JPH11255523A - ガラスモールド成形用型及びその製造方法 - Google Patents
ガラスモールド成形用型及びその製造方法Info
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- JPH11255523A JPH11255523A JP10073048A JP7304898A JPH11255523A JP H11255523 A JPH11255523 A JP H11255523A JP 10073048 A JP10073048 A JP 10073048A JP 7304898 A JP7304898 A JP 7304898A JP H11255523 A JPH11255523 A JP H11255523A
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Classifications
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- C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
-
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスモールド成形用型の内面は、５μｍ以
上のポア数が多く、高精度のガラスを作製し難かった。 【解決手段】 炭化けい素焼結体から成るガラスモール
ド成形用型において、該型内面の５μｍ以上のポア数
が、光学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり２０個以下である
こととしたガラスモールド成形用型。０．７μｍ以下の
平均粒径を有する炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほ
う素またはその化合物をほう素換算で０．１〜０．５重
量％、炭素または焼成して炭素に変わるものを炭素換算
で１〜５重量％添加し、混合して成形し、それを１９０
０〜２０５０℃の不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した
後、それをさらに１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で
熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の
表面を研磨することとしたガラスモールド成形用型の製
造方法。
上のポア数が多く、高精度のガラスを作製し難かった。 【解決手段】 炭化けい素焼結体から成るガラスモール
ド成形用型において、該型内面の５μｍ以上のポア数
が、光学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり２０個以下である
こととしたガラスモールド成形用型。０．７μｍ以下の
平均粒径を有する炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほ
う素またはその化合物をほう素換算で０．１〜０．５重
量％、炭素または焼成して炭素に変わるものを炭素換算
で１〜５重量％添加し、混合して成形し、それを１９０
０〜２０５０℃の不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した
後、それをさらに１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で
熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の
表面を研磨することとしたガラスモールド成形用型の製
造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスモールド成
形用型及びその製造方法に関し、特に炭化けい素焼結体
から成るガラスモールド成形用型及びその製造方法に関
する。
形用型及びその製造方法に関し、特に炭化けい素焼結体
から成るガラスモールド成形用型及びその製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】光学機器に使用されるガラスレンズ等の
高精度ガラスの作製は、溶融したガラスをガラスモール
ド成形用型に投入し、それを加圧成形し、得られた成形
体の表面を研磨することで作製されるが、その成形用型
の内面は、極めて平滑でなければならないため、微粒の
ダイヤモンド等の砥粒で平滑に研磨している。しかし、
その型材が炭化けい素焼結体の場合、微粒のダイヤモン
ドで研磨してもポアが多数残存し、このポアが成形した
表面に転写され、高精度ガラスの成形には使い難いとい
う問題があった。そのため、型内面にＣＶＤ法で炭化け
い素膜を形成し、その表面を研磨することで対応してい
た。
高精度ガラスの作製は、溶融したガラスをガラスモール
ド成形用型に投入し、それを加圧成形し、得られた成形
体の表面を研磨することで作製されるが、その成形用型
の内面は、極めて平滑でなければならないため、微粒の
ダイヤモンド等の砥粒で平滑に研磨している。しかし、
その型材が炭化けい素焼結体の場合、微粒のダイヤモン
ドで研磨してもポアが多数残存し、このポアが成形した
表面に転写され、高精度ガラスの成形には使い難いとい
う問題があった。そのため、型内面にＣＶＤ法で炭化け
い素膜を形成し、その表面を研磨することで対応してい
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この炭
化けい素膜には、コーティング時の残留応力があり、こ
れと研磨時に掛かる機械的応力により、炭化けい素膜が
脆性材料（破壊靱性値：３前後）であることと相俟っ
て、膜に微細な亀裂が入るという問題があった。また、
研磨していくうちにその膜の一部を削り取ってしまい、
ポアが多数存在する焼結体表面が露出するという問題も
あった。
化けい素膜には、コーティング時の残留応力があり、こ
れと研磨時に掛かる機械的応力により、炭化けい素膜が
脆性材料（破壊靱性値：３前後）であることと相俟っ
て、膜に微細な亀裂が入るという問題があった。また、
研磨していくうちにその膜の一部を削り取ってしまい、
ポアが多数存在する焼結体表面が露出するという問題も
あった。
【０００４】本発明は、上述したガラスモールド成形用
型が有する課題に鑑みなされたものであって、その目的
は、型材が炭化けい素焼結体であっても、その表面に炭
化けい素膜を形成することなく極めてポアの少ない平滑
な面を有することのできるガラスモールド成形用型を提
供しその製造方法をも提供することにある。
型が有する課題に鑑みなされたものであって、その目的
は、型材が炭化けい素焼結体であっても、その表面に炭
化けい素膜を形成することなく極めてポアの少ない平滑
な面を有することのできるガラスモールド成形用型を提
供しその製造方法をも提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため鋭意研究した結果、炭化けい素粉末に極
めて細かい粉末を用い、この粉末に焼結助剤としてほう
素と炭素を添加して成形し、その成形体を従来より低温
で焼結し、それをさらにＨＩＰ処理すれば、この表面を
研磨することで極めてポアの少ない平滑な面を有するガ
ラスモールド成形用型が得られるとの知見を得て本発明
を完成した。
を達成するため鋭意研究した結果、炭化けい素粉末に極
めて細かい粉末を用い、この粉末に焼結助剤としてほう
素と炭素を添加して成形し、その成形体を従来より低温
で焼結し、それをさらにＨＩＰ処理すれば、この表面を
研磨することで極めてポアの少ない平滑な面を有するガ
ラスモールド成形用型が得られるとの知見を得て本発明
を完成した。
【０００６】即ち本発明は、（１）炭化けい素焼結体か
ら成るガラスモールド成形用型において、該型内面の５
μｍ以上のポア数が、光学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり
２０個以下、好ましくは１０個以下であることを特徴と
するガラスモールド成形用型（請求項１）とし、また
（２）０．７μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の平
均粒径を有する炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほう
素またはその化合物をほう素換算で０．１〜０．５重量
％、炭素または焼成して炭素に変わるものを炭素換算で
１〜５重量％添加し、混合して成形し、それを１９００
〜２０５０℃の不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した後、
それをさらに１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で熱間
等方圧プレス（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の表面
を研磨することを特徴とするガラスモールド成形用型の
製造方法（請求項２）とすることを要旨とする。以下さ
らに詳細に説明する。
ら成るガラスモールド成形用型において、該型内面の５
μｍ以上のポア数が、光学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり
２０個以下、好ましくは１０個以下であることを特徴と
するガラスモールド成形用型（請求項１）とし、また
（２）０．７μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の平
均粒径を有する炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほう
素またはその化合物をほう素換算で０．１〜０．５重量
％、炭素または焼成して炭素に変わるものを炭素換算で
１〜５重量％添加し、混合して成形し、それを１９００
〜２０５０℃の不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した後、
それをさらに１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で熱間
等方圧プレス（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の表面
を研磨することを特徴とするガラスモールド成形用型の
製造方法（請求項２）とすることを要旨とする。以下さ
らに詳細に説明する。
【０００７】上記で述べたように、ガラスモールド成形
用型としては、その型内面の５μｍ以上のポア数を、光
学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり２０個以下、好ましくは
１０個以下とした（請求項１）。高精度のガラスを作製
するには、型内面のポア数は、５μｍ以上のポア数で１
ｍｍ2あたり２０個以下が好ましく、より精度の良いガ
ラスを得るためには１０個以下がより好ましい。２０個
以下であれば炭化けい素の焼結体をそのまま使え、炭化
けい素膜の形成を必要としないが、２０個より多いと炭
化けい素膜の形成をまだ必要とする。
用型としては、その型内面の５μｍ以上のポア数を、光
学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり２０個以下、好ましくは
１０個以下とした（請求項１）。高精度のガラスを作製
するには、型内面のポア数は、５μｍ以上のポア数で１
ｍｍ2あたり２０個以下が好ましく、より精度の良いガ
ラスを得るためには１０個以下がより好ましい。２０個
以下であれば炭化けい素の焼結体をそのまま使え、炭化
けい素膜の形成を必要としないが、２０個より多いと炭
化けい素膜の形成をまだ必要とする。
【０００８】その焼結体の製造方法としては、０．７μ
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の平均粒径を有する
炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほう素またはその化
合物をほう素換算で０．１〜０．５重量％、炭素または
焼成して炭素に変わるものを炭素換算で１〜５重量％添
加し、混合して成形し、それを１９００〜２０５０℃の
不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した後、それをさらに１
０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で熱間等方圧プレス
（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の表面を研磨する製
造方法とした（請求項２）。
ｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下の平均粒径を有する
炭化けい素粉末に、焼結助剤としてほう素またはその化
合物をほう素換算で０．１〜０．５重量％、炭素または
焼成して炭素に変わるものを炭素換算で１〜５重量％添
加し、混合して成形し、それを１９００〜２０５０℃の
不活性ガス雰囲気中で常圧焼結した後、それをさらに１
０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で熱間等方圧プレス
（ＨＩＰ）処理し、得られた焼結体の表面を研磨する製
造方法とした（請求項２）。
【０００９】用いる炭化けい素粉末の細かさは、平均粒
径で０．７μｍ以下が好ましく、より緻密な焼結体を得
るためには０．５μｍ以下がより好ましい。細かさが
０．７μｍ以下であれば通常の焼結温度より低温で焼結
可能となり、その低温で焼結することにより十分な焼結
密度に到達しながら、かつ粒成長を抑制してポアの粗大
化を避けることができ、それをさらにＨＩＰ処理するこ
とにより、顕微鏡で観察されるポアを極めて少なくする
ことができる。細かさが０．７μｍより粗いと低温易焼
結の性質が失われ、低温焼結できない。これを温度を上
げて焼結すると粒成長が生じ、ポアが粗大化してしま
う。
径で０．７μｍ以下が好ましく、より緻密な焼結体を得
るためには０．５μｍ以下がより好ましい。細かさが
０．７μｍ以下であれば通常の焼結温度より低温で焼結
可能となり、その低温で焼結することにより十分な焼結
密度に到達しながら、かつ粒成長を抑制してポアの粗大
化を避けることができ、それをさらにＨＩＰ処理するこ
とにより、顕微鏡で観察されるポアを極めて少なくする
ことができる。細かさが０．７μｍより粗いと低温易焼
結の性質が失われ、低温焼結できない。これを温度を上
げて焼結すると粒成長が生じ、ポアが粗大化してしま
う。
【００１０】ポアを極めて少なくすることができる理由
は理論的には解明されていないが、通常の粗さでは、焼
結の進行に伴い粒界相にポアが集積、成長してポアが顕
在化するのに対し、十分に微細な粉末では、低温焼結と
相俟って結晶粒内に顕微鏡で観察不可能なほど径の小さ
いポア（ゴーストポアと呼ばれる）としてとどまり、結
晶粒界でポアが成長することがないためと思われる。
は理論的には解明されていないが、通常の粗さでは、焼
結の進行に伴い粒界相にポアが集積、成長してポアが顕
在化するのに対し、十分に微細な粉末では、低温焼結と
相俟って結晶粒内に顕微鏡で観察不可能なほど径の小さ
いポア（ゴーストポアと呼ばれる）としてとどまり、結
晶粒界でポアが成長することがないためと思われる。
【００１１】添加する焼結助剤は、ほう素、あるいはそ
の化合物と炭素、あるいは焼成して炭素に変わるものと
することが好ましい。酸化物を用いると焼結助剤の分解
が生じ、ガスが発生し、ポアの原因となる。炭素は、炭
素そのものでもよいし、焼成して炭素に変わるものでも
よく、焼結助剤として有効であれば特に限定するもので
はないが、例えば、液状のフェノール樹脂やタールピッ
チなどが均一に混合できるので、より望ましい。そのフ
ェノール樹脂等に硬化剤や触媒を添加しても差し支えな
い。添加量としては、ほう素またはその化合物では、ほ
う素換算で０．１〜０．５重量％、炭素または焼成して
炭素に変わるものでは、炭素換算で１〜５重量％が好ま
しく、ほう素が０．１重量％より少ない、または炭素が
１重量％より少ないと焼結し難く、ほう素が０．５重量
％より多いと、焼結時に粒成長が進行し、ポアが粗大化
する。一方、炭素が５重量％より多いと、過剰の炭素が
焼結体中に残るため、緻密な焼結体が得られない。
の化合物と炭素、あるいは焼成して炭素に変わるものと
することが好ましい。酸化物を用いると焼結助剤の分解
が生じ、ガスが発生し、ポアの原因となる。炭素は、炭
素そのものでもよいし、焼成して炭素に変わるものでも
よく、焼結助剤として有効であれば特に限定するもので
はないが、例えば、液状のフェノール樹脂やタールピッ
チなどが均一に混合できるので、より望ましい。そのフ
ェノール樹脂等に硬化剤や触媒を添加しても差し支えな
い。添加量としては、ほう素またはその化合物では、ほ
う素換算で０．１〜０．５重量％、炭素または焼成して
炭素に変わるものでは、炭素換算で１〜５重量％が好ま
しく、ほう素が０．１重量％より少ない、または炭素が
１重量％より少ないと焼結し難く、ほう素が０．５重量
％より多いと、焼結時に粒成長が進行し、ポアが粗大化
する。一方、炭素が５重量％より多いと、過剰の炭素が
焼結体中に残るため、緻密な焼結体が得られない。
【００１２】得られた成形体を焼結する方法としては、
アルゴン等の不活性ガス雰囲気中で１９００〜２０５０
℃で常圧焼結することとした。この焼結温度は、通常の
焼結温度（２１００〜２２００℃）より低温であり、こ
の低温で焼結することにより前記したようにポアの粗大
化を抑制することができる。その温度が１９００℃より
低いと緻密に焼結し難く、逆に２０５０℃より高くなる
と粒成長が著しく、ポアの粒界相への移動と粒成長に伴
うポアの粗大化が生じる。得られた焼結体をさらにアル
ゴン等の不活性ガス雰囲気中で１０００Ｋｇ／ｃｍ2の
以上の圧力下でＨＩＰ処理する。このＨＩＰ処理でポア
をさらに少なくすることができる。ＨＩＰ圧が１０００
Ｋｇ／ｃｍ2より低いとポアの減少効果が少なく好まし
くない。ＨＩＰ処理温度は、粒成長によりポアの粗大化
を抑制するという点から焼結温度以下とすることが必要
である。
アルゴン等の不活性ガス雰囲気中で１９００〜２０５０
℃で常圧焼結することとした。この焼結温度は、通常の
焼結温度（２１００〜２２００℃）より低温であり、こ
の低温で焼結することにより前記したようにポアの粗大
化を抑制することができる。その温度が１９００℃より
低いと緻密に焼結し難く、逆に２０５０℃より高くなる
と粒成長が著しく、ポアの粒界相への移動と粒成長に伴
うポアの粗大化が生じる。得られた焼結体をさらにアル
ゴン等の不活性ガス雰囲気中で１０００Ｋｇ／ｃｍ2の
以上の圧力下でＨＩＰ処理する。このＨＩＰ処理でポア
をさらに少なくすることができる。ＨＩＰ圧が１０００
Ｋｇ／ｃｍ2より低いとポアの減少効果が少なく好まし
くない。ＨＩＰ処理温度は、粒成長によりポアの粗大化
を抑制するという点から焼結温度以下とすることが必要
である。
【００１３】こうして得られた炭化けい素焼結体の成形
用型内面に該当する表面を研磨すればガラスモールド成
形用型が得られる。研磨はどんな方法でも構わないが、
炭化けい素焼結体は高硬度材料であるため、ダイヤモン
ド以外の砥粒による研磨は所要時間が長くなるので、ダ
イヤモンド砥粒により研磨することが望ましい。そのダ
イヤモンドの細かさは、平均粒径で２μｍ以下が好まし
く、２μｍより粗いと表面粗さが粗くなり、高精度のガ
ラスに要求される平滑性が得難い。
用型内面に該当する表面を研磨すればガラスモールド成
形用型が得られる。研磨はどんな方法でも構わないが、
炭化けい素焼結体は高硬度材料であるため、ダイヤモン
ド以外の砥粒による研磨は所要時間が長くなるので、ダ
イヤモンド砥粒により研磨することが望ましい。そのダ
イヤモンドの細かさは、平均粒径で２μｍ以下が好まし
く、２μｍより粗いと表面粗さが粗くなり、高精度のガ
ラスに要求される平滑性が得難い。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法をさらに詳しく
述べると、先ず平均粒径で０．７μｍ以下の炭化けい素
粉末を用意し、それに焼結助剤としてほう素またはその
化合物をほう素換算で０．１〜０．５重量％、炭素また
は焼成して炭素に変わるものを炭素換算で１〜５重量％
加え、混合して成形用型を成形する。成形はＣＩＰ（冷
間等方圧プレス）でブロックを形成し、そのブロックか
ら機械加工して成形用型の成形体を作製すればよい。
述べると、先ず平均粒径で０．７μｍ以下の炭化けい素
粉末を用意し、それに焼結助剤としてほう素またはその
化合物をほう素換算で０．１〜０．５重量％、炭素また
は焼成して炭素に変わるものを炭素換算で１〜５重量％
加え、混合して成形用型を成形する。成形はＣＩＰ（冷
間等方圧プレス）でブロックを形成し、そのブロックか
ら機械加工して成形用型の成形体を作製すればよい。
【００１５】得られた成形体をアルゴン等の不活性ガス
雰囲気中で１９００〜２０５０℃の温度で常圧焼結し、
その焼結体をさらにアルゴン等の不活性ガス雰囲気中で
１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で焼結温度より低い
温度でＨＩＰ処理し、得られた焼結体の成形用型内面に
該当する表面を平均粒径が２μｍ以下のダイヤモンド砥
粒で研磨する。
雰囲気中で１９００〜２０５０℃の温度で常圧焼結し、
その焼結体をさらにアルゴン等の不活性ガス雰囲気中で
１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧力下で焼結温度より低い
温度でＨＩＰ処理し、得られた焼結体の成形用型内面に
該当する表面を平均粒径が２μｍ以下のダイヤモンド砥
粒で研磨する。
【００１６】以上述べた方法で炭化けい素焼結体から成
るガラスモールド成形用型を作製すれば、５μｍ以上の
ポア数が極めて少ない型内面を有するガラスモールド成
形用型を得ることができる。
るガラスモールド成形用型を作製すれば、５μｍ以上の
ポア数が極めて少ない型内面を有するガラスモールド成
形用型を得ることができる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を比較例と共に具体的
に挙げ、本発明をより詳細に説明する。
に挙げ、本発明をより詳細に説明する。
【００１８】（実施例１〜６） （１）ガラスモールド成形用型の作製 平均粒径が０．５μｍの炭化けい素粉末（スタルク社
製、ＵＦ−１５）１００重量部に炭化ほう素粉末（Ｂ4
Ｃ）及びフェノール樹脂を表１に示す量添加し、これに
さらに結合剤としてＰＶＢを２重量部、ＩＰＡ（イソプ
ロピルアルコール）を３００重量部加え、それを混合、
乾燥した後、整粒した。この粉末を２００Ｋｇ／ｃｍ2
の圧力でＣＩＰ成形した後、それから機械加工によりφ
２０×ｔ１０ｍｍの大きさを有する成形用型の成形体を
作製し、それを真空雰囲気中で４５０℃で脱脂し、アル
ゴン雰囲気中で表１に示す温度で３時間常圧焼結した。
その焼結体をさらにアルゴン雰囲気中で１８００℃の温
度で１６００Ｋｇ／ｃｍ2の圧力下でＨＩＰ処理した。
得られた焼結体の成形用型内面に該当する表面を２μｍ
の平均粒径を有するダイヤモンド砥粒で研磨し、ガラス
モールド成形用型を作製した。
製、ＵＦ−１５）１００重量部に炭化ほう素粉末（Ｂ4
Ｃ）及びフェノール樹脂を表１に示す量添加し、これに
さらに結合剤としてＰＶＢを２重量部、ＩＰＡ（イソプ
ロピルアルコール）を３００重量部加え、それを混合、
乾燥した後、整粒した。この粉末を２００Ｋｇ／ｃｍ2
の圧力でＣＩＰ成形した後、それから機械加工によりφ
２０×ｔ１０ｍｍの大きさを有する成形用型の成形体を
作製し、それを真空雰囲気中で４５０℃で脱脂し、アル
ゴン雰囲気中で表１に示す温度で３時間常圧焼結した。
その焼結体をさらにアルゴン雰囲気中で１８００℃の温
度で１６００Ｋｇ／ｃｍ2の圧力下でＨＩＰ処理した。
得られた焼結体の成形用型内面に該当する表面を２μｍ
の平均粒径を有するダイヤモンド砥粒で研磨し、ガラス
モールド成形用型を作製した。
【００１９】（２）評価 型の内面を光学顕微鏡で観察（５０倍）し、１ｍｍ2あ
たりの５μｍ以上のポア数を調べた。また、参考にナノ
ステップ（Ｒａｎｋ ＴａｙｌｅｒＨｏｂｓｏｎ製、接
触式、差動変圧タイプ）で中心線平均粗さ（Ｒａ）を求
め、アルキメデス法で嵩比重を求めた。それらの結果を
表１に示す。
たりの５μｍ以上のポア数を調べた。また、参考にナノ
ステップ（Ｒａｎｋ ＴａｙｌｅｒＨｏｂｓｏｎ製、接
触式、差動変圧タイプ）で中心線平均粗さ（Ｒａ）を求
め、アルキメデス法で嵩比重を求めた。それらの結果を
表１に示す。
【００２０】（比較例１〜９）比較のために、比較例１
では、炭化けい素粉末の細かさを本発明より粗くした他
は、比較例２、３では、Ｂ4Ｃの添加量を本発明より少
なくまたは多くした他は、比較例４、５では、フェノー
ル樹脂の添加量を本発明より少なくまたは多くした他
は、比較例６、７では、焼結温度を本発明より低くまた
は高くした他は、比較例８では、ＨＩＰ処理の圧力を本
発明より低くした他は実施例１と同様にガラスモールド
成形用型を作製し、評価した。それらの結果を表１に示
す。
では、炭化けい素粉末の細かさを本発明より粗くした他
は、比較例２、３では、Ｂ4Ｃの添加量を本発明より少
なくまたは多くした他は、比較例４、５では、フェノー
ル樹脂の添加量を本発明より少なくまたは多くした他
は、比較例６、７では、焼結温度を本発明より低くまた
は高くした他は、比較例８では、ＨＩＰ処理の圧力を本
発明より低くした他は実施例１と同様にガラスモールド
成形用型を作製し、評価した。それらの結果を表１に示
す。
【００２１】
【表１】
【００２２】表１から明らかなように、実施例において
は、型内面の５μｍ以上のポア数は、１ｍｍ2あたりい
ずれも１８個以下で、表面粗さもＲａで１０ｎｍ以下
で、極めて平滑な面を有していた。このことは、炭化け
い素焼結体の表面に炭化けい素膜を形成しなくても、焼
結体の表面を研磨するだけで十分平滑性を満足できるガ
ラスモールド成形用型が得られることを示している。
は、型内面の５μｍ以上のポア数は、１ｍｍ2あたりい
ずれも１８個以下で、表面粗さもＲａで１０ｎｍ以下
で、極めて平滑な面を有していた。このことは、炭化け
い素焼結体の表面に炭化けい素膜を形成しなくても、焼
結体の表面を研磨するだけで十分平滑性を満足できるガ
ラスモールド成形用型が得られることを示している。
【００２３】これに対して、比較例１では、炭化けい素
粉末が粗すぎたため、比較例２では、Ｂ4Ｃの添加量が
少なすぎたため、比較例４では、フェノール樹脂の添加
量が少なすぎたため、比較例５では、フェノール樹脂の
添加量が多すぎたため、比較例６では、焼成温度が低す
ぎたため、これらのいずれも緻密に焼結できず、嵩比重
が低くなり、５μｍ以上のポア数が極めて多かった。ま
た、比較例３では、Ｂ4Ｃの添加量が多すぎたため、比
較例７では、焼成温度が高すぎたため、いずれも緻密に
焼結されたものの、粒成長が進み、これも５μｍ以上の
ポア数が極めて多かった。さらに、比較例８では、ＨＩ
Ｐ圧が低すぎたため、ポアの低減効果がみられず、これ
も５μｍ以上のポア数が多かった。
粉末が粗すぎたため、比較例２では、Ｂ4Ｃの添加量が
少なすぎたため、比較例４では、フェノール樹脂の添加
量が少なすぎたため、比較例５では、フェノール樹脂の
添加量が多すぎたため、比較例６では、焼成温度が低す
ぎたため、これらのいずれも緻密に焼結できず、嵩比重
が低くなり、５μｍ以上のポア数が極めて多かった。ま
た、比較例３では、Ｂ4Ｃの添加量が多すぎたため、比
較例７では、焼成温度が高すぎたため、いずれも緻密に
焼結されたものの、粒成長が進み、これも５μｍ以上の
ポア数が極めて多かった。さらに、比較例８では、ＨＩ
Ｐ圧が低すぎたため、ポアの低減効果がみられず、これ
も５μｍ以上のポア数が多かった。
【００２４】
【発明の効果】以上の通り、本発明にかかる成形用型で
あれば、極めてポアの少ない平滑な型内面を有するガラ
スモールド成形用型とすることができるようになった。
このことにより、炭化けい素膜を形成しなくても焼結体
表面を研磨するだけで極めて平滑な内面を有するガラス
モールド成形用型を提供できるようになり、その製造方
法をも提供できるようになった。
あれば、極めてポアの少ない平滑な型内面を有するガラ
スモールド成形用型とすることができるようになった。
このことにより、炭化けい素膜を形成しなくても焼結体
表面を研磨するだけで極めて平滑な内面を有するガラス
モールド成形用型を提供できるようになり、その製造方
法をも提供できるようになった。
Claims (2)
- 【請求項１】 炭化けい素焼結体から成るガラスモール
ド成形用型において、該型内面の５μｍ以上のポア数
が、光学顕微鏡観察で１ｍｍ2あたり２０個以下、好ま
しくは１０個以下であることを特徴とするガラスモール
ド成形用型。 - 【請求項２】 ０．７μｍ以下、好ましくは０．５μｍ
以下の平均粒径を有する炭化けい素粉末に、焼結助剤と
してほう素またはその化合物をほう素換算で０．１〜
０．５重量％、炭素または焼成して炭素に変わるものを
炭素換算で１〜５重量％添加し、混合して成形し、それ
を１９００〜２０５０℃の不活性ガス雰囲気中で常圧焼
結した後、それをさらに１０００Ｋｇ／ｃｍ2以上の圧
力下で熱間等方圧プレス（ＨＩＰ）処理し、得られた焼
結体の表面を研磨することを特徴とするガラスモールド
成形用型の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10073048A JPH11255523A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | ガラスモールド成形用型及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10073048A JPH11255523A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | ガラスモールド成形用型及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11255523A true JPH11255523A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13507107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10073048A Pending JPH11255523A (ja) | 1998-03-09 | 1998-03-09 | ガラスモールド成形用型及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11255523A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002037668A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 炭化珪素焼結体及びその製造法 |
| WO2007139180A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Kao Corporation | ガラス製ハードディスク基板用成形型 |
| JP2008007400A (ja) * | 2006-05-31 | 2008-01-17 | Kao Corp | ガラス製ハードディスク基板用成形型 |
| TWI455893B (zh) * | 2004-12-06 | 2014-10-11 | Kao Corp | 玻璃成形膜用陶瓷 |
-
1998
- 1998-03-09 JP JP10073048A patent/JPH11255523A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002037668A (ja) * | 2000-07-26 | 2002-02-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 炭化珪素焼結体及びその製造法 |
| TWI455893B (zh) * | 2004-12-06 | 2014-10-11 | Kao Corp | 玻璃成形膜用陶瓷 |
| WO2007139180A1 (ja) * | 2006-05-31 | 2007-12-06 | Kao Corporation | ガラス製ハードディスク基板用成形型 |
| JP2008007400A (ja) * | 2006-05-31 | 2008-01-17 | Kao Corp | ガラス製ハードディスク基板用成形型 |
| TWI408119B (zh) * | 2006-05-31 | 2013-09-11 | Kao Corp | A molded film for glass hard disk substrates |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040401 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070205 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070619 |