真空
   吸引手段とを備え、前記搬送爪が基板の端部と当接する
   当接部の下方に基板の下方へ突出して基板を支持し基板
   の下垂を防止する支持部を設けたことを特徴とする真空
   処理装置。