JPH11244701A - 固体酸触媒の製造方法 - Google Patents
固体酸触媒の製造方法Info
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- JPH11244701A JPH11244701A JP10067615A JP6761598A JPH11244701A JP H11244701 A JPH11244701 A JP H11244701A JP 10067615 A JP10067615 A JP 10067615A JP 6761598 A JP6761598 A JP 6761598A JP H11244701 A JPH11244701 A JP H11244701A
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Abstract
ながら、粉体触媒と同等以上の高い活性を有する成形さ
れた固体酸触媒の製造方法を、また、廃触媒から高い活
性を有する固体酸触媒を製造する方法を提供する。 【解決手段】 正方晶の結晶構造を有するジルコニアお
よび/または含水ジルコニアからなる部分と、アルミナ
および/含水アルミナからなる部分で構成された担体に
硫酸分含有化合物を接触させ、300℃より高く800
℃より低い温度で焼成するものである。前記担体が、ジ
ルコニウム水酸化物および/または水和酸化物と、アル
ミニウム水和物および/または水和酸化物を混錬し、成
形した成形物を正方晶構造のジルコニアが得られる温度
で焼成して得られたものであることが好ましい。また、
前記担体が、ジルコニアおよび/または含水ジルコニア
からなる部分と、アルミナおよび/含水アルミナからな
る部分で構成された担体と、この担体に担持された硫酸
分とを含む固体酸触媒を使用し、活性が低下したもので
あることが好ましい。
Description
応に有用な固体酸触媒を製造する方法、また、使用によ
り活性が低下した廃触媒を用いて固体酸触媒を製造する
方法に関する。
エステル化反応、異性化反応等の酸触媒を必要とする反
応が多数知られている。従来この種の反応には、硫酸、
塩化アルミニウム、フッ化水素、リン酸、パラトルエン
スルホン酸等の酸触媒が使用されている。しかしこれら
の酸触媒は金属を腐食させる性質があり、高価な耐食材
料を使用するかあるいは耐食処理を施す必要があった。
また通常、反応後の反応物質との分離が困難な上に廃酸
処理が必要であり、アルカリ洗浄などの煩雑な工程を経
なければならず、環境面にも大きな問題があった。さら
に触媒を再利用することも非常に困難であった。
金属水酸化物もしくは水和酸化物を硫酸分含有溶液と接
触させた後、350〜800℃で焼成した硫酸根含有固
体酸触媒が提案された(特公昭59−6181号公
報)。この固体酸触媒は、100%硫酸(ハメットの酸
度関数H0は−11.93)より強い酸強度を示す。こ
れらの固体酸触媒は、その強い酸強度により様々な酸触
媒反応に対し高い触媒性能を有する。しかも腐食性が低
く、反応物質との分離が容易で廃酸処理も不要で、触媒
の再利用も可能といった長所を有しており、様々な工業
的反応において、従来の酸触媒の代替が期待されてい
る。
酸分を含有させた酸化物が100%硫酸よりも強い酸強
度を示すことが知られている。例えば、アルミニウムの
水酸化物もしくは酸化物に硫酸分含有化合物を添加し、
それを焼成して得られる固体酸触媒は、100%硫酸よ
りも強い酸強度を示す(特開平5−96171号報、荒
田、Trends in Physical Chemistry 2巻、1項(19
91年))。アルミナの場合は、一旦700℃程度でか
焼し結晶化させたものを硫酸処理する方法が最も活性が
高いと報告されている。また、これらの固体酸触媒に水
素化能を有する金属を添加した触媒も、良好な炭化水素
異性化活性を示すことは自明である。しかし、これらの
酸強度は硫酸ジルコニア系固体酸触媒に比べて弱いこと
も明らかになっている。
化を主な目的とした触媒の製造法が特公平5−2950
3号公報、特公平5−29504号公報、特公平5−2
9505号公報および特公平5−29506号公報に開
示されている。これらは、IV族金属またはIII族金属の
水酸化物、硫酸根を含有する処理剤、VIII族金属を主な
原料とする硫酸根含有固体酸触媒の製造方法である。得
られる触媒は、直鎖炭化水素の異性化反応、炭化水素の
アルキル化反応等において触媒安定性に優れ、それまで
の固体酸触媒よりも分解反応が少ない触媒であるとされ
ている。しかしながらこれら硫酸分含有固体酸触媒は粉
体で製造されており、通常の工業的反応装置、例えば固
定床流通式反応器に充填して使用する場合適当な大きさ
に成形する必要がある。
理金属酸化物触媒成形体の製造法が開示されている。こ
れは、金属水酸化物とベーマイトを用いて成形し、成形
体を300℃以上500℃以下の温度で前焼成した後、
硫酸根処理を行うことを特徴とする触媒成形方法であ
る。しかしながらその触媒活性はベーマイトを加えて成
形したために、ベーマイトを加えない粉体触媒に比べて
活性が低下している。このように、アルミナを加えた触
媒は加えないものに比べて活性が低下するとされてい
る。また、白金担持硫酸ジルコニア触媒粉末をベーマイ
ト粉末と混合し、水を添加して練った後成形し、焼成し
た触媒は、さらに大幅に触媒活性が低下することも開示
されている。
題を解決するもので、硫酸分を含有する固体酸触媒の成
形物でありながら、粉体触媒と同等以上の高い活性を有
する成形された固体酸触媒の製造方法を提供することに
ある。
が低下して使用できなくなるが、この使用できなくなっ
た廃触媒を再度利用することが望まれている。本発明
は、このような廃触媒から高い活性を有する固体酸触媒
を製造する方法を提供することにある。
結果、水酸化ジルコニウムとアルミナ水和物(擬ベーマ
イト)を混練して成形し、600℃で焼成した場合、触
媒の活性発現に好ましい正方晶のジルコニアが容易に生
成し、この焼成された成形体に硫酸分を担持した触媒が
粉末状ジルコニアの固体酸触媒と同等以上の触媒活性を
有することを見出し、本発明を完成させた。
方法は、正方晶の結晶構造を有するジルコニアおよび/
または含水ジルコニアからなる部分(以下、ジルコニア
部分ともいう)と、アルミナおよび/含水アルミナから
なる部分(以下、アルミナ部分ともいう)で構成された
担体に硫酸分含有化合物を接触させ、300℃より高く
800℃より低い温度で焼成するものである。
/または水和酸化物と、アルミニウム水和物および/ま
たは水和酸化物を混錬し、成形した成形物を正方晶構造
のジルコニアが得られる温度で焼成して得られたもので
あることが好ましい。また、前記担体が、ジルコニアお
よび/または含水ジルコニアからなる部分と、アルミナ
および/含水アルミナからなる部分で構成された担体
と、この担体に担持された硫酸分とを含む固体酸触媒を
使用し、活性が低下したものであることが好ましい。さ
らに、前記固体酸触媒が第8族、第9族、第10族から
選ばれる1種以上の金属成分を含むことが好ましい。
の結晶構造を有するジルコニア部分とで構成された担体
に硫酸分含有化合物を接触させて焼成するものであり、
高い触媒活性が得られる正方晶ジルコニアの生成と、焼
成された成形体への硫酸分による強い酸点の形成を別個
に行うことができる。これが、本発明の硫酸分含有固体
酸触媒の高い活性の発現をもたらしていると考えられ
る。これにより、本発明は成形物でありながら高い活性
を持った固体酸触媒を製造することができる。
を有するジルコニア部分とで構成された担体を含む触媒
は、使用により活性が低下して廃触媒となった場合、そ
の廃触媒を硫酸分含有化合物と接触させて焼成すること
により、使用前と同等の高い活性を持った固体酸触媒へ
再生することができる。したがって、廃触媒の再利用が
可能となる。
は、アルミナおよび/含水アルミナからなる部分(アル
ミナ部分)と、正方晶の結晶構造を有するジルコニアお
よび/または含水ジルコニアからなる部分(ジルコニア
部分)とで構成された担体が用いられる。担体は、粉体
でなく、成形された形状であり、0.5〜20mmの大
きさのものを容易に得ることができ、通常、平均粒径と
して、0.2〜50mm、特には、0.5〜20mmが
好ましく用いられる。アルミナ部分、ジルコニア部分
は、担体中に0.01〜100μmの粒子として存在し
ている。
触媒中のジルコニアとアルミナの合計量に占めるアルミ
ナの含有量が、5〜90重量%、特には10〜50重量
%となるように設定することが好ましい。この範囲未満
では、アルミナ部分の存在によるジルコニアの正方晶安
定化効果が弱まるばかりでなく、成形触媒の圧壊強度が
弱まる。また、この範囲を超えると、活性が相対的に低
下する。
正方晶の結晶構造を有する。この構造はX線回折により
確認でき、具体的には、CuKα線による、2θ=28.
2°と2θ=30.2°のX線回折ピーク面積比(以下
S28.2/S30.2比と略記する。S28.2は2θ=28.2
°における単斜晶ジルコニアのピークの面積、S30.2は
2θ=30.2°における正方晶ジルコニアのピークの
面積)が、1.0以下、好ましくは、0.05以下であ
ることが好ましく、単斜晶構造がほとんど存在していな
いことで、高い触媒活性が得られる。
含有化合物としては、硫酸、硫酸アンモニウム、亜硫
酸、亜硫酸アンモニウム、塩化チオニルなどが好ましく
用いられる。硫酸分含有化合物の濃度に関しては特に制
限はない。硫酸分含有化合物の添加量は、得られる固体
酸触媒中に占める硫黄量が0.2〜10重量%、特には1〜10
重量%となるようにすることが好ましい。
行えるならば、どのような形態、例えばガス状あるいは
水溶液のような形態で用いてもかまわないが、液体状で
あることが取り扱いやすく好ましい。接触させる方法に
ついても特に制限はないが、スプレー、浸漬等による含
浸法や、ガス状にして触媒層を通過させる方法が好適に
使用される。硫酸分含有化合物に接触させた後、300
℃〜800℃、好ましくは400℃〜800℃で焼成し
て目的の固体酸触媒を得る。焼成時間は通常0.5〜1
0時間である。
ルコニウム水酸化物および/または水和酸化物(以下、
ジルコニア粉体ともいう)、アルミニウム水和物および
/または水和酸化物(以下、アルミナ粉体ともいう)を
混錬し、成形した成形物を正方晶構造のジルコニアが得
られる温度で焼成することで好ましく作成できる。
より明確な結晶構造を持たない無定形とすることで、触
媒の圧壊強度が向上し、またジルコニアが安定しやす
い。また、凝集粒子、すなわち、1次粒子が凝集した2
次粒子の平均粒径が0.2〜20μm、特には0.2〜
5μmのものを用いることが、触媒の活性および機械的
強度向上のために好ましい。
かまわないが、一般にはジルコニウム塩や有機金属化合
物、例えばオキシ塩化物、アルコラート、塩化物、硫酸
塩、硝酸塩、オキシ硫酸塩などを中和もしくは加水分解
することにより得ることができる。ジルコニア粉体の主
成分は、ジルコニウム水酸化物とジルコニウム水和酸化
物の混合物、ジルコニウム水酸化物、または、ジルコニ
ウム水和酸化物である。
化物および/または複合金属水和酸化物として用いるこ
ともできる。ジルコニウムの水酸化物および/または水
和酸化物に、他の金属の水酸化物、水和酸化物などを加
えてもかまわない。他の金属としては、チタン、ハフニ
ウム、バナジウム、クロム、マンガン、鉄、ケイ素、
錫、ガリウムなどが好適に用いられる。これら他の金属
の化合物は複合金属化合物でもかまわない。しかし、ジ
ルコニア粉体としては、金属成分としてジルコニウムを
主成分とするもの、具体的には、ジルコニア粉体中の全
金属重量のうち、ジルコニアをその金属重量として70
重量%以上、特には90重量%以上のものが好ましく用
いられる。しかし、アルカリ金属やアルカリ土類金属
は、少量含有されても、触媒活性が低下するので、実質
的に含まないことが好ましい。
0.5〜50μm、特には0.5〜20μmのものを用
いることが好ましい。アルミナ粉体としては、いろいろ
な製法により得られたものを用いることができるが、特
に、擬ベーマイトなどのベーマイト構造を有するアルミ
ニウム水和酸化物を用いることが触媒活性を向上できる
ので好ましい。アルミナ粉体としてα−アルミナやγ−
アルミナを用いると、相対的に、触媒成形体の機械的強
度が低下し、また、触媒活性が低下する。
混練するが、混練には、一般に触媒調製に用いられてい
る混練機を用いることができる。通常は原料粉体を投入
し、水を加えて攪拌羽根で混合するような方法が好適に
用いられるが、原料の投入順序など特に限定はない。混
練の際には通常水を加えるが、原料粉体がスラリー状の
場合などには特に水を加える必要はない。また、加える
液体としては、エタノール、イソプロパノール、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
の有機溶媒でもよい。混練時の温度や混練時間は、原料
となるジルコニア粉体、アルミナ粉体の特性により異な
る。硝酸などの酸やアンモニアなどの塩基、有機化合
物、バインダー、セラミックス繊維、界面活性剤、ゼオ
ライトなどを加えて混練してもかまわない。
れている成形方法を用いることができる。特に、ペレッ
ト状、ハニカム状等の任意の形状に効率よく成形できる
ので、スクリュー式押出機などを用いた押出成形が好ま
しく用いられる。成形物のサイズは特に制限はないが、
通常、その断面の長さが0.5mm以上の大きさに成形
される。例えば円柱状のペレットであれば、通常直径
0.5〜10mm、長さ0.5〜15mm程度のものを
容易に得ることができる。
ス雰囲気中において行われる。通常、焼成温度を450
〜800℃、特に500〜800℃とし、焼成時間を
0.5〜10時間とすることが、単斜晶ジルコニアの発
生が少なく、ほとんどが正方晶ジルコニアとなるので好
ましい。なお、通常、成形後、焼成前に、80℃〜20
0℃の温度で乾燥を行う。
性が低下した使用済の固体酸触媒を用いることができ
る。使用前における固体酸触媒は、正方晶の結晶構造を
有するジルコニア部分とアルミナ部分で構成された担体
と、この担体に担持された硫酸分とを含むものである。
使用後においても、正方晶の結晶構造を有するジルコニ
ア部分とアルミナ部分で構成された担体が残存すること
が必要である。使用条件によっては、硫酸分を含んでい
ない場合もある。
で製造することもできるし、他の方法で製造することも
できる。他の方法としては、ジルコニア粉体、アルミナ
粉体および硫酸分含有化合物を混練し、成形した後、焼
成することでの製造が好ましい。この場合、混練、成形
は、上述の担体の作成と同様にして行うことができる。
この場合、硫酸分含有化合物の重量を、焼成前の全重量
の3〜40重量%、特には、10〜30重量%とするこ
とが、触媒活性の点から好ましい。焼成は、正方晶構造
の酸化ジルコニウムが得られる温度で焼成する。
は、必要に応じて、例えば、異性化などの転化反応に用
いられる場合には、第8族、第9族、第10族から選ば
れる1種以上の金属成分を触媒に加えることが好まし
い。第8族、第9族、第10族から選ばれる金属元素と
しては、特に白金、パラジウム、ルテニウム等が好適に
用いられる。第8族、第9族、第10族から選ばれる1
種以上の金属成分は、金属そのものよりも化合物の形態
になっているものを用いる方が好ましい。これらの金属
化合物は、無水物としても、水和物としても用いること
ができる。さらにこれらの金属化合物は1種でも、2種
以上を混合したものでもよい。これらの金属化合物は、
担体に硫酸分含有化合物を担持する際に担持する、また
は、担体原料粉を混練する際に金属化合物を混練するこ
とで触媒に含有させることが好ましい。
る含浸法や、イオン交換法等が好適に用いられる。第8
族、第9族、第10族から選ばれる1種以上の金属化合
物と硫酸分含有化合物の担持は、どちらを先に行っても
かまわない。また混合溶液を用いて同時に行う方法も好
適に用いられる。また、これら化合物の担持と担持の
間、あるいは担持後に、80℃〜200℃の温度での乾
燥や、300℃より高く800℃より低い温度での0.
5〜10時間の焼成を行っても差し支えない。さらに水
素による還元処理を行ってもかまわない。これら金属成
分の添加量は、最終的に得られる固体酸触媒中に占める
第8族、第9族、第10族元素の合計量が、0.05〜
10重量%となるように添加することが好ましい。
固体酸触媒は100%硫酸より高い酸強度、酸強度Ho
(ハメットの酸度関数)が−11.93より強い酸性を
示す固体超強酸である。触媒の機械的強度は、直径1.
5mmの円柱ペレットの側面圧壊強度として2kg以
上、より好ましくは3kg以上、さらに好ましくは4k
g以上が得られる。
媒反応としては、異性化、不均化、ニトロ化、分解や、
アルキル化、エステル化、アシル化、エーテル化、重合
などの増炭反応など様々な反応が挙げられる。主な反応
対象は、炭化水素類、すなわち、炭化水素、および、そ
の炭化水素に置換基を付与したような炭化水素誘導体で
ある。
に好ましく用いられる。特に、炭化水素化合物として沸
点範囲−20℃〜110℃程度の石油留分にある直鎖炭
化水素を、水素の存在下で分岐炭化水素に異性化する触
媒に好ましく用いられる。特に直鎖パラフィンが分岐パ
ラフィンに異性化され、オレフィンや芳香族化合物が水
素化されて鎖状あるいは環状のパラフィンになり、さら
に異性化される反応に好ましく用いられる。炭化水素化
合物の異性化の反応条件としては、好ましい反応温度の
範囲が100〜300℃、特には120〜240℃であ
り、好ましい反応圧力の範囲が1〜50kgf/c
m2、好ましいLHSVの範囲が0.2〜10/hr、
好ましい水素/原料比の範囲が0.2〜10mol/m
olである。
てもよい。この場合の処理温度は300℃よりも低い温
度が好ましく、特には250℃よりも低い温度が好まし
い。処理温度が高すぎると触媒中の硫酸分が還元され、
触媒活性が低下する。しかしこれらの還元処理は必須で
はなく、反応が水素雰囲気下で行えさえすれば、特に還
元処理を行う必要はない。
評価方法を説明する。
線回折チャートからジルコニアの正方晶と単斜晶のピー
ク分離を行い、2θ=28.2°における単斜晶ジルコ
ニアのピークの面積と、2θ=30.2°における正方
晶ジルコニアのピークの面積の比(S28.2/S30.2比)
を算出した。なお、S28.2/S30.2比が0.02以下で
は、単斜晶ピークが不明瞭となり検出不能であった。
CROTRAC粒度分析計を用い、湿式測定法で測定した。こ
れは、粉体を水に分散し、流れる粉体群にレーザ光を照
射し、その前方散乱光により粒度分析を行うものであ
る。
媒の活性評価法として、水素気流中での炭化水素の転化
反応を行った。反応に用いた炭化水素は、n-ヘキサンも
しくはn-ヘプタンである。n-ヘキサンの転化反応では、
その生成物は、主としてヘキサンの分枝異性体であっ
た。n-ヘプタンの転化反応の生成物は、ヘプタンの分枝
異性体とヘプタンより分子量の小さい炭化水素の混合物
であった。
に成形した4ccの触媒を、長さ50cm、内径1cmの固定床流
通式反応器に充填し、n-ヘキサンの転化反応を反応温
度:200℃、反応圧力:10kg/cm2-G、LHSV:1.5/h、水素
原料比(H2/Oil):5mol/molの条件で行った。触媒の前
処理として、300℃、1時間の水素還元を転化反応前に行
った。反応の開始から1.5時間後のn-ヘキサン転化率を
ガスクロマトグラフィーにより分析して、ヘキサン転化
活性を評価した。なお、n-ヘキサン転化率は、[1−
(生成油中に占めるn-ヘキサンの重量%/原料油中に占
めるn-ヘキサンの重量%)]×100(%)の式により
求めた。
に成形した1gの触媒を、長さ50cm、内径1cmの固定床流
通式反応器中に充填し、n-ヘプタンの転化反応を、反応
温度:200℃、反応圧力:4kg/cm2-G、WHSV:3.4/h、水
素原料比(H2/Oil):5mol/molの条件で行った。触媒の
前処理として、300℃、1時間の水素還元を転化反応前に
行った。反応の開始から2時間後のn-ヘプタンの転化率
をガスクロマトグラフィーにより分析して、ヘプタン転
化活性を評価した。なお、n-ヘプタン転化率は、[1−
(生成油中に占めるn-ヘプタンの重量%/原料油中に占
めるn-ヘプタンの重量%)]×100(%)の式により
求めた。
ち、平均粒径1.2μmの粉体をジルコニア粉体として
用いた。また、市販の水和アルミナ(擬ベーマイト)粉
のうち、平均粒径10μmの粉体をアルミナ粉体として
用いた。このジルコニア粉体300gとアルミナ粉体3
00gを加え、さらに硫酸アンモニウム115gを加
え、攪拌羽根のついた混練機で水を加えながら2時間混
練を行った。得られた混練物を直径1.6mmの円形開
口を有する押出機より押し出して円柱状のペレットを成
形し、110℃で乾燥して乾燥ペレットを得た。続い
て、この乾燥ペレットを650℃で2時間焼成した。さ
らに、触媒中の白金量が0.5重量%になるように塩化
白金酸の水溶液125mlを添加した。これを乾燥後、5
50℃で2時間焼成して触媒Aを得た。
m、平均長さ5mmの円柱状であった。触媒Aのヘキサ
ン転化活性は85%であり、S28.2/S30.2比は0.0
2以下であり、単斜晶構造はほとんど存在していない。
ち、平均粒径1.2μmの粉体をジルコニア粉体として
用いた。また、市販の水和アルミナ(擬ベーマイト)粉
のうち、平均粒径10μmの粉体をアルミナ粉体として
用いた。このジルコニア粉体300gとアルミナ粉体3
00gを加え、攪拌羽根のついた混練機で水を加えなが
ら2時間混練を行った。得られた混練物を直径1.6m
mの円形開口を有する押出機より押し出して円柱状のペ
レットを成形し、110℃で乾燥して乾燥ペレットを得
た。続いてこの乾燥ペレットを650℃で2時間焼成し
て担体Bを得た。
量%になるように塩化白金酸の水溶液125mlを添加し
た。これを乾燥後、0.5mol/l硫酸水溶液125
mlを添加し、再び乾燥し、600℃で2時間焼成して
触媒Bを得た。成形された触媒Bは、平均直径1.5m
m、平均長さ5mmの円柱状であった。担体Bおよび触
媒BのS28.2/S30.2比は0.02以下であり、単斜晶
構造はほとんど存在していない。触媒Bのヘプタン転化
活性は67%であった。
異性化反応を長時間行い、劣化触媒Cを得た。この劣化
触媒Cのヘキサン転化活性は30%であり、S28.2/S
30.2比は0.02以下であった。
℃、1時間窒素気流中で処理し、処理触媒Dを得た。こ
の処理触媒Dのヘキサン転化活性は28%であり、S2
8.2/S30.2比は0.02以下であった。
℃、1時間空気気流中で処理し、処理触媒Eを得た。こ
の処理触媒Eのヘキサン転化活性は35%であり、S2
8.2/S30.2比は0.02以下であった。
5mol/l硫酸水溶液150mlを加えて接触させた
後、過剰な硫酸水溶液を濾過により除去し、乾燥後、5
50℃で2時間焼成して再生触媒Fを得た。この再生触
媒Fのヘキサン転化活性は84%であり、S28.2/S3
0.2比は0.02以下であった。
5mol/l硫酸アンモニウム水溶液150mlを加え
て接触させた後、過剰な硫酸アンモニウム水溶液を濾過
により除去し、乾燥後、550℃で2時間焼成して再生
触媒Gを得た。この再生触媒Gのヘキサン転化活性は8
3%であり、S28.2/S30.2比は0.02以下であっ
た。
-G、600ml/分の水素気流中で450℃、24時間処理して劣
化触媒Hを得た。劣化触媒Hのヘプタン転化活性は3%
であり、S28.2/S30.2比は0.02以下であった。
℃、2時間、空気中で焼成し、処理触媒Iを得た。処理
触媒Iのヘプタン転化活性は10%であり、S28.2/S
30.2比は0.02以下であった。
5mol/l硫酸水溶液150mlを加えて接触させた
後、過剰な硫酸水溶液を濾過により除去し、乾燥後、5
50℃で2時間焼成して再生触媒Jを得た。再生触媒J
のヘプタン転化活性は67%であり、S28.2/S30.2比
は0.02以下であった。
5mol/l硫酸アンモニウム水溶液150mlを加え
て接触させた後、過剰な硫酸アンモニウム水溶液を濾過
により除去し、乾燥後、550℃で2時間焼成して再生
触媒Kを得た。再生触媒Kのヘプタン転化活性は66%
であり、S28.2/S30.2比は0.02以下であった。
ニア粉体50gに、触媒中の白金量が0.5重量%にな
るように塩化白金酸の水溶液125mlを添加した。これ
を乾燥後、0.5mol/l硫酸水溶液125mlを添
加し、乾燥後、625℃で2時間焼成して粉体の触媒L
を得た。触媒Lの分解活性は62%であり、S28.2/S
30.2比は0.07であった。
-G、600ml/分の水素気流中で450℃、24時間処理して劣
化触媒Mを得た。劣化触媒Mのヘプタン転化活性は2%
であり、S28.2/S30.2比は1.5であった。
5mol/l硫酸水溶液150mlを加えて接触させた
後、過剰な硫酸を濾過により除去し、乾燥後、550℃
で2時間焼成して再生触媒Nを得た。再生触媒Nのヘプ
タン転化活性は20%であり、S28.2/S30.2比は1.
6であった。
Claims (4)
- 【請求項1】 正方晶の結晶構造を有するジルコニアお
よび/または含水ジルコニアからなる部分と、アルミナ
および/含水アルミナからなる部分で構成された担体に
硫酸分含有化合物を接触させ、300℃より高く800
℃より低い温度で焼成する固体酸触媒の製造方法。 - 【請求項2】 前記担体が、ジルコニウム水酸化物およ
び/または水和酸化物と、アルミニウム水和物および/
または水和酸化物とを混錬し、成形した成形物を正方晶
構造のジルコニアが得られる温度で焼成して得られたも
のである請求項1記載の固体酸触媒の製造方法。 - 【請求項3】 前記担体が、ジルコニアおよび/または
含水ジルコニアからなる部分と、アルミナおよび/含水
アルミナからなる部分で構成された担体と、この担体に
担持された硫酸分とを含む固体酸触媒を使用し、活性が
低下したものである請求項1記載の固体酸触媒の製造方
法。 - 【請求項4】 前記固体酸触媒が第8族、第9族、第1
0族から選ばれる1種以上の金属成分を含む請求項1な
いし3記載の固体酸触媒の製造方法。
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