JPH11246528A - 含窒素芳香族化合物およびその塩 - Google Patents

含窒素芳香族化合物およびその塩

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JPH11246528A
JPH11246528A JP34584398A JP34584398A JPH11246528A JP H11246528 A JPH11246528 A JP H11246528A JP 34584398 A JP34584398 A JP 34584398A JP 34584398 A JP34584398 A JP 34584398A JP H11246528 A JPH11246528 A JP H11246528A
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JP
Japan
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group
compound
aralkyl
substituent
alkyl
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Application number
JP34584398A
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English (en)
Inventor
Nobuhiro Kuboyama
信弘 久保山
Kazuya Koizumi
和也 小泉
Osamu Yamashita
修 山下
Osamu Wakabayashi
攻 若林
Kotaro Tomono
広太郎 伴野
Takashi Hattori
隆 服部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tomono Agrica Co Ltd
Original Assignee
Tomono Agrica Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】新規な化合物およびそれを有効成分として含有
する除草剤。 【解決手段】Het−A−(CR23n4 〔式中、”Het”はNを1〜3個有する芳香族環基を
示す。Aは、NR1、O、S、SOまたはSO2を表す。
1、R2及びR3はH、C1〜C6アルキル基、C 1〜C6
ハロアルキル基、C7〜C10アラルキル基等を示す。R4
は、フェニル基、ナフチル基、複素環基、フェノキシ
基、フェニルチオ基等を示し、nは1〜5を示す。〕で
表される化合物およびその塩。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な化合物およ
びその塩並びにそれらを有効成分として含有する除草剤
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、除草剤としては、例えば特開昭5
9−36666号公報、特開平1−175972号公報
および特開平1−250363号公報に記載されるアミ
ノピリミジン系誘導体、及び、国際公開WO97/20
825号に記載されるアミノトリアジン系誘導体が知ら
れている。
【0003】しかしながら、さらに優れた除草剤が求め
られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた除草
活性を有する化合物及びその塩を提供するものである。
【0005】また、本発明は、除草剤を提供するもので
ある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成すべく、新規の化合物について鋭意研究した結果、
一般式(I)で表されるアミノピリミジン系誘導体及び
一般式(II)で表される、アミノトリアジン系誘導体が
除草剤として、公知化合物よりも優れた除草活性を有す
ることを見出した。
【0007】本発明は、下記の化合物およびその塩並び
にそれらを有効成分として含有する除草剤を提供するも
のである。 項1. 一般式(I)
【0008】
【化5】Het−A−(CR23n4 〔式中、”Het”は一般式(A):
【0009】
【化6】
【0010】{式中、Y1はNまたはCR1aを示し、Y2
はNまたはCR2aを示し、Y3はNまたはCR3aを示す
(但し、Y1、Y2及びY3の1又は2がNを示す)。R
1a、R2 a及びR3aは、同一又は異なって、水素原子、C
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C
10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキル
基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6
ロアルコキシ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルア
ミノ基、ジアルキルアミノ基またはアルキルチオ基を示
す。
【0011】R、Rfは、それぞれ独立に、C1〜C6
ルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C10アラル
キル基、置換基を有するC7〜C10アラルキル基、ハロ
ゲン原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコ
キシ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、
ジアルキルアミノ基、アルキルチオ基、アシルアミノ
基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換されていても
よいカルバモイルアミノ基を示す。(但し、R、Rf、
1a、R2a及びR3aのうち、少なくとも1つはハロアル
キル基を示す。)}で表される基、または、一般式
(B)
【0012】
【化7】
【0013】{式中、R、Rfは、前記に定義した通り
である。} で表される基を示す。
【0014】Aは、NR1、O、S、SOまたはSO2
表す(R1は水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6
ハロアルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アル
キニル基、C7〜C10アラルキル基、置換基を有するC7
〜C10アラルキル基、アシル基、置換されていてもよい
カルバモイル基またはアルコキシカルボニル基を示
す。)。
【0015】R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7
10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキ
ル基を示す。
【0016】R4は、置換基を有していてもよいフェニ
ル基、置換基を有していてもよいナフチル基、複素環
基、置換基を有する複素環基、フェノキシ基、置換フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、置換フェニルチオ基を示
し、nは1〜5を示す。(但し、Y1=N、Y2=N、n
=1で、Rf=C1〜C6アルキル基、R=CF3、A=
NHを表すとき、R2=R3=Hを示す。
【0017】また、n=1で、R、Rfがアミノ基、モ
ノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アルコキシ
基またはアルキルチオ基を示すとき、AはNHではな
い。)〕で表される化合物およびその塩。 項2. 一般式(II)
【0018】
【化8】
【0019】〔式中、Rf、Rはそれぞれ独立に、C1
〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C10
アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキル
基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6
ロアルコキシ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルア
ミノ基、ジアルキルアミノ基、アルキルチオ基、アシル
アミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換されて
いてもよいカルバモイルアミノ基を示す。
【0020】Aは、NR1を表す(R1は、水素原子、C
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6
アルケニル基、C2〜C6アルキニル基、C7〜C10アラ
ルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキル基、ア
シル基、置換されていてもよいカルバモイル基またはア
ルコキシカルボニル基を示す)。
【0021】R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7
10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキ
ル基を示す。
【0022】R4は、置換基を有していてもよいフェニ
ル基、置換基を有していてもよいナフチル基、複素環
基、置換基を有する複素環基、フェノキシ基、置換フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、置換フェニルチオ基を示
し、nは1〜5を示す。(但し、R1が水素原子または
1〜C6アルキル基を表すとき、R4はC1〜C6ハロア
ルコキシ基を有するフェニル基、C1〜C6ハロアルコキ
シ基を有するナフチル基、C1〜C6ハロアルコキシ基を
有する複素環基、C1〜C6ハロアルコキシ基を有するフ
ェノキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基を有するフェニ
ルチオ基を示す。)〕で表される化合物およびその塩。 項3. RfがC1〜C6ハロアルキル基である項1に記
載の化合物およびその塩。 項4. RがC1〜C6ハロアルキル基である項1に記載
の化合物およびその塩。 項5. Rfがフッ素化アルキル基である項1に記載の
化合物およびその塩。 項6. Rがフッ素化アルキル基である項1に記載の化
合物およびその塩。 項7. Rfがトリフルオロメチル基である項1に記載
の化合物およびその塩。 項8. Rがトリフルオロメチル基である項1に記載の
化合物およびその塩。 項9. AがO、S、SOまたはSO2である項1に記
載の化合物およびその塩。 項10. AがNR1である項1に記載の化合物および
その塩。 項11. R4が、置換基を有していてもよいフェニル
基を示す項1記載の化合物及びその塩。 項12. 項1〜11のいずれかに記載の化合物及びそ
の塩を有効成分とする除草剤。 項13. 下記の反応式
【0023】
【化9】 Het-L + H-A-(CR2R3)nR4 → Het-A-(CR2R3)nR4 (C) (D) (I) 〔式中、Het、A、R2、R3、R4およびnは、前記
に定義した通りである。Lはハロゲン原子、アルキルチ
オ基、アルキルスルホンなどの脱離基を示す。〕に従
い、一般式(C)の化合物を一般式(D)の化合物を反
応させることを特徴とする、一般式(I)の化合物の製
造方法。 項14. 下記の反応式
【0024】
【化10】 Het-NH-(CR2R3)nR4 + アシル化試薬 → Het-NR1-(CR2R3)nR4 (E) (Ia) 〔式中、Het、R2、R3、R4およびnは、前記に定
義した通りである。R1はアシル基を示す〕 に従い、一般式(E)の化合物をアシル化試薬と触媒の
存在下に反応させることを特徴とする、一般式(Ia)
の化合物の製造方法。
【0025】
【発明の実施の形態】前記一般式(I)、(II)におい
て:Y1はNまたはCR1aを示し、Y2はNまたはCR2a
を示し、Y3はNまたはCR3aを示す(但し、Y1、Y2
及びY3は、1個又は2個がNを示す。)。
【0026】Y1、Y2及びY3の組合せとしては、例え
ば Y1=N、Y2=CR2a、Y3=CR3a; Y1=CR1a、Y2=N、Y3=CR3a; Y1=CR1a、Y2=CR2a、Y3=N; Y1=N、Y2=N、Y3=CR3a; Y1=N、Y2=CR2a、Y3=N; Y1=CR1a、Y2=N、Y3=N; が挙げられる。
【0027】R1a、R2a及びR3aは、同一又は異なっ
て、水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアル
キル基、C7〜C10アラルキル基、置換基を有するC7
10アラルキル基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ
基、C1〜C6ハロアルコキシ基、シアノ基、アミノ基、
モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基またはアル
キルチオ基を示す。
【0028】R1a、R2a及びR3aは、好ましくは水素原
子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C
1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基、ハロ
ゲン原子またはシアノ基を示す。
【0029】R、Rfは、それぞれ独立に水素原子、C
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C
10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキル
基、ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6
ロアルコキシ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルア
ミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アルキ
ルチオ基、アルコキシカルボニルアミノ基、置換されて
いてもよいカルバモイルアミノ基を示す〔(但し、n=
1のとき、R、Rfはともにアミノ基、モノアルキルア
ミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基およびア
ルキルチオ基ではない。)〕。好ましいR、Rfは、水
素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル
アミノ基、置換されていてもよいカルバモイルアミノ
基、アルキルチオ基、アルコキシ基である(但し、R、
Rf及びR’のうちの少なくとも1つはハロアルキル基
を示す)。
【0030】Aは、NR1、O、S、SOまたはSO2
表す(R1は、水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C
6ハロアルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6
ルキニル基、C7〜C10アラルキル基、置換基を有する
7〜C10アラルキル基、アシル基、カルバモイル基、
アルコキシカルボニル基を示す)。好ましいAは、NR
1である。R1は、好ましくは、C1〜C6アルキル基、C
2〜C6アルケニル基、C 2〜C6アルキニル基、アシル
基、カルバモイル基およびアルコキシカルボニル基であ
る。
【0031】R2及びR3は、それぞれ独立に水素原子、
1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7
10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラルキ
ル基を示す〔(但し、n=1のとき、R2及びR3はとも
に水素を示す。)〕。好ましいR2及びR3は、水素原
子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基であ
る。
【0032】R4は、置換基を有していてもよいフェニ
ル基、置換基を有していてもよいナフチル基、複素環
基、置換基を有する複素環基、フェノキシ基、置換フェ
ノキシ基、フェニルチオ基、置換フェニルチオ基を示
す。好ましいR4は、置換基を有していてもよいフェニ
ル基、置換基を有していてもよいナフチル基、複素環
基、置換基を有する複素環基、フェノキシ基、置換フェ
ノキシ基である。
【0033】上記各置換基において:C1〜C6アルキル
基としては、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロ
ピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどの直鎖または分
枝を有するアルキル基が挙げられる。
【0034】C1〜C6ハロアルキル基としては、モノフ
ルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチ
ル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、1,1
−ジフルオロエチル、1,2−ジフルオロエチル、2,
2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチ
ル、1,2,2−トリフルオロエチル、1,1,2−ト
リフルオロエチル、1,1,2,2−テトラフルオロエ
チル、1,3,3,3−テトラフルオロエチル、ペンタ
フルオロエチル、1−フルオロプロピル、2−フルオロ
プロピル、3−フルオロプロピル、1,1−ジフルオロ
プロピル、1,2−ジフルオロプロピル、1,3−ジフ
ルオロプロピル、2,2−ジフルオロプロピル、2,3
−ジフルオロプロピル、3,3−ジフルオロプロピル、
1,1,2−トリフルオロプロピル、1,1,3−トリ
フルオロプロピル、1,2,2−トリフルオロプロピ
ル、1,2,3−トリフルオロプロピル、1,3,3−
トリフルオロプロピル、3,3,3−トリフルオロプロ
ピル、2,2,3−トリフルオロプロピル、2,3,3
−トリフルオロプロピル、2,3,3,3−テトラフル
オロプロピル、2,2,3,3−テトラフルオロプロピ
ル、1,3,3,3−テトラフルオロプロピル、1,
2,3,3−テトラフルオロプロピル、1,2,2,3
−テトラフルオロプロピル、1,1,3,3−テトラフ
ルオロプロピル、1,1,2,3−テトラフルオロプロ
ピル、1,1,2,2−テトラフルオロプロピル、2,
2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル、1,2,
3,3,3−ペンタフルオロプロピル、1,2,2,
3,3−ペンタフルオロプロピル、1,1,3,3,3
−ペンタフルオロプロピル、1,1,2,3,3−ペン
タフルオロプロピル、1,1,2,2,3−ペンタフル
オロプロピル、1,2,2,3,3,3−ヘキサフルオ
ロプロピル、1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロ
プロピル、1,1,2,2,3,3−ヘキサフルオロプ
ロピル、ヘプタフルオロプロピル、1−フルオロプロパ
ン−2−イル、2−フルオロプロパン−2−イル、3−
フルオロプロパン−2−イル、1,1−ジフルオロプロ
パン−2−イル、1,2−ジフルオロプロパン−2−イ
ル、1,3−ジフルオロプロパン−2−イル、1,1,
1−トリフルオロプロパン−2−イル、1,1,2−ト
リフルオロプロパン−2−イル、1,2,3−トリフル
オロプロパン−2−イル、1,1,3−トリフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,1,2−テトラフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,2,3−テトラフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,1,3−テトラフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,2,2−テトラフルオロプ
ロパン−2−イル、1,1,1,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン−2−イル、1,1,1,3,3−ペンタフ
ルオロプロパン−2−イル、1,1,2,3,3−ペン
タフルオロプロパン−2−イル、1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパン−2−イル、1,1,1,
2,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−イル、ヘプ
タフルオロプロパン−2−イル、パーフルオロブチル、
パーフルオロペンチル、パーフルオロヘキシルなどの、
水素原子の少なくとも1個がハロゲン原子で置換された
1〜C6アルキル基が挙げられる。
【0035】C2〜C6アルケニル基としては、ビニル
基、アリル基、3−ブテニル基等が挙げられる。
【0036】C2〜C6アルキニル基としては、1−エチ
ニル基、2−プロピニル(プロパルギル)基、1−メチ
ル−2−プロピニル基等が挙げられる。
【0037】C7〜C10アラルキル基としては、2−フ
ェニルエチル、ベンジル、1−フェニルエチル、3−フ
ェニルプロピル等のアラルキル基が挙げられる。
【0038】ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【0039】C1〜C6アルコキシ基としては、メトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert
−ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの直
鎖または分枝を有するアルコキシ基が挙げられる。
【0040】C1〜C6ハロアルコキシ基としては、−O
−(C1〜C6ハロアルキル基)が挙げられる(C1〜C6
ハロアルキル基は、前記に同じ)。
【0041】モノアルキルアミノ基としては、前記のC
1〜C6アルキル基でモノ置換されたアミノ基が挙げられ
る。
【0042】ジアルキルアミノ基としては、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、ジイ
ソプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジペンチルアミ
ノ、ジヘキシルアミノ等の前記のC1〜C6アルキル基で
ジ置換されたアミノ基が挙げられる。
【0043】アシルアミノ基としては、ホルミルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニル
アミノ、ブチリルアミノなどの炭素数1〜8のアシルア
ミノ基が挙げられる。
【0044】アルキルチオ基としては、−S−(C1
6アルキル基)が挙げられる(C1〜C6アルキル基
は、前記に同じ)。
【0045】複素環基としては、ピペリジル、フリル、
チエニル、イミダゾリル、オキサゾリル、チアゾリル、
ピロリル、ピロリジニル、トリアゾリル、ベンズチアゾ
リル、ベンズイミダゾリル、オキサジアゾリル、チアジ
アゾリル、ベンズイミダゾリル、インドリル、ピラゾリ
ル、ピリダジニル、シノリニル、キノリニル、イソキノ
リニル、キノキサリニル、ピラジニル、ピリジル、ベン
ゾフリル、チエニル、ベンゾチエニル、テトラゾリル等
が挙げられる。
【0046】アシル基としては、ホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イゾブチリル、sec−ブチ
リル、tert−ブチリル、バレリル、イソバレリル、
ピバロイルなどの直鎖又は分枝を有する炭素数1〜6の
アシル基が挙げられる。
【0047】置換されていてもよいカルバモイル基とし
ては、CONH2、CONH(炭素数1〜6のアルキ
ル)、CON(炭素数1〜6のアルキル)2が挙げられ
る。
【0048】置換されていてもよいカルバモイルアミノ
基としては、−NHCONH2、−NHCONH(炭素
数1〜6のアルキル)、−NHCON(炭素数1〜6の
アルキル)2が挙げられる。
【0049】アルコキシカルボニル基としては、メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、n−ブトキシカ
ルボニル、イソブトキシカルボニル、sec−ブトキシ
カルボニル、tert−ブトキシカルボニル、ペンチル
オキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなどの直
鎖または分枝を有する炭素数2〜7のアルコキシカルボ
ニル基が挙げられる。
【0050】アルコキシカルボニルアミノ基としては、
メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミ
ノ、n−プロポキシカルボニルアミノ、イソプロポキシ
カルボニルアミノ、n−ブトキシカルボニルアミノ、イ
ソブトキシカルボニルアミノ、sec−ブトキシカルボ
ニルアミノ、tert−ブトキシカルボニルアミノ、ペ
ンチルオキシカルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボ
ニルアミノなどの直鎖または分枝を有する炭素数2〜7
のアルコキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
【0051】置換基を有する(フェニル基、複素環基、
7〜C10アラルキル基、ナフチル基、フェノキシ基、
フェニルチオ基)の置換基の数は、1〜5個、好ましく
は1〜3個、より好ましくは1〜2個、特に1個であ
る。該置換基としては、C1〜C6アルキル基、ハロゲン
原子、水酸基、C1〜C6アルコキシ基、ニトロ基、アミ
ノ基、アシルアミノ基、シアノ基、アシル基、C1〜C6
ハロアルキル基、C1〜C6アルキルスルホニルアミノ
基、C1〜C6アルキルスルホニルオキシ基、置換基(ハ
ロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基など)
を有していてもよいアラルキルオキシ基等が挙げられ
る。
【0052】上記置換基のうち、C1〜C6アルキル基、
ハロゲン原子、C1〜C6アルコキシ基、アシルアミノ
基、アシル基としては前記の通りである。C1〜C6アル
キルスルホニルアミノ基としては、−NHSO2−(C1
〜C6アルキル基)が挙げられ、C1〜C6アルキルスル
ホニルオキシ基としては、−O−SO2−(C1〜C6
ルキル基)が挙げられ(但し、C1〜C6アルキル基は前
記に同じ)、アラルキルオキシ基としてはベンジルオキ
シ基、フェネチルオキシ基が挙げられる。
【0053】一般式(I)で示される化合物は、R2
3が互いに異なる場合に不斉炭素を持ち得るが、これ
はRS法によって記載する。特記しない場合には混合物
であるか、不斉炭素が存在しないことを示す。光学異性
体が存在する場合、本発明は、R体、S体およびラセミ
混合物のいずれをも包含する。光学異性体の分離は、光
学活性な充填剤を使用したカラムクロマトグラフィー、
光学活性な酸性化合物との塩形成等の常法に従い行うこ
とができる。
【0054】本発明の化合物の塩としては、塩酸、硫
酸、臭化水素酸、ヨウ化水素酸、硝酸、過塩素酸などの
無機酸、パラトルエンスルホン酸、メタンスルホン酸な
どの有機酸との塩が挙げられるが、これらに限定されな
い。該塩は、常法に従い遊離塩基と酸を用いて製造され
る。
【0055】一般式(I)で示される化合物は、一般的
に、下記の反応式
【0056】
【化11】 Het-L + H-A-(CR2R3)nR4 → Het-A-(CR2R3)nR4 (C) (D) (I) 〔式中、L、Het、A、R2、R3、R4およびnは、
前記に定義した通りである。〕に従い、一般式(C)の
化合物を、必要に応じて塩基の存在下に一般式(D)の
化合物と反応させることにより得ることができる。
【0057】具体的には、含窒素芳香環に結合した適当
な脱離基を有する化合物(C)1モルに対し、化合物
(D)を1モル程度、塩基を使用する場合には、1モル
〜過剰量用い、溶媒の存在下又は非存在下に室温から1
00℃ないし溶媒の還流する温度で1〜24時間反応さ
せることにより、目的とする一般式(I)の化合物を得
る。塩基としては、金属ナトリウム、NaOMe、Na
OEt、NaO−tBuなどのナトリウムアルコキシ
ド、NaH、ブチルリチウム、水酸化ナトリウム、トリ
エチルアミン、ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ
る。
【0058】AがNR1(R1はアシル基)である本発明
の化合物(IA)は、下記の反応式
【0059】
【化12】 Het-NH-(CR2R3)nR4 + アシル化試薬 → Het-NR1-(CR2R3)nR4 (E) (IA) 〔式中、Het、R2、R3、R4およびnは、前記に定
義した通りである。R1はアシル基を示す〕 に従い、一般式(E)の化合物をアシル化試薬と触媒の
存在下あるいは非存在下に反応させることにより得るこ
とができる。アシル化試薬としては、R1−Cl、R1
Brなどのアシルハライド、R1−O−R1で表される酸
無水物、R1−O−(任意のアシル基)で表される混合
酸無水物及びR1−O−(任意のアルキル基)で表され
るエステル等が挙げられる。触媒としては、1〜数滴の
濃硫酸等の酸触媒、三フッ化ホウ素エーテル錯体等のル
イス酸触媒、ナトリウムアルコキシド、NaH、及びト
リエチルアミン、ジメチルアミノピリジン、DBU、D
BN等の有機塩基が挙げられる。
【0060】具体的には、化合物(E)1モルに対し、
アシル化試薬を1モルから過剰量加え、氷冷下から10
0℃程度の温度下に1〜24時間反応させることによ
り、一般式(IA)の化合物が得られる。
【0061】一般式(I)の化合物は、より具体的に
は、例えば下記反応工程式1〜4によって製造できる
が、これらの方法に限定されるものではない。<反応工
程式1>
【0062】
【化13】
【0063】[式中R、R2、R3、R4、Rf、A及び
nは前記に同じ。] β−ケトエステル化合物(1)をアミジン塩酸塩(2)
と溶媒中塩基の存在下に反応させて、ピリミジン誘導体
(3)を得る。反応は、化合物(1)1モルに対し、化
合物(2)を1モル程度、塩基を1モルから2モル程度
用い、室温から溶媒の還流する温度下に1〜24時間反
応させることにより有利に進行する。塩基としては、ナ
トリウムアルコキシド、水素化ナトリウム、水酸化ナト
リウム、炭酸カリウム等が挙げられる。溶媒としては、
メタノール、エタノールなどのアルコール、THF、ジ
エチルエーテルなどのエーテル類、DMF、DMSO等
が挙げられる。
【0064】次にピリミジン誘導体(3)をオキシ塩化
リンと塩基の存在下に反応させて、ハロゲン化合物
(4)を得る。反応は、希釈溶媒存在下あるいは無溶媒
でピリミジン誘導体(3)1モルに対しオキシ塩化リン
を1モルから過剰量、塩基を触媒量から過剰量使用し、
室温から溶媒の還流する程度の温度下に1〜24時間反
応させることにより有利に進行する。塩基としては、ピ
リジン、ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミンな
どが用いられる。
【0065】得られたハロゲン化合物(4)を、化合物
(5)と溶媒中塩基の存在下に反応させて、一般式(I
a)の化合物を得る。反応は、ハロゲン化合物(4)1
モルに対し、化合物(5)を1モルから2モル程度、塩
基を1モルから過剰量用い、室温から溶媒の還流する温
度下に1〜24時間反応させることにより有利に進行す
る。塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン、ナトリウムアルコキシド、水素
化ナトリウム、炭酸カリウム、DBU、DBNなどが用
いられる。溶媒としては、THF、ジエチルエーテルな
どのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化
水素、DMF、DMSO等が挙げられる。
【0066】化合物(1)および化合物2のRとRfを
交換した原料化合物(1c)及び化合物(2c)を用
い、上記と同様に反応させることで、化合物(3c)、
化合物(4c)を経由してRとRfを交換した一般式
(Ib)の化合物を得ることができる。 <反応工程式2>
【0067】
【化14】
【0068】[式中R、R2、R3、R4、Rf、A及び
nは前記に同じ。] β−ケトエステル化合物(11)を尿素(12)と溶媒
中反応させて、ピリミジン誘導体(13)を得る。反応
は、化合物(11)1モルに対し、化合物(12)を1
モル程度〜過剰量用い、室温から溶媒の還流する温度下
に1〜24時間反応させることにより有利に進行する。
溶媒としては、メタノール、エタノールなどのアルコー
ル、THF、ジエチルエーテルなどのエーテル類、DM
F、DMSO等が挙げられる。
【0069】次にピリミジン誘導体(13)をオキシ塩
化リンと塩基の存在下に反応させて、ハロゲン化合物
(14)を得る。反応は、ピリミジン誘導体(13)1
モルに対しオキシ塩化リンを触媒量から過剰量、塩基を
1モルから過剰量使用し、室温から100℃程度の温度
下に1〜24時間反応させることにより有利に進行す
る。塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミンなどが用いられる。
【0070】得られたハロゲン化合物(14)を、化合
物(5)と溶媒中塩基の存在下に反応させて、一般式
(Ic)の化合物を得る。反応は、ハロゲン化合物(1
4)1モルに対し、化合物(5)を1モルから2モル程
度、塩基を1モルから過剰量用い、室温から溶媒の還流
する温度下に1〜24時間反応させることにより有利に
進行する。塩基としては、ピリジン、ジメチルアミノピ
リジン、トリエチルアミン、ナトリウムアルコキシド、
水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムな
どが用いられる。溶媒としては、THF、ジエチルエー
テルなどのエーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香
族炭化水素、DMF、DMSO等が挙げられる。 <反応工程式3>
【0071】
【化15】
【0072】[式中、R2、R3、R4、R、Rf、A及
びnは前記に同じ。] スルフィド化合物(16)を酸化剤により酸化してスル
ホン(17)を得る。反応は、化合物(16)1モルに
対し、酸化剤を1当量から過剰量用い、室温から溶媒の
還流する温度下に1〜24時間反応させることにより有
利に進行する。溶媒としては、ジクロロメタン、クロロ
ホルムなどの塩素系溶媒、水、酢酸、DMF、DMSO
及びそれらの混合溶媒が挙げられる。酸化剤としては、
クロム酸−ピリジン、過酸化水素、重クロム酸カリウ
ム、過マンガン酸カリウム、m−クロロ過安息香酸など
の有機過酸等が挙げられる。
【0073】次にスルホン(17)をH−A(CR
23n4(18)と反応させることにより”Het”
が一般式(B)で表される一般式(I)の化合物を得
る。反応は、塩基の存在下或いは非存在下にスルホン
(17)1モルに対し化合物(18)を1〜2モル程度
用い室温から100℃程度の温度下に1〜24時間反応
させることにより有利に進行する。
【0074】スルフィド(16)に直接H−A(CR2
3n4(5)を反応させでも、”Het”が一般式
(B)で表される一般式(Id)の化合物を得る。該反
応の条件は、スルホン(17)とH−A(CR23n
4(5)との反応と同様である。
【0075】スルフィド(16)の合成は、Arch.Phar
m.(Weinheim, Ger.)(1989), 322(9),561-4)に従って合
成できる。 <反応工程式4>
【0076】
【化16】
【0077】[式中、R2、R3、R4、R、Rf、A及
びnは前記に同じ。] ハロゲン置換ピリジン誘導体(18)、(19)又は
(20)をH−A(CR 23n4(5)と反応させる
ことにより、”Het”が一般式(A)(但し、Y1
2及びY3のうちの1個が窒素原子である)で表される
一般式(Ie)、(If)、(Ig)の化合物を得る。
反応は、塩基の存在下或いは非存在下に化合物(1
8)、(19)または(20)1モルに対し化合物
(5)を1〜2モル程度用い室温から100℃程度の温
度下に1〜24時間反応させることにより有利に進行す
る。塩基としては、金属ナトリウム、NaOMe、Na
OEt、NaO−tBuなどのナトリウムアルコキシ
ド、NaH、ブチルリチウム、水酸化ナトリウム、トリ
エチルアミン、ジメチルアミノピリジンなどが挙げられ
る。溶媒としては、THF、ジエチルエーテルなどのエ
ーテル類、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素、
DMF、DMSO等が挙げられる。
【0078】本発明の化合物及び除草剤は、水田および
畑地に生育する発生前から生育期までの諸雑草を防除す
ることができる。例えば、ノビエ、ホタルイ、ミズガヤ
ツリ、コナギ、アゼナ、ミズハコベ、キカシグサ、マツ
バイ、ヘラオモダカ、ウリカワ等の水田雑草、メヒシ
バ、エノコログサ、オヒシバ、スズメノヒエ、スズメノ
テッポウ、ハコベ、タデ類、ヒユ類、イチビ、シロザ、
アメリカキンコジカ、オナモミ、ブタクサ、ナズナ、タ
ネツケバナ、センダングサ、ヤエムグラ、ソバカズラ等
の畑地諸雑草を防除できる。更に水田及び畑地のみなら
ず、果樹園、桑園、芝生、非農耕地においても使用する
ことができる。また本発明化合物(I)は人、家畜等に
対して無害であり、魚毒性も低いので安全性に優れ、残
留毒性の問題も無い。
【0079】本発明の除草剤は前記一般式(I)の新規
トリアジン誘導体およびその塩を有効成分として含有し
ている。本発明の前記化合物を除草剤として用いる場合
には、担体もしくは希釈剤、添加剤及び補助剤等と公知
の手法で混合して、通常農薬として用いられる製剤形
態、例えば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、水溶剤、フロア
ブル剤等の調製して使用される。また他の農薬、例えば
殺菌剤、殺虫剤殺ダニ剤、除草剤、植物成長調節剤等、
肥料及び土壌改良材等と混合又は併用して使用すること
ができる。特に他の除草剤と混合使用することにより使
用薬量を減少させ、また省力化をもたらすのみならず、
両薬剤の共力作用による殺草スペクトラムの拡大及び相
乗作用による一層高い効果も期待できる。
【0080】製剤に際して用いられる担体もしくは希釈
剤としては、例えばカオリナイト群、モンモリロナイト
群、あるいはポリゴロスカイト群で代表されるクレー
群、詳しくはパイロフィライト、アタパルジャイト、セ
ピオライト、カオリナイト、ベントナイト、バーミキュ
ライト、雲母、タルク等;石膏、炭酸カルシウム、ドロ
マイト、ケイソウ土、マグネシウム石灰、リン灰石、ゼ
オライト、無水珪酸、合成珪酸カルシウム等のその他無
機物質;大豆粉、タバコ粉、クルミ粉、小麦粉、木粉、
澱粉、結晶セルロース等の植物性有機物質;クマロン樹
脂、石油樹脂、アルキッド樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
アルキレングリコール、ケトン樹脂、エステルガム、コ
ーバルガム、ダンマルガム等の合成又は天然の高分子化
合物;カルナウバロウ、蜜蝋等のワックス類あるいは尿
素等が例示できる。
【0081】適当な液体担体としては、例えばケロシ
ン、鉱油、スピンドル油、ホワイトオイル等のパラフィ
ン系またはナフテン系の炭化水素;キシレン、エチルベ
ンゼン、クメン、メチルナフタリン等の芳香族炭化水
素;トリクロロエチレン、モノクロロベンゼン、オルト
クロロトルエン等の塩素化炭化水素;ジオキサン、テト
ラヒドロフラン等のエーテル類;アセトン、メチルエチ
ルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ア
セトフェノン、イソホロン等のケトン類;酢酸エチル、
酢酸アミル、エチレングリコールアセテート、ジエチレ
ングリコールアセテート、マレイン酸ジブチル、コハク
酸ジエチル等のエステル類;メタノール,n−ヘキサノ
ール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、シ
クロヘキサノール、ベンジルアルコール等のアルコール
類;エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレング
リコールエチルエーテル、ジエチレングリコールブチル
エーテル等のエーテルアルコール類;ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド等の極性溶媒あるいは水等
があげられる。
【0082】その他に本発明の化合物の乳化、分散、湿
潤、展着、拡展、結合、崩壊性調節、有効成分安定化、
流動性改良、防錆、凍結防止等の目的で界面活性剤その
他の補助剤を使用することもできる。
【0083】使用する界面活性剤の例としては、非イオ
ン性、陰イオン性、陽イオン性及び両性イオン性の何れ
も使用しうるが、通常は非イオン性およびまたは陰イオ
ン性のものが使用される。適当な非イオン系界面活性剤
としては、例えばラウリルアルコール、ステアリルアル
コール、オレイルアルコール等の高級アルコールにエチ
レンオキシドを重合付加させた化合物;イソオクチルフ
ェノール、ノニルフェノール等のアルキルフェノールに
エチレンオキシドを重合付加させた化合物;ブチルナフ
トール、オクチルナフトール等のアルキルナフトールに
エチレンオキシドを重合付加させた化合物;パルミチン
酸、ステアリン酸、オレイン酸等の高級脂肪酸にエチレ
ンオキシドを重合付加させた化合物;ソルビタン等の多
価アルコールの高級脂肪酸エステルおよびそれにエチレ
ンオキシドを重合付加させた化合物、エチレンオキシド
とプロピレンオキシドをブロック重合付加させた化合物
等があげられる。
【0084】適当な陰イオン性界面活性剤としては、例
えば、ラウリル硫酸ナトリウム、オレイルアルコール硫
酸エステルアミン塩等のアルキル硫酸エステル塩、スル
ホコハク酸ジオクチルエステルナトリウム、2−エチル
ヘキセンスルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸
塩、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナトリウム、メ
チレンビスナフタレンスルホン酸ナトリウム、リグニン
スルホン酸ナトリウム、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム等のアリールスルホン酸塩等があげられる。
【0085】さらに本発明の除草剤には、製剤の性状を
改善し除草効果を高める目的で、カゼイン、ゼラチン、
アルブミン、ニカワ、アルギン酸ソーダ、カルボキシメ
チルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシエチル
セルロース、ポリビニルアルコール等の高分子化合物や
他の補助剤を併用することもできる。
【0086】上記の担体及び種々の補助剤は製剤の剤
型、適用場面等を考慮して、目的に応じてそれぞれ単独
あるいは組み合わせて適宜使用される。
【0087】このようにして得られた各種剤型における
本発明化合物有効成分含有率は製剤型により種々変化す
るものであるが、通常0.1〜99重量%が適当であ
り、好ましくは1〜80重量%が最も適当である。
【0088】水和剤の場合は、例えば有効成分化合物を
通常25〜90%含有し、残部は固体担体、分散湿潤剤
であって必要に応じて保護コロイド剤、消泡剤等が加え
られる。
【0089】粒剤の場合は、例えば有効成分化合物通常
1〜35%含有し、残部は固体担体および界面活性剤等
である。有効成分化合物は固体担体と均一に混合されて
いるか、あるいは固体担体の表面に均一に固着または吸
着されており、粒径は約0.2乃至1.5mmである。
【0090】乳剤の場合は、例えば、有効成分化合物を
通常5〜30%含有しており、これに約5乃至20重量
%の乳化剤が含まれ、残部は液体担体であり、必要に応
じて、展着剤および防錆剤等が加えられる。
【0091】フロアブル剤の場合は、例えば有効成分化
合物を通常5〜50重量%含有しており、これに3乃至
10重量%の分散湿潤剤が含まれ、残部は必要に応じて
保護コロイド剤、防腐剤、消泡剤等が加えられる。
【0092】本発明のトリアジン誘導体は、前記一般式
(I)の化合物のまま、あるいは上述した様な任意の製
剤形態で除草剤として使用することができる。
【0093】本発明の化合物および除草剤は、水田及び
畑地等の農耕地並びに非農耕地に生育する発生前から生
育期までの諸雑草に施用できる。その施用量は一般式
(I)で表わされる化合物量(有効成分量)として1h
a当たり、1〜10000g程度、好ましくは10〜5
000g程度であり、更に好ましくは、雑草発生前施用
(土壌処理)では1ha当たり10〜2000g程度、
雑草発生後の施用(茎葉処理)では1ha当たり10〜
2000g程度である。またその施用量は、目的とする
雑草の種類、生育段階、施用場所、施用時期、天候等に
よって適宜に選択変更できる。
【0094】次に本発明を実施例を用いて具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0095】
【実施例】参考例1 2−アセチルアミノ−4−メチル−6−トリフルオロメ
チル−1,3,5−トリアジンの合成 2−アミノ−4−メチル−6−トリフルオロメチル−
1,3,5−トリアジン1.78g(0.01モル)と
無水酢酸5.10g(0.05モル)に濃硫酸を1滴加
えて3時間還流した。冷却後、氷水中にあけ50mlの
酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水素ナトリウム溶
液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾燥した
後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー(クロロホルム)で精製し、1.60g(73
%)の2−アセチルアミノ−4−メチル−6−トリフル
オロメチル−1,3,5−トリアジンを固体で得た。 参考例2 2−トリメチルアセチルアミノ−4−メチル−6−トリ
フルオロメチル−1,3,5−トリアジンの合成 2−アミノ−4−メチル−6−トリフルオロメチル−
1,3,5−トリアジン1.78g(0.01モル)と
無水ピバリン酸7.44g(0.04モル)に濃硫酸を
1滴加えて3時間150℃で攪拌した。冷却後、氷水中
にあけ50mlの酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水
素ナトリウム溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウ
ム上で乾燥した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(クロロホルム)で精製し、
1.30g(47%)の2−トリメチルアセチルアミノ
−4−メチル−6−トリフルオロメチル−1,3,5−
トリアジンを固体で得た。 参考例3 2−メチル−6−トリフルオロメチル−1H−ピリミジ
ン−4−オンの合成 エタノール(400ml)中のナトリウム(2.3g、
0.10mmol)の溶液を、4,4,4−トリフルオ
ロアセト酢酸エチル(18.4g、0.10mmol)
と混合し、15分間攪拌した。この溶液に、ナトリウム
エトキシド(5.4g、0.10mmol)を含有する
エタノール(200ml)中のアセトアミジン塩酸塩
(9.45g、0.10mmol)の混合物を添加し、
該反応混合物を20時間還流した。溶媒を蒸発させ、1
8gの黄色油を得た。この油を水にとり、2N HCl
でpH2に酸性化し、酢酸エチルに抽出し、硫酸ナトリ
ウムで乾燥し、蒸発させて11.2gの固体を得た。シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(ジクロロメタン:
メタノール=9:1)で精製し、標記化合物を9.50
g(収率53.3%)得た。 参考例4 4−クロロ−2−メチル−6−トリフルオロメチルピリ
ミジンの合成 2−メチル−6−トリフルオロメチル−1H−ピリミジ
ン−4−オン(2.00g、11.2mmol)をオキ
シ塩化リン(10ml)及びN,N−ジメチルアニリン
(2ml)と混合し、3時間還流した。暗色溶液を氷水
に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで蒸発乾
固して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、標記化合
物を1.30g(収率59.1%)得た。 参考例5 6−メチル−2−トリフルオロメチル−3H−ピリミジ
ン−4−オンの合成 エタノール(400ml)中のナトリウム(2.3g、
0.10mmol)の溶液を、アセト酢酸エチル(1
3.0g、0.10mmol)と混合し、15分間攪拌
した。この溶液に、ナトリウムエトキシド(5.4g、
0.10mmol)を含有するエタノール(200ml)
中のトリフルオロアセトアミジン塩酸塩(11.2g、
0.10mmol)の混合物を添加し、該反応混合物を
3時間還流した。溶媒を蒸発させ、18gの黄色油を得
た。この油を水にとり、2N HClでpH2に酸性化
し、酢酸エチルに抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、蒸
発させて11.0gの固体を得た。シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(ジクロロメタン:メタノール=9:
1)で精製し、標記化合物を5.7g(収率32.0
%)得た。 参考例6 4−クロロ−6−メチル−2−トリフルオロメチルピリ
ミジンの合成 6−メチル−2−トリフルオロメチル−3H−ピリミジ
ン−4−オン(2.00g、11.2mmol)をオキ
シ塩化リン(10ml)及びN,N−ジメチルアニリン
(2ml)と混合し、3時間還流した。暗色溶液を氷水
に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで蒸発乾
固して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、標記化合
物を1.92g(収率82.7%)得た。 参考例7 4−メチル−6−トリフルオロメチル−1H−ピリミジ
ン−2−オンの合成 1,1,1−トリフルオロアセチルアセトン(15.4
g、0.10mmol)を含むエタノール(30ml)
に、ウレア(6.01g、0.10mmol)を加え、
4時間還流した。溶媒を蒸発させ、水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層は硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下で濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(ジクロロメタン:メタノール=9:1)で精製
し、標記化合物を7.48g(収率42.0%)得た。 参考例8 2−クロロ−4−メチル−6−トリフルオロメチルピリ
ミジンの合成 4−メチル−6−トリフルオロメチル−1H−ピリミジ
ン−2−オン(2.00g、11.2mmol)をオキ
シ塩化リン(10ml)及びN,N−ジメチルアニリン
(2ml)と混合し、3時間還流した。暗色溶液を氷水
に注ぎ込み、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
で2回洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで蒸発乾
固して、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:酢酸エチル=9:1)で精製し、標記化合
物を1.54g(収率70.0%)得た。 実施例1 4−(4’−クロロベンジルアミノ)−2−メチル−6
−トリフルオロメチルピリミジンの合成 参考例4で得た4−クロロ−2−メチル−6−トリフル
オロメチルピリミジン(590mg、3.00mmo
l)をTHF(10ml)に溶解し、4−クロロベンジ
ルアミン(426mg、3.00mmol)とトリエチ
ルアミン(304mg、3.00mmol)を加え、室
温で8時間攪拌した。反応液に水を加え、ジクロロメタ
ンで抽出した。ジクロロメタン層は、硫酸ナトリウムで
乾燥し、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精
製し、標記化合物を582mg(収率64.3%)得
た。 実施例2〜5 実施例1と同様にして、Rがメチル、エチル、イソプロ
ピル、フェニルである化合物を合成した。実施例1〜5
の化合物の融点を以下の表1に示す。
【0096】
【表1】
【0097】実施例6〜11 実施例1で得た2−メチル−4−(4’−クロロベンジ
ルアミノ)−6−トリフルオロメチルピリミジンと、ギ
酸ナトリウムとアセチルクロライドから得られた混合酸
無水物、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸または
ピバロイルクロリド(各々過剰量)とをピリジン存在下
或いは非存在下、還流下に2〜10時間程度反応させ
て、目的とするアシル化合物を得た。得られたアシル誘
導体を表2に示す。
【0098】
【表2】
【0099】実施例12 水素化ナトリウム(72.0mg、3.00mmol)
を懸濁したテトラヒドロフラン(5ml)中に、テトラ
ヒドロフラン(5ml)に溶解した4−クロロベンジル
アルコール(428mg、3.00mmol)を加え、
室温で30分間攪拌した。その混合液に参考例4で得た
4−クロロ−2−メチル−6−トリフルオロメチルピリ
ミジン(590mg、3.00mmol)を加え室温で
8時間攪拌した。反応液に水を加え、ヘキサンで抽出し
た。ヘキサン層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧
下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:酢酸エチル=10:1)で精製し、2−
(4’−クロロベンジルオキシ)−4−メチル−6−ト
リフルオロメチルピリミジンを630mg(収率69.
4%)得た。得られた化合物を表3に示す。 実施例13〜14 4−クロロベンジルアルコールに代えて、2−または3
−クロロベンジルアルコールを用いる他は実施例12と
同様にして目的とする化合物を得た。得られた化合物を
表3に示す。
【0100】
【表3】
【0101】実施例15〜17 アセトアミジン塩酸塩に代えてホルムアミジン塩酸塩を
用いる他は、参考例3〜4と同様にして4−クロロ−6
−トリフルオロメチルピリミジンを合成した。
【0102】4−クロロ−6−トリフルオロメチルピリ
ミジンを4−Br−、2−Cl−、3−Cl−、3−C
3−または4−CF3−ベンジルアミンと実施例1と同
様の条件下に反応させることにより、下記表4に示す化
合物を合成した。
【0103】
【表4】
【0104】実施例20〜53 4−クロロベンジルアミンに代えて、各種置換ベンジル
アミンを用い、実施例1と同様にして、下記の化合物を
合成した。各化合物を表5、6に示す。
【0105】
【表5】
【0106】
【表6】
【0107】実施例54 4−クロロベンジルアミンに代えて、1−フェネチルア
ミン、(S)−1−フェネチルアミン及び(R)−1−
フェネチルアミンを用いた他は、実施例1と同様にし
て、2−メチル−4−(1−フェニルエチルアミノ)−
6−トリフルオロメチルピリミジンを合成した。得られ
た化合物を以下の表6に示す。実施例55〜594−ク
ロロベンジルアミンに代えて、2−フェネチルアミン、
3ーフェニル−1−メチルプロピルアミン、(2−ピリ
ジル)メチルアミン、(3−ピリジル)メチルアミンま
たは(4−ピリジル)メチルアミンを用いた他は、実施
例1と同様にして、表7に示す各種化合物を合成した。
各化合物を以下の表6に示す。
【0108】
【表7】
【0109】実施例62 2−(4’−クロロベンジルアミノ)−4−メチル−6
−トリフルオロメチル−ピリミジンの合成 参考例8で得た2−クロロ−4−メチル−6−トリフル
オロメチルピリミジン(590mg、3.00mmo
l)をTHF(10ml)に溶解し、4−クロロベンジ
ルアミン(426mg、3.00mmol)とトリエチ
ルアミン(304mg、3.00mmol)を加え、室
温で8時間攪拌した。反応液に水を加えジクロロメタン
で抽出した。ジクロロメタン層は硫酸ナトリウムで乾燥
し、減圧下で濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(ヘキサン:酢酸エチル=6:1)で精製
し、標記化合物を796mg(収率88.0%)を得
た。 実施例60、61、63〜78 2−クロロベンジルアミンに代えて、各種置換ベンジル
アミンを用いる他は、実施例62と同様にして、各種ピ
リミジン誘導体を合成した。得られた化合物を表8に示
す。
【0110】
【表8】
【0111】実施例79 2−クロロベンジルアミンに代えて、1−フェネチルア
ミン、(S)−1−フェネチルアミン及び(R)−1−
フェネチルアミンを用いた他は、実施例62と同様にし
て、4−トリフルオロメチル−6−メチル−2−(1−
フェネチルアミノ)−ピリミジンを合成した。得られた
化合物を以下の表9に示す。
【0112】
【表9】
【0113】実施例80 参考例4で得た4−クロロ−2−メチル−6−トリフル
オロメチルピリミジンに代えて、参考例6で得た4−ク
ロロ−6−メチル−2−トリフルオロメチルピリミジン
ンを用いる他は、実施例1と同様にして、6−メチル−
4−(4’−クロロベンジルアミノ)−2−トリフルオ
ロメチルピリミジンを合成した。結果を表10に示す。 実施例81〜82 4−クロロベンジルアミンに代えて、2−または3−ク
ロロベンジルアミンを用いる他は実施例80と同様にし
て、6−メチル−4−(2’−クロロベンジルアミノ)
−2−トリフルオロメチルピリミジンおよび6−メチル
−4−(3’−クロロベンジルアミノ)−2−トリフル
オロメチルピリミジンを得た。融点を表10に示す。
【0114】
【表10】
【0115】実施例83 2−(N−トリメチルアセチルベンジルアミノ)−4−
メチル−6−トリフルオロメチル−1,3,5−トリア
ジンの合成 参考例2で得た2−トリメチルアセチルアミノ−4−メ
チル−6−トリフルオロメチル−1,3,5−トリアジ
ン1.0g(0.0038モル)、ベンジルブロマイド
0.65g(0.0038モル)を5mlのDMSOに
溶解し、炭酸カリウム0.7gを加えて室温で17時間
攪拌した。残渣にベンゼン、水を加えて有機層を分離
し、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥して濃縮した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ベンゼン)
で精製すると、0.87g(65%)の2−(N−トリ
メチルアセチルベンジルアミノ)−4−メチル−6−ト
リフルオロメチル−1,3,5−トリアジンが得られ
た。結果を表11に示す。 実施例84 ベンジルブロマイドに代えて4−Cl−ベンジルブロマ
イドを用いた他は実施例83と同様にして2−(N−ト
リメチルアセチル−4’−クロロベンジルアミノ)−4
−メチル−6−トリフルオロメチル−1,3,5−トリ
アジンが得られた。結果を表11に示す。 実施例85 2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−トリフルオロ
メチル−1,3,5−トリアジン1.92g(0.00
5モル)を20mlのテトラヒドロフランに溶解し、室
温で攪拌しながら、ベンジルアミン0.60g(0.0
055モル)を添加し、さらに4時間攪拌を続けた。反
応溶液をロータリーエバポレーターで濃縮乾固し、残留
物をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー(ベンゼ
ン)で精製すると、目的とする2−ベンジルアミノ−4
−トリフルオロメチル−6−トリクロロメチル−1,
3,5−トリアジン1.80g(97%)を無色オイル
で得た。
【0116】これに無水酢酸5g、濃硫酸2滴を加え3
時間還流し、室温まで冷却後、ベンゼン、水を加えて有
機層を分離し、重曹水で洗浄した。乾燥、濃縮後、残留
物をシリカゲル・カラムクロマトグラフィー(ベンゼ
ン)で精製すると、2−(N−アセチルベンジルアミ
ノ)−4−トリフルオロメチル−6−トリクロロメチル
−1,3,5−トリアジンが1.90g(92%)得ら
れた。これをTHF20mlに溶解し、室温で攪拌しな
がらアンモニア水1mlを少しずつ加えた。30分間攪
拌を続けた後、反応溶液をロータリーエバポレーターで
濃縮乾固し、残留物をシリカゲル・カラムクロマトグラ
フィー(ジクロロメタン)で精製すると、目的とする2
−(N−アセチルベンジルアミノ)−4−トリフルオロ
メチル−6−アミノ−1,3,5−トリアジン0.7g
(49%)を結晶として得た。結果を表11に示す。 実施例86 2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5
−トリアジンを等モルのベンジルアミンと反応させて
4,6−ビス(トリクロロメチル)−2−ベンジルアミ
ノ−1,3,5−トリアジンを得る。次いで、これを過
剰量の無水酢酸と1滴の濃硫酸と反応させて目的とする
2−(N−アセチルベンジルアミノ)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジンを得
た。結果を表11に示す。 実施例87 実施例86で得た2−(N−アセチルベンジルアミノ)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−ト
リアジンを、エタノール中、等モル程度の濃アンモニア
水と反応させて、目的とする2−(N−アセチルベンジ
ルアミノ)−4−アミノ−6−トリクロロメチル−1,
3,5−トリアジンを得た。結果を表11に示す。 実施例88 実施例1において、4−クロロ−2−メチル−6−トリ
フルオロメチルピリミジンの代わりに4−クロロ−2−
エチル−6−トリフルオロメチルピリミジンを用い、2
−エチル−4−(4’−クロロベンジルアミノ)−6−
トリフルオロメチルピリミジンを得た。次いで、該ピリ
ミジン及び無水酢酸をピリジン溶媒中、還流下に2時間
程度反応させて、目的とするアシル化合物を得た。得ら
れたアシル誘導体の1H−NMRのデータを表11に示
す。 実施例89 実施例1において、4−クロロ−2−メチル−6−トリ
フルオロメチルピリミジンの代わりに4−クロロ−2−
イソプロピル−6−トリフルオロメチルピリミジンを用
いる他は、実施例88と同様にして目的とするアシル化
合物を得た。得られたアシル誘導体の1H−NMRのデ
ータを表11に示す。 実施例90 実施例62の化合物及び無水酢酸をピリジン溶媒中、還
流下に2時間程度反応させて、目的とするアシル化合物
を得た。得られたアシル誘導体の1H−NMRのデータ
を表11に示す。 実施例91 実施例2で得られたピリミジン誘導体を、アセチルクロ
ライドとギ酸ナトリウムから調製した混合酸無水物と4
時間加熱して、目的とするアシル化合物を得た。得られ
たアシル誘導体の1H−NMRのデータを表11に示
す。 実施例92 実施例3で得られたピリミジン誘導体を、アセチルクロ
ライドとギ酸ナトリウムから調製した混合酸無水物と加
熱還流して、目的とするアシル化合物を得た。得られた
アシル誘導体の1H−NMRのデータを表12に示す。 実施例93 実施例4で得られたピリミジン誘導体を、アセチルクロ
ライドとギ酸ナトリウムから調製した混合酸無水物と加
熱還流して、目的とするアシル化合物を得た。得られた
アシル誘導体の1H−NMRのデータを表12に示す。 実施例94 無水酢酸に代えて、アセチルクロライドとギ酸ナトリウ
ムから調製した混合酸無水物を用いる他は実施例90と
同様にして、目的とするアシル化合物を得た。得られた
アシル誘導体の融点を表12に示す。 実施例95 実施例1で得た化合物と無水クロロ酢酸を用いる他は実
施例90と同様にして、目的とするアシル化合物を得
た。得られたアシル誘導体の1H−NMRのデータを表
12に示す。 実施例96 無水酢酸に代えて、アセチルクロライドとギ酸ナトリウ
ムから調製した混合酸無水物を用い、ピリジン非存在下
で反応させる他は実施例90と同様にして、目的とする
アシル化合物オイルとして得た。 実施例97 無水酢酸に代えて、無水プロピオン酸を用いる他は実施
例90と同様にして、目的とするアシル化合物をオイル
として得た。 実施例98 参考例1に準じて得られた酢酸アミドとベンジルブロマ
イドとをDMSO中炭酸カリウム存在下に反応させて、
目的とするアシル化合物をオイルとして得た。 実施例99 無水酢酸に代えて、t-ブチルイソシアネートを用いる他
は実施例90と同様にして、目的とするアシル化合物を
得た。得られたアシル誘導体の融点を表12に示す。 実施例100 2−(N−アセチルベンジルアミノ)−4−メチル−6
−トリフルオロメチル−1,3,5−トリアジンの合成 参考例1で得た2−アセチルアミノ−4−メチル−6−
トリフルオロメチル−1,3,5−トリアジン220m
g(0.001モル)、ベンジルブロマイド171mg
(0.001モル)を5mlのDMFに溶解し、炭酸カ
リウム200mgを加えて室温で17時間攪拌した。減
圧下溶媒を留去し、残渣にベンゼン、水を加えて有機層
を分離し、水洗後無水硫酸ナトリウムで乾燥して濃縮し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ベン
ゼン)で精製すると、230mg(74%)の2−(N
−アセチルベンジルアミノ)−4−メチル−6−トリフ
ルオロメチル−1,3,5−トリアジンが得られた(オ
イル)。得られたアシル誘導体の1H−NMRのデータ
を表12に示す。 実施例101 2−(N−アセチル−3’,4’−ジフルオロベンジル
アミノ)−4−メチル−6−トリフルオロメチル−1,
3,5−トリアジンの合成 WO97/20825の記載に従い合成された2−
(3’,4’−ジフルオロベンジルアミノ)−4−メチ
ル−6−トリフルオロメチル−1,3,5−トリアジン
608mg(2mmol)と無水酢酸1.0gに濃硫酸
を1滴加えて3時間還流した。冷却後、氷水中にあけ5
0mlの酢酸エチルで抽出し、水、飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液、水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム上で乾
燥した後、減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー(ベンゼン)で精製し、484mg(7
0%)の標記化合物(オイル)を得た。得られたアシル
誘導体の1H−NMRのデータを表12に示す。
【0117】
【表11】
【0118】
【表12】
【0119】実施例102〜128 上記実施例の合成法に準じて、以下の化合物を合成し
た。結果を表13〜表21に示す。
【0120】
【表13】
【0121】
【表14】
【0122】
【表15】
【0123】
【表16】
【0124】
【表17】
【0125】
【表18】
【0126】
【表19】
【0127】
【表20】
【0128】
【表21】
【0129】実施例129−130
【0130】
【化17】
【0131】Arch. Pharm.(Weinheim, Ger.), 322(9) 5
61-564 (1989)に記載の方法によって合成した3−メチ
ルチオ−5−トリフルオロメチル−1,2,4−トリア
ジン(1.95g)とベンジルアミン(3.21g)と
を50mLのベンゼン中で24時間加熱還流した。溶媒
を留去した後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(ジクロロメタン)で精製し、2.33g(88
%)の化合物129(融点92−93℃)を得た。同様
な反応によって化合物130(融点104−106℃)
が得られた(85%)。 実施例131−210 実施例129−130の合成法に準じて、以下の化合物
を合成した。結果を表22〜32に示す。
【0132】
【表22】
【0133】
【表23】
【0134】
【表24】
【0135】
【表25】
【0136】
【表26】
【0137】
【表27】
【0138】
【表28】
【0139】
【表29】
【0140】
【表30】
【0141】
【表31】
【0142】
【表32】
【0143】本発明化合物の構造は、NMR、IR、元
素分析、融点等の各種物性データにより確認した。
【0144】次に本発明の化合物を用いた製剤例を示
す。
【0145】
【製剤例1】本発明化合物(I)10部、ナフタレンス
ルホン酸ホルマリン縮合物1部、ポリオキシエチレンア
ルキルフェノールエーテル0.5部、ホワイトカーボン
0.5部、およびケイソウ土88部をよく粉砕混合して
水和剤を得た。
【0146】以下に試験例を示し本発明化合物(I)の
有用性を示す。
【0147】
【試験例1】水田除草活性試験 OPS苗パック300g用(13×9×5cm)に水田
土壌をつめ、湛水して水田状態とした後、タイヌビエ、
コナギ、ホタルイ、キカシグサを播種した。
【0148】雑草播種1日後に所定用量の被験化合物を
ポットあたり5mlの水で希釈し、ピペットでポット水
面に滴下処理した。処理後、3週間温室内で管理し、除
草効果を調査し、以下の基準に従って評価した。
【0149】
【表33】 除草効果の評価基準(6段階) 評点 除草効果(%)無処理区に対する殺草率 0 0 1 0を越え20以下 2 20を越え40以下 3 40を越え60以下 4 60を越え80以下 5 80を越え100以下 結果を表34に示す。
【0150】
【試験例2】畑地除草活性試験(発生前処理) OPS苗パック300g用に畑土壌をつめ、イヌビエ、
メヒシバ、ハコベ、シロザを播種し覆土を行った。
【0151】その後、所定用量の被験化合物を1アール
あたり30リットルの水に希釈し、クロマト用ガラスス
プレーを用いて土壌表面に均一に散布した。以後、ガラ
ス温室で管理を行い、処理3週間後に除草効果を調査
し、試験例1の評価基準に従って評価した。
【0152】結果を表35に示す。
【0153】同様にイヌビエ、メヒシバ、シロザ、イヌ
タデ、イヌビユについての結果を表36に示す。
【0154】
【試験例3】畑地除草活性試験(発生後処理) 塩化ビニル製4号深鉢に畑土壌をつめ、イヌビエ、メヒ
シバ、ハコベ、シロザを播種し覆土を行ない、温室で育
成した。7日後(イヌビエ2葉期)に本発明化合物の所
定量を10リットル/アールの水に希釈し散布処理し
た。
【0155】以後ガラス温室で管理を行い、処理2週間
後に除草効果を調査し試験例1の評価基準に従って評価
した。
【0156】結果を表37に示す。
【0157】同様にイヌビエ、メヒシバ、シロザ、イヌ
タデについての結果を表38に示す。
【0158】
【表34】
【0159】
【表35】
【0160】
【表36】
【0161】
【表37】
【0162】
【表38】
【0163】上記表34から表38の結果より、本発明
の化合物が優れた除草活性を有することが示された。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07D 213/60 C07D 213/60 239/34 239/34 239/38 239/38 239/42 239/42 Z 239/48 239/48 251/16 251/16 C 251/18 251/18 B (72)発明者 若林 攻 神奈川県川崎市多摩区生田3−17−2 (72)発明者 伴野 広太郎 静岡県静岡市春日2丁目12−25 株式会社 トモノアグリカ内 (72)発明者 服部 隆 静岡県静岡市春日2丁目12−25 株式会社 トモノアグリカ内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式(I) 【化1】Het−A−(CR23n4 (I) 〔式中、”Het”は一般式(A): 【化2】 {式中、Y1はNまたはCR1aを示し、Y2はNまたはC
    2aを示し、Y3はNまたはCR3aを示す(但し、Y1
    2及びY3の1又は2がNを示す)。R1a、R2 a及びR
    3aは、同一又は異なって、水素原子、C1〜C6アルキル
    基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C10アラルキル
    基、置換基を有するC7〜C10アラルキル基、ハロゲン
    原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ
    基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジア
    ルキルアミノ基またはアルキルチオ基を示す。R、Rf
    は、それぞれ独立に、C1〜C6アルキル基、C1〜C6
    ロアルキル基、C7〜C10アラルキル基、置換基を有す
    るC7〜C10アラルキル基、ハロゲン原子、C1〜C6
    ルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ基、シアノ基、ア
    ミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、
    アルキルチオ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニ
    ルアミノ基、置換されていてもよいカルバモイルアミノ
    基を示す。(但し、R、Rf、R1a、R2a及びR3aのう
    ち、少なくとも1つはハロアルキル基を示す。)}で表
    される基、または、一般式(B) 【化3】 {式中、R、Rfは、前記に定義した通りである。} で表される基を示す。Aは、NR1、O、S、SOまた
    はSO2を表す(R1は水素原子、C1〜C6アルキル基、
    1〜C6ハロアルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2
    〜C6アルキニル基、C7〜C10アラルキル基、置換基を
    有するC7〜C10アラルキル基、アシル基、置換されて
    いてもよいカルバモイル基またはアルコキシカルボニル
    基を示す。)。R2及びR3は、それぞれ独立に水素原
    子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロアルキル基、C
    7〜C10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10アラル
    キル基を示す。R4は、置換基を有していてもよいフェ
    ニル基、置換基を有していてもよいナフチル基、複素環
    基、置換基を有する複素環基、フェノキシ基、置換フェ
    ノキシ基、フェニルチオ基、置換フェニルチオ基を示
    し、nは1〜5を示す。(但し、Y1=N、Y2=N、n
    =1で、Rf=C1〜C6アルキル基、R=CF3、A=
    NHを表すとき、R2=R3=Hを示す。また、n=1
    で、R、Rfがアミノ基、モノアルキルアミノ基、ジア
    ルキルアミノ基、アルコキシ基またはアルキルチオ基を
    示すとき、AはNHではない。)〕で表される化合物お
    よびその塩。
  2. 【請求項2】一般式(II) 【化4】 〔式中、Rf、Rはそれぞれ独立に、C1〜C6アルキル
    基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C10アラルキル
    基、置換基を有するC7〜C10アラルキル基、ハロゲン
    原子、C1〜C6アルコキシ基、C1〜C6ハロアルコキシ
    基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジア
    ルキルアミノ基、アルキルチオ基、アシルアミノ基、ア
    ルコキシカルボニルアミノ基、置換されていてもよいカ
    ルバモイルアミノ基を示す。Aは、NR1を表す(R
    1は、水素原子、C1〜C6アルキル基、C1〜C6ハロア
    ルキル基、C2〜C6アルケニル基、C2〜C6アルキニル
    基、C7〜C10アラルキル基、置換基を有するC7〜C10
    アラルキル基、アシル基、置換されていてもよいカルバ
    モイル基またはアルコキシカルボニル基を示す)。R2
    及びR3は、それぞれ独立に水素原子、C1〜C6アルキ
    ル基、C1〜C6ハロアルキル基、C7〜C10アラルキル
    基、置換基を有するC7〜C10アラルキル基を示す。R4
    は、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有
    していてもよいナフチル基、複素環基、置換基を有する
    複素環基、フェノキシ基、置換フェノキシ基、フェニル
    チオ基、置換フェニルチオ基を示し、nは1〜5を示
    す。(但し、R1が水素原子またはC1〜C6アルキル基
    を表すとき、R4はC1〜C6ハロアルコキシ基を有する
    フェニル基、C1〜C6ハロアルコキシ基を有するナフチ
    ル基、C1〜C6ハロアルコキシ基を有する複素環基、C
    1〜C6ハロアルコキシ基を有するフェノキシ基、C1
    6ハロアルコキシ基を有するフェニルチオ基を示
    す。)〕 で表される化合物およびその塩。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載の化合物又はその
    塩を有効成分とする除草剤。
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