JPH11251802A - N路rfスイッチ用低損失空中懸垂放射状結合パッチ - Google Patents

N路rfスイッチ用低損失空中懸垂放射状結合パッチ

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JPH11251802A
JPH11251802A JP11001396A JP139699A JPH11251802A JP H11251802 A JPH11251802 A JP H11251802A JP 11001396 A JP11001396 A JP 11001396A JP 139699 A JP139699 A JP 139699A JP H11251802 A JPH11251802 A JP H11251802A
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microstrip
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ケヴィン・ダブリュー・コバヤシ
Aaron K Oki
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ミリメートル波周波数において挿入損失を改
善した、放射状結合単極N投マイクロストリップ・スイ
ッチを提供する。 【解決手段】 マイクロストリップ・スイッチ60は、
N個の入力スイッチ・アーム62−72、およびマイク
ロストリップ伝送ラインで形成された1つの出力ポート
74を含む。各入力スイッチ・アームは、1つ以上のp
−i−nダイオード78を含む。入力スイッチ・アーム
および出力ポートは、放射状結合中央パッチ84に接続
されている。ミリメートル波周波数における挿入損失を
改善するために、中央のパッチを空中懸垂状とし、寄生
分路容量を減少させることにより、スイッチの低域通過
周波数応答を拡張する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、RFスイッチの用
途に用いるためのマイクロストリップ・スイッチに関
し、更に特定すれば、寄生分路容量を減少させ、これに
より装置の低域通過応答を拡張した、低損失空中懸垂放
射状結合パッチ(low loss airsuspe
nded radially combined pa
tch)を形成し、ミリメートル波周波数における挿入
損失特性を改善した広帯域放射状結合単極N投マイクロ
ストリップ・スイッチに関するものである。
【0002】
【従来の技術】マイクロストリップ・スイッチは、種々
のRF用途に用いられている。かかるマイクロストリッ
プ・スイッチには種々の構成が公知である。例えば、カ
スケード状スイッチや、直交アーム・スイッチ構成が知
られている。放射状結合スイッチ(radial co
mbined switch)も既知であり、対称スイ
ッチ・アーム動作、およびカスケード状スイッチや直交
アーム・スイッチと比較して比較的小さな面積に、複数
のスイッチ・アームを統合させる。比較的小さなサイズ
の放射状結合スイッチは、特に、自動車用レーダのよう
な低コスト、大量生産の用途に魅力的である。
【0003】放射状結合マイクロストリップ・スイッチ
によって得ることが可能な帯域および低挿入損失には限
界がある。即ち、高周波数においては、半導体スイッチ
のカットオフ周波数性能、およびマイクロストリップ放
射状結合マイクロストリップ・スイッチの有効低域通過
特性という、2つの基本的な性能に制約がある。これら
の要因は双方とも、スイッチ・アームの数が増加する
程、放射状結合マイクロストリップ・スイッチの性能を
更に低下させる。
【0004】N路放射状結合単極N投マイクロストリッ
プ・スイッチの一例を、図1に示し、全体として参照番
号20で示す。図示のように、マイクロストリップ・ス
イッチ20は、図1において参照番号22〜36で示す
N個の入力スイッチ・アーム、および出力スイッチ・ア
ーム38を含む。入力スイッチ・アーム22〜36およ
び出力スイッチ・アーム38は、放射状結合パッチ40
において接続されている。各入力スイッチ・アーム22
〜36は、入力ポートとして作用する入力マイクロスト
リップ伝送ライン44と、入力スイッチ・アーム22〜
36の各々の相互接続マイクロストリップ伝送ライン4
6との間に接続された、1対の直列結合されたP−i−
n(PIN)ダイオード40,42を含む。入力スイッ
チ・アーム22〜36の各々の相互接続マイクロストリ
ップ伝送ライン46は、共に放射状結合パッチ40に結
合されている。マイクロストリップ伝送ライン48が、
放射状結合パッチ40に接続され、スイッチの出力ポー
トを提供する。入力および出力マイクロストリップ4
4,48は、50Ωとして例示されている。
【0005】特定のP−i−nダイオード・プロセス技
術によって、マイクロストリップ・スイッチ20の利得
−帯域の効果、即ち、低損失帯域幅のトレードオフは、
p−i−nダイオード40,42のサイズを調整するこ
と(スケーリング)、あるいは入力スイッチ・アーム2
2〜36の各々に複数のp−i−nダイオードを直列、
並列、またはその組み合わせで追加することのいずれか
によって調節される。高周波数動作のためには、入力ス
イッチ・アーム22〜36の各々のp−i−nダイオー
ド40,42は、ダイオード40,42の低域通過カッ
トオフ周波数が、対象の動作周波数を超えるように構成
する。
【0006】図2のBおよび図2のCは、図2のAに示
す特定サイズのp−i−nダイオードに対して、カット
オフ周波数がfc>2THzである、典型的な2−μ
m、i−領域GaAs p−i−nダイオードの等価回
路モデルを表す。図2のCに示すように、直列オフ容量
が比較的大きい。直列オフ容量を減少させるためには、
直列の2つのp−i−nダイオードを利用し、挿入損失
を犠牲にして帯域幅応答を拡張すればよい。カットオフ
周波数fc>2THzの2−μmGaAsp−i−nダ
イオードおよび比較的小さなサイズのp−i−nダイオ
ードを用いることのために、放射状結合マイクロストリ
ップ・スイッチ20の個々の入力スイッチ・アーム22
〜36は、対象とする周波数を超える周波数応答を有す
ることになる。ミリメートル波周波数においてN路マイ
クロストリップ・スイッチの性能を妨げる要因となるの
は、放射状結合マイクロストリップ・スイッチの低域通
過ロール(roll)特性である。
【0007】一般に、多数の放射状結合入力スイッチ・
アーム22〜36のために、放射状結合パッチ40はか
なりの面積を占め、ミリメートル波周波数におけるN路
スイッチ20の低域通過損失特性に大きく影響する。放
射状結合パッチ40のサイズを縮小することにより、関
連する寄生インピーダンスを最少に抑え、周波数応答を
拡張させることが可能である。しかしながら、出力50
Ωマイクロストリップ伝送ライン38の幅は、例えば、
4ミルのGaAs基板では70μmであり、その結果、
図11に全体的に示すような放射状結合パッチ40をい
かに小さく製造可能とするかという点で妨げとなる。
【0008】図3は、図1に示した単極N投放射状結合
マイクロストリップ・スイッチ20の集中要素等価回路
を示す。図示のように、放射状結合パッチ40は、L−
C低域通過ネットワーク41によって表すことができ
る。N番目の入力スイッチ・アーム36をオンに切り替
え、他のN−1本の入力スイッチ・アーム22〜34を
全てオフに切り替えた場合、N番目の入力スイッチ・ア
ーム36の通過経路は、図4に示す等価回路によって表
すことができる。図4に示すように、マイクロストリッ
プ・スイッチ20の低域通過応答は、直列インダクタン
スLfeedと、分路コンデンサCoff(N−1)/2およ
びCfeedの有効並列結合とで形成される、単純なロー・
パス・フィルタ・ネットワークによって特徴付けること
ができる。カットオフ周波数fc>2THzの非常に高
性能なショットキp−i−nダイオードでは、分路容量
Cfeedは典型的に全有効分路容量の≧15%を占める可
能性がある。典型的な50Ω固定出力の広いマイクロス
トリップ伝送ライン38を収容するために放射状結合パ
ッチ40の直径を大きくした場合、分路容量Cfeedが大
きくなり、関連する直列インダクタンスLfeedは小さく
なる。電気的および物理的制約が放射状結合パッチ40
の直径短縮を可能にするのであれば、放射状結合パッチ
40の分路容量は比較的小さくなるが、入力マイクロス
トリップ伝送ライン44は、その誘導性を一層高めるこ
とになる。したがって、放射状結合パッチの幾何学的形
状においてサイズを変更して得られる利点は取るに足ら
ないものに過ぎない。何故なら、直列インダクタンスL
feedおよび分路容量Cfeedによって決定される低域通過
極(ポール)が、大幅に変化することはないからであ
る。このように、放射状結合パッチのサイズを単に変更
することによって、放射状結合マイクロストリップ・ス
イッチの周波数性能の向上が得られることは、これまで
知られていなかった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における種々の問題を解決することである。
【0010】本発明の更に他の目的は、性能を改善した
放射状結合単極N投マイクロストリップ・スイッチを提
供することである。
【0011】本発明の更に他の目的は、ミリメートル波
周波数において挿入損失を改善した、放射状結合単極N
投マイクロストリップ・スイッチを提供することであ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】端的に言えば、本発明
は、マイクロストリップ伝送ラインで形成し、N本の入
力スイッチ・アームと1つの出力ポートとを含む、マイ
クロストリップ・スイッチに関するものである。各入力
スイッチ・アームは、1つ以上のp−i−nダイオード
を含む。入力スイッチ・アームおよび出力ポートは、放
射状結合パッチにおいて接続されている。ミリメートル
波周波数において挿入損失を改善するために、放射状結
合パッチを空気中に懸垂し、寄生分路(シャント)容量
を減少させることにより、スイッチの低域通過周波数応
答を拡張する。
【0013】本発明のこれらおよびその他の目的は、以
下の明細書および添付図面を参照することにより、容易
に理解されよう。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明は、ミリメートル波周波数
で挿入損失が減少する特性を有する、放射状結合マイク
ロストリップ・スイッチに関する。入力アーム数ならび
に設計の物理的および電気的制約によって決定される、
所与の放射状結合パッチ・サイズに対して、本発明によ
れば、放射状結合中央パッチ直下の高誘電体物質を除去
することによって、スイッチの浮遊分路(シャント)容
量を減少させる。GaAsのようなIII−V族半導体
化合物で形成したマイクロストリップ・スイッチの場
合、分路容量の大きさを1桁減少させることができる。
【0015】図5のAは、本発明によるN路放射状結合
単極N投マイクロストリップ・スイッチ60の平面図で
ある。マイクロストリップ・スイッチ60は、N本の入
力スイッチ・アーム62,64,66,68,70,7
1,72、および出力ポートを規定する出力アーム74
を含む。当業者には認められようが、図5のAは7本の
入力スイッチ・アーム62〜72および単一の出力ポー
ト74を示すが、本発明の原理は、事実上あらゆる数の
入力アームにも適用可能であることは明白である。入力
スイッチ・アーム62〜72の各々は、例えば、50Ω
の入力マイクロストリップ伝送ライン76、1つ以上の
直列結合されたp−i−nダイオード78、および相互
接続マイクロストリップ伝送ライン80を含む。相互接
続マイクロストリップ伝送ライン80の各々は、放射状
にパッチ84に接続されている。例えば、50Ωマイク
ロストリップ伝送ラインである出力アーム74も、放射
状に結合されたパッチ84に接続されている。ミリメー
トル波周波数においてスイッチ60の分路容量、したが
ってマイクロストリップ・スイッチ60の挿入損失を減
少させるために、放射状結合パッチ84を空中で懸垂さ
せる(浮かす)。これは、図5のBに一層明確に示され
ている。
【0016】図5のBを参照すると、本発明による放射
状結合単極N投マイクロストリップ・スイッチ60は、
GaAs基板のような、適切なIII−V族基板86上
に形成することができる。本発明の重要な特徴1つは、
放射状結合パッチ84の下にある空洞(空胴)88に関
係する。前述したように、放射状結合パッチを空中に懸
垂させることにより、スイッチ60の分路容量、したが
って挿入損失は、ミリメートル波周波数では大幅に減少
する。基板90の上側90は、従来の処理技法によって
処理され、図5のBに示す上面90の構造を形成する。
マイクロストリップ・スイッチの上面における従来の処
理が完了した後、図6のAないし図8に示すように、放
射状空洞を形成するために、ウエハをフリップ実装(f
lipmount)する。
【0017】図6のAないし図8は、基板86内に空洞
88を形成する処理工程を示す。当業者には明白であろ
うが、これらの処理工程は、従来のMMIC処理技術と
コンパチブルである。図6のAを参照すると、基板86
をひっくり返して、シリコン・ウエハのような支持用機
械的ウエハ92上に実装する。基板86を支持用機械的
ウエハ92上に固着した後、フォトレジスト94が基板
86の上面上にスピン(spin)される。空洞88の
領域を塞がないように、フォトマスク96を用いる。マ
スク96を介してフォトレジスト94を露光し、現像し
て基板86のエリア98を露出させる。これを除去して
空洞88を形成する。続いて、空洞88を形成するが、
図6のCに示すように、例えば、反応性イオン・エッチ
ング(RIE)によって、基板86を完全に貫通するよ
うにエッチングを行い、空洞88を形成することができ
る。一旦空洞88が形成されたなら、AZ9620のよ
うな平面化フォトレジスト(planarizing
photoresist)100によって、基板86の
102,104の露出部分、および空洞88を覆う。図
5のBに示したように、基板86直下に、背面金属10
6がデポジション(堆積)される。背面金属106を堆
積する前に、第2のマスク108を用いて、背面金属1
06のための領域を規定する。平面化フォトレジスト1
02を、マスク108を通じて露光し、現像して図6の
Eに示す構造を形成する。続いて、ステップ6Fにおい
て、例えば、Ti−Auといった背面金属を、基板86
の露出エリア102,104および平面化フォトレジス
ト100の上面上に堆積する。背面金属106および空
洞88を覆うメタライゼーション108は、平面化フォ
トレジスト100を現像することによって、従来のリフ
トオフ技法で現像し、図6Gに概略的に示すように、空
洞88から金属108を除去する。このメタライゼーシ
ョンが、マイクロストリップ伝送媒体の背面金属面を形
成する。前述の選択金属蒸着プロセスによって、上面側
から背面側グラウンド(接地)までのバイアが形成され
る。
【0018】図9および図10は、従来の構造を利用し
て製造した単極8投(SP8T)p−i−nダイオード
・マイクロストリップ・スイッチ、および本発明にした
がって製造したマイクロストリップ・スイッチの挿入損
失、反射減衰量およびアイソレーション(分離)性能を
それぞれ示す。77GHzにおいて示すように、従来の
マイクロスイッチ放射状結合マイクロストリップ・スイ
ッチでは、−9.1dBの挿入損失、5dBの反射減衰
量、および23dBの分離が得られる。これと比較し
て、本発明にしたがって製造した放射状結合マイクロス
トリップ・スイッチでは、−3.6dBの空気挿入損
失、10dBの反射減衰量、および約17dBの分離が
得られる。このように、本発明によるマイクロスイッチ
は、77GHzにおいて5.5dBもの挿入損失の改善
が得られる。
【0019】図11は、放射トポロジの物理的なサイズ
上の制約を示す、SP8T放射状結合p−i−nダイオ
ードマイクロスイッチの典型的なレイアウトを示す。図
示のように、スイッチ・アームのサイズおよび数によっ
て支配される放射状結合パッチの物理的なサイズの制約
のために、放射パッチのエリアを狭くすることが可能な
レイアウトには限界がある。また、電気的特性も、中央
コンバイナの小型化に対する制約となる。何故なら、ア
ームの分離および50Ωの出力パッチは、幾何学的形状
が小さなコンバイナ・パッチでは性能の低下を招くから
である。
【0020】当業者には認められようが、本発明の原理
は、例えば、V.Milanovic,M.Gaita
n,E.BowanおよびM.Zaghloul,ii
e.”Micromachined Coplanar
Waveguides in CMOS Techn
ology”(CMOS技術における微細加工共面導波
路)(Microwave and Guided W
ave Letters.Vol.6、No.10、1
996年10月、pp.380〜382)に記載されて
いる共面導波路(Coplanar Waveguid
e)にも適用可能である。その内容は、本願にも援用さ
れるものとする。この中に開示されているように、CM
OS技術によって形成された共面導波路において、その
マイクロストリップ構造直下にV−字状空洞を形成す
る。V−字状空洞を形成する際、等方性エッチングおよ
び異方性エッチング双方を含む、かなり複雑なエッチン
グ・プロセスが用いられる。本発明の原理を適合化して
共面導波路に応用すれば、マイクロストリップの下に空
洞を形成するための比較的簡素化したプロセスが得られ
る。即ち、上述の本発明によるプロセスは、共面導波路
を製造するために用いることができる。しかしながら、
中央の主要な導体の部分を懸垂し、機械的支持のために
基板の部分を残しておくことができる。かかるCPW構
造の上面および断面の図を図7および図8のiに示す。
【0021】上述の教示を考慮すれば、本発明には多く
の変更や変形が可能であることは明らかである。したが
って、特許請求の範囲内において、本発明は、これまで
具体的に述べてきたもの以外でも実施可能であることは
理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図1】N路放射状結合マイクロストリップ・スイッチ
の概略図である。
【図2】図2Aはp−i−nダイオードの概略図であ
る。図2Bは図2Aに示した特定サイズのダイオードに
ついて、カットオフ周波数がfc>2THzの2−μi
−領域GaAsp−i−nダイオードのオン状態の等価
回路である。図2Cは図2Aに示した特定サイズのダイ
オードについて、カットオフ周波数がfc>2THzの
2−μi−領域GaAsp−i−nダイオードのオフ状
態の等価回路である。
【図3】放射状結合パッチをL−C低域通過ネットワー
クとして表した、N路放射状結合マイクロストリップ・
スイッチの等価回路の概略図である。
【図4】N路放射状結合マイクロストリップ・スイッチ
のN番目のアームの通過経路の等価回路の概略図であ
る。
【図5】図5Aは本発明による放射状結合マイクロスト
リップ・スイッチの平面図である。図5Bは図5Aに示
す放射状結合マイクロストリップ・スイッチの断面図で
ある。
【図6】本発明による放射状結合マイクロストリップ・
スイッチの一部を製造する処理工程を示す図である。
【図7】本発明による放射状結合マイクロストリップ・
スイッチの一部を製造する処理工程を示す図である。
【図8】本発明による放射状結合マイクロストリップ・
スイッチの一部を製造する処理工程を示す図である。
【図9】従来の単極ダイオード・マイクロストリップ・
スイッチについて、GHzを単位とする周波数の関数と
して、挿入損失、反射減衰量および分離性能損失を示す
グラフである。
【図10】本発明による放射状結合スイッチについて、
図9と同様に、挿入損失、反射減衰量および分離性能を
示すグラフである。
【図11】典型的な単極八投マイクロストリップ・スイ
ッチのレイアウトを示す平面図である。
【符号の説明】
20 N路放射状結合単極N投マイクロストリップ・
スイッチ 22〜36 入力スイッチ・アーム 38 出力スイッチ・アーム 40 放射状結合パッチ 40,42 P−i−nダイオード 41 L−C低域通過ネットワーク 44 入力マイクロストリップ伝送ライン 46 相互接続マイクロストリップ伝送ライン 48 マイクロストリップ伝送ライン 60 N路放射状結合単極N投マイクロストリップ・
スイッチ 62,64,66,68,70,71,72 入力ス
イッチ・アーム 74 出力アーム 78 p−i−nダイオード 80 相互接続マイクロストリップ伝送ライン 84 パッチ 86 基板 88 空洞
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アーロン・ケイ・オキ アメリカ合衆国カリフォルニア州90502, トランス,ケンウッド・アベニュー 22114

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単極N投スイッチとして構成される放射
    状結合マイクロストリップ・スイッチであって、 N個の入力信号を受け取るN個の入力スイッチ・アーム
    と、 出力スイッチ・アームと、 前記N個の入力スイッチ・アームを選択的に前記出力ス
    イッチ・アームに結合する放射状結合パッチであって、
    その下に空気空洞を形成し、前記スイッチの分路容量を
    減少させる放射状結合パッチと、を備えた放射状結合マ
    イクロストリップ・スイッチ。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のマイクロストリップ・ス
    イッチにおいて、前記N個の入力スイッチ・アームの1
    個以上が、第1のp−i−nダイオードを含む、放射状
    マイクロストリップ・スイッチ。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のマイクロストリップ・ス
    イッチにおいて、前記N個の入力スイッチ・アームの1
    個以上が、前記第1のp−i−nダイオードに直列に接
    続された第2のp−i−nダイオードを含む、放射状マ
    イクロストリップ・スイッチ。
  4. 【請求項4】 請求項3記載のマイクロストリップ・ス
    イッチにおいて、前記入力スイッチ・アームの1個以上
    が、入力ポートを形成する、前記直列接続された第1お
    よび第2のp−i−nダイオードの一端に直列に結合さ
    れた入力マイクロストリップ伝送ラインを含む、放射状
    マイクロストリップ・スイッチ。
  5. 【請求項5】 請求項4記載のマイクロストリップ・ス
    イッチにおいて、前記入力スイッチ・アームの1個以上
    が、前記直列接続された第1および第2のp−i−nダ
    イオードの対向する端部と、前記放射状結合パッチとの
    間に結合された、相互接続マイクロストリップ伝送ライ
    ンを含む、放射状マイクロストリップ・スイッチ。
  6. 【請求項6】 請求項5記載のマイクロストリップ・ス
    イッチにおいて、前記出力ポートが、前記放射状結合パ
    ッチに接続されたマイクロストリップ伝送ラインによっ
    て形成されている、放射状マイクロストリップ・スイッ
    チ。
  7. 【請求項7】 マイクロストリップ・スイッチであっ
    て、 半絶縁基板上に形成された1個以上の入力スイッチ・ア
    ームと、 前記半絶縁基板上に形成された出力ポートと、 前記1個以上の入力アームと前記出力ポートとに電気的
    に結合されたパッチと、 前記パッチの下に形成された空洞と、を備えたマイクロ
    ストリップ・スイッチ。
  8. 【請求項8】 放射状結合マイクロストリップ・スイッ
    チを形成するプロセスであって、 (a)基板を用意するステップと、 (b)前記基板に対して空洞を形成するステップと、 (c)前記基板上に、前記空洞に近接して1個以上の入
    力スイッチ・アームを形成するステップと、 (d)前記基板上に、前記空洞に近接して出力ポートを
    形成するステップと、 (e)前記空洞上に、前記1個以上の入力スイッチ・ア
    ームと前記出力ポートとを接続するパッチを形成するス
    テップと、を含むプロセス。
  9. 【請求項9】 請求項8記載のプロセスにおいて、1個
    以上の前記入力スイッチ・アームが、1つ以上のp−i
    −nダイオードを含む、プロセス。
  10. 【請求項10】 請求項9記載のプロセスにおいて、1
    個以上の前記入力スイッチ・アームが、入力ポートを形
    成する前記1つ以上のp−i−nダイオードの1つに結
    合された入力マイクロストリップ伝送ラインを含む、プ
    ロセス。
  11. 【請求項11】 請求項9記載のプロセスにおいて、1
    個以上の前記入力アームが、前記1つ以上のp−i−n
    ダイオードと前記パッチとの間に結合された相互接続マ
    イクロストリップ伝送ラインを含む、プロセス。
  12. 【請求項12】 請求項11記載のプロセスにおいて、
    前記出力ポートが、マイクロストリップ伝送ラインで形
    成されている、プロセス。
  13. 【請求項13】 請求項8記載のプロセスにおいて、 (a)基板を機械的支持ウエハ上に取り付けるステップ
    と、 (b)第1のフォトレジストを前記基板に適用するステ
    ップと、 (c)除去すべき前記基板の領域を規定する第1のマス
    クを用意するステップと、 (d)前記第1のマスクを通じて前記第1のフォトレジ
    ストを露光し、現像するステップと、 (e)第2のフォトレジストを適用するステップと、 (f)前記基板上に金属用領域を規定する第2のマスク
    を形成するステップと、 (g)前記第2のフォトレジストを露光し現像するステ
    ップと、 (h)前記基板の前記領域上に金属を蒸着するステップ
    と、 (i)前記第2のフォトレジストを現像し、前記空洞を
    形成するステップと、によって前記空洞を形成する、プ
    ロセス。
  14. 【請求項14】 請求項8記載のプロセスにおいて、前
    記基板の一部を除去することによって前記空洞を形成す
    る、プロセス。
  15. 【請求項15】 空気懸垂共面導波路の形成プロセスで
    あって、 (a)基板を用意するステップと、 (b)第1のフォトレジストを前記基板に適用するステ
    ップと、 (c)前記基板の除去すべき領域を規定する第1のマス
    クを用意するステップと、 (d)前記第1のマスクを通じて、前記第1のフォトレ
    ジストを露光し現像するステップと、 (e)第2のフォトレジストを適用するステップと、 (f)前記基板上に金属のための領域を規定する第2の
    マスクを形成するステップと、 (g)前記第2のマスクを通じて、前記第2のフォトレ
    ジストを露光し現像するステップと、 (h)前記基板の前記領域上に金属を蒸着するステップ
    と、 (i)前記フォトレジストを現像し空洞を形成するステ
    ップと、 (j)前記基板上において、少なくとも部分的に前記空
    洞の上に位置するように、共面導波路を形成するステッ
    プと、を含むプロセス。
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