JPH11255865A - 樹脂組成物、フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物 - Google Patents
樹脂組成物、フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物Info
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Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】パターンを形成したフィルムを通して紫外線露
光後、未露光部分を現象することによるソルダーレジス
トパターンの形成において、現像が可能で、得られた硬
化物は、耐屈折性、耐折性に優れ、密着性、鉛筆硬度、
耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等も十分に満足した樹脂組成
物の開発。 【解決手段】エポキシ基含有熱可塑性エラストマー
(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び光
カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴と
する樹脂組成物。
光後、未露光部分を現象することによるソルダーレジス
トパターンの形成において、現像が可能で、得られた硬
化物は、耐屈折性、耐折性に優れ、密着性、鉛筆硬度、
耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等も十分に満足した樹脂組成
物の開発。 【解決手段】エポキシ基含有熱可塑性エラストマー
(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び光
カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴と
する樹脂組成物。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、樹脂組成物、フレ
キシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びそ
の硬化物に関する。
キシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びそ
の硬化物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、省資源、省エネルギー、作業性向
上、生産性向上などの理由により各種分野において、紫
外線硬化型組成物が多用されてきている。プリント配線
板加工分野においても同様の理由によりソルダーレジス
トインキ、マーキングインキなど種々のインキが従来の
熱硬化型組成物から紫外線硬化型組成物へと移行した。
例えば、特公昭56−40329号公報には、エポキシ
樹脂−光重合性α,β−不飽和カルボン酸付加生成物と
二塩基性カルボン酸無水物との反応生成物、光重合単量
体および光重合開始剤を含有する硬化性感光材料が記載
されている。リジット(硬質)基板と呼ばれる一般のプ
リント配線板は、エレクトロニクスの進歩に伴う高密度
化実現のため、ソルダーレジストに対しても高精度、高
解像性の要求が高まった。従来のスクリーン印刷法では
パターン精度が得られない為、液状フォトレジスト法が
提案され、現在50%以上導入されている。フレキシブ
ルプリント配線板に保護層を設ける場合、これまで、カ
バーフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターン
に合わせた金型で打ち抜いたのち接着剤を用いて張り付
ける方法や、紫外線硬化型または熱硬化型のソルダーレ
ジストインキをスクリーン印刷法により塗布する方法が
知られている。
上、生産性向上などの理由により各種分野において、紫
外線硬化型組成物が多用されてきている。プリント配線
板加工分野においても同様の理由によりソルダーレジス
トインキ、マーキングインキなど種々のインキが従来の
熱硬化型組成物から紫外線硬化型組成物へと移行した。
例えば、特公昭56−40329号公報には、エポキシ
樹脂−光重合性α,β−不飽和カルボン酸付加生成物と
二塩基性カルボン酸無水物との反応生成物、光重合単量
体および光重合開始剤を含有する硬化性感光材料が記載
されている。リジット(硬質)基板と呼ばれる一般のプ
リント配線板は、エレクトロニクスの進歩に伴う高密度
化実現のため、ソルダーレジストに対しても高精度、高
解像性の要求が高まった。従来のスクリーン印刷法では
パターン精度が得られない為、液状フォトレジスト法が
提案され、現在50%以上導入されている。フレキシブ
ルプリント配線板に保護層を設ける場合、これまで、カ
バーフィルムと呼ばれるポリイミドフィルムをパターン
に合わせた金型で打ち抜いたのち接着剤を用いて張り付
ける方法や、紫外線硬化型または熱硬化型のソルダーレ
ジストインキをスクリーン印刷法により塗布する方法が
知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】フレキシブルプリント
配線板の分野でも高密度化が近年要求されてきている。
従来の液状フォトソルダーレジストでは、パターン精度
は得られるものの、塗膜が硬くポリイミドとの密着性が
悪いため、十分な可撓性や耐折性が得られず、また、可
撓性はある程度得られるものの作業性が悪く耐薬品性、
耐熱性が不十分であり、問題である。
配線板の分野でも高密度化が近年要求されてきている。
従来の液状フォトソルダーレジストでは、パターン精度
は得られるものの、塗膜が硬くポリイミドとの密着性が
悪いため、十分な可撓性や耐折性が得られず、また、可
撓性はある程度得られるものの作業性が悪く耐薬品性、
耐熱性が不十分であり、問題である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の課
題を解決するため鋭意研究の結果、エポキシ基含有熱可
塑性エラストマーを使用することによって、可撓性、耐
折性、密着性、耐薬品性、耐熱性等に優れた、フレキシ
ブルプリント配線板用レジストインキ組成物に適する樹
脂組成物及びその硬化物を見出した。即ち、本発明は、
題を解決するため鋭意研究の結果、エポキシ基含有熱可
塑性エラストマーを使用することによって、可撓性、耐
折性、密着性、耐薬品性、耐熱性等に優れた、フレキシ
ブルプリント配線板用レジストインキ組成物に適する樹
脂組成物及びその硬化物を見出した。即ち、本発明は、
【0005】(1)エポキシ基含有熱可塑性エラストマ
ー(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び
光カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴
とする樹脂組成物、(2)フレキシブルプリント配線板
のレジストインキ用である(1)記載の樹脂組成物、
(3)(1)又は(2)に記載の樹脂組成物の硬化物、
(4)フレキシブルプリント配線板用レジストである
(3)記載の硬化物、(5)(3)又は(4)記載の硬
化物層を有するフレキシブルプリント配線板、に関す
る。
ー(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び
光カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴
とする樹脂組成物、(2)フレキシブルプリント配線板
のレジストインキ用である(1)記載の樹脂組成物、
(3)(1)又は(2)に記載の樹脂組成物の硬化物、
(4)フレキシブルプリント配線板用レジストである
(3)記載の硬化物、(5)(3)又は(4)記載の硬
化物層を有するフレキシブルプリント配線板、に関す
る。
【0006】本発明に用いられるエポキシ基含有熱可塑
性エラストマー(A)としては、例えば、スチレンとブ
タジエンを共重合させ、次いで過酢酸等の酸化剤を用い
て前記共重合体中の二重結合を酸化してエポキシ化した
ものがあげられる。このエラストマーは、市場より容易
に入手することができる。例えば、ダイセル化学工業
(株)製のエポフレンド(スチレンとブタジエンとスチ
レンブロック共重合体のエポキシ化物)があげられる。
具体的には、例えばエポフレンドA1005(ブタジエ
ン/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量180
0〜2100)、エポフレンドA1010(ブタジエン
/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量950〜
1050)、エポフレンドA1020(ブタジエン/ス
チレン重量比60/40、エポキシ当量480〜54
0)等である。
性エラストマー(A)としては、例えば、スチレンとブ
タジエンを共重合させ、次いで過酢酸等の酸化剤を用い
て前記共重合体中の二重結合を酸化してエポキシ化した
ものがあげられる。このエラストマーは、市場より容易
に入手することができる。例えば、ダイセル化学工業
(株)製のエポフレンド(スチレンとブタジエンとスチ
レンブロック共重合体のエポキシ化物)があげられる。
具体的には、例えばエポフレンドA1005(ブタジエ
ン/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量180
0〜2100)、エポフレンドA1010(ブタジエン
/スチレン重量比、60/40、エポキシ当量950〜
1050)、エポフレンドA1020(ブタジエン/ス
チレン重量比60/40、エポキシ当量480〜54
0)等である。
【0007】本発明に用いられる芳香族グリシジルエー
テル化合物(B)としては、例えばエピコート100
1、1002、1004(いずれも油化シェルエポキシ
(株)製)、エポミックR−301、R−302、R−
304(いずれも三井石油化学工業(株)製)等のビス
フェノールA型エポキシ樹脂、エピコート4001、4
002、4004(いずれも油化シェルエポキシ(株)
製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂、前記、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂あるいはビスフェノールF
型エポキシ樹脂の分子中の水酸基に更にエピクロルヒド
リンを反応させてグリシジルエーテル化した化合物、日
本化薬(株)製のNC−3000P等のビスフェニル変
性エポキシ樹脂、NC−7000、NC−7300(い
ずれも日本化薬(株)製)等のナフタレン変性エポキシ
樹脂、日本化薬(株)製、EPPN−201、EOCN
−102S、EOCN−103S、EOCN−104
S、EOCN−1020、BREN−S(いずれも日本
化薬(株)製)等のノボラック型エポキシ樹脂、YX−
4000、YL−6056(いずれも油化シェルエポキ
シ(株)製)等のビフェノール型エポキシ樹脂等を挙げ
ることができる。これらの芳香族グリシジルエーテル化
合物(B)は、単独で又は2種類以上組み合わせて用い
られる。
テル化合物(B)としては、例えばエピコート100
1、1002、1004(いずれも油化シェルエポキシ
(株)製)、エポミックR−301、R−302、R−
304(いずれも三井石油化学工業(株)製)等のビス
フェノールA型エポキシ樹脂、エピコート4001、4
002、4004(いずれも油化シェルエポキシ(株)
製)等のビスフェノールF型エポキシ樹脂、前記、ビス
フェノールA型エポキシ樹脂あるいはビスフェノールF
型エポキシ樹脂の分子中の水酸基に更にエピクロルヒド
リンを反応させてグリシジルエーテル化した化合物、日
本化薬(株)製のNC−3000P等のビスフェニル変
性エポキシ樹脂、NC−7000、NC−7300(い
ずれも日本化薬(株)製)等のナフタレン変性エポキシ
樹脂、日本化薬(株)製、EPPN−201、EOCN
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S、EOCN−1020、BREN−S(いずれも日本
化薬(株)製)等のノボラック型エポキシ樹脂、YX−
4000、YL−6056(いずれも油化シェルエポキ
シ(株)製)等のビフェノール型エポキシ樹脂等を挙げ
ることができる。これらの芳香族グリシジルエーテル化
合物(B)は、単独で又は2種類以上組み合わせて用い
られる。
【0008】本発明に用いられる光カチオン重合開始剤
(C)としては、例えばジアリールヨードニウム塩、ト
リアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスル
ホニウム塩、ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム塩等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩
としては、例えばジフェニルヨードニウムヘキサフロロ
ホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロア
ンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラキスペン
タフルオロフェニルボレート等が挙げられる。
(C)としては、例えばジアリールヨードニウム塩、ト
リアリールスルホニウム塩、ジアルキルフェナシルスル
ホニウム塩、ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム塩等が挙げられる。ジアリールヨードニウム塩
としては、例えばジフェニルヨードニウムヘキサフロロ
ホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロア
ンチモネート、ジフェニルヨードニウムテトラキスペン
タフルオロフェニルボレート等が挙げられる。
【0009】トリアリールスルホニウム塩としては、例
えばトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕
フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネ
ート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕フェ
ニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、
4,4′−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ルスルフォニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロホスフェート、4−ジ(p−トルイル)スルフォ
ニオ−4′−p−ter−ブチルフェニルカボニル−ジ
フェニルスルフィド−ヘキサフルオロアンチモネート、
4−ジ(p−トルイル)フルフォニオ−4′−p−te
r−ブチルフェニルカルボニル−ジフェニルスルフィド
−テトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げ
られる。
えばトリアリールスルホニウムヘキサフルオロホスフェ
ート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチ
モネート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕
フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネ
ート、4,4′−ビス〔ジフェニルスルフォニオ〕フェ
ニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、
4,4′−ビス〔ジ(β−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ルスルフォニオ〕フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロアンチモネート、7−ジ(p−トルイル)スルフ
ォニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−ヘキサフ
ルオロホスフェート、4−ジ(p−トルイル)スルフォ
ニオ−4′−p−ter−ブチルフェニルカボニル−ジ
フェニルスルフィド−ヘキサフルオロアンチモネート、
4−ジ(p−トルイル)フルフォニオ−4′−p−te
r−ブチルフェニルカルボニル−ジフェニルスルフィド
−テトラキスペンタフルオロフェニルボレート等が挙げ
られる。
【0010】ジアルキルフェナシルスルホニウム塩とし
ては、例えばジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
ては、例えばジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフ
ルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウ
ムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【0011】ジアルキル−4−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム塩としては、例えばジメチル−4−ヒドロキシ
フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ジエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート等が挙げられる。
ホニウム塩としては、例えばジメチル−4−ヒドロキシ
フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ジエチル−4−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサ
フルオロホスフェート等が挙げられる。
【0012】本発明の樹脂組成物を構成する(A)成
分、(B)成分及び(C)成分の使用割合は、(A)+
(B)の総量を100重量部とした場合、(A)成分は
3〜70重量部が好ましく、特に好ましくは5〜50重
量部であり、(B)成分は、30〜97重量部、特に好
ましくは50〜95重量部である。(C)成分は、
(A)+(B)の総量100重量部に対して、0.01
〜30重量部が好ましく、特に好ましくは0.05〜1
0重量部である。
分、(B)成分及び(C)成分の使用割合は、(A)+
(B)の総量を100重量部とした場合、(A)成分は
3〜70重量部が好ましく、特に好ましくは5〜50重
量部であり、(B)成分は、30〜97重量部、特に好
ましくは50〜95重量部である。(C)成分は、
(A)+(B)の総量100重量部に対して、0.01
〜30重量部が好ましく、特に好ましくは0.05〜1
0重量部である。
【0013】本発明に用いられる光カチオン重合開始剤
(C)に光増感剤を併用することにより、さらに感光性
を向上することができる。光増感剤としては、例えば、
置換フェノチアジンを含むフェノチアジン類、2−エチ
ル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジ
クロロアントラセン、9,10−フェニルアントラセ
ン、1−クロロアントラセン、2−メチルアントラセ
ン、9−メチルアントラセン、2−t−ブチルアントラ
セン、アントラセン、1,2−ベンズアントラセン、
1,2,3,4−ジベンズアントラセン、1,2,5,
6−ジベンズアントラセン、1,2,7,8−ジベンズ
アントラセン、9,10−ジメトキシジメチルアントラ
セン、ペリレン、ピレン、9−フルオレノン等が挙げら
れる。光増感剤の使用量は、光カチオン重合開始剤
(C)に対して0〜50重量%とするのが好ましく、特
に好ましくは0.5〜30重量%である。
(C)に光増感剤を併用することにより、さらに感光性
を向上することができる。光増感剤としては、例えば、
置換フェノチアジンを含むフェノチアジン類、2−エチ
ル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジ
クロロアントラセン、9,10−フェニルアントラセ
ン、1−クロロアントラセン、2−メチルアントラセ
ン、9−メチルアントラセン、2−t−ブチルアントラ
セン、アントラセン、1,2−ベンズアントラセン、
1,2,3,4−ジベンズアントラセン、1,2,5,
6−ジベンズアントラセン、1,2,7,8−ジベンズ
アントラセン、9,10−ジメトキシジメチルアントラ
セン、ペリレン、ピレン、9−フルオレノン等が挙げら
れる。光増感剤の使用量は、光カチオン重合開始剤
(C)に対して0〜50重量%とするのが好ましく、特
に好ましくは0.5〜30重量%である。
【0014】本発明の樹脂組成物では、更に、アミンベ
ースの架橋剤、例えばメラミン類を併用するのが好まし
い。好ましいアミンベースの架橋剤としては、例えばメ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて用い
ることができる。特に適当なアミンベースの架橋剤とし
ては、メラミンホルムアルデヒド樹脂では、例えばサイ
メル300、301、303、350、370、38
0、1116及び1130等が、ベンゾグアナミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂では、例えばサイメル1123及び
1125等が、尿素−ホルムアルデヒド樹脂では、例え
ばビートル60、65及び80等が挙げられる(いずれ
もアメリカン・サイアナミド(American Cy
anamid)社製)。他にも多くの類似のアミンベー
スの架橋剤が市販されている。
ースの架橋剤、例えばメラミン類を併用するのが好まし
い。好ましいアミンベースの架橋剤としては、例えばメ
ラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン−ホル
ムアルデヒド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙
げられ、これらを単独で又は2種以上組み合わせて用い
ることができる。特に適当なアミンベースの架橋剤とし
ては、メラミンホルムアルデヒド樹脂では、例えばサイ
メル300、301、303、350、370、38
0、1116及び1130等が、ベンゾグアナミン−ホ
ルムアルデヒド樹脂では、例えばサイメル1123及び
1125等が、尿素−ホルムアルデヒド樹脂では、例え
ばビートル60、65及び80等が挙げられる(いずれ
もアメリカン・サイアナミド(American Cy
anamid)社製)。他にも多くの類似のアミンベー
スの架橋剤が市販されている。
【0015】前記のアミンベースの架橋剤のうち、メラ
ミン類がより好ましく、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、即ち、メラミンとホルムアルデヒドとの反応生成物
が特に好ましい。これらの樹脂は、通常水酸基がアルキ
ルエーテルとなっており、例えばトリアルキロールメラ
ミン及びヘキサアルキロールメラミンのようなエーテル
である。アルキル基は、炭素原子を1〜8個有するもの
が好ましく、メチル基がより好ましい。これら架橋剤の
使用量は、前記(A)、(B)及び(C)成分の総量に
対して30重量%以下とすることが好ましい。
ミン類がより好ましく、メラミンホルムアルデヒド樹
脂、即ち、メラミンとホルムアルデヒドとの反応生成物
が特に好ましい。これらの樹脂は、通常水酸基がアルキ
ルエーテルとなっており、例えばトリアルキロールメラ
ミン及びヘキサアルキロールメラミンのようなエーテル
である。アルキル基は、炭素原子を1〜8個有するもの
が好ましく、メチル基がより好ましい。これら架橋剤の
使用量は、前記(A)、(B)及び(C)成分の総量に
対して30重量%以下とすることが好ましい。
【0016】本発明の樹脂組成物には、更に、密着性、
硬度などの特性を向上する目的で、必要に応じて、硫酸
バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸
化ケイ素、無定形シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、雲母粉、
水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン、硼酸バリウム
等の無機充填剤を使用できる。その使用量は、本発明の
組成物中の0〜60重量%が好ましく、特に好ましくは
0〜40重量%である。
硬度などの特性を向上する目的で、必要に応じて、硫酸
バリウム、チタン酸バリウム、酸化ケイ素粉、微粉状酸
化ケイ素、無定形シリカ、タルク、クレー、炭酸マグネ
シウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、雲母粉、
水酸化アルミニウム、三酸化アンチモン、硼酸バリウム
等の無機充填剤を使用できる。その使用量は、本発明の
組成物中の0〜60重量%が好ましく、特に好ましくは
0〜40重量%である。
【0017】更に、必要に応じて、フタロシアニン・ブ
ルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリー
ン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化
チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の着
色剤、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナ
イト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素および高分子系
等の消泡剤および/またはレベリング剤およびシランカ
ップリング剤等の密着性付与イオン捕捉剤のような各種
の添加剤類を用いることができる。これらの添加剤等を
使用する場合、その使用量は、例えば、本発明の組成物
中、それぞれ0.5〜30重量%程度が一応の目安であ
るが、使用目的に応じ適宜増減し得る。
ルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリー
ン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化
チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等の着
色剤、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナ
イト等の増粘剤、シリコーン系、フッ素および高分子系
等の消泡剤および/またはレベリング剤およびシランカ
ップリング剤等の密着性付与イオン捕捉剤のような各種
の添加剤類を用いることができる。これらの添加剤等を
使用する場合、その使用量は、例えば、本発明の組成物
中、それぞれ0.5〜30重量%程度が一応の目安であ
るが、使用目的に応じ適宜増減し得る。
【0018】本発明の樹脂組成物は、前記、(A)、
(B)及び(C)成分を溶解しうる溶剤、例えばエチル
メチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエ
チルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビ
トールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートなどのエステル類、石油エーテル、石
油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石
油系溶剤、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロ
リドン等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
することができる。
(B)及び(C)成分を溶解しうる溶剤、例えばエチル
メチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノンなどのケトン類、トルエン、キシレン、テトラメチ
ルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ジプロピレングリ
コールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエ
チルエーテルなどのグリコールエーテル類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、ブチルセロソルブアセテート、カルビ
トールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテルアセテートなどのエステル類、石油エーテル、石
油ナフサ、水添石油ナフサ、ソルベントナフサなどの石
油系溶剤、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロ
リドン等に溶解、混合させることにより、均一な溶液と
することができる。
【0019】本発明の樹脂組成物は、前記の配合成分を
好ましくは前記の割合で配合し、ロールミル等で均一に
混合することにより得られる。この本発明の樹脂組成物
は通常液状であるが、ドライフィルムとしてもよい。
好ましくは前記の割合で配合し、ロールミル等で均一に
混合することにより得られる。この本発明の樹脂組成物
は通常液状であるが、ドライフィルムとしてもよい。
【0020】ドライフィルムを製造するには、例えばベ
ースフィルム(離型フィルム)上にロールコーターやド
クターバー、ワイヤーバー方式、ディッピング方式、ス
ピンコート方式、クラビア方式及びドクターブレート方
式等を用いて上記の本発明の樹脂組成物を塗布した後、
60〜100℃に設定した乾燥炉で乾燥し、所定量の溶
剤を除去することにより、又必要に応じて離型フィルム
等を張り付けることにより得ることができる。この際、
ベースフィルム上のレジストの厚さは、10〜160μ
m、好ましくは20〜60μmに調製される。上記、ベ
ースフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン等のフィルムが好適に使用される。
ースフィルム(離型フィルム)上にロールコーターやド
クターバー、ワイヤーバー方式、ディッピング方式、ス
ピンコート方式、クラビア方式及びドクターブレート方
式等を用いて上記の本発明の樹脂組成物を塗布した後、
60〜100℃に設定した乾燥炉で乾燥し、所定量の溶
剤を除去することにより、又必要に応じて離型フィルム
等を張り付けることにより得ることができる。この際、
ベースフィルム上のレジストの厚さは、10〜160μ
m、好ましくは20〜60μmに調製される。上記、ベ
ースフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリプロピレン等のフィルムが好適に使用される。
【0021】本発明の樹脂組成物は、レジストインキ、
特にフレキシブルプリント配線板用のレジストインキと
して有用である他、塗料、コーティング剤、接着剤等と
しても使用できる。
特にフレキシブルプリント配線板用のレジストインキと
して有用である他、塗料、コーティング剤、接着剤等と
しても使用できる。
【0022】本発明の硬化物は、紫外線照射により上記
の本発明の樹脂組成物を硬化させたものである。この本
発明の樹脂組成物の硬化物は、例えば永久レジストとし
てスルホールを有するフレキシブルプリント配線板のよ
うな電気・電子部品に利用される。
の本発明の樹脂組成物を硬化させたものである。この本
発明の樹脂組成物の硬化物は、例えば永久レジストとし
てスルホールを有するフレキシブルプリント配線板のよ
うな電気・電子部品に利用される。
【0023】本発明のフレキシブルプリント配線板は、
上記の本発明の樹脂組成物の硬化物の層を有する。この
硬化物層の膜厚は10〜160μm程度で、20〜60
μm程度が好ましい。このフレキシブルプリント配線板
は、例えば次のようにして得ることができる。即ち、液
状の樹脂組成物を使用する場合、フレキシブルプリント
配線板用基板に、スクリーン印刷法、スプレー法、ロー
ルコート法、静電塗装法、カーテンコート法等の方法に
より10〜160μmの膜厚で本発明の組成物を塗布
し、塗膜を60〜110℃で乾燥後、ネガフィルムを塗
膜に直接に接触させ(又は接触しない状態で塗膜の上に
置く)、紫外線を照射し、次いで、必要に応じて加熱
(例えば60〜100℃×1〜30分)後、未露光部分
を適当な現像液を用いて、例えばスプレー、揺動浸漬、
ブラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像
する。その後、必要に応じて紫外線を照射し、次いで1
00〜200℃で加熱処理をすることにより諸特性を満
足する永久保護膜を有するフレキシブルプリント配線板
が得られる。
上記の本発明の樹脂組成物の硬化物の層を有する。この
硬化物層の膜厚は10〜160μm程度で、20〜60
μm程度が好ましい。このフレキシブルプリント配線板
は、例えば次のようにして得ることができる。即ち、液
状の樹脂組成物を使用する場合、フレキシブルプリント
配線板用基板に、スクリーン印刷法、スプレー法、ロー
ルコート法、静電塗装法、カーテンコート法等の方法に
より10〜160μmの膜厚で本発明の組成物を塗布
し、塗膜を60〜110℃で乾燥後、ネガフィルムを塗
膜に直接に接触させ(又は接触しない状態で塗膜の上に
置く)、紫外線を照射し、次いで、必要に応じて加熱
(例えば60〜100℃×1〜30分)後、未露光部分
を適当な現像液を用いて、例えばスプレー、揺動浸漬、
ブラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像
する。その後、必要に応じて紫外線を照射し、次いで1
00〜200℃で加熱処理をすることにより諸特性を満
足する永久保護膜を有するフレキシブルプリント配線板
が得られる。
【0024】現像液としては、例えば炭素数1〜4のア
ルコキシ基を有するアルコキシエタノール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテル、カルビトールアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン等
が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上組み合わ
せて用いることができる。また、その温度は、25〜4
5℃の間で任意に調節することができる。又、この現像
液中に界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよ
い。これらの現像液には、引火防止の目的で1〜50容
量%の範囲で水を添加することもできる。
ルコキシ基を有するアルコキシエタノール、エチルアル
コール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテル、カルビトールアセテート、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクト
ン、シクロヘキサノン、N−メチル−2−ピロリドン等
が挙げられる。これらは、単独で又は2種以上組み合わ
せて用いることができる。また、その温度は、25〜4
5℃の間で任意に調節することができる。又、この現像
液中に界面活性剤、消泡剤などを少量混入させてもよ
い。これらの現像液には、引火防止の目的で1〜50容
量%の範囲で水を添加することもできる。
【0025】本発明のフレキシブルプリント配線板をド
ライフィルムを用いて製造する場合は、例えば離型フィ
ルムをはがした上記のドライフィルムを上記のフレキシ
ブルプリント配線板用基板に転写し、上記と同様に露
光、現像、加熱処理をすればよい。
ライフィルムを用いて製造する場合は、例えば離型フィ
ルムをはがした上記のドライフィルムを上記のフレキシ
ブルプリント配線板用基板に転写し、上記と同様に露
光、現像、加熱処理をすればよい。
【0026】
【実施例】以下、本発明の実施例により更に具体的に説
明する。 実施例1〜3、比較例1〜2 表1に示す配合組成(数値は重量部である)に従って各
成分を配合し、3本ロールミルで混練し樹脂組成物を調
製した。これを、フレキシブルプリント配線板用基板
(パターン形成されている銅張ポリイミドフィルム基
板:銅厚/12μm・ポリイミドフィルム厚/25μ
m)に、100メッシュのポリエステルスクリーンを用
いたスクリーン印刷法により、20〜30μmの厚さに
なるように全面塗布し、塗膜を80℃の熱風乾燥器で3
0分乾燥させる。次いで、レジストパターンを有するネ
ガフィルムを塗膜に密着させ、紫外線を照射した(紫外
線露光装置:(株)オーク製作所、型式NMW−680
GW、露光量1000mJ/cm2 )。次に、100℃
で10分間、加熱した後、N−メチル−2−ピロリドン
/水=80/20(容量比)からなる現像液で40℃で
120秒間スプレー現像し、未露光部分を溶解除去し
た。その後、2J/cm2 の紫外線を照射を行い、さら
に150℃で40分間加熱処理を行い、フレキシブルプ
リント配線板を得た。得られた硬化膜を有する試験片に
ついて、後述のとおり密着性、鉛筆硬度、耐溶解性、耐
酸性、耐熱性、耐屈曲性、耐折性の試験を行った。それ
らの結果を表1に示す。なお、試験方法及び評価方法は
次のとおりである。
明する。 実施例1〜3、比較例1〜2 表1に示す配合組成(数値は重量部である)に従って各
成分を配合し、3本ロールミルで混練し樹脂組成物を調
製した。これを、フレキシブルプリント配線板用基板
(パターン形成されている銅張ポリイミドフィルム基
板:銅厚/12μm・ポリイミドフィルム厚/25μ
m)に、100メッシュのポリエステルスクリーンを用
いたスクリーン印刷法により、20〜30μmの厚さに
なるように全面塗布し、塗膜を80℃の熱風乾燥器で3
0分乾燥させる。次いで、レジストパターンを有するネ
ガフィルムを塗膜に密着させ、紫外線を照射した(紫外
線露光装置:(株)オーク製作所、型式NMW−680
GW、露光量1000mJ/cm2 )。次に、100℃
で10分間、加熱した後、N−メチル−2−ピロリドン
/水=80/20(容量比)からなる現像液で40℃で
120秒間スプレー現像し、未露光部分を溶解除去し
た。その後、2J/cm2 の紫外線を照射を行い、さら
に150℃で40分間加熱処理を行い、フレキシブルプ
リント配線板を得た。得られた硬化膜を有する試験片に
ついて、後述のとおり密着性、鉛筆硬度、耐溶解性、耐
酸性、耐熱性、耐屈曲性、耐折性の試験を行った。それ
らの結果を表1に示す。なお、試験方法及び評価方法は
次のとおりである。
【0027】(密着性)JIS K5400に準じて、
試験片に1mmのごばん目を100ケ作りセロテープに
よりピーリング試験を行った。ごばん目の剥離状態を観
察し、次の基準で評価した。 ○・・・・100/100で、剥れのないもの。 △・・・・50/100〜99/100。 ×・・・・0/100〜50/100。
試験片に1mmのごばん目を100ケ作りセロテープに
よりピーリング試験を行った。ごばん目の剥離状態を観
察し、次の基準で評価した。 ○・・・・100/100で、剥れのないもの。 △・・・・50/100〜99/100。 ×・・・・0/100〜50/100。
【0028】(鉛筆硬度)JIS K5400に準じて
評価を行った。 (耐溶剤性)試験片をイソプロピルアルコール液に室温
で30分間浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
評価を行った。 (耐溶剤性)試験片をイソプロピルアルコール液に室温
で30分間浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
【0029】(耐酸性)試験片を10%塩酸水溶液に室
温で30分浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
温で30分浸漬する。外観に異常がないか確認した後、
セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準で評
価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
【0030】(耐熱性)試験片にロジン系フラックスを
塗布し260℃の半田槽に5秒間浸漬した。これを1サ
イクルとし、3サイクル繰り返した。室温まで放冷した
後、セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準
で評価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
塗布し260℃の半田槽に5秒間浸漬した。これを1サ
イクルとし、3サイクル繰り返した。室温まで放冷した
後、セロテープによるピーリング試験を行い、次の基準
で評価した。 ○・・・・塗膜外観に異常がなく、フクレや剥離のない
もの。 ×・・・・塗膜にフクレや剥離のあるもの。
【0031】(耐屈曲性)JIS K5400に準じて
行った。試験片を用いて、心棒の直径は2mmとし、ク
ラック発生の有無を観察した。 ○・・・・クラック なし。 ×・・・・クラック発生。
行った。試験片を用いて、心棒の直径は2mmとし、ク
ラック発生の有無を観察した。 ○・・・・クラック なし。 ×・・・・クラック発生。
【0032】(耐折性)JIS C5016に準じて行
った。折り曲げ面の曲率半径は0.38mmとし、クラ
ックが入るまでの折り曲げ回数を測定した。
った。折り曲げ面の曲率半径は0.38mmとし、クラ
ックが入るまでの折り曲げ回数を測定した。
【0033】
【表1】 表1 実 施 例 比較例 1 2 3 1 2 (A)成分 エポフレンドA1020 *1 30 エポフレンドA1010 *2 30 20 (B)成分 エピコート1004 *3 10 10 20 EPPN−201 *4 20 40 NER *5 30 30 60 (C)成分 KAYACURE PCI-615 *6 10 10 10 10 10 その他 ヘキサメトキシメラミン 5 5 5 5 5 シリカ(無機充填剤) 10 10 10 10 10 フタロシアニングリーン (顔料) 0.5 0.5 0.5 0.5 0.5 アエロジル#200 *7 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 モダフロー *8 1.0 1.0 1.0 1.0 1.0 カルビトールアセテート 35 35 35 35 35 ─────────────────────────────────── 密着性 ○ ○ ○ ○ ○ 鉛筆硬度 5H 5H 4H 6H 7H 耐屈曲性 ○ ○ ○ × × 耐折性 1000回 1000回 1000回 1回 1回 以上 以上 以上 耐溶剤性 ○ ○ ○ ○ ○ 耐酸性 ○ ○ ○ ○ ○ 耐熱性 ○ ○ ○ ○ ○
【0034】注) *1)エポフレンドA1020:ダイセル化学工業
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量480〜540 *2)エポフレンドA1010:ダイセル化学工業
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量950〜1050。 *3)エピコート1004:油化シェルエポキシ(株)
製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。 *4)EPPN−201:日本化薬(株)製、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂。 *5)NER:日本化薬(株)製、エピコート1001
(油化シェルエポキシ(株)製、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂)の水酸基とエピクロルヒドリンを反応させ
グリシジルエーテル化したもの。 *6)KAYACURE PCI−615:日本化薬
(株)製、光カチオン重合開始剤。7ージ(p−トルイ
ル)スルホニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−
ヘキサフルオロアンチモネート。 *7)アエロジル#200:日本アエロジル(株)製、
無水シリカ。 *8)モダフロー:モンサント(株)製、レベリング
剤。
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量480〜540 *2)エポフレンドA1010:ダイセル化学工業
(株)製、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共
重合体のエポキシ化物。ブタジエン/スチレン重量比=
60/40、エポキシ当量950〜1050。 *3)エピコート1004:油化シェルエポキシ(株)
製、ビスフェノールA型エポキシ樹脂。 *4)EPPN−201:日本化薬(株)製、フェノー
ルノボラック型エポキシ樹脂。 *5)NER:日本化薬(株)製、エピコート1001
(油化シェルエポキシ(株)製、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂)の水酸基とエピクロルヒドリンを反応させ
グリシジルエーテル化したもの。 *6)KAYACURE PCI−615:日本化薬
(株)製、光カチオン重合開始剤。7ージ(p−トルイ
ル)スルホニオ−2−イソプロピル−チオキサントン−
ヘキサフルオロアンチモネート。 *7)アエロジル#200:日本アエロジル(株)製、
無水シリカ。 *8)モダフロー:モンサント(株)製、レベリング
剤。
【0035】表1の評価結果から明らかなように、本発
明のレジストインキ組成物の硬化物は、耐屈曲性、耐折
性に優れ、密着性、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等が満足
すべき性能を有しているのは明らかである。
明のレジストインキ組成物の硬化物は、耐屈曲性、耐折
性に優れ、密着性、耐溶剤性、耐酸性、耐熱性等が満足
すべき性能を有しているのは明らかである。
【0036】
【発明の効果】本発明の樹脂組成物は、パターンを形成
したフィルムを通して紫外線により露光し、未露光部分
を現像することによるソルダーレジストパターンの形成
において、現像が可能で、得られた硬化物は、耐屈曲
性、耐折性に優れ、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸
性、耐熱性等も十分に満足するものであり、特にフレキ
シブルプリント配線板用液状ソルダーレジストインキ組
成物に適している。
したフィルムを通して紫外線により露光し、未露光部分
を現像することによるソルダーレジストパターンの形成
において、現像が可能で、得られた硬化物は、耐屈曲
性、耐折性に優れ、密着性、鉛筆硬度、耐溶剤性、耐酸
性、耐熱性等も十分に満足するものであり、特にフレキ
シブルプリント配線板用液状ソルダーレジストインキ組
成物に適している。
Claims (5)
- 【請求項1】エポキシ含有熱可塑性エラストマー
(A)、芳香族グリシジルエーテル化合物(B)及び光
カチオン重合開始剤(C)を含有してなることを特徴と
する樹脂組成物。 - 【請求項2】フレキシブルプリント配線板のレジストイ
ンキ用である請求項1記載の樹脂組成物。 - 【請求項3】請求項1又は2に記載の樹脂組成物の硬化
物。 - 【請求項4】フレキシブルプリント配線板用レジストで
ある請求項3記載の硬化物。 - 【請求項5】請求項3又は4記載の硬化物の層を有する
フレキシブルプリント配線板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7510898A JPH11255865A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 樹脂組成物、フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7510898A JPH11255865A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 樹脂組成物、フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11255865A true JPH11255865A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13566658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7510898A Pending JPH11255865A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 樹脂組成物、フレキシブルプリント配線板用レジストインキ組成物及びその硬化物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11255865A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194061A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Toshiba Chem Corp | エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
| JP2014199414A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-10-23 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルムおよび硬化物、並びにそれらを用いて形成された硬化皮膜を有するプリント配線板 |
-
1998
- 1998-03-10 JP JP7510898A patent/JPH11255865A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002194061A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-10 | Toshiba Chem Corp | エポキシ樹脂組成物および半導体装置 |
| JP2014199414A (ja) * | 2013-03-11 | 2014-10-23 | 太陽インキ製造株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、そのドライフィルムおよび硬化物、並びにそれらを用いて形成された硬化皮膜を有するプリント配線板 |
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