JPH11245226A - レジスト再生システムおよびレジスト再生方法 - Google Patents
レジスト再生システムおよびレジスト再生方法Info
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- JPH11245226A JPH11245226A JP4748798A JP4748798A JPH11245226A JP H11245226 A JPH11245226 A JP H11245226A JP 4748798 A JP4748798 A JP 4748798A JP 4748798 A JP4748798 A JP 4748798A JP H11245226 A JPH11245226 A JP H11245226A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/62—Plastics recycling; Rubber recycling
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジストの有効利用を図ることができる再生
システムおよび再生方法を提供すること。 【解決手段】 この発明のレジスト再生システム１００
は、レジスト塗布装置から回収したレジストを収容して
再生する再生容器１２と、再生容器１２内のレジストＲ
から溶剤成分を蒸発させて溶剤成分の一部分を除去する
溶剤除去装置２６、２８と、溶剤除去装置２６、２８の
作動を制御する制御装置４２とを備え、制御装置２４
が、レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になるま
で、レジストから溶剤成分を除去するように溶剤除去装
置２６、２８を作動させることを特徴としている。
システムおよび再生方法を提供すること。 【解決手段】 この発明のレジスト再生システム１００
は、レジスト塗布装置から回収したレジストを収容して
再生する再生容器１２と、再生容器１２内のレジストＲ
から溶剤成分を蒸発させて溶剤成分の一部分を除去する
溶剤除去装置２６、２８と、溶剤除去装置２６、２８の
作動を制御する制御装置４２とを備え、制御装置２４
が、レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になるま
で、レジストから溶剤成分を除去するように溶剤除去装
置２６、２８を作動させることを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レジストの再生
システムおよび再生方法に関し、詳細には、半導体製造
に利用されるリソグラフィ等で使用するレジストの再生
システムおよび再生方法に関する。
システムおよび再生方法に関し、詳細には、半導体製造
に利用されるリソグラフィ等で使用するレジストの再生
システムおよび再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造に利用されるリソグラフィ等
では、レジストを下地面に塗布するコーティング作業が
行われる。このコーティング作業は、スピンコート方式
のレジスト塗布装置を用いて行われるのが一般的であ
る。スピンコート方式のレジスト塗布装置では、下地面
を有する基板がスピンチャックされ、次いで、下地面中
央にレジストが数ｃｃ滴下される。さらに、基板が回転
させられて、下地面中央に滴下されたレジストを、遠心
力により、下地面全体に行き渡らせ、下地面にレジスト
の被膜を形成している。
では、レジストを下地面に塗布するコーティング作業が
行われる。このコーティング作業は、スピンコート方式
のレジスト塗布装置を用いて行われるのが一般的であ
る。スピンコート方式のレジスト塗布装置では、下地面
を有する基板がスピンチャックされ、次いで、下地面中
央にレジストが数ｃｃ滴下される。さらに、基板が回転
させられて、下地面中央に滴下されたレジストを、遠心
力により、下地面全体に行き渡らせ、下地面にレジスト
の被膜を形成している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このとき、下地面上に
被膜として残るレジストは、滴下されたレジストの数パ
ーセントであり、レジストの大部分は、遠心力で基板か
ら飛び出してしまう。この飛び出した（スピンアウトし
た）レジストは、廃液として回収され、産業廃棄物とし
て廃棄されている。
被膜として残るレジストは、滴下されたレジストの数パ
ーセントであり、レジストの大部分は、遠心力で基板か
ら飛び出してしまう。この飛び出した（スピンアウトし
た）レジストは、廃液として回収され、産業廃棄物とし
て廃棄されている。
【０００４】例えば、基板である直径６インチのウエハ
の表面に厚さ約１μｍのレジスト被膜を形成する場合、
被膜として使用されるレジストの量は、約０．０１８立
方ｃｍである。また、被膜が液状膜であるときには、被
膜として使用されるレジストの量は、この値の数倍にな
る。しかしながら、下地面であるウエハ面に滴下された
レジストの量は２〜３ｃｃであるので、いずれの場合に
おいても、滴下されたレジストの少なくとも９７〜９８
パーセントが、ウエハ面からスピンアウトされて回収容
器に回収され、廃液として廃棄されていることになる。
の表面に厚さ約１μｍのレジスト被膜を形成する場合、
被膜として使用されるレジストの量は、約０．０１８立
方ｃｍである。また、被膜が液状膜であるときには、被
膜として使用されるレジストの量は、この値の数倍にな
る。しかしながら、下地面であるウエハ面に滴下された
レジストの量は２〜３ｃｃであるので、いずれの場合に
おいても、滴下されたレジストの少なくとも９７〜９８
パーセントが、ウエハ面からスピンアウトされて回収容
器に回収され、廃液として廃棄されていることになる。
【０００５】このようにレジストの大部分が有効利用さ
れずに廃棄されている状況は、費用節減、資源の有効利
用の観点、更には、廃液による環境汚染の観点からも好
ましくない。
れずに廃棄されている状況は、費用節減、資源の有効利
用の観点、更には、廃液による環境汚染の観点からも好
ましくない。
【０００６】このため、レジストの有効利用を図ること
ができる再生システムの出現が望まれる。
ができる再生システムの出現が望まれる。
【０００７】この発明は、レジストで被膜を形成した後
に、下地のエッジや裏面などの洗浄に使用されるエッヂ
リンス、バックリンスなどの洗浄液が、レジストの溶剤
と同じ成分であり、廃液として回収されたレジストは、
この洗浄液により希釈されたレジストであることに着目
してなされたものである。そして、廃液として回収した
レジストから所定量の洗浄液（溶剤）を除去することに
より、回収したレジストを再使用可能な状態にして、レ
ジストの有効利用を図ることを意図している。
に、下地のエッジや裏面などの洗浄に使用されるエッヂ
リンス、バックリンスなどの洗浄液が、レジストの溶剤
と同じ成分であり、廃液として回収されたレジストは、
この洗浄液により希釈されたレジストであることに着目
してなされたものである。そして、廃液として回収した
レジストから所定量の洗浄液（溶剤）を除去することに
より、回収したレジストを再使用可能な状態にして、レ
ジストの有効利用を図ることを意図している。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明のレジスト再生
システムは、レジスト塗布装置から回収したレジストを
収容して再生する再生容器と、再生容器内のレジストか
ら溶剤成分を蒸発させて溶剤成分の一部分を除去する溶
剤除去装置と、溶剤除去装置の作動を制御する制御装置
とを備えている。このレジスト再生システムでは、制御
装置が、レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になる
まで、レジストから溶剤成分を除去するように溶剤除去
装置を作動させる。
システムは、レジスト塗布装置から回収したレジストを
収容して再生する再生容器と、再生容器内のレジストか
ら溶剤成分を蒸発させて溶剤成分の一部分を除去する溶
剤除去装置と、溶剤除去装置の作動を制御する制御装置
とを備えている。このレジスト再生システムでは、制御
装置が、レジストの粘度が再使用可能な目標粘度になる
まで、レジストから溶剤成分を除去するように溶剤除去
装置を作動させる。
【０００９】このような構成によれば、回収したレジス
トから溶剤成分の一部分が除去され、回収したレジスト
の粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで増大する。
トから溶剤成分の一部分が除去され、回収したレジスト
の粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで増大する。
【００１０】この発明を実施するにあたって、再生容器
内のレジストの重量を測定する重量測定装置を設け、制
御装置が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤除
去装置を作動させる構成としてもよい。
内のレジストの重量を測定する重量測定装置を設け、制
御装置が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤除
去装置を作動させる構成としてもよい。
【００１１】このような構成によれば、レジストの重量
に基づいて、溶剤除去装置の作動が制御される。
に基づいて、溶剤除去装置の作動が制御される。
【００１２】この発明を実施するにあたって、制御装置
が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量とレジ
ストの目標粘度とに基づいて、溶剤成分除去後のレジス
トの目標重量を算出し、レジストの重量がこの目標重量
になるように溶剤除去装置を作動させる構成としてもよ
い。
が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重量とレジ
ストの目標粘度とに基づいて、溶剤成分除去後のレジス
トの目標重量を算出し、レジストの重量がこの目標重量
になるように溶剤除去装置を作動させる構成としてもよ
い。
【００１３】このような構成によれば、溶剤成分除去前
のレジストすなわち回収したレジストの粘度を入力すれ
ば、レジストが目標粘度になるまで、自動的に溶剤除去
が行われる。
のレジストすなわち回収したレジストの粘度を入力すれ
ば、レジストが目標粘度になるまで、自動的に溶剤除去
が行われる。
【００１４】この発明を実施するにあたって、溶剤除去
装置が、再生容器内のレジストを加熱する加熱装置を備
えている構成とするのがよい。
装置が、再生容器内のレジストを加熱する加熱装置を備
えている構成とするのがよい。
【００１５】このような構成によれば、加熱装置による
レジストの加熱により、溶剤除去が効率良く行われる。
レジストの加熱により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００１６】また、この発明を実施するあたって、溶剤
除去装置が、再生容器内のレジストを攪拌する攪拌装置
を備えている構成とするのがよい。
除去装置が、再生容器内のレジストを攪拌する攪拌装置
を備えている構成とするのがよい。
【００１７】このような構成によれば、攪拌装置による
レジストの攪拌により、溶剤除去が効率良く行われる。
レジストの攪拌により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００１８】さらに、この発明を実施するにあたって、
再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、再生チ
ャンバ内を排気する排気装置が設けられている構成とす
るのがよい。
再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、再生チ
ャンバ内を排気する排気装置が設けられている構成とす
るのがよい。
【００１９】このような構成によれば、レジストから溶
剤が効率良く除去される。また、排気装置により排気さ
れた再生チャンバ内のガスを適宜処理することにより、
溶剤ガスがレジスト再生システムを設置した空間内に充
満することがなくなる。
剤が効率良く除去される。また、排気装置により排気さ
れた再生チャンバ内のガスを適宜処理することにより、
溶剤ガスがレジスト再生システムを設置した空間内に充
満することがなくなる。
【００２０】この発明を実施するにあたって、再生チャ
ンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガス源を設けた構成と
してもよい。
ンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガス源を設けた構成と
してもよい。
【００２１】このような構成によれば、再生チャンバ内
が、窒素雰囲気となる。この結果、回収したレジスト
は、再生チャンバ内で、空気に接触することなく再生さ
せられる。このため、レジストへの水分混入が、抑制さ
れる。
が、窒素雰囲気となる。この結果、回収したレジスト
は、再生チャンバ内で、空気に接触することなく再生さ
せられる。このため、レジストへの水分混入が、抑制さ
れる。
【００２２】この発明を実施するにあたって、再生容器
内のレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置を備え、制
御装置が、溶剤供給装置の作動を制御する構成としても
よい。この構成では、制御装置が、溶剤除去装置により
溶剤成分が除去されたレジストが所定粘度になるまで、
レジストに溶剤を添加するように、溶剤供給装置を作動
させる。
内のレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置を備え、制
御装置が、溶剤供給装置の作動を制御する構成としても
よい。この構成では、制御装置が、溶剤除去装置により
溶剤成分が除去されたレジストが所定粘度になるまで、
レジストに溶剤を添加するように、溶剤供給装置を作動
させる。
【００２３】このような構成によれば、溶剤除去後のレ
ジストに対して、溶剤を添加することにより、レジスト
の粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度
調整がなされる。
ジストに対して、溶剤を添加することにより、レジスト
の粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度
調整がなされる。
【００２４】この発明を実施するにあたって、制御装置
が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤供給装置
の作動を制御する構成としてもよい。
が、重量測定装置の測定結果に基づいて、溶剤供給装置
の作動を制御する構成としてもよい。
【００２５】また、この発明を実施するにあたって、制
御装置が、溶剤成分の一部分が除去されたレジストの粘
度および重量と、溶剤添加後の目標粘度とに基づいて、
溶剤添加後のレジスト重量を算出し、レジストの重量が
溶剤添加後の目標重量になるように溶剤供給装置を作動
させるように構成してもよい。
御装置が、溶剤成分の一部分が除去されたレジストの粘
度および重量と、溶剤添加後の目標粘度とに基づいて、
溶剤添加後のレジスト重量を算出し、レジストの重量が
溶剤添加後の目標重量になるように溶剤供給装置を作動
させるように構成してもよい。
【００２６】このような構成によれば、溶剤成分の一部
分が除去されたレジストの粘度を入力すれば、レジスト
が所定の粘度になるまで、自動的に溶剤添加が行われ
る。
分が除去されたレジストの粘度を入力すれば、レジスト
が所定の粘度になるまで、自動的に溶剤添加が行われ
る。
【００２７】さらに、この出願の発明の他の態様によれ
ば、レジスト塗布装置から回収したレジストを再生容器
に収容し、再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発さ
せてレジストの粘度を再使用可能な目標粘度まで増大さ
せるレジスト再生方法が提供される。
ば、レジスト塗布装置から回収したレジストを再生容器
に収容し、再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発さ
せてレジストの粘度を再使用可能な目標粘度まで増大さ
せるレジスト再生方法が提供される。
【００２８】このような構成によれば、回収したレジス
トから溶剤成分の一部分が蒸発により除去され、回収し
たレジストの粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで
増大する。
トから溶剤成分の一部分が蒸発により除去され、回収し
たレジストの粘度が再使用可能な粘度（目標粘度）まで
増大する。
【００２９】この発明を実施するにあたり、溶剤成分の
蒸発を、再生容器内のレジストが目標重量になるまで行
う構成とするのがよい。
蒸発を、再生容器内のレジストが目標重量になるまで行
う構成とするのがよい。
【００３０】このような構成によれば、再生容器内のレ
ジストの重量に基づいて、溶剤供給装置の作動が制御さ
れる。
ジストの重量に基づいて、溶剤供給装置の作動が制御さ
れる。
【００３１】この発明を実施するにあたり、レジストの
目標重量が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重
量と、レジストの目標粘度とに基づいて算出される構成
としてもよい。
目標重量が、溶剤成分除去前のレジストの粘度および重
量と、レジストの目標粘度とに基づいて算出される構成
としてもよい。
【００３２】この発明を実施するにあたり、溶剤成分の
蒸発が、再生容器内のレジストを加熱しながら行なわれ
る構成としてもよい。
蒸発が、再生容器内のレジストを加熱しながら行なわれ
る構成としてもよい。
【００３３】このような構成によれば、レジストの加熱
により、溶剤除去が効率良く行われる。
により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００３４】この発明を実施するにあたり、溶剤成分の
蒸発が、再生容器内のレジストを攪拌しながら行なわれ
る構成としてもよい。
蒸発が、再生容器内のレジストを攪拌しながら行なわれ
る構成としてもよい。
【００３５】このような構成によれば、レジストの攪拌
により、溶剤除去が効率良く行われる。
により、溶剤除去が効率良く行われる。
【００３６】さらに、この発明を実施するにあたり、再
生容器が密閉された再生チャンバに収容され、溶剤成分
の蒸発が、再生チャンバ内に窒素ガスを供給しつつ、再
生チャンバ内を排気しながら行われる構成としてもよ
い。
生容器が密閉された再生チャンバに収容され、溶剤成分
の蒸発が、再生チャンバ内に窒素ガスを供給しつつ、再
生チャンバ内を排気しながら行われる構成としてもよ
い。
【００３７】このような構成によれば、レジストから溶
剤が効率良く除去される。また、再生チャンバ内が、窒
素雰囲気となるので、回収したレジストは、再生チャン
バ内で、空気に接触することなく再生される。このた
め、レジストへの水分混入が、抑制される。さらに、排
気された再生チャンバ内のガスを適宜処理することによ
り、溶剤ガスがレジスト再生を実施する空間内に充満す
ることがなくなる。
剤が効率良く除去される。また、再生チャンバ内が、窒
素雰囲気となるので、回収したレジストは、再生チャン
バ内で、空気に接触することなく再生される。このた
め、レジストへの水分混入が、抑制される。さらに、排
気された再生チャンバ内のガスを適宜処理することによ
り、溶剤ガスがレジスト再生を実施する空間内に充満す
ることがなくなる。
【００３８】この発明を実施するにあたって、粘度を増
大させたレジストに溶剤を添加する構成としてもよい。
大させたレジストに溶剤を添加する構成としてもよい。
【００３９】このような構成によれば、溶剤除去後のレ
ジストに対して、溶剤を添加することにより、レジスト
の粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度
調整がなされる。
ジストに対して、溶剤を添加することにより、レジスト
の粘度調整が、再度、行われるので、より高精度な粘度
調整がなされる。
【００４０】
【発明の実施の形態】以下、図面に沿って、この発明の
実施の形態を詳細に説明する。なお、各図は、この発明
を理解できる程度に、各構成要素の大きさ、形状および
配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。したがっ
て、この発明は、図面に示された実施の形態に限定され
るものではない。
実施の形態を詳細に説明する。なお、各図は、この発明
を理解できる程度に、各構成要素の大きさ、形状および
配置関係を概略的に示してあるに過ぎない。したがっ
て、この発明は、図面に示された実施の形態に限定され
るものではない。
【００４１】＜第１の実施の形態＞図１は、この発明の
第１の実施の形態のレジスト再生システム１００の構成
を概略的に示す図面である。
第１の実施の形態のレジスト再生システム１００の構成
を概略的に示す図面である。
【００４２】レジスト再生システム１００は、溶剤除去
装置を作動させることにより、廃液として回収したレジ
ストから溶剤成分の一部を蒸発させて、これを除去し、
レジストの粘度を増大（増粘）させ、回収したレジスト
を再使用可能にするシステムである。したがって、増粘
中に、レジストの重量は減少していく。レジスト再生シ
ステム１００では、レジストの重量をモニタしながら、
増粘を行い、レジストの重量が目標値（目標重量）まで
減少したとき、レジストが所望の粘度（目標粘度）まで
増粘されたと判定し、増粘を終了するように構成されて
いる。
装置を作動させることにより、廃液として回収したレジ
ストから溶剤成分の一部を蒸発させて、これを除去し、
レジストの粘度を増大（増粘）させ、回収したレジスト
を再使用可能にするシステムである。したがって、増粘
中に、レジストの重量は減少していく。レジスト再生シ
ステム１００では、レジストの重量をモニタしながら、
増粘を行い、レジストの重量が目標値（目標重量）まで
減少したとき、レジストが所望の粘度（目標粘度）まで
増粘されたと判定し、増粘を終了するように構成されて
いる。
【００４３】まず、レジスト再生システム１００の構成
を説明する。レジスト再生システム１００は、廃液とし
て回収したレジストを収容する回収容器１０と、回収し
たレジストの再生を行う再生容器１２と、再生したレジ
ストを収容する再生レジスト容器１４とを備えている。
回収容器１０は、図示しない別体のレジスト塗布装置か
ら回収したレジストを収容している。この回収したレジ
ストは、エッジリンス、バックリンスなどで希釈され、
その粘度が使用可能な粘度より小さくなっている。再生
容器１２は、密閉された再生チャンバ１６内に配置され
ている。
を説明する。レジスト再生システム１００は、廃液とし
て回収したレジストを収容する回収容器１０と、回収し
たレジストの再生を行う再生容器１２と、再生したレジ
ストを収容する再生レジスト容器１４とを備えている。
回収容器１０は、図示しない別体のレジスト塗布装置か
ら回収したレジストを収容している。この回収したレジ
ストは、エッジリンス、バックリンスなどで希釈され、
その粘度が使用可能な粘度より小さくなっている。再生
容器１２は、密閉された再生チャンバ１６内に配置され
ている。
【００４４】回収容器１０と、再生容器１２とは、管路
１８によって、接続されている。管路１８には、回収容
器１０側から順に、第１ポンプ２０と、第１フィルタ２
２とが、設けられている。したがって、レジスト再生シ
ステム１００は、回収容器１０内のレジストを、第１フ
ィルタ２２で濾過しながら、第１ポンプ２０によって再
生容器１２に移送できるように構成されている。
１８によって、接続されている。管路１８には、回収容
器１０側から順に、第１ポンプ２０と、第１フィルタ２
２とが、設けられている。したがって、レジスト再生シ
ステム１００は、回収容器１０内のレジストを、第１フ
ィルタ２２で濾過しながら、第１ポンプ２０によって再
生容器１２に移送できるように構成されている。
【００４５】再生容器１２は、再生チャンバ１６内で、
ウエイトセンサ２４上に配置されている。レジスト再生
システム１００は、ウエイトセンサ２４により、再生容
器１２内のレジストＲの重量を常にモニタするように構
成されている。
ウエイトセンサ２４上に配置されている。レジスト再生
システム１００は、ウエイトセンサ２４により、再生容
器１２内のレジストＲの重量を常にモニタするように構
成されている。
【００４６】再生容器１２に隣接して、加熱装置２６が
設けられている。レジスト再生システム１００は、加熱
装置２６により、再生容器１２内のレジストＲを、所定
温度まで加熱できるように構成されている。所定温度と
は、例えば、３０〜４０℃程度の温度である。好ましい
加熱装置２６としては、例えば、ホットプレート、恒温
槽などがある。加熱装置２６によるレジストの加熱で、
レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることにな
る。加熱装置２６は溶剤除去装置の一部を構成する。
設けられている。レジスト再生システム１００は、加熱
装置２６により、再生容器１２内のレジストＲを、所定
温度まで加熱できるように構成されている。所定温度と
は、例えば、３０〜４０℃程度の温度である。好ましい
加熱装置２６としては、例えば、ホットプレート、恒温
槽などがある。加熱装置２６によるレジストの加熱で、
レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることにな
る。加熱装置２６は溶剤除去装置の一部を構成する。
【００４７】さらに、レジスト再生システム１００に
は、再生容器１２内のレジストＲを攪拌する攪拌装置２
８が設けられている。攪拌装置２８は、レジストＲ内で
回転されるプロペラ状すなわちスクリュー状の攪拌部材
２８ａと攪拌部材２８ａを回転駆動させる駆動装置２８
ｂとを備えている。しかしながら、攪拌装置は他の構成
であってもよい。攪拌装置２８によるレジストの攪拌
で、レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることに
なる。攪拌装置２８は溶剤除去装置の一部を構成する。
は、再生容器１２内のレジストＲを攪拌する攪拌装置２
８が設けられている。攪拌装置２８は、レジストＲ内で
回転されるプロペラ状すなわちスクリュー状の攪拌部材
２８ａと攪拌部材２８ａを回転駆動させる駆動装置２８
ｂとを備えている。しかしながら、攪拌装置は他の構成
であってもよい。攪拌装置２８によるレジストの攪拌
で、レジストからの溶剤成分の蒸発が促進されることに
なる。攪拌装置２８は溶剤除去装置の一部を構成する。
【００４８】再生容器１２には、再生容器１２内のレジ
ストＲの温度を測定する温度測定装置３０が設けられて
いる。
ストＲの温度を測定する温度測定装置３０が設けられて
いる。
【００４９】再生容器１２と、再生レジスト容器１４と
は、管路３２によって、接続されている。管路３２に
は、再生容器１２側から順に、第２ポンプ３４と、第２
フィルタ３６と、冷却装置３８とが、設けられている。
このように、レジスト再生システム１００は、再生容器
１２内で再生されたレジストを、第２フィルタ３６で濾
過し、次いで、冷却装置３８で室温まで冷却しながら、
第２ポンプ３４によって再生レジスト容器１４に移送で
きるように構成されている。
は、管路３２によって、接続されている。管路３２に
は、再生容器１２側から順に、第２ポンプ３４と、第２
フィルタ３６と、冷却装置３８とが、設けられている。
このように、レジスト再生システム１００は、再生容器
１２内で再生されたレジストを、第２フィルタ３６で濾
過し、次いで、冷却装置３８で室温まで冷却しながら、
第２ポンプ３４によって再生レジスト容器１４に移送で
きるように構成されている。
【００５０】再生チャンバ１６には、排気装置４０が取
付けられている。排気装置４０は、排気ポンプなどの吸
引あるいは減圧装置であり、密閉された再生チャンバ１
６内の溶媒蒸気などの気体を再生チャンバ１６外に排出
する。この排気装置４０の作動により、再生容器１２内
のレジストＲからの溶剤の蒸発が促進されることにな
る。
付けられている。排気装置４０は、排気ポンプなどの吸
引あるいは減圧装置であり、密閉された再生チャンバ１
６内の溶媒蒸気などの気体を再生チャンバ１６外に排出
する。この排気装置４０の作動により、再生容器１２内
のレジストＲからの溶剤の蒸発が促進されることにな
る。
【００５１】さらに、再生チャンバ１６には、窒素ガス
源４１が接続されている。窒素ガス源４１は、再生チャ
ンバ１６内に窒素ガスを供給できるように構成されてい
る。したがって、窒素ガス源４１を作動させながら排気
装置４０を作動させることにより、再生チャンバ１６内
が、窒素ガスによりパージされることになる。この結
果、再生容器１２内のレジストの再生が、窒素雰囲気下
で行われる。
源４１が接続されている。窒素ガス源４１は、再生チャ
ンバ１６内に窒素ガスを供給できるように構成されてい
る。したがって、窒素ガス源４１を作動させながら排気
装置４０を作動させることにより、再生チャンバ１６内
が、窒素ガスによりパージされることになる。この結
果、再生容器１２内のレジストの再生が、窒素雰囲気下
で行われる。
【００５２】また、レジスト再生システム１００には、
システム全体の動作を制御する制御装置４２が設けられ
ている。
システム全体の動作を制御する制御装置４２が設けられ
ている。
【００５３】制御装置４２には、オペレータが制御装置
４２に必要な数値を入力する入力装置４４が接続されて
いる。制御装置４２は、第１ポンプ２０、第２ポンプ３
４、加熱装置２６、排気装置４０、窒素ガス源４１に接
続され、これらの作動を制御するように構成されてい
る。さらに、制御装置４２は、ウエイトセンサ２４によ
ってモニタされた再生容器１２内のレジストＲの重量、
および、温度測定装置３０によって測定された再生容器
１２内のレジストＲの温度が入力されるように構成され
ている。
４２に必要な数値を入力する入力装置４４が接続されて
いる。制御装置４２は、第１ポンプ２０、第２ポンプ３
４、加熱装置２６、排気装置４０、窒素ガス源４１に接
続され、これらの作動を制御するように構成されてい
る。さらに、制御装置４２は、ウエイトセンサ２４によ
ってモニタされた再生容器１２内のレジストＲの重量、
および、温度測定装置３０によって測定された再生容器
１２内のレジストＲの温度が入力されるように構成され
ている。
【００５４】制御装置４２は、再生容器１２に移送され
たレジストＲの粘度η１および重量Ｗ１と、増粘工程に
よって得たいレジストの粘度（目標粘度）η２とに基づ
いて、レジストの目標重量Ｗ２を算出して、増粘工程を
実行し、レジストの重量Ｗが目標重量Ｗ２になったと
き、レジストの粘度が目標粘度η２になったと判断し
て、増粘工程を停止するように構成されている。
たレジストＲの粘度η１および重量Ｗ１と、増粘工程に
よって得たいレジストの粘度（目標粘度）η２とに基づ
いて、レジストの目標重量Ｗ２を算出して、増粘工程を
実行し、レジストの重量Ｗが目標重量Ｗ２になったと
き、レジストの粘度が目標粘度η２になったと判断し
て、増粘工程を停止するように構成されている。
【００５５】図２は、制御装置４２の主要部の構成を示
すブロック図である。制御装置４２は、マイクロコンピ
ュータによって構成され、図２に示されるように、目標
重量算出部４２０と、メモリ４２２と、増粘制御部４２
４とを備えている。
すブロック図である。制御装置４２は、マイクロコンピ
ュータによって構成され、図２に示されるように、目標
重量算出部４２０と、メモリ４２２と、増粘制御部４２
４とを備えている。
【００５６】目標重量算出部４２０は、再生容器１２に
移送されたレジストＲの重量Ｗ１がウエイトセンサ２４
から入力され、また、再生容器１２に移送されたレジス
トＲの粘度η１およびレジスト再生システム１００によ
って得たいレジストの粘度（目標粘度）η２が、入力装
置４４を介して、入力されるように構成されている。さ
らに、目標重量算出部４２０は、レジストＲの重量Ｗ１
および粘度η１と、目標粘度η２とに基づいて、目標重
量Ｗ２を算出するように構成されている。
移送されたレジストＲの重量Ｗ１がウエイトセンサ２４
から入力され、また、再生容器１２に移送されたレジス
トＲの粘度η１およびレジスト再生システム１００によ
って得たいレジストの粘度（目標粘度）η２が、入力装
置４４を介して、入力されるように構成されている。さ
らに、目標重量算出部４２０は、レジストＲの重量Ｗ１
および粘度η１と、目標粘度η２とに基づいて、目標重
量Ｗ２を算出するように構成されている。
【００５７】メモリ４２２には、目標重量Ｗ２を算出す
るために必要なデータが記憶されている。
るために必要なデータが記憶されている。
【００５８】増粘制御部４２４は、入力装置４４からの
増粘実行指令に応答して、加熱装置２６、攪拌装置２８
などの溶剤除去装置を作動させる増粘実行信号を発し
て、増粘工程を開始させるように構成されている。さら
に、増粘制御部４２４は、現在の再生容器１２内のレジ
ストＲの重量Ｗと、目標重量Ｗ２とを比較し、ＷとＷ２
が等しくなったとき、再生容器１２内のレジストＲが、
目標粘度η２になったと判定し、加熱装置２６、攪拌装
置２８などの溶剤除去装置の作動を停止させ、増粘工程
を終了させるように構成されている。
増粘実行指令に応答して、加熱装置２６、攪拌装置２８
などの溶剤除去装置を作動させる増粘実行信号を発し
て、増粘工程を開始させるように構成されている。さら
に、増粘制御部４２４は、現在の再生容器１２内のレジ
ストＲの重量Ｗと、目標重量Ｗ２とを比較し、ＷとＷ２
が等しくなったとき、再生容器１２内のレジストＲが、
目標粘度η２になったと判定し、加熱装置２６、攪拌装
置２８などの溶剤除去装置の作動を停止させ、増粘工程
を終了させるように構成されている。
【００５９】次に、レジスト再生システム１００が実施
するレジスト再生の工程を説明する。まず、制御装置４
２が、第１ポンプ２０を作動させ、回収容器１０内のレ
ジストを、管路１８を通して再生容器１２に移送する。
回収容器１０内のレジストは、バックリンス、エッヂリ
ンスなどの洗浄液で希釈されて粘度が低下したレジスト
である。
するレジスト再生の工程を説明する。まず、制御装置４
２が、第１ポンプ２０を作動させ、回収容器１０内のレ
ジストを、管路１８を通して再生容器１２に移送する。
回収容器１０内のレジストは、バックリンス、エッヂリ
ンスなどの洗浄液で希釈されて粘度が低下したレジスト
である。
【００６０】レジスト再生システム１００では、制御装
置４２が、レジスト再生工程中、排気装置４０と窒素ガ
ス源４１を作動させて、再生チャンバ１６内を窒素ガス
でパージし、再生チャンバ１６内を、窒素雰囲気として
いる。
置４２が、レジスト再生工程中、排気装置４０と窒素ガ
ス源４１を作動させて、再生チャンバ１６内を窒素ガス
でパージし、再生チャンバ１６内を、窒素雰囲気として
いる。
【００６１】回収容器１０内のレジストは、再生容器１
２に移送される途中で、第１フィルタ２２によって、濾
過され、固形の不純物が除去される。なお、この実施の
形態では、レジストは、ポジ型のレジストとする。しか
しながら、この発明は、ネガ型のレジストにも適用可能
である。
２に移送される途中で、第１フィルタ２２によって、濾
過され、固形の不純物が除去される。なお、この実施の
形態では、レジストは、ポジ型のレジストとする。しか
しながら、この発明は、ネガ型のレジストにも適用可能
である。
【００６２】バックリンス、エッジリンスは、レジスト
の溶剤と同じ成分である。バックリンス、エッジリンス
およびレジストの溶剤は、例えば、ＥＣＡ（エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート）、ＥＬ（乳酸
エチル）、ＥＥＰ（エチル−３−エトキシプロピオネー
ト）、ＭＭＰ（メチル−３−メトキシプロピオネー
ト）、ＭＡＫ（メチルアミルケトン（２−ヘプタノ
ン））、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート）である。
の溶剤と同じ成分である。バックリンス、エッジリンス
およびレジストの溶剤は、例えば、ＥＣＡ（エチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート）、ＥＬ（乳酸
エチル）、ＥＥＰ（エチル−３−エトキシプロピオネー
ト）、ＭＭＰ（メチル−３−メトキシプロピオネー
ト）、ＭＡＫ（メチルアミルケトン（２−ヘプタノ
ン））、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート）である。
【００６３】次いで、増粘工程を実施する。この増粘工
程では、制御装置４２の制御により、再生容器１２内の
レジストＲを攪拌しながら加熱することによって、レジ
ストを希釈しているバックリンス、エッジリンス等の溶
剤成分を回収したレジストから蒸発させ、レジストの粘
度を再使用可能な粘度まで増大させる。
程では、制御装置４２の制御により、再生容器１２内の
レジストＲを攪拌しながら加熱することによって、レジ
ストを希釈しているバックリンス、エッジリンス等の溶
剤成分を回収したレジストから蒸発させ、レジストの粘
度を再使用可能な粘度まで増大させる。
【００６４】上述したように、この増粘工程では、再生
容器１２内のレジストＲの重量Ｗは減少していく。レジ
スト再生システム１００では、制御装置４２が再生容器
１２内のレジストＲの重量Ｗをモニタしながら、増粘工
程が実施され、レジストＲの重量Ｗが目標値Ｗ２まで減
少したとき、レジストＲが所望の粘度（目標粘度）η２
まで増粘されたと判定され、増粘工程が終了する。
容器１２内のレジストＲの重量Ｗは減少していく。レジ
スト再生システム１００では、制御装置４２が再生容器
１２内のレジストＲの重量Ｗをモニタしながら、増粘工
程が実施され、レジストＲの重量Ｗが目標値Ｗ２まで減
少したとき、レジストＲが所望の粘度（目標粘度）η２
まで増粘されたと判定され、増粘工程が終了する。
【００６５】次に、制御装置４２の制御によって行われ
る増粘工程の内容を、図３に沿って説明する。図３は、
増粘工程において制御装置４２が行う制御内容を示すフ
ローチャートである。
る増粘工程の内容を、図３に沿って説明する。図３は、
増粘工程において制御装置４２が行う制御内容を示すフ
ローチャートである。
【００６６】再生容器１２へのレジストの移送が完了す
ると、ウエイトセンサ２４から、再生容器１２内のレジ
ストＲの重量Ｗ１が、制御装置４２の目標重量算出部４
２０に入力される（Ｓ１）。次いで、オペレータによっ
て測定された再生容器１２内のレジストＲの粘度η１
（ｃｐ）と、レジストの目標粘度η２（ｃｐ）とが、入
力装置４４を介して目標重量算出部４２０に入力される
（Ｓ２）。
ると、ウエイトセンサ２４から、再生容器１２内のレジ
ストＲの重量Ｗ１が、制御装置４２の目標重量算出部４
２０に入力される（Ｓ１）。次いで、オペレータによっ
て測定された再生容器１２内のレジストＲの粘度η１
（ｃｐ）と、レジストの目標粘度η２（ｃｐ）とが、入
力装置４４を介して目標重量算出部４２０に入力される
（Ｓ２）。
【００６７】次いで、目標重量算出部４２０で、Ｗ１、
η１およびη２、さらに、メモリ４２２内のデータに基
づいて、目標重量Ｗ２が算出され（Ｓ３）、増粘制御部
４２４に送られる。目標重量Ｗ２は、増粘工程中に、再
生容器１２内のレジストＲからバックリンスなどの溶剤
成分が蒸発させられて、再生容器１２内のレジストＲの
粘度が目標粘度η２になった時の、レジストＲの重量で
ある。なお、目標重量Ｗ２の算出方法は後述する。再生
容器１２に移送されたレジストＲには、バックリンス等
が含まれているので、Ｗ１＞Ｗ２の関係が成立する。
η１およびη２、さらに、メモリ４２２内のデータに基
づいて、目標重量Ｗ２が算出され（Ｓ３）、増粘制御部
４２４に送られる。目標重量Ｗ２は、増粘工程中に、再
生容器１２内のレジストＲからバックリンスなどの溶剤
成分が蒸発させられて、再生容器１２内のレジストＲの
粘度が目標粘度η２になった時の、レジストＲの重量で
ある。なお、目標重量Ｗ２の算出方法は後述する。再生
容器１２に移送されたレジストＲには、バックリンス等
が含まれているので、Ｗ１＞Ｗ２の関係が成立する。
【００６８】入力装置４４を介して、増粘開始指令が入
力されると、増粘制御部４２４が、増粘実行信号を発し
て（Ｓ４）、加熱装置２６、攪拌装置２８などによって
構成される溶剤除去装置を作動させて、増粘工程が実行
される（Ｓ５）。増粘工程は、目標重量Ｗ２を目標値と
して、レジストＲの重量Ｗをモニタしながら行われる。
力されると、増粘制御部４２４が、増粘実行信号を発し
て（Ｓ４）、加熱装置２６、攪拌装置２８などによって
構成される溶剤除去装置を作動させて、増粘工程が実行
される（Ｓ５）。増粘工程は、目標重量Ｗ２を目標値と
して、レジストＲの重量Ｗをモニタしながら行われる。
【００６９】増粘工程中、再生容器１２内のレジストＲ
は、加熱装置２６と温度測定装置３０によって、例えば
３０℃〜４０℃の一定温度に維持されるとともに、攪拌
装置２８によって攪拌される。また、再生チャンバ１６
内には、窒素ガス源４１から窒素ガスが供給されるとと
もに、再生チャンバ１６内の気体は、排気装置４０によ
って、再生チャンバ１６外に排出されている。加熱装置
２６、攪拌装置２８、排気装置４０、窒素ガス源４１な
どの作動も制御装置４２によって制御されている。
は、加熱装置２６と温度測定装置３０によって、例えば
３０℃〜４０℃の一定温度に維持されるとともに、攪拌
装置２８によって攪拌される。また、再生チャンバ１６
内には、窒素ガス源４１から窒素ガスが供給されるとと
もに、再生チャンバ１６内の気体は、排気装置４０によ
って、再生チャンバ１６外に排出されている。加熱装置
２６、攪拌装置２８、排気装置４０、窒素ガス源４１な
どの作動も制御装置４２によって制御されている。
【００７０】増粘工程中、増粘制御部４２４は、ウエイ
トセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレジス
トＲの重量Ｗを、Ｗ２と比較している（Ｓ６）。上述し
たように、増粘工程中には、再生容器１２内のレジスト
Ｒは所定の温度に維持されつつ、攪拌される。したがっ
て、増粘工程中には、レジストを希釈していたバックリ
ンスなどの溶剤成分が蒸発していき、レジストは、その
粘度ηが上昇するとともに、重量Ｗが減少していく。Ｗ
がＷ２より大きい間は、増粘が継続される（Ｓ５）。レ
ジストＲの重量ＷがＷ２と等しくなったとき、増粘制御
部４２４は、再生容器１２内のレジストＲが、目標粘度
η２まで増粘されたと判定し、増粘工程を終了させる
（Ｓ７）。すなわち、加熱装置２６、攪拌装置２８など
の作動が停止させられる。
トセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレジス
トＲの重量Ｗを、Ｗ２と比較している（Ｓ６）。上述し
たように、増粘工程中には、再生容器１２内のレジスト
Ｒは所定の温度に維持されつつ、攪拌される。したがっ
て、増粘工程中には、レジストを希釈していたバックリ
ンスなどの溶剤成分が蒸発していき、レジストは、その
粘度ηが上昇するとともに、重量Ｗが減少していく。Ｗ
がＷ２より大きい間は、増粘が継続される（Ｓ５）。レ
ジストＲの重量ＷがＷ２と等しくなったとき、増粘制御
部４２４は、再生容器１２内のレジストＲが、目標粘度
η２まで増粘されたと判定し、増粘工程を終了させる
（Ｓ７）。すなわち、加熱装置２６、攪拌装置２８など
の作動が停止させられる。
【００７１】その後、第２ポンプ３４が作動させられ、
再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再
生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジス
トは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷
却装置３８によって室温まで冷却され増粘が完全に停止
させられる。全てのレジストが再生レジスト容器１４に
移送されると再生工程が終了する。
再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再
生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジス
トは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷
却装置３８によって室温まで冷却され増粘が完全に停止
させられる。全てのレジストが再生レジスト容器１４に
移送されると再生工程が終了する。
【００７２】レジスト再生システム１００では、レジス
トの目標重量Ｗ２の算出は、目標重量算出部４２０にお
いて、以下のように行われる。図４は、この算出に用い
られるレジストの粘度（縦軸）と重量（横軸）の関係を
示すグラフである。粘度の表示単位はｃｐであり、重量
の表示単位はＫｇである。
トの目標重量Ｗ２の算出は、目標重量算出部４２０にお
いて、以下のように行われる。図４は、この算出に用い
られるレジストの粘度（縦軸）と重量（横軸）の関係を
示すグラフである。粘度の表示単位はｃｐであり、重量
の表示単位はＫｇである。
【００７３】このグラフは、再生するレジストと同じ種
類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて作成され
たものである。すなわち、このグラフは、粘度の異なる
レジスト、例えば２ｃｐ、４ｃｐ、６ｃｐ、８ｃｐ、１
０ｃｐ、１２ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋ
ｇ）づつ用意し、それぞれを、加熱・攪拌しながら、粘
度および重量を測定し、粘度および重量の変化をプロッ
トしていった検量線（ａ）〜（ｆ）を示している。
類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて作成され
たものである。すなわち、このグラフは、粘度の異なる
レジスト、例えば２ｃｐ、４ｃｐ、６ｃｐ、８ｃｐ、１
０ｃｐ、１２ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋ
ｇ）づつ用意し、それぞれを、加熱・攪拌しながら、粘
度および重量を測定し、粘度および重量の変化をプロッ
トしていった検量線（ａ）〜（ｆ）を示している。
【００７４】レジスト再生システム１００では、このグ
ラフに対応するデータが、制御装置４２のメモリ４２２
にマップ（あるいはテーブル）として記憶させられてい
る。そして、レジストの粘度の初期値η１、目標粘度η
２および、重量の初期値Ｗ１が入力されると、目標重量
算出部４２０が、メモリ４２２に記憶されているこのグ
ラフの内容を参照して、目標重量Ｗ２が算出される。
ラフに対応するデータが、制御装置４２のメモリ４２２
にマップ（あるいはテーブル）として記憶させられてい
る。そして、レジストの粘度の初期値η１、目標粘度η
２および、重量の初期値Ｗ１が入力されると、目標重量
算出部４２０が、メモリ４２２に記憶されているこのグ
ラフの内容を参照して、目標重量Ｗ２が算出される。
【００７５】例えば、このグラフの検量線（ａ）によれ
ば、重量の初期値Ｗ１が１０Ｋｇ、粘度の初期値η１が
２ｃｐのレジストを、目標粘度η２である粘度６ｃｐま
で増粘させるためには、重量Ｗが６Ｋｇになるまでレジ
ストの増粘工程を続ければ良いことがわかる。このよう
にして、重量の初期値Ｗ１、粘度の初期値η１、およ
び、粘度の目標値η２に基づいて、目標重量Ｗ２が算出
される。また、重さの初期値Ｗ１が１０Ｋｇでない場合
は、適当な係数を乗ずることにより、目標重量Ｗ２を算
出することになる。
ば、重量の初期値Ｗ１が１０Ｋｇ、粘度の初期値η１が
２ｃｐのレジストを、目標粘度η２である粘度６ｃｐま
で増粘させるためには、重量Ｗが６Ｋｇになるまでレジ
ストの増粘工程を続ければ良いことがわかる。このよう
にして、重量の初期値Ｗ１、粘度の初期値η１、およ
び、粘度の目標値η２に基づいて、目標重量Ｗ２が算出
される。また、重さの初期値Ｗ１が１０Ｋｇでない場合
は、適当な係数を乗ずることにより、目標重量Ｗ２を算
出することになる。
【００７６】このように構成されたレジスト再生システ
ム１００によれば、再生容器１２に収容されたレジスト
Ｒの粘度η１を測定し、このη１と目標粘度η２を入力
するだけで、廃液として回収したレジストを所望の粘度
まで自動的に増粘することができる。
ム１００によれば、再生容器１２に収容されたレジスト
Ｒの粘度η１を測定し、このη１と目標粘度η２を入力
するだけで、廃液として回収したレジストを所望の粘度
まで自動的に増粘することができる。
【００７７】この発明は、上述のＷ２算出方法を使用す
るシステムに限定されるものではなく、他のＷ２算出方
法を採用してもよい。例えば、次のようなＷ２算出方法
を用いても良い。
るシステムに限定されるものではなく、他のＷ２算出方
法を採用してもよい。例えば、次のようなＷ２算出方法
を用いても良い。
【００７８】レジストの濃度ｘと粘度ｙ（ｃｐ）との関
係は、以下の近似式で表される。
係は、以下の近似式で表される。
【００７９】 ｙ＝Ａｅｘｐ（Ｂｘ） （ただし、ＡおよびＢは定数） したがって、再生容器１２内のレジストの粘度（初期
値）η１から、増粘工程前のレジストＲの濃度（初期濃
度）Ｃ１を算出できる。同様に、レジストが目標粘度η
２になった時（増粘工程後）のレジストの濃度（目標濃
度）Ｃ２も算出できる。
値）η１から、増粘工程前のレジストＲの濃度（初期濃
度）Ｃ１を算出できる。同様に、レジストが目標粘度η
２になった時（増粘工程後）のレジストの濃度（目標濃
度）Ｃ２も算出できる。
【００８０】レジストの濃度Ｃは、レジスト内にどれだ
けの固体成分が含まれているかを重量比で表したもので
あるから、Ｃ＝Ｗsolid ／Ｗ（Ｗsolid はレジスト内の
固体成分重量、Ｗはレジストの総重量）が成立する。
けの固体成分が含まれているかを重量比で表したもので
あるから、Ｃ＝Ｗsolid ／Ｗ（Ｗsolid はレジスト内の
固体成分重量、Ｗはレジストの総重量）が成立する。
【００８１】したがって、増粘工程前のレジストについ
て、Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１が、増粘工程後のレジスト
について、Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２が、成立する。ここ
で、Ｗ１solid は増粘工程前のレジスト内の固体成分重
量であり、Ｗ２solid は、増粘工程後のレジスト内の固
体成分重量である。増粘工程は、エッジリンス等の液体
成分（溶剤成分）をレジストから蒸発させる操作である
ため、増粘工程の前後でレジストに含まれる固体成分の
重量は変化しない。したがって、Ｗ１solid はＷ２
solid と等しい。そして、Ｃ１およびＣ２は、前記近似
式から算出され、Ｗ１は、ウエイトセンサなどで実測で
きる。
て、Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１が、増粘工程後のレジスト
について、Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２が、成立する。ここ
で、Ｗ１solid は増粘工程前のレジスト内の固体成分重
量であり、Ｗ２solid は、増粘工程後のレジスト内の固
体成分重量である。増粘工程は、エッジリンス等の液体
成分（溶剤成分）をレジストから蒸発させる操作である
ため、増粘工程の前後でレジストに含まれる固体成分の
重量は変化しない。したがって、Ｗ１solid はＷ２
solid と等しい。そして、Ｃ１およびＣ２は、前記近似
式から算出され、Ｗ１は、ウエイトセンサなどで実測で
きる。
【００８２】したがって、増粘工程前のレジストに関す
る式Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１から、Ｗ１solid を算出し
て、このＷ１solid の値を、増粘工程後のレジスト関す
る式Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２のＷ２solid に代入するこ
とで、目標重量Ｗ２を算出できる。
る式Ｃ１＝Ｗ１solid ／Ｗ１から、Ｗ１solid を算出し
て、このＷ１solid の値を、増粘工程後のレジスト関す
る式Ｃ２＝Ｗ２solid ／Ｗ２のＷ２solid に代入するこ
とで、目標重量Ｗ２を算出できる。
【００８３】この算出方法を採用する場合には、制御装
置４２のメモリ４２２に上記近似式を記憶させておく。
そして、目標重量算出部４２０が、入力されたＷ１、η
１およびη２と、メモリ４２２内の近似式を用いて、上
述した過程で目標重量Ｗ２を算出することになる。
置４２のメモリ４２２に上記近似式を記憶させておく。
そして、目標重量算出部４２０が、入力されたＷ１、η
１およびη２と、メモリ４２２内の近似式を用いて、上
述した過程で目標重量Ｗ２を算出することになる。
【００８４】この算出方法によれば、レジストの粘度の
初期値η１が、例えば２．３６という端数を含む値であ
ったとしても、正確かつ迅速に目標重量Ｗ２を算出でき
る。
初期値η１が、例えば２．３６という端数を含む値であ
ったとしても、正確かつ迅速に目標重量Ｗ２を算出でき
る。
【００８５】＜第２の実施の形態＞図５は、この発明の
第２の実施の形態のレジスト再生システム２００の構成
を示す概略図である。
第２の実施の形態のレジスト再生システム２００の構成
を示す概略図である。
【００８６】図５に示されるように、レジスト再生シス
テム２００は、基本的には、レジスト再生システム１０
０と同一の構成を有している。レジスト再生システム２
００は、レジスト再生システム１００の構成に加えて、
増粘したレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置５０を
備えている。そして、レジスト再生システム２００は、
レジスト再生システム１００で行われる増粘工程と同様
の増粘工程によって、レジストを所望粘度より高い粘度
まで増粘させた後、このレジストに溶剤を添加すること
により、所望粘度のレジストを得る調整工程を行うレジ
スト再生システムである。以下、この相違点を中心に、
レジスト再生システム２００の構成および動作を説明す
る。なお、レジスト再生システム１００と共通する構成
要素については、同一の符号を付し、その説明を省略す
る。
テム２００は、基本的には、レジスト再生システム１０
０と同一の構成を有している。レジスト再生システム２
００は、レジスト再生システム１００の構成に加えて、
増粘したレジストに溶剤を添加する溶剤供給装置５０を
備えている。そして、レジスト再生システム２００は、
レジスト再生システム１００で行われる増粘工程と同様
の増粘工程によって、レジストを所望粘度より高い粘度
まで増粘させた後、このレジストに溶剤を添加すること
により、所望粘度のレジストを得る調整工程を行うレジ
スト再生システムである。以下、この相違点を中心に、
レジスト再生システム２００の構成および動作を説明す
る。なお、レジスト再生システム１００と共通する構成
要素については、同一の符号を付し、その説明を省略す
る。
【００８７】レジスト再生システム２００は、レジスト
再生システム１００の構成に加えて、溶剤供給装置５０
を備えている。溶剤供給装置５０は、レジストの溶剤と
同一成分の有機溶剤を収容している溶剤タンクと、この
溶剤タンクに収容されている有機溶剤を管路５２を通し
て再生容器１２内のレジストＲに送り出すポンプとを含
んでいる。溶剤供給装置５０は、管路５２によって、再
生容器１２に機械的に接続されている。さらに、溶剤供
給装置５０は、レジスト再生システム２００のシステム
全体の動作を制御する制御装置２４２に電気的に接続さ
れ、制御装置２４２の制御によって、溶剤タンク内の有
機溶剤を再生容器１２内のレジストＲに添加するように
構成されている。有機溶剤の添加量は、制御装置２４２
によって、算出される。
再生システム１００の構成に加えて、溶剤供給装置５０
を備えている。溶剤供給装置５０は、レジストの溶剤と
同一成分の有機溶剤を収容している溶剤タンクと、この
溶剤タンクに収容されている有機溶剤を管路５２を通し
て再生容器１２内のレジストＲに送り出すポンプとを含
んでいる。溶剤供給装置５０は、管路５２によって、再
生容器１２に機械的に接続されている。さらに、溶剤供
給装置５０は、レジスト再生システム２００のシステム
全体の動作を制御する制御装置２４２に電気的に接続さ
れ、制御装置２４２の制御によって、溶剤タンク内の有
機溶剤を再生容器１２内のレジストＲに添加するように
構成されている。有機溶剤の添加量は、制御装置２４２
によって、算出される。
【００８８】図６は、制御装置２４２の主要部の構成を
示すブロック図である。図６に示されているように、制
御装置２４２は、レジスト再生システム１００の制御装
置４２と、ほぼ同一の構成を有している。制御装置２４
２が、構成上で、制御装置４２と異なる点は、溶剤供給
制御部２４４を備えている点などである。また、制御装
置２４２が、作用上で、制御装置４２と異なる点は、増
粘工程後のレジストの重量Ｗ３および粘度η３、目標粘
度η４に基づいて、有機溶剤の添加量ｗを算出し、溶剤
供給装置５０を作動させ、レジストの重量が、溶剤添加
後の目標重量であるＷ３＋ｗ（Ｗ４）になるまで、有機
溶剤をレジストに添加させる調整工程を実施させる点で
ある。以下、相違点を中心に、制御装置２４２の構成を
説明する。
示すブロック図である。図６に示されているように、制
御装置２４２は、レジスト再生システム１００の制御装
置４２と、ほぼ同一の構成を有している。制御装置２４
２が、構成上で、制御装置４２と異なる点は、溶剤供給
制御部２４４を備えている点などである。また、制御装
置２４２が、作用上で、制御装置４２と異なる点は、増
粘工程後のレジストの重量Ｗ３および粘度η３、目標粘
度η４に基づいて、有機溶剤の添加量ｗを算出し、溶剤
供給装置５０を作動させ、レジストの重量が、溶剤添加
後の目標重量であるＷ３＋ｗ（Ｗ４）になるまで、有機
溶剤をレジストに添加させる調整工程を実施させる点で
ある。以下、相違点を中心に、制御装置２４２の構成を
説明する。
【００８９】図６に示されるように、制御装置２４２
は、溶剤供給制御部２４４と、目標重量算出部２４６
と、メモリ２４８と、増粘制御部４２４を備えている。
制御装置２４２の目標重量算出部２４６、メモリ２４８
および増粘制御部４２４は、増粘工程に関しては、制御
装置４２の目標重量算出部４２０、メモリ４２２および
増粘制御部４２４と同様に機能するように構成されてい
る。
は、溶剤供給制御部２４４と、目標重量算出部２４６
と、メモリ２４８と、増粘制御部４２４を備えている。
制御装置２４２の目標重量算出部２４６、メモリ２４８
および増粘制御部４２４は、増粘工程に関しては、制御
装置４２の目標重量算出部４２０、メモリ４２２および
増粘制御部４２４と同様に機能するように構成されてい
る。
【００９０】目標重量算出部２４６は、目標重量算出部
４２０の機能に加えて、増粘工程後のレジストにどれだ
けの重量ｗの有機溶剤を添加すれば、レジストが所望の
粘度η４になるかを算出する機構を備えている。また、
メモリ２４８には、メモリ４２２の内容に加えて、有機
溶剤の添加量ｗを算出するために必要なデータが記憶さ
れている。さらに、溶剤供給制御部２４４は、入力装置
４４からの調整開始指令に応じて、溶剤供給信号を発し
て、溶剤供給装置５０に、レジストの重量がＷ３＋ｗす
なわち溶剤添加後の目標重量Ｗ４になるまで、有機溶剤
をレジストに添加させるように構成されている。
４２０の機能に加えて、増粘工程後のレジストにどれだ
けの重量ｗの有機溶剤を添加すれば、レジストが所望の
粘度η４になるかを算出する機構を備えている。また、
メモリ２４８には、メモリ４２２の内容に加えて、有機
溶剤の添加量ｗを算出するために必要なデータが記憶さ
れている。さらに、溶剤供給制御部２４４は、入力装置
４４からの調整開始指令に応じて、溶剤供給信号を発し
て、溶剤供給装置５０に、レジストの重量がＷ３＋ｗす
なわち溶剤添加後の目標重量Ｗ４になるまで、有機溶剤
をレジストに添加させるように構成されている。
【００９１】次に、レジスト再生システム２００を用い
たレジスト再生の工程を説明する。まず、レジスト再生
システム１００と同様に、廃液として回収されたレジス
トの増粘工程が実施される。ただし、レジスト再生シス
テム２００では、目標粘度η２は、レジストを再使用す
るために必要な粘度より大きく設定される。
たレジスト再生の工程を説明する。まず、レジスト再生
システム１００と同様に、廃液として回収されたレジス
トの増粘工程が実施される。ただし、レジスト再生シス
テム２００では、目標粘度η２は、レジストを再使用す
るために必要な粘度より大きく設定される。
【００９２】増粘工程が終了し、レジストの温度が室温
と同程度まで低下した後、レジストの調整工程が実施さ
れる。調整工程では、レジストは加熱されない。したが
って、調整工程中、レジストの温度は、室温程度であ
る。調整工程も制御装置２４２によって、制御される。
と同程度まで低下した後、レジストの調整工程が実施さ
れる。調整工程では、レジストは加熱されない。したが
って、調整工程中、レジストの温度は、室温程度であ
る。調整工程も制御装置２４２によって、制御される。
【００９３】制御装置２４２の制御によって行われる調
整工程の内容を、図７に沿って説明する。図７は、調整
工程において制御装置２４２が行う制御内容を示すフロ
ーチャートである。
整工程の内容を、図７に沿って説明する。図７は、調整
工程において制御装置２４２が行う制御内容を示すフロ
ーチャートである。
【００９４】増粘工程が終了し、レジストの温度が室温
と同程度まで低下すると、ウエイトセンサ２４から、再
生容器１２内のレジストＲの重量Ｗ３が、制御装置２４
２の目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２１）。次
いで、オペレータによって測定された再生容器１２内の
レジストＲの粘度η３（ｃｐ）と、調整工程におけるレ
ジストの目標粘度η４（ｃｐ）とが、入力装置４４を介
して目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２２）。こ
こで、Ｗ３、η３は、理論的には、増粘工程の目標重量
Ｗ２および目標粘度η２と等しいはずであるが、実際に
は、加熱装置２６停止後の余熱等の影響により、Ｗ２、
η２と異なっている。したがって、調整工程における制
御では、増粘工程が終了して室温まで温度が低下したレ
ジストの粘度η３および重量Ｗ３を、粘度、重量の初期
値として使用する。
と同程度まで低下すると、ウエイトセンサ２４から、再
生容器１２内のレジストＲの重量Ｗ３が、制御装置２４
２の目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２１）。次
いで、オペレータによって測定された再生容器１２内の
レジストＲの粘度η３（ｃｐ）と、調整工程におけるレ
ジストの目標粘度η４（ｃｐ）とが、入力装置４４を介
して目標重量算出部２４６に入力される（Ｓ２２）。こ
こで、Ｗ３、η３は、理論的には、増粘工程の目標重量
Ｗ２および目標粘度η２と等しいはずであるが、実際に
は、加熱装置２６停止後の余熱等の影響により、Ｗ２、
η２と異なっている。したがって、調整工程における制
御では、増粘工程が終了して室温まで温度が低下したレ
ジストの粘度η３および重量Ｗ３を、粘度、重量の初期
値として使用する。
【００９５】次いで、目標重量算出部２４６で、Ｗ３、
η３およびη４、さらに、メモリ２４８内のデータに基
づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出され（Ｓ２
３）、溶剤供給制御部２４４に送られる。この溶剤添加
後の目標重量Ｗ４は、調整工程中に、再生容器１２内の
レジストＲに重量ｗの有機溶剤が添加されて、再生容器
１２内のレジストＲの粘度が目標粘度η４になった時
の、レジストＲの重量すなわちＷ３＋ｗである。溶剤添
加後の目標重量Ｗ４の算出方法については後述する。
η３およびη４、さらに、メモリ２４８内のデータに基
づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出され（Ｓ２
３）、溶剤供給制御部２４４に送られる。この溶剤添加
後の目標重量Ｗ４は、調整工程中に、再生容器１２内の
レジストＲに重量ｗの有機溶剤が添加されて、再生容器
１２内のレジストＲの粘度が目標粘度η４になった時
の、レジストＲの重量すなわちＷ３＋ｗである。溶剤添
加後の目標重量Ｗ４の算出方法については後述する。
【００９６】入力装置４４を介して、調整開始指令が入
力されると、溶剤供給制御部２４４が、溶剤供給信号を
発して（Ｓ２４）、溶剤供給装置５０を作動させて、調
整工程が実行される（Ｓ２５）。調整工程は、溶剤添加
後の目標重量Ｗ４を目標値として、レジストＲの重量Ｗ
をモニタしながら行われる。
力されると、溶剤供給制御部２４４が、溶剤供給信号を
発して（Ｓ２４）、溶剤供給装置５０を作動させて、調
整工程が実行される（Ｓ２５）。調整工程は、溶剤添加
後の目標重量Ｗ４を目標値として、レジストＲの重量Ｗ
をモニタしながら行われる。
【００９７】調整工程中、溶剤供給制御部２４４は、ウ
エイトセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレ
ジストＲの重量Ｗを、Ｗ４と比較している（Ｓ２６）。
上述したように、調整工程中には、溶剤供給装置５０に
より、有機溶剤が再生容器１２内のレジストＲに添加さ
れるので、再生容器１２内のレジストＲは、その粘度η
が、徐々に、低下するとともに、その重量Ｗが増加して
いく。ＷがＷ４より小さい間は、溶剤供給が継続される
（Ｓ２５）。レジストＲの重量ＷがＷ４と等しくなった
とき、溶剤供給制御部２４４は、再生容器１２内のレジ
ストＲが、目標粘度η４まで希釈されたと判定し、調整
工程を終了させる。（Ｓ２７）。すなわち、溶剤供給装
置５０の作動が停止させられる。
エイトセンサ２４から送られてくる再生容器１２内のレ
ジストＲの重量Ｗを、Ｗ４と比較している（Ｓ２６）。
上述したように、調整工程中には、溶剤供給装置５０に
より、有機溶剤が再生容器１２内のレジストＲに添加さ
れるので、再生容器１２内のレジストＲは、その粘度η
が、徐々に、低下するとともに、その重量Ｗが増加して
いく。ＷがＷ４より小さい間は、溶剤供給が継続される
（Ｓ２５）。レジストＲの重量ＷがＷ４と等しくなった
とき、溶剤供給制御部２４４は、再生容器１２内のレジ
ストＲが、目標粘度η４まで希釈されたと判定し、調整
工程を終了させる。（Ｓ２７）。すなわち、溶剤供給装
置５０の作動が停止させられる。
【００９８】その後、第２ポンプ３４が作動させられ、
再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再
生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジス
トは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷
却装置３８によって完全に冷却される。全てのレジスト
が再生レジスト容器１４に移送されると再生工程が終了
する。なお、レジスト再生システム２００では、冷却装
置３８、あるいは、その作動を省略してもよい。
再生容器１２内のレジストＲは、管路３２を介して、再
生レジスト容器１４に移送される。この途中で、レジス
トは、第２フィルタ３６によって濾過され、さらに、冷
却装置３８によって完全に冷却される。全てのレジスト
が再生レジスト容器１４に移送されると再生工程が終了
する。なお、レジスト再生システム２００では、冷却装
置３８、あるいは、その作動を省略してもよい。
【００９９】レジスト再生システム２００では、レジス
トの溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出は、目標重量算出
部２４６において、以下のように行われる。図８は、こ
の算出に用いられるレジストの粘度（縦軸）と添加され
る有機溶剤の重量（横軸）の関係を示すグラフである。
粘度の表示単位をｃｐとし、重量の表示単位をｇとして
ある。
トの溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出は、目標重量算出
部２４６において、以下のように行われる。図８は、こ
の算出に用いられるレジストの粘度（縦軸）と添加され
る有機溶剤の重量（横軸）の関係を示すグラフである。
粘度の表示単位をｃｐとし、重量の表示単位をｇとして
ある。
【０１００】このグラフは、再生するレジストと同じ種
類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて、予め作
成されたものである。このグラフは、粘度の異なるレジ
スト、例えば５ｃｐ、６ｃｐ、７ｃｐ、８ｃｐ、９ｃ
ｐ、１０ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋｇ）
づつ用意し、それぞれに、有機溶剤を添加しながら、粘
度を測定し、添加された有機溶剤の重量と、レジストの
粘度の関係をプロットしていった検量線（ｇ）〜（ｌ）
を示している。
類のレジスト、溶剤を使用した実験に基づいて、予め作
成されたものである。このグラフは、粘度の異なるレジ
スト、例えば５ｃｐ、６ｃｐ、７ｃｐ、８ｃｐ、９ｃ
ｐ、１０ｃｐのレジストを、一定量（例えば１０Ｋｇ）
づつ用意し、それぞれに、有機溶剤を添加しながら、粘
度を測定し、添加された有機溶剤の重量と、レジストの
粘度の関係をプロットしていった検量線（ｇ）〜（ｌ）
を示している。
【０１０１】レジスト再生システム２００では、このグ
ラフに対応するデータが、制御装置２４２のメモリ２４
８にマップ（あるいはテーブル）として記憶されてい
る。そして、増粘工程後のレジストの粘度η３および重
量Ｗ３と、目標粘度η４とが入力されると、目標重量算
出部２４６が、メモリ２４８に記憶されている図８のグ
ラフの内容を参照して、添加すべき有機溶剤の重量ｗを
算出する。そして、Ｗ３にｗを加えて、調整工程におけ
るレジストの目標重量（溶剤添加後の目標重量）Ｗ４が
算出される。
ラフに対応するデータが、制御装置２４２のメモリ２４
８にマップ（あるいはテーブル）として記憶されてい
る。そして、増粘工程後のレジストの粘度η３および重
量Ｗ３と、目標粘度η４とが入力されると、目標重量算
出部２４６が、メモリ２４８に記憶されている図８のグ
ラフの内容を参照して、添加すべき有機溶剤の重量ｗを
算出する。そして、Ｗ３にｗを加えて、調整工程におけ
るレジストの目標重量（溶剤添加後の目標重量）Ｗ４が
算出される。
【０１０２】例えば、このグラフの検量線（ｊ）によれ
ば、重量Ｗ３が１０Ｋｇ、粘度η３が８ｃｐのレジスト
を、調整工程の目標粘度η４である粘度６ｃｐまで希釈
するためには、４００ｇの有機溶剤を添加すれば良いこ
とがわかる。したがって、添加する有機溶剤の重量ｗは
４００ｇであり、Ｗ４は、Ｗ３＋４００ｇと算出され
る。
ば、重量Ｗ３が１０Ｋｇ、粘度η３が８ｃｐのレジスト
を、調整工程の目標粘度η４である粘度６ｃｐまで希釈
するためには、４００ｇの有機溶剤を添加すれば良いこ
とがわかる。したがって、添加する有機溶剤の重量ｗは
４００ｇであり、Ｗ４は、Ｗ３＋４００ｇと算出され
る。
【０１０３】このようにして、調整工程における重量の
初期値Ｗ３、粘度の初期値η３、および、粘度の目標値
η４に基づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出され
る。また、重量の初期値Ｗ３が１０Ｋｇでない場合は、
適当な係数を乗ずることにより、溶剤添加後の目標重量
Ｗ４を算出することになる。
初期値Ｗ３、粘度の初期値η３、および、粘度の目標値
η４に基づいて、溶剤添加後の目標重量Ｗ４が算出され
る。また、重量の初期値Ｗ３が１０Ｋｇでない場合は、
適当な係数を乗ずることにより、溶剤添加後の目標重量
Ｗ４を算出することになる。
【０１０４】このように構成されたレジスト再生システ
ム２００によれば、増粘工程において、最終的な目標粘
度より粘度を高くしたレジストに、常温で、有機溶剤を
添加する調整工程が実施される。したがって、レジスト
の粘度の高精度な調整が可能となる。
ム２００によれば、増粘工程において、最終的な目標粘
度より粘度を高くしたレジストに、常温で、有機溶剤を
添加する調整工程が実施される。したがって、レジスト
の粘度の高精度な調整が可能となる。
【０１０５】レジスト再生システム２００においても、
溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出方法は、上述の算出方
法に限定されるものではなく、他の算出方法であっても
よい。
溶剤添加後の目標重量Ｗ４の算出方法は、上述の算出方
法に限定されるものではなく、他の算出方法であっても
よい。
【０１０６】この発明は、上記実施の形態に限定される
ものではなく、特許請求の範囲に記載された事項の範囲
内で種々の変更・変形が可能である。例えば、上記第１
および第２の実施の形態では、レジスト再生システムは
レジスト塗布装置と別体である。しかしながら、この発
明のレジスト再生システムは、レジスト塗布装置と一体
的に設けられたものであってもよい。
ものではなく、特許請求の範囲に記載された事項の範囲
内で種々の変更・変形が可能である。例えば、上記第１
および第２の実施の形態では、レジスト再生システムは
レジスト塗布装置と別体である。しかしながら、この発
明のレジスト再生システムは、レジスト塗布装置と一体
的に設けられたものであってもよい。
【０１０７】また、上記第１および第２の実施の形態で
は、レジスト再生システムの溶剤除去装置が加熱装置、
攪拌装置を備えている。しかしながら、この発明の溶剤
除去装置は、この構成に限定されるものではなく、レジ
ストから溶剤を蒸発させることができるものであれば、
どのような構成を備えていても良い。例えば、加熱装置
を備え、攪拌装置を備えていない構成であってもよい。
は、レジスト再生システムの溶剤除去装置が加熱装置、
攪拌装置を備えている。しかしながら、この発明の溶剤
除去装置は、この構成に限定されるものではなく、レジ
ストから溶剤を蒸発させることができるものであれば、
どのような構成を備えていても良い。例えば、加熱装置
を備え、攪拌装置を備えていない構成であってもよい。
【０１０８】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、レジ
ストの有効利用を図ることができる。
ストの有効利用を図ることができる。
【図１】この発明の第１の実施の形態のレジスト再生シ
ステムの構成を概略的に示す図面である。
ステムの構成を概略的に示す図面である。
【図２】第１の実施の形態のレジスト再生システムの制
御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
【図３】第１の実施の形態のレジスト再生システムの制
御装置が増粘工程において制御装置が行う制御内容を示
すフローチャートである。
御装置が増粘工程において制御装置が行う制御内容を示
すフローチャートである。
【図４】第１の実施の形態のレジスト再生システムにお
いて、レジストの目標重量の算出に用いられるレジスト
の粘度と重量の関係を示すグラフである。
いて、レジストの目標重量の算出に用いられるレジスト
の粘度と重量の関係を示すグラフである。
【図５】この発明の第２の実施の形態のレジスト再生シ
ステムの構成を示す概略図である。
ステムの構成を示す概略図である。
【図６】第２の実施の形態のレジスト再生システムの制
御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
御装置の主要部の構成を示すブロック図である。
【図７】第２の実施の形態のレジスト再生システムの制
御装置が調整工程において制御装置が行う制御内容を示
すフローチャートである。
御装置が調整工程において制御装置が行う制御内容を示
すフローチャートである。
【図８】第２の実施の形態のレジスト再生システムにお
いて、調整工程におけるレジストの目標重量の算出に用
いられる、レジストの粘度と有機溶剤の添加量の関係を
示すグラフである。
いて、調整工程におけるレジストの目標重量の算出に用
いられる、レジストの粘度と有機溶剤の添加量の関係を
示すグラフである。
１０：回収容器 １２：再生容器 １４：再生レジスト容器 １６：再生チャンバ １８：管路 ２０：第１ポンプ ２２：第１フィルタ ２４：ウエイトセンサ ２６：加熱装置 ２８：攪拌装置 ２８ａ：攪拌部材 ２８ｂ：駆動装置 ３０：温度測定装置 ３２：管路 ３４：第２ポンプ ３６：第２フィルタ ３８：冷却装置 ４０：排気装置 ４１：窒素ガス源 ４２：制御装置 ４４：入力装置 １００：レジスト再生システム ４２０：目標重量算出部 ４２２：メモリ ４２４：増粘制御部
Claims (17)
- 【請求項１】 レジスト塗布装置から回収したレジスト
を収容して再生する再生容器と、 該再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させて該溶
剤成分の一部分を除去する溶剤除去装置と、 前記溶剤除去装置の作動を制御する制御装置とを備え、 前記制御装置が、前記レジストの粘度が再使用可能な目
標粘度になるまで、該レジストから溶剤成分を除去する
ように前記溶剤除去装置を作動させることを特徴とする
レジスト再生システム。 - 【請求項２】 請求項１に記載のレジスト再生システム
において、 前記再生容器内のレジストの重量を測定する重量測定装
置を備え、 前記制御装置が、前記重量測定装置の測定結果に基づい
て、前記溶剤除去装置を作動させることを特徴とするレ
ジスト再生システム。 - 【請求項３】 請求項２に記載のレジスト再生システム
において、 前記制御装置が、溶剤成分除去前のレジストの粘度およ
び重量とレジストの目標粘度とに基づいて、溶剤成分除
去後のレジストの目標重量を算出し、前記レジストの重
量が前記目標重量になるように前記溶剤除去装置を作動
させることを特徴とするレジスト再生システム。 - 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれか１項
に記載のレジスト再生システムにおいて、 前記溶剤除去装置が、前記再生容器内のレジストを加熱
する加熱装置を備えていることを特徴とするレジスト再
生システム。 - 【請求項５】 請求項４に記載のレジスト再生システム
において、 前記溶剤除去装置が、前記再生容器内のレジストを攪拌
する攪拌装置を備えていることを特徴とするレジスト再
生システム。 - 【請求項６】 請求項１ないし請求項５のいずれか１項
に記載のレジスト再生システムにおいて、 前記再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、 前記再生チャンバ内を排気する排気装置を備えているこ
とを特徴とするレジスト再生システム。 - 【請求項７】 請求項６に記載のレジスト再生システム
において、 前記再生チャンバ内に窒素ガスを供給する窒素ガス源を
備えていることを特徴とするレジスト再生システム。 - 【請求項８】 請求項１ないし請求項７のいずれか１項
に記載のレジスト再生システムにおいて、 前記再生容器内のレジストに溶剤を添加する溶剤供給装
置を備え、 前記制御装置が、該溶剤供給装置の作動を制御し、 前記制御装置が、前記溶剤除去装置により溶剤成分が除
去されたレジストが所定粘度になるまで該レジストに溶
剤を添加するように、前記溶剤供給装置を作動させるこ
とを特徴とするレジスト再生システム。 - 【請求項９】 請求項８に記載のレジスト再生システム
において、 前記制御装置が、前記重量測定装置の測定結果に基づい
て、前記溶剤供給装置の作動を制御することを特徴とす
るレジスト再生システム。 - 【請求項１０】 請求項９に記載のレジスト再生システ
ムにおいて、 前記制御装置が、溶剤成分の一部分が除去されたレジス
トの粘度および重量と溶剤添加後の目標粘度とに基づい
て、溶剤添加後の目標重量を算出し、前記レジストの重
量が前記溶剤添加後の目標重量になるように前記溶剤供
給装置を作動させることを特徴とするレジスト再生シス
テム。 - 【請求項１１】 レジスト塗布装置から回収されたレジ
ストを再生するレジスト再生方法において、 レジスト塗布装置から回収したレジストを再生容器に収
容し、 前記再生容器内のレジストから溶剤成分を蒸発させてレ
ジストの粘度を再使用可能な目標粘度まで増大させるこ
とを特徴とするレジスト再生方法。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載のレジスト再生方法
において、 前記溶剤成分の蒸発が、前記再生容器内のレジストが目
標重量になるまで行われることを特徴とするレジスト再
生方法。 - 【請求項１３】 請求項１２に記載のレジスト再生方法
において、 前記目標重量が、溶剤成分除去前のレジストの粘度およ
び重量と前記目標粘度とに基づいて算出されることを特
徴とするレジスト再生方法。 - 【請求項１４】 請求項１３に記載のレジスト再生方法
において、 前記溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを加熱し
ながら行なわれることを特徴とするレジスト再生方法。 - 【請求項１５】 請求項１４に記載のレジスト再生方法
において、 前記溶剤成分の蒸発が、再生容器内のレジストを攪拌し
ながら行なわれることを特徴とするレジスト再生方法。 - 【請求項１６】 請求項１４または請求項１５に記載の
レジスト再生方法において、 前記再生容器が密閉された再生チャンバに収容され、 前記溶剤成分の蒸発が、前記再生チャンバ内に窒素ガス
を供給しつつ、前記再生チャンバ内を排気しながら行わ
れることを特徴とするレジスト再生方法。 - 【請求項１７】 請求項１１ないし請求項１６のいずれ
か１項に記載のレジスト再生方法において、 前記粘度を増大させたレジストに溶剤を添加することを
特徴とするレジスト再生方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4748798A JP3751435B2 (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | レジスト再生システムおよびレジスト再生方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11245226A true JPH11245226A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3751435B2 JP3751435B2 (ja) | 2006-03-01 |
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| JP4748798A Expired - Fee Related JP3751435B2 (ja) | 1998-02-27 | 1998-02-27 | レジスト再生システムおよびレジスト再生方法 |
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| JP (1) | JP3751435B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2001174983A (ja) * | 1999-11-12 | 2001-06-29 | Hyundai Electronics Ind Co Ltd | Ｔｉｐｓ工程用フォトレジスト組成物 |
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| CN100504602C (zh) | 2004-05-14 | 2009-06-24 | 财团法人工业技术研究院 | 监控再生光致抗蚀剂的方法、光致抗蚀剂再生工艺及系统 |
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-
1998
- 1998-02-27 JP JP4748798A patent/JP3751435B2/ja not_active Expired - Fee Related
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