JPH11246726A - 含フッ素重合体組成物および薄膜を得る方法 - Google Patents
含フッ素重合体組成物および薄膜を得る方法Info
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- JPH11246726A JPH11246726A JP10345792A JP34579298A JPH11246726A JP H11246726 A JPH11246726 A JP H11246726A JP 10345792 A JP10345792 A JP 10345792A JP 34579298 A JP34579298 A JP 34579298A JP H11246726 A JPH11246726 A JP H11246726A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】含フッ素環構造含有重合体を地球環境、特に地
球温暖化に対して影響の少ない溶媒を用いて可溶化す
る。 【解決手段】ポリ［パーフルオロ（ブテニルビニルエー
テル）］などの含フッ素環構造含有重合体を、Ｆ（ＣＦ
2 ）6 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 などの含フッ
素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成物。
球温暖化に対して影響の少ない溶媒を用いて可溶化す
る。 【解決手段】ポリ［パーフルオロ（ブテニルビニルエー
テル）］などの含フッ素環構造含有重合体を、Ｆ（ＣＦ
2 ）6 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 などの含フッ
素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は主鎖に含フッ素環構
造を有しかつ非晶質である含フッ素重合体を特定の含フ
ッ素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成物に関す
る。
造を有しかつ非晶質である含フッ素重合体を特定の含フ
ッ素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成物に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】ポリテトラフルオロエチレン、テトラフ
ルオロエチレン／パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）共重合体、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体に代表されるパーフルオロ重合体
は一般に耐熱性、耐薬品性が高く、屈折率や誘電率が小
さいという優れた特徴がある。しかし、これらの含フッ
素重合体は一般に溶媒に不溶である。
ルオロエチレン／パーフルオロ（アルキルビニルエーテ
ル）共重合体、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオ
ロプロピレン共重合体に代表されるパーフルオロ重合体
は一般に耐熱性、耐薬品性が高く、屈折率や誘電率が小
さいという優れた特徴がある。しかし、これらの含フッ
素重合体は一般に溶媒に不溶である。
【０００３】ＷＯ９６／２２３５６には非晶質のテトラ
フルオロエチレン共重合体をＣ5 Ｆ11ＯＣＨ3 、Ｃ5 Ｆ
11ＯＣ2 Ｈ5 、Ｃ8 Ｆ17ＯＣＨ3 などの溶媒に溶解また
は分散させてコーティング組成物とすることが記載され
ている。しかし、非晶質のテトラフルオロエチレン共重
合体をこれらの溶媒に溶解させた例が一切なく、非晶質
のテトラフルオロエチレン共重合体がこれらの溶媒に溶
解するかどうか不明である。
フルオロエチレン共重合体をＣ5 Ｆ11ＯＣＨ3 、Ｃ5 Ｆ
11ＯＣ2 Ｈ5 、Ｃ8 Ｆ17ＯＣＨ3 などの溶媒に溶解また
は分散させてコーティング組成物とすることが記載され
ている。しかし、非晶質のテトラフルオロエチレン共重
合体をこれらの溶媒に溶解させた例が一切なく、非晶質
のテトラフルオロエチレン共重合体がこれらの溶媒に溶
解するかどうか不明である。
【０００４】これに対して、特公平８−２２９２９など
に見られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フ
ッ素重合体は、その環構造の立体的な効果により重合体
の結晶化が阻害されるため非晶質である。この含フッ素
重合体はパーフルオロ重合体であっても、特定のパーフ
ルオロ溶媒、たとえばパーフルオロ（２−ブチルテトラ
ヒドロフラン）に溶解するため、この含フッ素重合体の
パーフルオロ溶媒溶液からピンホールのない含フッ素重
合体の薄膜を形成できるなどの利点がある。
に見られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フ
ッ素重合体は、その環構造の立体的な効果により重合体
の結晶化が阻害されるため非晶質である。この含フッ素
重合体はパーフルオロ重合体であっても、特定のパーフ
ルオロ溶媒、たとえばパーフルオロ（２−ブチルテトラ
ヒドロフラン）に溶解するため、この含フッ素重合体の
パーフルオロ溶媒溶液からピンホールのない含フッ素重
合体の薄膜を形成できるなどの利点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、地球環境保護意
識が高まり、特にオゾン層保護の観点から特定のフルオ
ロクロロカーボンの使用が禁止され、さらには地球温暖
化の観点から炭酸ガスやパーフルオロカーボン類の使用
および排出制限が望まれつつある。
識が高まり、特にオゾン層保護の観点から特定のフルオ
ロクロロカーボンの使用が禁止され、さらには地球温暖
化の観点から炭酸ガスやパーフルオロカーボン類の使用
および排出制限が望まれつつある。
【０００６】特にパーフルオロカーボン類などのパーフ
ルオロ化合物は、その強い赤外線吸収能と、大気中での
著しく長い寿命から、地球温暖化への寄与率がきわめて
高いといわれている。一例を挙げるとパーフルオロヘキ
サンの大気中での寿命の推算値は数百年〜数千年といわ
れている。このようなパーフルオロ化合物は長期にわた
り赤外線を吸収し、大地からの放射熱を蓄積するため、
地球温暖化への影響は大きいと考えられる。
ルオロ化合物は、その強い赤外線吸収能と、大気中での
著しく長い寿命から、地球温暖化への寄与率がきわめて
高いといわれている。一例を挙げるとパーフルオロヘキ
サンの大気中での寿命の推算値は数百年〜数千年といわ
れている。このようなパーフルオロ化合物は長期にわた
り赤外線を吸収し、大地からの放射熱を蓄積するため、
地球温暖化への影響は大きいと考えられる。
【０００７】本発明は、このような事情のもとで、地球
温暖化への寄与率が低い溶媒に「主鎖に含フッ素環構造
を有しかつ非晶質である含フッ素重合体」（以下、含フ
ッ素環構造含有重合体と略す）を溶解してなる含フッ素
重合体組成物を提供することを目的とする。
温暖化への寄与率が低い溶媒に「主鎖に含フッ素環構造
を有しかつ非晶質である含フッ素重合体」（以下、含フ
ッ素環構造含有重合体と略す）を溶解してなる含フッ素
重合体組成物を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、含フッ素環構
造含有重合体を、一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 （Ｒ1 はエーテ
ル結合を有してもよい炭素数５〜１２の直鎖状または分
岐状のポリフルオロアルキル基であり、Ｒ2 は炭素数１
〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基である。）で表
される含フッ素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成
物である。
造含有重合体を、一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 （Ｒ1 はエーテ
ル結合を有してもよい炭素数５〜１２の直鎖状または分
岐状のポリフルオロアルキル基であり、Ｒ2 は炭素数１
〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基である。）で表
される含フッ素溶媒に溶解してなる含フッ素重合体組成
物である。
【０００９】本発明における含フッ素溶媒は、一般式Ｒ
1 −Ｏ−Ｒ2 （Ｒ1 はエーテル結合を有してもよい炭素
数５〜１２の直鎖状または分岐状のポリフルオロアルキ
ル基であり、Ｒ2 は炭素数１〜５の直鎖状または分岐状
のアルキル基である。）で表される含フッ素溶媒であ
る。
1 −Ｏ−Ｒ2 （Ｒ1 はエーテル結合を有してもよい炭素
数５〜１２の直鎖状または分岐状のポリフルオロアルキ
ル基であり、Ｒ2 は炭素数１〜５の直鎖状または分岐状
のアルキル基である。）で表される含フッ素溶媒であ
る。
【００１０】Ｒ1 の炭素数が４以下であると含フッ素環
構造含有重合体を溶解し難く、Ｒ1の炭素数が１３以上
の場合は工業的に入手困難であるため、Ｒ1 の炭素数は
５〜１２の範囲から選定される。Ｒ1 の炭素数は、６〜
１０が好ましく、６〜７および９〜１０がより好まし
い。
構造含有重合体を溶解し難く、Ｒ1の炭素数が１３以上
の場合は工業的に入手困難であるため、Ｒ1 の炭素数は
５〜１２の範囲から選定される。Ｒ1 の炭素数は、６〜
１０が好ましく、６〜７および９〜１０がより好まし
い。
【００１１】ポリフルオロアルキル基とは、アルキル基
の水素原子の２個以上がフッ素原子に置換された基であ
り、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換
されたパーフルオロアルキル基、およびアルキル基の水
素原子の２個以上がフッ素原子に置換されかつアルキル
基の水素原子の１個以上がフッ素原子以外のハロゲン原
子に置換された基を含むものである。フッ素原子以外の
ハロゲン原子としては塩素原子が好ましい。
の水素原子の２個以上がフッ素原子に置換された基であ
り、アルキル基の水素原子のすべてがフッ素原子に置換
されたパーフルオロアルキル基、およびアルキル基の水
素原子の２個以上がフッ素原子に置換されかつアルキル
基の水素原子の１個以上がフッ素原子以外のハロゲン原
子に置換された基を含むものである。フッ素原子以外の
ハロゲン原子としては塩素原子が好ましい。
【００１２】ポリフルオロアルキル基としては、対応す
るアルキル基の水素原子の数にして６０％以上がフッ素
原子に置換された基が好ましく、より好ましくは８０％
以上である。さらに好ましいポリフルオロアルキル基は
パーフルオロアルキル基である。
るアルキル基の水素原子の数にして６０％以上がフッ素
原子に置換された基が好ましく、より好ましくは８０％
以上である。さらに好ましいポリフルオロアルキル基は
パーフルオロアルキル基である。
【００１３】Ｒ1 がエーテル結合を有する場合、エーテ
ル結合の数が多すぎると溶解性を阻害するため、Ｒ1 中
のエーテル結合は１〜３個が好ましく、１〜２個がより
好ましい。Ｒ2 の炭素数が６以上であると含フッ素環構
造含有重合体の溶解性を著しく阻害する。Ｒ2 の好まし
い例はメチル基またはエチル基である。
ル結合の数が多すぎると溶解性を阻害するため、Ｒ1 中
のエーテル結合は１〜３個が好ましく、１〜２個がより
好ましい。Ｒ2 の炭素数が６以上であると含フッ素環構
造含有重合体の溶解性を著しく阻害する。Ｒ2 の好まし
い例はメチル基またはエチル基である。
【００１４】含フッ素溶媒の分子量は、大きすぎると含
フッ素重合体組成物の粘度を上昇させるだけでなく、含
フッ素環構造含有重合体の溶解性も低下するため、１０
００以下が好ましい。また、含フッ素環構造含有重合体
の溶解性を高めるために含フッ素溶媒のフッ素含有量は
６０〜８０重量％が好ましい。好ましい含フッ素溶媒と
して、下記のものが例示できる。
フッ素重合体組成物の粘度を上昇させるだけでなく、含
フッ素環構造含有重合体の溶解性も低下するため、１０
００以下が好ましい。また、含フッ素環構造含有重合体
の溶解性を高めるために含フッ素溶媒のフッ素含有量は
６０〜８０重量％が好ましい。好ましい含フッ素溶媒と
して、下記のものが例示できる。
【００１５】
【化１】Ｆ（ＣＦ2 ）5 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）6 ＯＣ
Ｈ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ
3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ
3 、Ｈ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＯＣ
Ｈ3 ）ＣＦＣＦ2 ＣＦ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＦ（ＣＦ
3 ）ＣＦ2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＦ（ＣＦ3 ）
ＣＦ2 ＯＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）
8 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦＣＦ2 ＣＦ
2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）2 Ｏ（ＣＦ2 ）4 ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 。
Ｈ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ
3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ
3 、Ｈ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＯＣ
Ｈ3 ）ＣＦＣＦ2 ＣＦ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＦ（ＣＦ
3 ）ＣＦ2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＦ（ＣＦ3 ）
ＣＦ2 ＯＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）
8 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ3 、（ＣＦ3 ）2 ＣＦＣＦ2 ＣＦ
2 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）2 Ｏ（ＣＦ2 ）4 ＯＣＨ2 Ｃ
Ｈ3 。
【００１６】本発明における含フッ素溶媒の大気中での
推定寿命の一例を挙げると、Ｆ（ＣＦ2 ）5 ＯＣＨ3 お
よびＦ（ＣＦ2 ）5 ＯＣＨ2 ＣＨ3 の場合で約１〜５年
である。本発明における含フッ素溶媒としては、Ｆ（Ｃ
Ｆ2 ）6 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ
2 ）8 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3 およびＦ（Ｃ
Ｆ2 ）10ＯＣＨ3 が好ましく、Ｆ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ
3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3
およびＦ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ3 が特に好ましい。
推定寿命の一例を挙げると、Ｆ（ＣＦ2 ）5 ＯＣＨ3 お
よびＦ（ＣＦ2 ）5 ＯＣＨ2 ＣＨ3 の場合で約１〜５年
である。本発明における含フッ素溶媒としては、Ｆ（Ｃ
Ｆ2 ）6 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ
2 ）8 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3 およびＦ（Ｃ
Ｆ2 ）10ＯＣＨ3 が好ましく、Ｆ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ
3 、Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3
およびＦ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ3 が特に好ましい。
【００１７】本発明における含フッ素溶媒としては、前
述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒を１
種単独で用いてもよく、適宜２種以上を併用してもよ
い。また、前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フ
ッ素溶媒と他の溶媒との混合溶媒であってもよい。この
場合の他の溶媒としては単独では含フッ素環構造含有重
合体を溶解しえない溶媒も使用できる。
述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒を１
種単独で用いてもよく、適宜２種以上を併用してもよ
い。また、前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フ
ッ素溶媒と他の溶媒との混合溶媒であってもよい。この
場合の他の溶媒としては単独では含フッ素環構造含有重
合体を溶解しえない溶媒も使用できる。
【００１８】他の溶媒として、たとえばＦ（ＣＦ2 ）4
ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）4 ＯＣ2 Ｈ5 などの本発明にお
ける含フッ素溶媒以外の含フッ素エーテル類、ヘキサン
などの炭化水素類、クロロホルムなどのヒドロクロロカ
ーボン類、ジクロロペンタフルオロプロパンなどのヒド
ロクロロフルオロカーボン類、メタキシレンヘキサフル
オリド、ベンゾトリフルオリドなどの含フッ素芳香族炭
化水素類、メタノール、エタノール、（パーフルオロヘ
キシル）エタノール、ペンタフルオロプロパノールなど
のアルコール類が併用できる。これら他の溶媒の混合割
合は含フッ素環構造含有重合体の濃度によって適宜選定
されるが、含フッ素溶媒１００重量部に対して０．１〜
５０重量部が好ましく、１〜３０重量部がより好まし
い。
ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）4 ＯＣ2 Ｈ5 などの本発明にお
ける含フッ素溶媒以外の含フッ素エーテル類、ヘキサン
などの炭化水素類、クロロホルムなどのヒドロクロロカ
ーボン類、ジクロロペンタフルオロプロパンなどのヒド
ロクロロフルオロカーボン類、メタキシレンヘキサフル
オリド、ベンゾトリフルオリドなどの含フッ素芳香族炭
化水素類、メタノール、エタノール、（パーフルオロヘ
キシル）エタノール、ペンタフルオロプロパノールなど
のアルコール類が併用できる。これら他の溶媒の混合割
合は含フッ素環構造含有重合体の濃度によって適宜選定
されるが、含フッ素溶媒１００重量部に対して０．１〜
５０重量部が好ましく、１〜３０重量部がより好まし
い。
【００１９】本発明における含フッ素環構造含有重合体
としては、含フッ素脂肪族環構造（含フッ素イミド環構
造などを含む）、含フッ素トリアジン環構造または含フ
ッ素芳香族環構造を主鎖に有する含フッ素重合体が例示
されるが、なかでも含フッ素脂肪族環構造を主鎖に有す
る含フッ素重合体が好ましく、そのうち含フッ素脂肪族
エーテル環構造を主鎖に有するものがさらに好ましい。
としては、含フッ素脂肪族環構造（含フッ素イミド環構
造などを含む）、含フッ素トリアジン環構造または含フ
ッ素芳香族環構造を主鎖に有する含フッ素重合体が例示
されるが、なかでも含フッ素脂肪族環構造を主鎖に有す
る含フッ素重合体が好ましく、そのうち含フッ素脂肪族
エーテル環構造を主鎖に有するものがさらに好ましい。
【００２０】「主鎖に含フッ素環構造を有する」とは、
環を構成する炭素原子の１個以上が主鎖を構成する炭素
連鎖中の炭素原子であり、かつ環を構成する炭素原子の
少なくとも一部にフッ素原子またはフッ素含有基が結合
している構造を有することを意味する。
環を構成する炭素原子の１個以上が主鎖を構成する炭素
連鎖中の炭素原子であり、かつ環を構成する炭素原子の
少なくとも一部にフッ素原子またはフッ素含有基が結合
している構造を有することを意味する。
【００２１】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する含フ
ッ素重合体としては、含フッ素環構造を有する単量体を
重合して得られるものや、２個以上の重合性二重結合を
有する含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が好適である。
ッ素重合体としては、含フッ素環構造を有する単量体を
重合して得られるものや、２個以上の重合性二重結合を
有する含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に
含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が好適である。
【００２２】含フッ素環構造を有する単量体を重合して
得られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
は、特公昭６３−１８９６４などにより知られている。
すなわち、パーフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール）などの含フッ素環構造を有する単量体を
単独重合することにより、またはこのような単量体をテ
トラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、
パーフルオロ（メチルビニルエーテル）などの含フッ素
環構造を有しないラジカル重合性単量体と共重合するこ
とにより、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
が得られる。
得られる、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
は、特公昭６３−１８９６４などにより知られている。
すなわち、パーフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−
ジオキソール）などの含フッ素環構造を有する単量体を
単独重合することにより、またはこのような単量体をテ
トラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、
パーフルオロ（メチルビニルエーテル）などの含フッ素
環構造を有しないラジカル重合性単量体と共重合するこ
とにより、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
が得られる。
【００２３】また、２個以上の重合性二重結合を有する
含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に含フッ
素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭６３−２３８
１１１や特開昭６３−２３８１１５などにより知られて
いる。すなわち、パーフルオロ（アリルビニルエーテ
ル）やパーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの
２個以上の重合性二重結合を有し環化重合し得る含フッ
素単量体を環化重合することにより、またはこのような
単量体をテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレン、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）など
の環化重合しないラジカル重合性単量体と共重合するこ
とにより、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
が得られる。
含フッ素単量体を環化重合して得られる、主鎖に含フッ
素脂肪族環構造を有する重合体は、特開昭６３−２３８
１１１や特開昭６３−２３８１１５などにより知られて
いる。すなわち、パーフルオロ（アリルビニルエーテ
ル）やパーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの
２個以上の重合性二重結合を有し環化重合し得る含フッ
素単量体を環化重合することにより、またはこのような
単量体をテトラフルオロエチレン、クロロトリフルオロ
エチレン、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）など
の環化重合しないラジカル重合性単量体と共重合するこ
とにより、主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合体
が得られる。
【００２４】また、パーフルオロ（２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソール）などの含フッ素環構造を有する
単量体とパーフルオロ（アリルビニルエーテル）やパー
フルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの２個以上の
重合性二重結合を有し環化重合し得る含フッ素単量体と
を共重合することによっても、主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有する重合体が得られる。
１，３−ジオキソール）などの含フッ素環構造を有する
単量体とパーフルオロ（アリルビニルエーテル）やパー
フルオロ（ブテニルビニルエーテル）などの２個以上の
重合性二重結合を有し環化重合し得る含フッ素単量体と
を共重合することによっても、主鎖に含フッ素脂肪族環
構造を有する重合体が得られる。
【００２５】主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合
体は、この重合体の全重合単位に対して主鎖に含フッ素
脂肪族環構造を有する重合単位を２０モル％以上、好ま
しくは４０モル％以上含有するものが、透明性や機械的
特性などの面から好ましい。
体は、この重合体の全重合単位に対して主鎖に含フッ素
脂肪族環構造を有する重合単位を２０モル％以上、好ま
しくは４０モル％以上含有するものが、透明性や機械的
特性などの面から好ましい。
【００２６】上記の主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有す
る重合体としては、具体的には下記一般式（１）〜
（４）から選ばれる繰り返し単位を有するものが好まし
い。これらの主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合
体中のフッ素原子は、一部が塩素原子で置換されていて
もよい。
る重合体としては、具体的には下記一般式（１）〜
（４）から選ばれる繰り返し単位を有するものが好まし
い。これらの主鎖に含フッ素脂肪族環構造を有する重合
体中のフッ素原子は、一部が塩素原子で置換されていて
もよい。
【００２７】
【化２】
【００２８】［一般式（１）〜（４）において、ｈは０
〜５の整数、ｉは０〜４の整数、ｊは０または１、ｈ＋
ｉ＋ｊは１〜６の整数、ｓは０〜５の整数、ｔは０〜４
の整数、ｕは０または１、ｓ＋ｔ＋ｕは１〜６の整数、
ｐ、ｑ、ｒはそれぞれ独立に０〜５の整数、ｐ＋ｑ＋ｒ
は１〜６の整数、Ｒ3 〜Ｒ8 はそれぞれ独立にフッ素原
子、塩素原子、重水素原子またはトリフルオロメチル基
である。］
〜５の整数、ｉは０〜４の整数、ｊは０または１、ｈ＋
ｉ＋ｊは１〜６の整数、ｓは０〜５の整数、ｔは０〜４
の整数、ｕは０または１、ｓ＋ｔ＋ｕは１〜６の整数、
ｐ、ｑ、ｒはそれぞれ独立に０〜５の整数、ｐ＋ｑ＋ｒ
は１〜６の整数、Ｒ3 〜Ｒ8 はそれぞれ独立にフッ素原
子、塩素原子、重水素原子またはトリフルオロメチル基
である。］
【００２９】本発明における含フッ素環構造を有する単
量体としては、下記一般式（５）〜（７）で表される化
合物から選ばれる単量体が好ましい。
量体としては、下記一般式（５）〜（７）で表される化
合物から選ばれる単量体が好ましい。
【００３０】
【化３】
【００３１】［一般式（５）〜（７）において、Ｒ9 〜
Ｒ20はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、重水素原
子またはトリフルオロメチル基であり、Ｒ11とＲ12、Ｒ
15とＲ16およびＲ19とＲ20は連結して環を形成してもよ
い。］ 一般式（５）〜（７）で表される化合物の具体例として
は、式（１１）〜（１８）で表される化合物などが挙げ
られる。
Ｒ20はそれぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、重水素原
子またはトリフルオロメチル基であり、Ｒ11とＲ12、Ｒ
15とＲ16およびＲ19とＲ20は連結して環を形成してもよ
い。］ 一般式（５）〜（７）で表される化合物の具体例として
は、式（１１）〜（１８）で表される化合物などが挙げ
られる。
【００３２】
【化４】
【００３３】２個以上の重合性二重結合を有する含フッ
素単量体としては、下記一般式（８）〜（１０）で表さ
れる化合物が好ましい。
素単量体としては、下記一般式（８）〜（１０）で表さ
れる化合物が好ましい。
【００３４】
【化５】 ＣＹ1 Ｙ2 ＝ＣＹ3 ＯＣＹ4 Ｙ5 ＣＹ6 Ｙ7 ＣＹ8 ＝ＣＹ9 Ｙ10 （８） ＣＺ1 Ｚ2 ＝ＣＺ3 ＯＣＺ4 Ｚ5 ＣＺ6 ＝ＣＺ7 Ｚ8 （９） ＣＷ1 Ｗ2 ＝ＣＷ3 ＯＣＷ4 Ｗ5 ＯＣＷ6 ＝ＣＷ7 Ｗ8 （１０）
【００３５】［一般式（８）〜（１０）において、Ｙ1
〜Ｙ10、Ｚ1 〜Ｚ8 およびＷ1 〜Ｗ8は、それぞれ独立
にフッ素原子、塩素原子、重水素原子またはトリフルオ
ロメチル基である。］ 一般式（８）〜（１０）で表される化合物の具体例とし
ては、以下の化合物などが挙げられる。式中、Ｄは重水
素原子である。
〜Ｙ10、Ｚ1 〜Ｚ8 およびＷ1 〜Ｗ8は、それぞれ独立
にフッ素原子、塩素原子、重水素原子またはトリフルオ
ロメチル基である。］ 一般式（８）〜（１０）で表される化合物の具体例とし
ては、以下の化合物などが挙げられる。式中、Ｄは重水
素原子である。
【００３６】
【化６】ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、Ｃ
Ｆ2 ＝ＣＦＯＣＤ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦ
ＯＣＣｌ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2
ＣＦ2 ＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＣ
ｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦＤＣＦ＝ＣＦ
2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦＣｌＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ2 ＝ＣＦ
ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯ
ＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣ
Ｆ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＣｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣ
Ｆ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ
＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＤＯＣＦ2 ＯＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＣｌＯＣ
Ｆ2 ＯＣＣｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＤ2 ＯＣＦ＝
ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＣｌ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＦＯＣ（ＣＦ3 ）2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 。
Ｆ2 ＝ＣＦＯＣＤ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦ
ＯＣＣｌ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2
ＣＦ2 ＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＣ
ｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦＤＣＦ＝ＣＦ
2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦＣｌＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＣＦ2 ＣＦ＝ＣＦＣｌ、ＣＦ2 ＝ＣＦ
ＯＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯ
ＣＦ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣ
Ｆ2 ＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＣｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣ
Ｆ2 ＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3 ）ＣＦ
＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＦ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＤＯＣＦ2 ＯＣＤ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＣｌＯＣ
Ｆ2 ＯＣＣｌ＝ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＤ2 ＯＣＦ＝
ＣＦ2 、ＣＦ2 ＝ＣＦＯＣＣｌ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 、ＣＦ
2 ＝ＣＦＯＣ（ＣＦ3 ）2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 。
【００３７】本発明の含フッ素重合体組成物中の含フッ
素重合体の濃度は０．０１〜５０重量％が好ましく、
０．１〜２０重量％がより好ましい。含フッ素溶媒に含
フッ素環構造含有重合体が溶解されてなる本発明の含フ
ッ素重合体組成物を基材上に塗布し、含フッ素溶媒を乾
燥させることにより基材上に含フッ素環構造含有重合体
の薄膜を形成できる。薄膜の厚みは通常０．０１〜５０
μｍの範囲から選定される。基材については、あらゆる
形状、材質に適用できる。薄膜が反射防止膜の場合、そ
の基材としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリエチレンテレフタレートなどが好まし
い。含フッ素溶媒の乾燥温度は基材の耐熱温度により適
宜選択されるが、５０〜１５０℃が好ましく、７０〜１
２０℃がより好ましい。膜厚むらを防ぐために、除電雰
囲気下に薄膜形成することが好ましい。
素重合体の濃度は０．０１〜５０重量％が好ましく、
０．１〜２０重量％がより好ましい。含フッ素溶媒に含
フッ素環構造含有重合体が溶解されてなる本発明の含フ
ッ素重合体組成物を基材上に塗布し、含フッ素溶媒を乾
燥させることにより基材上に含フッ素環構造含有重合体
の薄膜を形成できる。薄膜の厚みは通常０．０１〜５０
μｍの範囲から選定される。基材については、あらゆる
形状、材質に適用できる。薄膜が反射防止膜の場合、そ
の基材としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカー
ボネート、ポリエチレンテレフタレートなどが好まし
い。含フッ素溶媒の乾燥温度は基材の耐熱温度により適
宜選択されるが、５０〜１５０℃が好ましく、７０〜１
２０℃がより好ましい。膜厚むらを防ぐために、除電雰
囲気下に薄膜形成することが好ましい。
【００３８】含フッ素溶媒に含フッ素環構造含有重合体
が溶解されてなる本発明の含フッ素重合体組成物を基材
上に塗布し、含フッ素溶媒を乾燥させることにより基材
上に含フッ素環構造含有重合体の薄膜を形成した後、含
フッ素環構造含有重合体の薄膜を基材から剥離すること
により含フッ素環構造含有重合体の薄膜を得ることがで
きる。薄膜の厚みは通常０．０１〜５０μｍの範囲から
選定される。基材としては、薄膜を基材から剥離しやす
く、耐熱温度が高いことからガラスが好ましい。含フッ
素溶媒の乾燥温度は基材の耐熱温度により適宜選択され
るが、含フッ素溶媒の沸点以上が好ましい。好ましい乾
燥温度は５０〜２００℃であり、より好ましくは７０〜
１５０℃である。膜厚むらを防ぐために、除電雰囲気下
に薄膜形成することが好ましい。基材からの薄膜剥離
は、含フッ素環構造含有重合体を溶かさない極性溶媒
中、特に水中で行うことが好ましい。
が溶解されてなる本発明の含フッ素重合体組成物を基材
上に塗布し、含フッ素溶媒を乾燥させることにより基材
上に含フッ素環構造含有重合体の薄膜を形成した後、含
フッ素環構造含有重合体の薄膜を基材から剥離すること
により含フッ素環構造含有重合体の薄膜を得ることがで
きる。薄膜の厚みは通常０．０１〜５０μｍの範囲から
選定される。基材としては、薄膜を基材から剥離しやす
く、耐熱温度が高いことからガラスが好ましい。含フッ
素溶媒の乾燥温度は基材の耐熱温度により適宜選択され
るが、含フッ素溶媒の沸点以上が好ましい。好ましい乾
燥温度は５０〜２００℃であり、より好ましくは７０〜
１５０℃である。膜厚むらを防ぐために、除電雰囲気下
に薄膜形成することが好ましい。基材からの薄膜剥離
は、含フッ素環構造含有重合体を溶かさない極性溶媒
中、特に水中で行うことが好ましい。
【００３９】厚みが０．１μｍ以下の薄膜を形成する場
合、膜厚偏差が小さい均一な薄膜が得られることから、
前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒は
Ｒ1が炭素数６〜７のポリフルオロアルキル基であるも
のが好ましい。厚みが１μｍ以上の薄膜を形成する場
合、膜厚偏差が小さい均一な薄膜が得られることから、
前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒は
Ｒ1 が炭素数９〜１２のポリフルオロアルキル基である
ものが好ましい。
合、膜厚偏差が小さい均一な薄膜が得られることから、
前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒は
Ｒ1が炭素数６〜７のポリフルオロアルキル基であるも
のが好ましい。厚みが１μｍ以上の薄膜を形成する場
合、膜厚偏差が小さい均一な薄膜が得られることから、
前述の一般式Ｒ1 −Ｏ−Ｒ2 で表される含フッ素溶媒は
Ｒ1 が炭素数９〜１２のポリフルオロアルキル基である
ものが好ましい。
【００４０】薄膜の形成方法としては、ロールコート
法、キャスト法、ディップ法、スピンコート法、水上キ
ャスト法、ダイコート法、ラングミュア・ブロジェット
法などが挙げられる。基材と含フッ素重合体の接着性向
上のために、含フッ素重合体組成物中にシラン系、エポ
キシ系、チタン系、アルミニウム系などのカップリング
剤を含フッ素アルコールとともに配合したり、シランカ
ップリング剤のオリゴマーなどを配合してもよい。
法、キャスト法、ディップ法、スピンコート法、水上キ
ャスト法、ダイコート法、ラングミュア・ブロジェット
法などが挙げられる。基材と含フッ素重合体の接着性向
上のために、含フッ素重合体組成物中にシラン系、エポ
キシ系、チタン系、アルミニウム系などのカップリング
剤を含フッ素アルコールとともに配合したり、シランカ
ップリング剤のオリゴマーなどを配合してもよい。
【００４１】得られた薄膜は基材上に密着させたまま
で、または、基材から剥離して、使用できる。薄膜の用
途としては、光学分野、電気分野における保護コートが
挙げられ、この場合の基材としては、磁気ディスク基
板、光ファイバ、鏡、太陽電池、光ディスク、タッチパ
ネル、感光および定着ドラム、フィルムコンデンサ、ガ
ラス窓用の各種フィルムなどが挙げられる。
で、または、基材から剥離して、使用できる。薄膜の用
途としては、光学分野、電気分野における保護コートが
挙げられ、この場合の基材としては、磁気ディスク基
板、光ファイバ、鏡、太陽電池、光ディスク、タッチパ
ネル、感光および定着ドラム、フィルムコンデンサ、ガ
ラス窓用の各種フィルムなどが挙げられる。
【００４２】また、コーティング型光導波路材料、電線
被覆材、撥インク剤（たとえば塗装用、インクジェット
プリンタなどの印刷機器用）、レンズ材料、半導体素子
用接着剤（たとえばＬＯＣ（リードオンチップ）テープ
用接着剤、ダイボンド用接着剤、ペリクル膜固定用接着
剤）、半導体用保護コート（たとえばバッファコート
膜、パッシベーション膜、半導体素子α線遮蔽膜、防湿
コート剤）、層間絶縁膜（たとえば半導体素子用、液晶
表示体用、多層配線板用）、光学薄膜（ペリクル膜（Ｋ
ｒＦエキシマレーザー用、ＡｒＦエキシマレーザー
用）、ディスプレイ用反射防止膜、レジスト用反射防止
膜）などに使用できる。
被覆材、撥インク剤（たとえば塗装用、インクジェット
プリンタなどの印刷機器用）、レンズ材料、半導体素子
用接着剤（たとえばＬＯＣ（リードオンチップ）テープ
用接着剤、ダイボンド用接着剤、ペリクル膜固定用接着
剤）、半導体用保護コート（たとえばバッファコート
膜、パッシベーション膜、半導体素子α線遮蔽膜、防湿
コート剤）、層間絶縁膜（たとえば半導体素子用、液晶
表示体用、多層配線板用）、光学薄膜（ペリクル膜（Ｋ
ｒＦエキシマレーザー用、ＡｒＦエキシマレーザー
用）、ディスプレイ用反射防止膜、レジスト用反射防止
膜）などに使用できる。
【００４３】本発明の含フッ素重合体組成物を用いるこ
とにより、ピンホールなどの欠陥がなく、透明であり、
屈折率が低く、耐熱性、耐薬品性に優れているなど、含
フッ素環構造含有重合体の特性を損なうことなく薄膜化
できる。
とにより、ピンホールなどの欠陥がなく、透明であり、
屈折率が低く、耐熱性、耐薬品性に優れているなど、含
フッ素環構造含有重合体の特性を損なうことなく薄膜化
できる。
【００４４】
【実施例】「例１（含フッ素環構造含有重合体の合成
例）」パーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５
ｇ、イオン交換水１５０ｇ、分子量調節剤としてメタノ
ール６ｇおよび重合開始剤として（（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ
ＣＯＯ）2 ９０ｍｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス
製オートクレーブに入れた。系内を３回窒素で置換した
後、４０℃で２２時間懸濁重合を行って、開始剤に起因
する末端基を有する非晶質重合体を得た。この重合体を
空気中で３２０℃で６０分間熱処理し、水洗、乾燥を行
った。その結果、前記末端基がカルボキシル基に変換さ
れた含フッ素環構造含有重合体（以下、重合体Ａとい
う）を３３ｇ得た。
例）」パーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５
ｇ、イオン交換水１５０ｇ、分子量調節剤としてメタノ
ール６ｇおよび重合開始剤として（（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ
ＣＯＯ）2 ９０ｍｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス
製オートクレーブに入れた。系内を３回窒素で置換した
後、４０℃で２２時間懸濁重合を行って、開始剤に起因
する末端基を有する非晶質重合体を得た。この重合体を
空気中で３２０℃で６０分間熱処理し、水洗、乾燥を行
った。その結果、前記末端基がカルボキシル基に変換さ
れた含フッ素環構造含有重合体（以下、重合体Ａとい
う）を３３ｇ得た。
【００４５】重合体Ａの赤外分光分析により、１８１１
ｃｍ-1と１７７３ｃｍ-1にカルボキシル基に起因する吸
収ピークが確認された。重合体Ａの固有粘度［η］は、
パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０
℃で０．３５であった。重合体Ａのガラス転移点は１０
８℃であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合体で
あった。また１０％熱分解温度は４６５℃であり、光線
透過率は９５％以上と高かった。
ｃｍ-1と１７７３ｃｍ-1にカルボキシル基に起因する吸
収ピークが確認された。重合体Ａの固有粘度［η］は、
パーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０
℃で０．３５であった。重合体Ａのガラス転移点は１０
８℃であり、室温ではタフで透明なガラス状の重合体で
あった。また１０％熱分解温度は４６５℃であり、光線
透過率は９５％以上と高かった。
【００４６】「例２（含フッ素環構造含有重合体の合成
例）」パーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５
ｇ、イオン交換水１５０ｇ、分子量調整剤としてメタノ
ール６ｇおよび重合開始剤として（（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ
ＣＯＯ）2 ９０ｍｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス
製圧ガラス製オートクレーブに入れた。系内を３回窒素
で置換した後、４０℃で２２時間懸濁重合を行って、含
フッ素環構造含有重合体（以下、重合体Ｂという）を２
８ｇ得た。
例）」パーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）３５
ｇ、イオン交換水１５０ｇ、分子量調整剤としてメタノ
ール６ｇおよび重合開始剤として（（ＣＨ3 ）2 ＣＨＯ
ＣＯＯ）2 ９０ｍｇを、内容積２００ｍｌの耐圧ガラス
製圧ガラス製オートクレーブに入れた。系内を３回窒素
で置換した後、４０℃で２２時間懸濁重合を行って、含
フッ素環構造含有重合体（以下、重合体Ｂという）を２
８ｇ得た。
【００４７】重合体Ｂの固有粘度［η］は、パーフルオ
ロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で０．３
５であった。重合体Ｂのガラス転移点は１０８℃であ
り、室温ではタフで透明な非晶質重合体であった。また
１０％熱分解温度は４６５℃であった。光線透過率は９
５％以上と高く、屈折率は１．３４と低かった。
ロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）中３０℃で０．３
５であった。重合体Ｂのガラス転移点は１０８℃であ
り、室温ではタフで透明な非晶質重合体であった。また
１０％熱分解温度は４６５℃であった。光線透過率は９
５％以上と高く、屈折率は１．３４と低かった。
【００４８】「例３（比較例）」１ｇの重合体Ａと９９
ｇのＦ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、３０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、重合
体Ａは膨潤するのみで溶解しなかった。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）3 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、３０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、重合
体Ａは膨潤するのみで溶解しなかった。
【００４９】「例４（比較例）」１ｇの重合体Ａと９９
ｇのＦ（ＣＦ2 ）4 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、重合
体Ａは一部溶解するものの、膨潤した重合体Ａが残存
し、完全に溶解しなかった。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）4 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、重合
体Ａは一部溶解するものの、膨潤した重合体Ａが残存
し、完全に溶解しなかった。
【００５０】「例５（実施例）」１ｇの重合体Ａと９９
ｇのＦ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
片面平均反射率４％のポリメチルメタクリレート板上に
引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎでディップコートした
後、８０℃にて１時間加熱処理することにより、ポリメ
チルメタクリレート板上に０．１μｍの均一で透明な膜
が得られた。この膜の膜厚偏差は１％未満であった。こ
のポリメチルメタクリレート板の片面平均反射率は１．
０％となった。このポリメチルメタクリレート板は低反
射フィルタとして使用できる。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
片面平均反射率４％のポリメチルメタクリレート板上に
引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎでディップコートした
後、８０℃にて１時間加熱処理することにより、ポリメ
チルメタクリレート板上に０．１μｍの均一で透明な膜
が得られた。この膜の膜厚偏差は１％未満であった。こ
のポリメチルメタクリレート板の片面平均反射率は１．
０％となった。このポリメチルメタクリレート板は低反
射フィルタとして使用できる。
【００５１】「例６（実施例）」１ｇの重合体Ａと９９
ｇのＦ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
片面平均反射率４％のポリメチルメタクリレート板上に
引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎでディップコートした
後、８０℃にて１時間加熱処理することにより、ポリメ
チルメタクリレート板上に０．１μｍの透明な膜が得ら
れた。この膜の膜厚偏差は５％であった。このポリメチ
ルメタクリレート板の片面平均反射率は１．０％であっ
た。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、４０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
片面平均反射率４％のポリメチルメタクリレート板上に
引き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎでディップコートした
後、８０℃にて１時間加熱処理することにより、ポリメ
チルメタクリレート板上に０．１μｍの透明な膜が得ら
れた。この膜の膜厚偏差は５％であった。このポリメチ
ルメタクリレート板の片面平均反射率は１．０％であっ
た。
【００５２】「例７（実施例）」９ｇの重合体Ｂと９１
ｇのＦ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、５０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
ガラス板上にスピン速度７００ｒｐｍにて３０秒スピン
コートを実施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０
℃にて１時間加熱処理することにより、ガラス板上に均
一で透明な膜が得られた。その後、接着剤を塗布したア
ルミニウムフレームを膜上に張り付け、ガラス板上から
この膜をはがしたところ、膜厚１μｍの均一な重合体Ｂ
の自立膜がついたアルミニウムフレームができた。この
膜の膜厚偏差は１％未満であった。このフレームはペリ
クルとして使用できる。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、５０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
ガラス板上にスピン速度７００ｒｐｍにて３０秒スピン
コートを実施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０
℃にて１時間加熱処理することにより、ガラス板上に均
一で透明な膜が得られた。その後、接着剤を塗布したア
ルミニウムフレームを膜上に張り付け、ガラス板上から
この膜をはがしたところ、膜厚１μｍの均一な重合体Ｂ
の自立膜がついたアルミニウムフレームができた。この
膜の膜厚偏差は１％未満であった。このフレームはペリ
クルとして使用できる。
【００５３】「例８（実施例）」９ｇの重合体Ｂと９１
ｇのＦ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、５０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
ガラス板上にスピン速度７００ｒｐｍにて３０秒スピン
コートを実施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０
℃にて１時間加熱処理することにより、ガラス板上に均
一で透明な膜が得られた。この膜の膜厚偏差は６％であ
った。
ｇのＦ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ3 をガラス製フラスコ中に入
れ、５０℃にて２４時間加熱撹拌した。その結果、無色
透明で濁りのない均一な溶液を得た。この溶液を用いて
ガラス板上にスピン速度７００ｒｐｍにて３０秒スピン
コートを実施した後、８０℃にて１時間、さらに１８０
℃にて１時間加熱処理することにより、ガラス板上に均
一で透明な膜が得られた。この膜の膜厚偏差は６％であ
った。
【００５４】「例９（実施例）」例７で得られた重合体
Ａの溶液を用いて金属基板上にスピン速度７００ｒｐｍ
にて３０秒スピンコートを実施した後、８０℃にて１時
間、さらに１８０℃にて１時間加熱処理することによ
り、金属板上に１μｍの均一な透明の膜が得られた。こ
の膜にピンホールがないことは、この薄膜の電気抵抗が
１０15Ωｃｍ以上であることから確認された。
Ａの溶液を用いて金属基板上にスピン速度７００ｒｐｍ
にて３０秒スピンコートを実施した後、８０℃にて１時
間、さらに１８０℃にて１時間加熱処理することによ
り、金属板上に１μｍの均一な透明の膜が得られた。こ
の膜にピンホールがないことは、この薄膜の電気抵抗が
１０15Ωｃｍ以上であることから確認された。
【００５５】「例１０（実施例）」重合体Ｂの代わり
に、非晶質であるパーフルオロ（２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソラン）／テトラフルオロエチレン（６
５モル％／３５モル％）の共重合体（デュポン社製、商
品名テフロンＡＦ１６００）９ｇを用い、Ｆ（ＣＦ2 ）
6 ＯＣＨ3 の代わりに９１ｇの（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＯＣ
Ｈ3 ）ＣＦＣＦ2 ＣＦ3を用いる以外は例５と同様にし
て、０．１μｍの均一な薄膜を有するポリメチルメタク
リレート板を得た。この膜の膜厚偏差は１％未満であっ
た。このポリメチルメタクリレート板の片面平均反射率
は１．０％となった。
に、非晶質であるパーフルオロ（２，２−ジメチル−
１，３−ジオキソラン）／テトラフルオロエチレン（６
５モル％／３５モル％）の共重合体（デュポン社製、商
品名テフロンＡＦ１６００）９ｇを用い、Ｆ（ＣＦ2 ）
6 ＯＣＨ3 の代わりに９１ｇの（ＣＦ3 ）2 ＣＦ（ＯＣ
Ｈ3 ）ＣＦＣＦ2 ＣＦ3を用いる以外は例５と同様にし
て、０．１μｍの均一な薄膜を有するポリメチルメタク
リレート板を得た。この膜の膜厚偏差は１％未満であっ
た。このポリメチルメタクリレート板の片面平均反射率
は１．０％となった。
【００５６】
【発明の効果】含フッ素環構造含有重合体を地球環境、
特に地球温暖化に対して影響の少ない溶媒を用いて可溶
化でき、含フッ素環構造含有重合体の薄膜を地球環境へ
の悪影響を抑制しながら形成できる。
特に地球温暖化に対して影響の少ない溶媒を用いて可溶
化でき、含フッ素環構造含有重合体の薄膜を地球環境へ
の悪影響を抑制しながら形成できる。
Claims (7)
- 【請求項１】主鎖に含フッ素環構造を有しかつ非晶質で
ある含フッ素重合体を、一般式Ｒ1−Ｏ−Ｒ2 （Ｒ1 は
エーテル結合を有してもよい炭素数５〜１２の直鎖状ま
たは分岐状のポリフルオロアルキル基であり、Ｒ2 は炭
素数１〜５の直鎖状または分岐状のアルキル基であ
る。）で表される含フッ素溶媒に溶解してなる含フッ素
重合体組成物。 - 【請求項２】含フッ素環構造が含フッ素脂肪族環構造、
含フッ素トリアジン環構造または含フッ素芳香族環構造
を有する含フッ素重合体である請求項１に記載の含フッ
素重合体組成物。 - 【請求項３】含フッ素溶媒がＦ（ＣＦ2 ）6 ＯＣＨ3 、
Ｆ（ＣＦ2 ）7 ＯＣＨ3 、Ｆ（ＣＦ2 ）8 ＯＣＨ3 、Ｆ
（ＣＦ2 ）9 ＯＣＨ3 またはＦ（ＣＦ2 ）10ＯＣＨ3 で
ある請求項１または２に記載の含フッ素重合体組成物。 - 【請求項４】請求項１、２または３に記載の含フッ素重
合体組成物を基材上に塗布し、含フッ素溶媒を乾燥させ
ることにより基材上に含フッ素重合体の薄膜を形成する
方法。 - 【請求項５】薄膜が反射防止膜である請求項４に記載の
方法。 - 【請求項６】請求項１、２または３に記載の含フッ素重
合体組成物を基材上に塗布し、含フッ素溶媒を乾燥させ
ることにより基材上に含フッ素重合体の薄膜を形成した
後、含フッ素重合体の薄膜を基材から剥離することによ
り含フッ素重合体の薄膜を得る方法。 - 【請求項７】薄膜がペリクル膜である請求項６に記載の
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34579298A JP3968899B2 (ja) | 1997-12-18 | 1998-12-04 | 含フッ素重合体組成物および薄膜を得る方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34971897 | 1997-12-18 | ||
| JP9-349718 | 1997-12-18 | ||
| JP34579298A JP3968899B2 (ja) | 1997-12-18 | 1998-12-04 | 含フッ素重合体組成物および薄膜を得る方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11246726A true JPH11246726A (ja) | 1999-09-14 |
| JP3968899B2 JP3968899B2 (ja) | 2007-08-29 |
Family
ID=26578110
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34579298A Expired - Lifetime JP3968899B2 (ja) | 1997-12-18 | 1998-12-04 | 含フッ素重合体組成物および薄膜を得る方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3968899B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001262171A (ja) * | 2000-01-11 | 2001-09-26 | Asahi Glass Co Ltd | フッ素系希釈溶剤 |
| WO2007077722A1 (ja) * | 2006-01-05 | 2007-07-12 | Asahi Glass Company, Limited | 含フッ素重合体およびそれを含む含フッ素重合体組成物 |
| US7800003B2 (en) | 2005-07-25 | 2010-09-21 | Siemens Aktiengesellschaft | Insulator with enhanced insulating capacity |
| WO2013018730A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2013-02-07 | 旭硝子株式会社 | リソグラフィ用ペリクル、ペリクル付きフォトマスクおよび露光処理方法 |
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-
1998
- 1998-12-04 JP JP34579298A patent/JP3968899B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
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| US8017709B2 (en) | 2006-01-05 | 2011-09-13 | Asahi Glass Company, Limited | Fluorinated polymer and fluorinated polymer composition containing it |
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| JPWO2013018730A1 (ja) * | 2011-07-29 | 2015-03-05 | 旭硝子株式会社 | リソグラフィ用ペリクル、ペリクル付きフォトマスクおよび露光処理方法 |
| US9223200B2 (en) | 2011-07-29 | 2015-12-29 | Asahi Glass Company, Limited | Pellicle for lithography, pellicle-mounted photomask, and exposure treatment method |
| JP2014070100A (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-21 | Du Pont Mitsui Fluorochem Co Ltd | 非晶質含フッ素樹脂組成物および薄膜製造方法 |
| WO2014049444A3 (ja) * | 2012-09-27 | 2015-06-18 | 三井・デュポンフロロケミカル株式会社 | 非晶質含フッ素樹脂組成物および薄膜製造方法 |
| US9862852B2 (en) | 2012-09-27 | 2018-01-09 | Dupont-Mitsui Fluorochemicals Co., Ltd. | Amorphous fluorine-containing resin composition and a manufacturing method of thin films |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3968899B2 (ja) | 2007-08-29 |
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