JPH11255923A - 電子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子ディスプレイ用途において用いるための
プラスチック基材を提供する。 【解決手段】 プラスチック基材としてある種のポリグ
ルタルイミドを用いる。これらの基材は、プラスチック
に関して比較的高いＴｇ、及び良好な光学的透明性及び
平滑性、並びに低い収縮率及び低い複屈折を有する。ま
た、かかるポリグルタルイミド基材を用いて製造した電
子ディスプレイを開示する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】発明の背景 本発明はプラスチック基材に関する。より詳しくは、本
発明は、電子ディスプレイ用途のための基材としてポリ
グルタルイミドを用いることに関する。

【０００２】電子ディスプレイは、電子的に発生させた
図画及び文字画像を表示するために用いられる装置であ
る。多くの異なるタイプの電子ディスプレイがあり、よ
り多くのものが開発されている。よりよく知られている
タイプの電子ディスプレイとしては、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）；陰極線管（ＣＲＴ）；発光ダイオードの列
（ＬＥＤ）；プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）；
電界放射ディスプレイ（ＦＥＤ）；及びエレクトロルミ
ネセンス（ＥＬ）ディスプレイがある。電子装置がより
一層小型化するにつれて、携帯性の装置に対する需要が
高まっている。ＬＣＤ及びＥＬディスプレイは、それら
の軽量性及び他のディスプレイ技術に対してより低い電
力消費のために、かかる携帯性装置において特に有用で
ある。

【０００３】基本的なＬＣＤユニットは、導電性被覆を
有する二つの透明なシート（当該技術において基材と称
される）で製造されたセルであり、被覆されたシート
は、接着性のセル封止材料で端部に沿って一緒にサンド
イッチされて、液晶及びスペーサーが充填されている。
液晶ディスプレイセル中に含ませることのできる更なる
部品としては、例えば、液晶流体を整列させるために用
いられるアラインメント層、カラーフィルター被覆、薄
層トランジスタのような活性電子装置、及び偏光子が挙
げられる。ＥＬディスプレイは、概して、導電性被覆を
有する少なくとも一つの透明な基材から構成され、画像
生成媒体としてエレクトロルミネセンス蛍光体を用い
る。これらのタイプのディスプレイで製造される電子装
置は、電子ディスプレイ上に画像を生成させるために用
いるドライバのような他の電子部品を含む。

【０００４】ディスプレイ装置のための基材は、通常、
光学的品質のガラス又は石英から製造されていた。これ
は、これらの材料が、光学的透明性及び平滑性に関する
要求を満足し、良好なガス及び湿分バリヤー特性並びに
良好な熱及び化学耐性を有しているからである。他方、
ガラス及び石英は、脆性で破壊されやすく、したがっ
て、厚さ１ｍｍ未満の薄いシート又はフィルムにおける
有用性が制限される。

【０００５】種々のプラスチックが、より軽量で、より
薄いシート又はフィルムにさえも成形することができ、
破壊に対してより抵抗性であるので、代替基材として提
案されている。ディスプレイ製造プロセス中の適当な熱
安定性を与えるためには、高温プラスチック（少なくと
も１５０℃のＴｇを有するもの）が好ましい。かかる材
料としては、例えば、ポリアクリレート、ポリスルホ
ン、ポリカーボネート及びポリイミドのような熱可塑性
樹脂が挙げられる。

【０００６】米国特許第４，８０２，７４２号（イチカ
ワら）においては、ＬＣＤ用のプラスチック基材材料と
して、ポリエーテルスルホン及びポリカーボネートのよ
うなある種のプラスチックを用いることが記載されてい
る。ポリエーテルスルホンは、２２０℃のＴｇを有し、
したがって、基材材料として用いるのに他のプラスチッ
クよりも好ましい。しかしながら、この樹脂は、琥珀色
を有しており、したがって薄層フィルムに対して適用す
るのには制限がある。ポリカーボネートは、ポリエーテ
ルスルホンよりも、より薄い色及びより高い白色光透過
率を有するが、そのＴｇ（１５０℃）は望ましい程度に
低く、比較的高い応力−光学係数（ｓｔｒｅｓｓ−ｏｐ
ｔｉｃ ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）を有する（その結
果、より大きな複屈折を示す）。

【０００７】これらのタイプのプラスチック基材から製
造される電子ディスプレイが、約２０年の間開発されて
きたが、これらのプラスチックは全て基材材料としての
それらの特性に悪影響を与える制限を有しているので、
制限された商業的成功しか達成されていない。これらの
制限としては、不満足な光学品質、平滑性、耐溶剤性、
耐熱性、及びガスバリヤー特性が挙げられる。通常、プ
ラスチック基材におけるこれらの欠点の幾つかを改良す
るために、被覆が用いられてきた。

【０００８】ヨーロッパ特許ＥＰ７７０８９９Ａ１（Ｐ
ａｃｚｋｏｗｓｋｉ）においては、液晶ディスプレイに
おけるプレートとして有用なプラスチック基材の両面処
理のための方法及び複合材料が開示され、複合材料は、
処理して液晶セルの両面を形成した後は除去できるよう
になっている。この出願の要点は、プラスチック基材の
二つの片を同時に処理して、ＬＣＤセルの両面を形成す
る二つのプレートの間の処理条件の違いを最小にする方
法におかれている。この出願においては、材料のＵＶ吸
収に関する以外は基材材料の選択についての議論はな
く、ＩＴＯ以外の基材に対する被覆の議論はない。

【０００９】良好な光学品質、平滑性、耐溶剤性、耐熱
性、及びガスバリヤー性を有するプラスチック基材材料
に対する必要性が未だ存在する。

【００１０】発明の概要 本発明は、少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくとも８８
％の全白色光透過率（ｔｏｔａｌ ｗｈｉｔｅ ｌｉｇ
ｈｔ ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ）、及び０．１％以下
の収縮率（ｓｈｒｉｎｋａｇｅ）を有する２５ｍｍ以下
のポリグルタルイミドシートを含むことを特徴とする電
子ディスプレイ用途のためのプラスチック基材に関す
る。この基材は、更に、ポリグルタルイミドシートの上
に被覆された光学層を含み、かかる層は、架橋被覆、バ
リヤー被覆及び透明な導電性被覆から独立して選択され
る。

【００１１】本発明は、また、少なくとも９５％のイミ
ド化度（ｉｍｉｄｉｚａｔｉｏｎｌｅｖｅｌ）及び１重
量％以下の酸レベル（ａｃｉｄ ｌｅｖｅｌ）を有する
ポリグルタルイミドにも関する。

【００１２】図面の簡単な説明 図１Ａは、通常の「オーバーフロー」法装置の正面図で
あり、図１Ｂは、図１１Ａの装置の側面図である。図２
は、本発明の電子プレートの一態様の断面の概念図であ
る。図３は、本発明の電子プレートの他の態様の断面の
概念図である。

【００１３】発明の詳細な記述 本明細書において用いる以下の用語は、特記のない限
り、以下の定義を有する。「ガラス転移温度」又は「Ｔ
ｇ」は、ポリマーが、比較的硬質で脆性の状態から比較
的軟質で粘稠のゴム状の状態へと変化する狭い温度範囲
の中間点である。「プラスチック」は、シートに成形す
ることのできる熱可塑性ポリマーのようなポリマーを意
味する。「ポリマー」及び「樹脂」という用語は、本明
細書全体に亘って互いに交換可能に用いられ、「ポリグ
ルタルイミド」及び「イミド化アクリル」という用語は
交換可能に用いられる。「シート」は、約２５ｍｍ以下
の厚さを有するシートを意味し、「フィルム」（０．５
ｍｍ未満の厚さを有するシート）を包含するものと意図
される。「収縮」は、加熱／冷却サイクルにかけたシー
トにおいて起こる不可逆性の寸法変化を意味する。
「（メタ）」という用語を「アクリレート」に関して用
いることは、メタクリレート又はアクリレートの両方を
包含することを意味する。以下の略号を明細書中におい
て用いる。ｃｍ＝センチメートル；ｍｍ＝ミリメート
ル；ｎｍ＝ナノメートル；μ＝ミクロン（マイクロメー
トル）；Å＝オングストローム（１０^−１０メート
ル）；ｇ＝グラム；ｍｅｑ／ｇ＝１グラムあたりのミリ
当量；ｍＬ＝ミリリットル；Ｐａ＝パスカル；ｋＰａ＝
キロパスカル；Ｐａ−ｓ＝パスカル・秒；ｓｅｃ＝秒；
ｍｉｎ＝分；ｈｒｓ＝時間；ｗｔ％＝重量％；ＵＶ＝紫
外線；ＩＲ＝赤外線；ＰＭＭＡ＝ポリメチルメタクリレ
ート；及びＩＴＯ＝インジウムスズオキシド。他に示さ
ない限りにおいて、示されている温度は全て℃である。
他に示さない限りにおいて、定義された範囲は境界値を
含む範囲である。

【００１４】本発明のポリグルタルイミドとしては、米
国特許第４，７２７，１１７号（Ｈａｌｌｄｅｎ−Ａｂ
ｂｅｒｔｏｎら）、米国特許第４，２４６，３７４号
（Ｋｏｐｃｈｉｋ）、米国特許第３，２８４，４２５号
（Ｓｃｈｒｏｄｅｒら）及び米国特許第５，０７３，６
０６号（ササキら）に記載されているものが挙げられ
る。これらの特許の開示は、ポリグルタルイミドの調製
を教示している範囲において参照としてここに包含す
る。かかる反応の詳細はここでは説明しないが、ポリグ
ルタルイミドを調製するためのこれらの方法は全て、Ｐ
ＭＭＡとアミンとの高温反応を含むものである。

【００１５】高いＴｇ、処理温度における高い安定性、
及び高い光透過率を有する本発明のポリグルタルイミド
樹脂は、また、低い複屈折のシート及びフィルムを形成
し、このために、高い使用温度の光学品質シート又はフ
ィルムを必要とする用途に特に適したものになってい
る。

【００１６】本発明のポリグルタルイミドの調製におい
ては、反応時間又は温度を上昇させることによって、イ
ミド化度を上昇させることができる。原則的に、イミド
化度を１００％に上昇させることが可能であるが、実際
上は、イミド化度が１００％に近づくと、反応が大きく
遅延し、完全なイミド化が達成される前にポリマーが劣
化し始める。

【００１７】ここで、驚くべきことに、ポリグルタルイ
ミドにおけるイミド化度が９５％を超えると、得られる
材料は、光透過度の減少が殆どない及至全くない状態で
遥かに高いＴｇを有し、よりすぐれた熱安定性を有し、
処理中の泡の形成が遥かに少ないことが見出された。

【００１８】概して、イミド化度が約９５％のポリイミ
ドを調製すると、残留する非イミド基の多くは、メタク
リル酸基又はそのアミン塩の形態であり、従って、例え
ばＣＨ_３ＮＨ_２及びＰＭＭＡから誘導されるイミド化度
９５％のポリイミドは、実際には、大まかには約９５％
のイミド基と５％の酸基（その一部は、モノ、ジ又はト
リメチルアンモニウムメタクリレート塩の形態であって
よい）のコポリマーである。これらの塩の存在は、例え
ば、これらの塩を、アミンよりも強い塩基（例えばＫＯ
Ｈ又はＮａＯＨ）で交換−中和することによって確認す
ることができる。次に、ＫＯＨによる滴定の間に放出さ
れるアミンを、例えばガスクロマトグラフィーによって
検出することができる。

【００１９】ここで、予期しなかったことに、少量の酸
及び酸−アミン塩（約０．３ｗｔ％）であっても、高温
処理温度におけるシート品質に大きな悪影響を与え、泡
又は縞の形成を引き起こし、均一で欠陥のない光学シー
トを製造することが困難であった。

【００２０】理論的には、イミド化度を１００％近く
（この点では残留酸基レベルは０％である）に上昇させ
て、残留酸及び酸塩のレベルが下式１で示すレベルと同
等にすることによって、ポリイミドポリマー中の残留酸
レベルを減少させることが可能である。式１によって表
される線は、米国特許第３，８２４，４２５号において
開示されている酸レベル（及びしたがって組成）を表
し、また、米国特許第４，２４６，３７４号又は米国特
許第５，０７３，６０６号において開示されている酸レ
ベルも同様であると考えられる。 ｗｔ％酸基レベル＝１００−（ｗｔ％イミド化度） 式１

【００２１】しかしながら、イミド化反応は、酸基中間
体を経て最終生成物へと進行する逐次段階反応である
（これは、また、中間的なイミド基からトラップされた
基を除去するための縮重転位反応をも含む）。この固有
の反応順序の結果、酸基レベルが減少するにつれて、増
加イミド化度もまた減少し（これは、この前駆体基が反
応することを必要とするからである）、１００％イミド
化度に近づくと反応時間は無限大に近づくので、試みは
実施不能である。１００％イミド化を達成することに対
する他の制限は、反応時間が長くなるか、温度が上昇す
るか、またはこの両方が起こるにつれて、ポリマーの分
解が大きくなり始める（約９９．７％のイミド化におい
て）ということである。

【００２２】対照的に、米国特許第４，７２７，１１７
号の方法においては、酸基を非反応性の基に転化させる
（キャッピング）することによって、イミド化度とは独
立して酸レベルを減少させることができる。しかしなが
ら、この開示においては、極めて低い酸レベルを有する
９５％を超えるイミド化度のものは検討されなかった。
したがって、本発明は、はじめて、式１で示される線の
下側に位置する残留酸及び／又は酸塩レベルを有する９
５〜９９．７％イミド化範囲のポリイミド組成物を開示
するものであり、即ち、本発明は、式２で示される酸レ
ベル／イミド化度の関係に好ましく従う組成物を開示す
るものである。 （ｗｔ％酸基レベル＜１００−（ｗｔ％イミド化度） 式２

【００２３】より好ましくは、９５．０〜９９．７％の
イミド化度において、残留酸レベルは１．０ｗｔ％未
満、最も好ましくは０．３ｗｔ％以下である。

【００２４】最後に、通常、測定された窒素レベルパー
セント（％Ｎ）を用いて、式３に示す関係式によってイ
ミド化ｗｔ％を決定する。 ｗｔ％イミド化＝１００・（％Ｎ／Ｋ） 式３ （式３における定数Ｋは、用いるアミンに依存して変化
する。メチルアミンに関するＫの値は８．３７７％であ
る）。これは、全ての窒素が環式イミドの形態であると
いう仮定がなされている。しかしながら、アミン−酸塩
が存在する場合には、これらはイミドの形態でない窒素
を与える。

【００２５】以下の例によって問題点を説明する。米国
特許第４，２４６，３７４号の方法にしたがって典型的
な高度にイミド化された試料を調製すると、８．３０７
％の窒素レベルが測定され、これにより、９９．２ｗｔ
％の％イミド化度が予測される。しかしながら、この材
料を滴定すると、０．４３６ｍｅｑ／ｇの酸度が示され
る。これは、以下の組成：９６．３％イミド；１．７％
メタクリル酸；及び２．０％メタクリル酸のモノメチル
アミン塩（約３．７％の結合酸基）に相当する。したが
って、８．４％の％Ｎレベルを達成しつつ、１ｗｔ％を
超える酸基を残留させることさえも、容易に可能であ
る。このように、％Ｎ値が僅かに不正確なイミド化度を
導く場合があるが、本発明者らは式３から算出される上
述の％イミド化度を維持する。これは、従来の文献の殆
どがこの方法で定義しているからである。しかしなが
ら、上記の例に類似した他のポリグルタルイミドを米国
特許第４，７２７，１１７号の方法にしたがって調製
し、滴定すると、０．００〜０．０８ｗｔ％の残留酸レ
ベル並びに８．１１％の窒素レベルが測定された（９
６．８％イミド、３．１２〜３．０４％ＭＭＡ、０．０
０〜０．０８％ＭＡＡ）。このポリイミドは、特に下記
に説明する「オーバーフロー」法によって実質的にボイ
ドのない光学品質のシートに押出すのに非常に好適であ
った。

【００２６】本発明の基材を形成するのに用いるポリグ
ルタルイミド材料を、添加剤と配合して、有利な特性及
び所期の特性を与えることができる。かかる添加剤とし
ては、例えば、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、ＵＶ安定剤、
ケイ光性又は吸光性染料、静電防止添加剤、離型剤、充
填剤及び粒子が挙げられる。特定の目的のために用いる
添加剤のタイプ及び量は、当業者に公知であり、ここで
は更に説明しない。

【００２７】本発明の光学品質のポリグルタルイミドシ
ートは、当業者に公知の任意の種々の方法に従って製造
することができ、かかる方法としては、ソルベントキャ
スト、圧縮成形、押出、カレンダリング及び圧縮ポリッ
シュ、並びに製造後延伸又はアニーリングが挙げられる
が、これらに限定されない。本発明のポリグルタルイミ
ドシートを製造する好ましい方法は、冷却すると低い複
屈折、低い収縮率、良好な平滑性及び良好な光学的透明
性の所望の特性を有するプラスチックシートになる溶融
「ウェブ」をオーバーフローダイを用いて形成する、改
良押出法である。かかる方法及び装置は、本出願と同日
付で出願された共に継続中の「プラスチックシートを形
成するための方法及び装置」と題された米国特許出願に
おいて開示されている。参照を容易にするために、この
方法を、以下、「オーバーフロー法」と称する。

【００２８】図１Ａ及び１Ｂを参照すると、「オーバー
フロー法」のための代表的な装置が示されている。ソー
ス１０からの溶融ポリマーは、導管１２を通ってオーバ
ーフローダイ２０に送られ、ここで、導管への導管開口
を通ってダイ２０に送られる。ダイ２０に送られる際の
溶融ポリマーの温度は、ダイ２０に近接して配置されて
いるヒーター１５を用いることによって保持されてい
る。溶融ポリマーがダイの開口を満たすにつれて、計量
装置を通ってダイリップ上に押出され、ダイ２０の側部
の周りに流れ出る。ダイ２０の頂部において、側部から
流れ出た溶融ポリマーが収束して、溶融ウェブ２７の始
まりを形成する。溶融ウェブ２７は、溶融ウェブをダイ
２０から離すように導くタンクトレッド３１、３２、３
３及び３４の二つの対によってその端部で採取される。
溶融ウェブ２７がダイ２０から離されて導かれるにつれ
て、ウェブの温度は、徐々にポリマーのガラス転移温度
以下に低下し、その結果、冷却シート４０が得られる。

【００２９】本発明のグルタルイミド基材シート（本明
細書においては「ベースシート」と称する）は、概し
て、２５ｍｍ以下の厚さを有し、４００ｍｍの長さに亘
って１０％以下の厚さ変動を有する。ベースシートの厚
さは、５ｍｍ以下、最も好ましくは１ｍｍ以下であるこ
とが好ましい。本発明のベースシートを特徴づけるのに
有用な他のパラメーターとしては、例えば、シートの波
打ち（ｗａｖｉｎｅｓｓ）、シートの粗さ、収縮率及び
複屈折が挙げられる。

【００３０】シートの波打ち及び粗さは、スタイラスプ
ロファイラー（ｓｔｙｌｕｓ ｐｒｏｆｉｌｅｒ）で測
定することができる。シートの波打ち（Ｗｙ）は、プロ
フィルにおける最大値と最小値との差であり、２０ｍｍ
のサンプリング長さに亘って、８ｍｍの長波長をカット
オフしてフィルターにかけている。本発明のベースシー
トに関しては、Ｗｙは、１．０μ以下、好ましくは０．
２μ以下、最も好ましくは０．０５μ以下であるべきで
ある。

【００３１】粗さの測定に関しては、表面プロファイル
を、０．０８ｍｍのガウス長波長をカットオフし、さら
に０．００２５ｍｍの短波長をカットオフしてフィルタ
ーにかける。評価長さは０．４ｍｍである。粗さのパラ
メーター（Ｒｑ）は、平均線からのフィルターされたプ
ロファイルの根平均二乗平均偏差（ｒｏｏｔ ｍｅａｎ
ｓｑｕａｒｅ ａｖｅｒａｇｅ ｄｅｖｉａｔｉｏ
ｎ）である。本発明のベースシートに関しては、Ｒｑは
５０ｎｍ以下、好ましくは１０ｎｍ以下、最も好ましく
は５ｎｍ以下であるべきである。

【００３２】本発明において用いる「収縮率」とは、Ｔ
ｇと所定の相対関係にある加熱温度及び所定の加熱時間
における、加熱の前後の試料の長さにおける変化率（パ
ーセント）として定義される。Ｔｇより２０℃低い温度
で４時間加熱した本発明のベースシートに関しては、収
縮率は、０．１％以下、好ましくは０．０５％以下、最
も好ましくは０．０１％以下であるべきである。

【００３３】オプティカルリターダンス（ｏｐｔｉｃａ
ｌ ｒｅｔａｒｄａｎｃｅ）は、光が複屈折材料を通過
する場合に、一つの光学軸に沿って偏光した光の、これ
と直交する第２の光学軸に沿って偏光させた光に対する
相のリターデーションを意味する。複屈折は、二つの直
交する光学軸に沿った屈折率の差である。材料の複屈折
率（△ｎ）は、式４によるオプティカルリターダンス
（ＯＲ）に関連する。式中、ｔは材料の厚さである。 ＯＲ＝△ｎ・ｔ 式４

【００３４】本発明のベースシートに関しては、オプテ
ィカルリターダンスは、２０ｎｍ以下、好ましくは１０
ｎｍ以下、最も好ましくは５ｎｍ以下であるべきであ
る。

【００３５】本発明の好ましい態様においては、プラス
チック基材は、１以上の被覆（本明細書においては、集
合的に「被覆パッケージ」と称する）を含む。本発明の
グルタルイミドシートは、良好な平滑性及び光学的透明
性、並びに低い複屈折及び収縮率を有するが、改良され
た特性を付与することができる１以上の被覆を施すこと
によって、他の特性を向上させることができる。影響を
与えることのできる特性としては、硬度、耐スクラッチ
性、耐化学薬品及び耐溶剤性、プラスチック基材に対す
る被覆層の接着性、異なるタイプの被覆の層の間の接着
性、雰囲気安定性、ガス及び湿分バリヤー特性、及び光
透過性が挙げられるが、これらに限定されない。被覆及
びそれらの相対配置の適当な選択は重要であり、改良す
ることを所望するベースシートの特性、被覆とベースシ
ートとの相互作用、被覆層間の相互作用、及び被覆のコ
ストによって決定される。

【００３６】本発明の基材のための被覆パッケージは、
少なくとも一つの被覆層を含む。本発明において用いる
ことのできる異なるタイプの被覆層及びそれらの適用法
を、以下に記載する。被覆の相対的配置に関連して、
「内部」又は「内側」は、プラスチックベースシートに
より近いことを意味し、「外部」又は「外側」は、プラ
スチックベースシートからより遠いことを意味する。

【００３７】Ａ．架橋被覆層 架橋被覆層によって、耐溶剤性、耐摩耗性を改良するこ
とができ、プラスチック基材と引き続く被覆層との間
（例えば、有機被覆と無機被覆との間）の接着を促進さ
せることができる。架橋被覆層を用いる場合には、プラ
スチック基材の一方の面又は両面に施すことができる。

【００３８】概して、架橋被覆層は、０．１〜２５μ、
好ましくは０．５〜１０μ、より好ましくは１〜５μの
厚さを有する。架橋可能な被覆は、好ましくは、当該技
術において公知の１以上の被覆法によって施され、次に
硬化される。当該技術において公知の被覆法の例として
は、スピンコーティング、ディップコーティング、ロッ
ドコーティング、ナイフコーティング、ブレードコーテ
ィング、エアナイフコーティング、グラビアコーティン
グ、往復ロールコーティング、スロットコーティング、
押出コーティング、スライドコーティング及びカーテン
コーティングが挙げられる。好適な方法は、Ｅ．Ｄ．Ｃ
ｏｈｅｎ及びＥ．Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ（編）のＭｏｄｅｒ
ｎ Ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙ（ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ
Ｙｏｒｋ，１９９２）によって記載されている。

【００３９】架橋被覆層は、１以上のポリマー、モノマ
ー、又は１以上のポリマー、モノマー又は反応性オリゴ
マーの組み合わせから、これらをプラスチックシートの
表面に施し、次に処理して重合を行わせることによって
形成することができる。

【００４０】架橋被覆層を形成するのに有用なポリマー
としては、アクリレートホモポリマー及びコポリマー、
メタクリレートホモポリマー及びコポリマー、シリコン
モノマーを含むアクリルポリマー、シリコーンポリマ
ー、ポリウレタン、及びエポキシ樹脂が挙げられるが、
これらに限定されない。架橋被覆層を形成するのに有用
なポリマーの具体例としては、ポリ（メチルメタクリレ
ート／メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン）、メタクリレート及び多官能性（メタ）アクリレー
トモノマーのコポリマー、ポリ（スチレン／多官能性コ
モノマー）コポリマー、ポリ（スチレン／アクリロニト
リル／多官能性コモノマー）、及びメチルメタクリレー
ト及びα−メチルスチレンと多官能性コモノマーとのコ
ポリマーが挙げられる。

【００４１】上記のポリマー及びコポリマーは、特にポ
リマーがコモノマー中に可溶性の場合には、多官能性コ
モノマー及び／又は粒子状混合物と組み合わせて用いる
こともできる。このために、反応性の末端基又はペンダ
ント基を有する低分子量ポリマーがしばしば用いられ、
これは時々「オリゴマー」と称される。また、共溶媒を
用いて混合物を可溶化又は分散させることもできる。

【００４２】多官能性コモノマーは、ポリマー技術の当
業者に公知であり、スチレン及び（メタ）アクリレート
タイプのコモノマーが挙げられるが、これらに限定され
ない。多官能性（メタ）アクリレートコモノマーは、し
ばしば、重合して、基材表面の変性に有用な架橋被覆を
与えることができる。以下のものは、架橋被覆層の形成
において有用な多官能性（メタ）アクリルコモノマーの
例である：例えば１，６−ヘキサンジオールジアクリレ
ート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，４
−ブタンジオールジメタクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリ
レート及びビスフェノール−Ａジメタクリレートをはじ
めとするジアクリレート及びメタクリレート；トリメチ
ロールプロパントリアクリレートのようなモノマーをは
じめとするトリアクリレート、及び、ペンタエリトリト
ールテトラアクリレートをはじめとするテトラアクリレ
ート；ジペンタエリトリトールヘキサアクリレートのよ
うなヘキサアクリレート。例えばヒドロキシメチルアク
リレート、ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキ
シプロピルアクリレート、ヒドロキシプロピルメタクリ
レートなどをはじめとするヒドロキシアルキルアクリレ
ート及びヒドロキシアルキルメタクリレートもまた有用
である。

【００４３】架橋剤として有用な多エチレン性不飽和モ
ノマーの例としては、アリルメタクリレート；ジシクロ
ペンテニルアクリレート及びメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレート；グリシジルアクリレート；モノジシ
クロペンテニルエーテルのようなネオペンチルグリコー
ルのアクリレート及びメタクリレートエステル、エポキ
シ含有アクリレート及びメタクリレート；ジビニルベン
ゼン及びジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート
及びメタクリレートが挙げられる。

【００４４】架橋被覆層を形成するのに有用な更なるモ
ノマーとしては、４γ−グリシジルオキシプロピルトリ
メトキシシラン；γ−グリシジルオキシプロピルジメト
キシシラン、ジペンタエリトリトールペンタアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジペンタエ
リトリトールヘキサアクリレート、テトラヒドロフルフ
ラールアクリレート、コハク酸−トリメチロールエタン
−アクリル酸縮合物、３［（２−アミノエチル）アミ
ノ］プロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラ
ザン、トリメトキシメチルシラン、トリエトキシメチル
シラン、無水フタル酸、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチトリメトキシシラン、グリシジルメタク
リレート、フェニルトリエトキシシランが挙げられる
が、これらに限定されない。これらのモノマー及びオリ
ゴマーは、全て、更に、コロイダルシリカ又はシリカオ
ルトエステル、たとえばＳｉ（ＯＣＨ_２ＣＨ_３）_４、か
らの沈殿によって形成されるシリカ（ＳｉＯ_２）及び／
又はコロイド状金属酸化物と一緒に用いることができ
る。

【００４５】これらのコモノマーと一緒に用いることが
できる光重合開始剤の例としては、ベンゾイン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルベンゾエート、メチ
ル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセチルフェノン、２−ヒドロキシ−２
−メチル−１−フェニルプロパン−１オン、ベンゾフェ
ノンが挙げられる。これらのコモノマーと一緒に用いる
ことができる熱開始剤としては、ペルオキシド、ペルオ
キシカーボネート、アゾ開始剤、ニトロキシド及び多官
能性開始剤が挙げられる。

【００４６】また、ポリウレタン被覆を用いることもで
きる。これらの被覆は、ジオールとジイソシアネートと
の反応の生成物である。ジオールの例としては、ポリプ
ロピレングリコール及び１，４−ブタンジオールが挙げ
られる。ジイソシアネートの例としては、イソフェノン
ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート及び４，
４’−メチレンビスフェニルイソシアネートが挙げられ
る。これらのコモノマー又はオリゴマーは、また、２−
ヒドロキシエチルアクリレート又はメタクリレートのよ
うなアクリルモノマーでキャップして、多官能性アクリ
レート又はメタクリレート或いはこれらの組み合わせと
反応させることもできる。

【００４７】メラミンタイプの架橋被覆を用いることも
できる。これらの硬化ポリマーは、メラミン（トリアミ
ノトリアジン）とホルムアルデヒドとの反応生成物、イ
ミノ−メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミ
ンホルムアルデヒド樹脂、グリコルリルホルムアルデヒ
ド樹脂、及び尿素ホルムアルデヒド樹脂から形成され
る。

【００４８】更に、表面の変性、接着又は相溶化のため
に、非架橋ポリマー層を加えることができる。かかるポ
リマーとしては、例えば、ポリメチルメタクリレート、
ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアリーレート、
ポリビニリデンフルオリド、ポリフェニレンオキシド、
ポリスルホン、ポリーテルエーテルケトン、ポリエーテ
ルイミド、ポリビニルブチラール、ポリジメトキシシラ
ン、及びポリビニルアセテートが挙げられる。

【００４９】ポリマーは、液体又は溶融形態であってよ
く、生（ｎｅａｔ）で或いは溶媒中で用いることができ
る。架橋は、ポリマーをプラスチックシートに施した後
に行われる。モノマーを用いて被覆を形成する場合に
は、モノマーは溶媒中で用いることができる。次に、重
合をその場で行わせる。架橋又は重合（本明細書中で
は、集合的に「硬化」と称する）は、例えば、加熱又は
ＵＶ光への曝露のような方法によって行うことができ
る。被覆を熱硬化させるために用いられる時間及び温度
は、ベースシートの温度限界並びに被覆の組成に依存す
る。用いる手順、及びＵＶ硬化のために必要な波長は、
被覆の組成に依存するが、概して、広波長の紫外ランプ
源（ｂｒｏａｄ ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ ｕｌｔｒａｖ
ｉｏｌｅｔ ｌａｍｐ）を用いることができる。

【００５０】１以上の架橋被覆層を用いる場合には、一
つを被覆パッケージの内側層のアンカーコートとして機
能させ、他の一つをベースシート及び被覆パッケージの
外側層のトップコートとして機能させることができる。
トップコートは、基材に対して、例えば耐化学薬品性、
耐摩耗性、プラスチックシートの表面における不均一性
を平滑にするような改良された特性を与えることができ
る。他の態様においては、基材の表面に障害を与えずに
物品を取り扱う（例えば輸送中に）ためにポリエステル
又はポリエチレンフィルムのような一時的な層を、部分
的に被覆された基材に施して、引き続く処理工程の前に
除去することができる。

【００５１】以下の記載は、架橋ポリマー被覆を施すた
めの一つの手順の一例である。他の適用法を用いること
ができることが当業者には認識されるであろう。被覆組
成物を濾過して、０．５〜１．０μよりも大きな粒子を
除去する。組成物を、制御された湿度及び温度の、清浄
な、ダストのない雰囲気中で、予め清浄化されたプラス
チックシートに施す。好適な清浄雰囲気の例は、層流フ
ード（ｌａｍｉｎａｒｆｌｏｗ ｈｏｏｄ）である。

【００５２】被覆組成物は、上記に列記した被覆法の一
つによって施す。ディップコーティングは、個々のシー
トを被覆するのに好都合な方法である。ディップコーテ
ィング法においては、シートを取り出す速度及び適用中
の組成物の粘度を調節して、１〜５μの最終被覆厚さを
得る。溶媒が存在する場合には、被覆を室温で乾燥させ
て、溶媒を蒸発させるようにすることができる。

【００５３】被覆組成物が、硬化するために熱を必要と
する場合には、被覆は、対流オーブン中で硬化させるこ
とができる。硬化時間は、温度及び被覆の組成に依存す
るが、通常の硬化時間及び温度は、８５℃で４時間乃至
１７０℃で１０分である。例えば、Ｓｉｌｖｕｅ１００
（ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉ
ｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）のような熱硬化性シリコー
ン被覆樹脂を８５℃で硬化させる場合には、硬化時間は
４時間であってよく、同じ被覆樹脂を１２５℃で硬化さ
せる場合には、硬化時間は１時間であってよい。シリコ
ーン官能性アクリレートＸＦ−１１４２（ＳＤＣ Ｃｏ
ａｔｉｎｇ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏ
ｒｎｉａ）のように、被覆組成物が硬化するのにＵＶ光
を必要とする場合には、２５０〜３５０ｎｍの波長の光
を供給するランプを用いることによって、被覆を硬化さ
せることができる。かかるランプの例は、１平方センチ
メートルあたり１５０ミリジュール（ｍＪ／ｃｍ^２）の
最小エネルギーを有する中圧水銀ランプである。硬化に
必要な時間は、ランプのエネルギーに依存し、エネルギ
ーがより大きい程、必要な硬化時間はより小さい。例え
ば、ＸＦ−１１４２は、１１８ワット／ｃｍの集束ビー
ム下において約５ｍ／分の速度で硬化することができ
る。

【００５４】プラスチックシート又は他の被覆に対する
被覆の接着性を向上させなければならない場合には、プ
ラスチックと被覆との間において、プライマーコーティ
ング又は他の表面調製法を用いることができる。通常、
被覆の接着性及び耐久性を向上させるためにプライマー
が用いられる。プライマーは、１以上のポリマー又はよ
り小さな分子の溶液であってよい。他の態様において
は、プライマーは、プラスチックシートに対して侵食性
の溶媒であってよい。溶液を用いる場合には、溶液を濾
過して、１．０μより大きな粒子、より好ましくは０．
５μ未満の粒子を除去することが好ましい。プライマー
は、フローコーティング、ディップコーティング又はス
プレーコーティングのような被覆法によって施すことが
できる。プライマーは、通常、０．０５〜０．５μの層
で施す。アクリル及びポリカーボネートプラスチックに
対するシリコーン硬質被覆の接着性を促進させるために
用いられる商業的に入手できるプライマーの例は、ＳＨ
Ｐ４０１プライマー（ＧＥＳｉｌｉｃｏｎｅｓ，Ｗａｔ
ｅｒｆｏｒｄ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ）である。適用の後、
プライマー被覆は、通常、空気中で粘着性がなくなるま
で乾燥され、オーブン中でさらに乾燥させることができ
る。プラスチック基材に対する被覆の接着性を向上させ
るための他の方法は、例えば、Ｆ．Ｇａｒｂａｓｓｉら
によってＰｏｌｙｍｅｒ Ｓｕｒｆａｃｅｓ，ｆｒｏｍ
Ｐｈｙｓｉｃｓ ｔｏ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（Ｗｉ
ｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９
４）において記載されているコロナ処理のようなプラズ
マ処理である。次に、１以上の更なる架橋性被覆を上記
記載のように施すことができる。接着性の促進は、ま
た、反応性カップリング剤を用いることによって達成す
ることができる。反応性カップリング剤の例としては、
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン及びトリメトキ
シシリルプロピルメタクリレートが挙げられる。

【００５５】また、プラズマ蒸着を用いて、ダイアモン
ド様被覆又はフルオロカーボン被覆をはじめとする炭素
被覆のような架橋被覆を施すこともできる。プラズマポ
リマーは、普通のポリマーではないが、通常は室温で気
体状であるが、表面上に凝縮させてネットワークに形成
することのできる分子から形成される。プラズマポリマ
ーとしては、メタンのような炭化水素；ペルフルオロエ
タンのようなハロカーボン；及びヘキサメチルジシロキ
サン及びテトラメチルシランのような有機シリコーンの
ようなモノマーから形成されるポリマーが挙げられる
が、これらに限定されない。プラズマ蒸着及びプラズマ
ポリマーの適用は、Ｈ．Ｂｉｄｅｒｍａｎ及びＹ．Ｏｓ
ａｄａによって、Ｐｌａｓｍａ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａ
ｔｉｏｎＰｒｏｃｅｓｓ（Ｅｌｓｅｖｉｅｒ Ｓｃｉｅ
ｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，
１９９２）において記載されている。

【００５６】Ｂ．バリヤー層 バリヤー層は、ガス又は湿分の透過を減少させる被覆で
ある。バリヤー層の組成は、有機又は無機であってよ
い。バリヤー層は、また、バリヤー被覆の材料が耐溶剤
性で、プラスチックシートへのかかる溶剤の移動を防止
又は大きく減少させることができる場合には、耐溶剤性
被覆としても有用である。バリヤー層は、用いる場合に
は、プラスチックシートの１面又は両面に施すことがで
きる。

【００５７】無機バリヤー層を形成するのに有用な材料
としては、ケイ素、チタン及びアルミニウムのような金
属の酸化物及び窒化物が挙げられる。無機バリヤー層と
して有用な酸化物及び窒化物としては、二酸化ケイ素、
一酸化ケイ素及び他のケイ素酸化物；窒化ケイ素；酸化
アルミニウム；窒化アルミニウム；二酸化チタン；酸化
チタン；酸化イットリウム；酸化マグネシウム；及びこ
れらの混合物が挙げられるが、これらに限定されない。
オキシ窒化ケイ素及びオキシ窒化アルミニウムのような
酸化物及び窒化物の混合形態を用いることもでき、炭化
ケイ素のような非酸化物材料であってもよい。例えば、
二酸化ケイ素及び酸化アルミニウムのように、複数の金
属を同時に付着させることによって形成される複合材料
もまた有用である。これらの材料の多重層、例えば酸化
ケイ素と窒化ケイ素との多重層もまた、バリヤーフィル
ムとして有用である場合がある。無機被覆を形成するの
に有用な他の種類の材料としては、ゾル−ゲル被覆、有
機／無機ハイブリッド材料、及びポリシラザン前駆体又
はシリカ充填ポリシラザン前駆体を用いるセラミック酸
化物が挙げられる。オキシ窒化ケイ素を用いることが最
も好ましい。

【００５８】得られるバリヤー層の組成及び特性は、例
えば、無機材料中における原子の構造的配向性、密度、
モルホロジー、バリヤー層中における異なる原子種の付
着の相対速度、バリヤー層の付着中に存在する原子種の
相対割合のようなファクターによって決定される。無機
フィルムは、例えば、蒸発、スパッタリング、化学蒸着
法、物理蒸着法、プラズマ蒸着法、イオンプレーティン
グ、及びプラズマ化学蒸着法のような標準的な減圧付着
法によって施すことができる。プラスチックシートに関
するＴｇを超える基材の加熱を引き起こさない方法が好
ましい。無機フィルムに関する減圧付着法は、Ｒ．Ｆ．
Ｂｕｎｓｈａｈ（編）によって、Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏ
ｆ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ
ｆｏｒＦｉｌｍｓ ａｎｄ Ｃｏａｔｉｎｇｓ，第２
版（Ｎｏｙｅｓ Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎｓ，Ｐａｒｋ
Ｒｉｄｇｅ，ＮＪ，１９９４）において記載されてい
る。

【００５９】有機バリヤー層としてはポリマーが好まし
い。酸素バリヤー特性が所望の場合に、本発明において
用いるための有機バリヤー層を形成するのに有用なポリ
マーとしては、ポリビニルアルコール；エチレンビニル
アルコール；ポリビニリデンフルオリド及びポリビニリ
デンクロリドのようなハロゲン化ポリマー；及びポリア
クリロニトリル及びそのコポリマー；が挙げられるが、
これらに限定されない。水蒸気バリヤー性が所望の場合
に、本発明において用いるための有機バリヤー層を形成
するのに有用なポリマーとしては、ポリクロロトリフル
オロエチレン、ポリビニリデンクロリド、ポリビニリデ
ンフルオリド及びこれらのコポリマーのようなハロゲン
化ポリマー；ポリアクリロニトリル及びそのコポリマ
ー；ナイロン；テトラフルオロエチレンと環式ペルフル
オロビニルアリルエーテルとのコポリマー；フッ素化ポ
リイミド；エチレン及び環式オレフィンのポリマー及び
コポリマー；及びノルボルネンモノマーのポリマー及び
コポリマー；が挙げられるが、これらに限定されない。
架橋被覆層に関して上述したもののようなプラズマ重合
によって形成されるポリマーもまた、バリヤー材料とし
て有用である場合がある。

【００６０】有機フィルムは、例えば、スピンコーティ
ング、ディップコーティング、ロッドコーティング、ナ
イフコーティング、ブレードコーティング、エアナイフ
コーティング、グラビアコーティング、往復ロールコー
ティング、スロットコーティング、押出コーティング、
スライドコーティング及びローラーコーティングのよう
な当業者に公知の方法によって、溶融ポリマー又はポリ
マー溶液の形態で施すことができる。ローラーコーティ
ング法は、メニスカスコーティング、グラビアコーティ
ング及びキッスコーティングのような周知の方法を包含
する。かかる被覆法は、Ｅ．Ｄ．Ｃｏｈｅｎ及びＥ．
Ｂ．Ｇｕｔｏｆｆ（編）によって、Ｍｏｄｅｒｎ Ｃｏ
ａｔｉｎｇ ａｎｄ Ｄｒｙｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌｏ
ｇｙ（ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ，１９９２）において記載されている。他の態様にお
いては、ポリマー有機フィルム被覆は、フィルムの積
層、又はポリマー材料及びプラスチックシートの共押出
によって、プラスチックシートに施すことができる。

【００６１】バリヤー層の特性は、プラスチック基材の
最終的なバリヤー特性に影響を与える。例えば、バリヤ
ーの化学組成は、酸素透過性及び水透過性に影響を与え
る可能性がある。フィルムにおける欠陥は、バリヤー特
性に悪影響を与える可能性がある。例えば、ピンホール
はフィルムのバリヤー特性に影響を与える。フィルムの
密度もまた、そのバリヤー特性に影響を与え、密度がよ
り低いと、フィルムのガス透過性が上昇する可能性があ
る。バリヤー層の厚さもまた、バリヤー特性に影響を与
える。例えば、無機バリヤー層を用いる時に、無機材料
の不完全な層を付着させた場合は、バリヤー特性が悪影
響を受ける。

【００６２】Ｃ．透明な導電性層 本発明の基材は、光学ディスプレイにおいて用いるため
の導電性被覆で被覆することができる。例えば、基材を
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）において用いる場合には、
導電性被覆が必要である。透明な導電性層を用いる場合
には、概して、ＬＣＤセルの「内側」になり液晶に最も
近接する一方の面のみに施す。

【００６３】本発明の方法を用いるもののような、ディ
スプレイ用途において有用な本発明の基材のための透明
な導電性被覆として有用な材料の例としては、インジウ
ムスズオキシド（ＩＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ_２）、酸
化インジウム（Ｉｎ_２Ｏ_３）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸
化カドミウム（ＣｄＯ）、カドミウムスズオキシド（Ｃ
ｄ_２ＳｎＯ_４）、及びこれらの混合物が挙げられる。他
の態様においては、例えば、ポリアニリン又はポリビニ
レンフェニレンのようなポリマー導電性被覆を用いるこ
とができる。導電性被覆は、また、導電性を上昇させる
種々のドーパント原子又は分子を含んでいてよい。液晶
ディスプレイのための導電性被覆に必要な抵抗は、製造
されるディスプレイのタイプに依存するが、通常、５０
０オーム／平方以下、好ましくは１００オーム／平方以
下、より好ましくは５０オーム／平方以下の抵抗を有す
る。

【００６４】Ｄ．カラーフィルター被覆 所望の場合には、１以上のカラーフィルター被覆を本発
明の被覆基材中に含ませることができる。好ましくは、
１以上のカラーフィルター被覆は、ベースシートに対し
て、導電性被覆の内側に配置する。場合によって用いる
１以上のカラーフィルター被覆は、トップコートと共に
又はこれを用いずに、用いることができる。トップコー
トが存在する場合には、カラーフィルター被覆をトップ
コートの内側に配置することが好ましい。他の態様にお
いては、カラーフィルター被覆は、また、トップコート
として機能させることもできる。カラーフィルター被覆
は、例えば、染料又は顔料を含むポリマーであってよ
い。

【００６５】１以上の被覆層を用いる場合には、層を積
層しなければならない論理的な順番は存在しないが、被
覆は隣接する被覆及びプラスチックシートそれ自体に対
して接着していなければならない。さらに、被覆された
プラスチックシートは、それ自体、ある種の特性を有し
ていなければならず、これらが、用いられる被覆又は被
覆が配置される順番を決定する可能性がある。例えば、
バリヤー被覆が化学的な攻撃に対して耐性を有しない場
合には、それを攻撃する溶剤にバリヤー被覆が曝露され
るような状態にすることはできない。同様に、バリヤー
被覆がプラスチックシートに対して接着しない場合に
は、架橋被覆層の一つのようなアンカーコートを、プラ
スチックシートとバリヤー被覆との間に用いて、接着性
を向上させることができる。

【００６６】図２に示す本発明の被覆基材の好ましい態
様においては、架橋被覆２をまずプラスチックシート１
の両側に施し；無機ガスバリヤー層３を架橋被覆層２の
上に施し；更なる架橋層２をガスバリヤー層３の上に施
し；最後に、ＩＴＯの層４を被覆基材の一方の側に施
す。

【００６７】図３に示す他の好ましい態様においては、
架橋被覆２をプラスチックシート１の両面に施し；無機
ガスバリヤー被覆３を架橋被覆２の上に施し；ＩＴＯの
層４を被覆基材の一方の側に施す。

【００６８】Ｗ．Ｃ．Ｏ’ＭａｒａによってＬｉｑｕｉ
ｄ Ｃｒｙｓｔａｌ Ｆｌａｔ Ｐａｎｅｌ Ｄｉｓｐ
ｌａｙｓ（Ｖａｎ Ｎｏｓｔｒａｎｄ Ｒｅｉｎｈｏｌ
ｄ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ，１９９３）において記載された
ものと同様の材料及び方法を用いることによって、本発
明の基材を液晶ディスプレイセル中に含ませることがで
きる。基材から液晶セルを形成する方法は、以下の１以
上の工程を含むことができる：フォトリソグラフ法を用
いて透明な導電性フィルムを少なくとも一つの基材上に
パターニングし；液晶アラインメント材料を二つの基材
の上の導電性被覆に施し；アラインメント層をラビング
して、基材にアラインメント特性を与え；スペーサー粒
子を少なくとも一つの基材に施し；少なくとも一つの基
材にエッジシールを施し、二つの基材を、導電性層を互
いに向き合わせて適当な配向で接触させ；エッジシール
を硬化し；液晶を、基材の間に形成された狭いギャップ
中に射出し；ギャップをシールする。本発明の基材は、
液晶及びポリマーの複合体を含むタイプをはじめとする
全てのタイプの液晶ディスプレイセルにおいて用いるこ
とができる。

【００６９】以下の実施例は、本発明の更なる種々の特
徴を示すために与えられるが、本発明の範囲を全ての点
で制限するものではない。

【００７０】実施例１：ポリグルタルイミドの調製 以下は、本発明の基材として有用なポリグルタルイミド
の四つの例である。 プラスチックＡ：イミド化剤としてメチルアミンを、再
エステル化剤として無水ジメチルカーボネートを用い
て、米国特許第４，７２７，１１７号において教示され
た方法によりポリマーを調製した。ポリマーの窒素含量
は約７．５ｗｔ％であった。残留酸含量は０．３ｗｔ％
であった。ポリマーのＴｇは１５５℃であった。０．８
ｍｍの厚さの成形シートの全光透過率は９２％であっ
た。

【００７１】プラスチックＢ：イミド化剤としてアンモ
ニアを用いて、米国特許第４，２４６，３７４号に教示
された方法によりポリマーを調製した。ポリマーの窒素
含量は約８．２重量％であった。Ｔｇは２０５℃であっ
た。１ｍｍの厚さの成形シートの全光透過率は９０％で
あった。

【００７２】プラスチックＣ：米国特許第４，７２７，
１１７号に教示された方法によって、以下の二段階工程
でポリマーを調製した。

【００７３】工程１：ペレット化したＰＭＭＡ試料（Ｍ
ｗ＝１３４，０００）を、１１０ｇ／分の速度で、４０
０ｒｐｍで運転された２０ｍｍの逆回転タンジェンシャ
ル二軸押出機の供給ゾーンに供給することによって、イ
ミド化反応を行なった。ポリマーを、１６５℃の設定温
度で運転されている１０．２直径長さ（ｄｉａｍｅｔｅ
ｒｓ ｌｏｎｇ）の供給ゾーンを通して送り、更に長さ
３ｃｍの溶融ブリスター上で３００℃の設定温度で運転
されている６３．０直径長さの加圧反応ゾーン中に送
り、その中に、溶融ブリスターの末端から５．７直径下
流（ｄｉａｍｅｔｅｒｓ ｄｏｗｎｓｔｒｅａｍ）の点
で７２７０ｋＰａで４９ｇ／分の速度でポンプ移送する
ことによって無水モノメチルアミンを導入した。過剰の
アミンとガス状の副生成物を、溶融ブリスターの端部か
ら４５直径下流の点で７２７０ｋＰａにセットされた圧
力調整バルブから取り出された。次に、得られたポリマ
ーを、長さ７．６ｃｍの第２の溶融ブリスター上で、２
８０〜２９０℃及び８．５ｋＰａの１２．５直径長さの
脱蔵ゾーン中に送った。脱蔵ゾーンの末端におけるポリ
マーを、単軸スクリュー中に送り、溶融ダイからポンプ
で押出し、水浴中で短く冷却した後、ペレット化して回
収した。製造されたポリマーは、８．２１％の窒素レベ
ル％及び０．４３６ｍｅｑ／ｇの滴定レベル（３．７５
ｗｔ％のメタクリル酸レベルに相当する）、及び１０
８，０００（ゲル透過クロマトグラフィーによって測
定）のＭｗを有していた。次に、回収されたポリマーグ
ルタルイミドを、下記の工程２に示すように、ポリマー
溶融体に、メチルアミンに代えてジメチルカーボネート
を加えた他は同様の構造の押出機及びスクリューを通し
て再び通過させた。

【００７４】工程２：ペレット化されたポリイミドを、
９０ｇ／分の速度で、４００ｒｐｍで運転している２０
ｍｍの逆回転タンジェンシャル二軸押出機の供給ゾーン
に供給することによって、メタクリル酸の再エステル化
反応を行なった。ポリマーを、上記記載のように３００
℃に設定された反応ゾーン中に送り、その中に、上記記
載のように４６５０ｋＰａで９．０ｇ／分の速度でポン
プ移送することによって無水ジメチルカーボネートを導
入した。過剰のジメチルカーボネート及びガス状の副生
成物を、上記記載のようにして、４６５０ｋＰａで除去
した。次に、得られたポリマーを、第２の溶融ブリスタ
ー（長さ７．６ｃｍ）の上で、２８０〜３００℃及び圧
力８．５ｋＰａの１２．５直径長さの脱蔵ゾーン中に送
った。ポリマーを上記と同様の方法で回収し、８．１１
％の窒素レベル％及び０．００〜０．０１ｍｅｑ／ｇの
滴定レベル（０．００〜０．０８％のメタクリル酸レベ
ルに相当する）を有するポリマーを得た。

【００７５】実施例２：高品質ポリグルタルイミド基材
の調製 ポリグルタルイミド樹脂（Ｍｗ＝９７，５００；約１８
０℃のＴｇ）を、重量測定供給器を用いて２．５ｇ／秒
の速度で、３０：１のＬ：Ｄ比を有する直径２インチ
（５ｃｍ）の単軸排気２ステージ押出機中にスターブフ
ィードした（ｓｔａｒｖｅ ｆｅｄ）。押出機バレル
は、供給末端における２４６℃から放出末端における３
２９℃までの温度プロファイルを有していた。７２０〜
７５０ｍｍＨｇの脱蔵ベントを用いて、樹脂を脱蔵し
た。スクリューは３０ｒｐｍで回転させた。ギヤタイプ
の溶融ポンプを用いて、溶融樹脂を、スクリーンパック
フィルターを通して、直径１．５８８ｃｍの内部導管及
び０．９６５〜１．０６７ｍｍに先細りしている長さ４
０ｃｍのスロットを有する長さ６５ｃｍのオーバーフロ
ーダイにポンプ移送させた。溶融ポンプ温度は３２９℃
であった。溶融ポンプ吸引圧力は約４１００ｋＰａであ
った。溶融ポンプ放出圧力は約１６５０ｋＰａであっ
た。ダイの内部孔を介して加熱油系（油温＝３４３℃）
を用いてダイを加熱し、強制通気オーブン（温度＝２８
０℃）によってダイの周囲の空気を加熱した。ダイの先
端部において形成された溶融ウェブを、１．２ｃｍ／秒
の速度で運転されている二対のタンクトレッド（ｔａｎ
ｋ ｔｒｅａｄｓ）を用いて移送し、室温の自然対流に
よって冷却した。

【００７６】冷却されたシートから２００ｍｍ×２００
ｍｍの片を切断し、試験した。得られたシートは、±
０．０１５ｍｍの変動で、０．３９０ｍｍの厚さを有し
ていた。表面の波打ちＷｙ及びＷｑは、それぞれ０．５
μ未満及び０．１８μであり、表面粗さＲｑは７．６ｎ
ｍであり、オプティカルリターダンスは６ｎｍ未満であ
った。１６０℃において測定した熱収縮は０．０３％以
下であった。全光透過率は９２％であり、曇り度は０．
３％であった。

【００７７】実施例３：ポリグルタルイミドシート及び
架橋被覆層からなる基材の調製 実施例１Ａのイミド化アクリルプラスチック（１５５℃
のＴｇ、１．５４の屈折率）を、０．８ｍｍのスペーサ
ーを用いて、研磨されたクロムプレートの間において、
２４０℃での圧縮成形によって、厚さ０．８ｍｍの１０
ｃｍ×１０ｃｍのシートに成形した。全白色光透過率は
９２％であった。シートのオプティカルリターダンスは
５ｎｍ未満であった。

【００７８】プラスチックシートを、イソプロピルアル
コールで洗浄し、多官能性アクリレート及びアミノ有機
官能性シランの反応生成物から形成され、分散されたシ
リカ（製品ＸＦ−１１４２、ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ
Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）
を含む溶液を用いてディップコーティングした。被覆剤
の粘度は約１０センチポイズであった。被覆溶液からの
引き出し速度は１０ｃｍ／分であった。被覆を、２５０
〜３６０ｍＪ／ｃｍ^２のエネルギー密度を施すことによ
って、広波長のＵＶ照射に曝露することにより硬化させ
た。得られた乾燥被覆厚さは、スタイラスプロファイラ
ー（Ｓｕｒｆａｎａｌｙｚｅｒ Ｓｙｓｔｅｍ ５００
０，Ｆｅｄｅｒａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ；Ｐｒｏｖｉｄ
ｅｎｃｅ，Ｒｈｏｄｅ Ｉｓｌａｎｄ）を用いて測定し
て、約３μであった。液晶ディスプレイのプラスチック
基材としてのその使用に関する物理特性を下表１に示
す。

【００７９】実施例４：架橋被覆及びバリヤー被覆を有
するポリグルタルイミド基材の調製 実施例３の手順にしたがって、実施例１Ａのポリグルタ
ルイミドプラスチックシートを成形し、被覆し、硬化さ
せた。実施例３と同様に、被覆剤溶液を、多官能性アク
リレート及びアミノ有機官能性シランの反応生成物から
形成し、分散シリカ（製品ＸＦ−１１４６，ＳＤＣ Ｃ
ｏａｔｉｎｇｓ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉ
ｆｏｒｎｉａ）を含ませた。次に、以下の手順にしたが
うイオンビームスパッタリング法によって、オキシ窒化
ケイ素フィルムをシートの両側に付着させた。

【００８０】プラスチックシートの表面を、アルゴン／
酸素プラズマ中で約３０分処理した。アルゴン（７５％
の気体圧）、酸素（２２％）及び窒素（３％）からなる
予め混合された雰囲気中において、イオンビームによっ
てケイ素金属ターゲットをスパッタリングした。全気体
圧力は約７×１０^−４ｔｏｒｒであった。フィルム付着
速度は約０．５オングストローム／秒であった。被覆の
厚さは、６００オングストロームであると測定された
（透過電子顕微鏡により測定した）。付着されたフィル
ムのＳｉ：Ｏ：Ｎ比を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）に
よって測定した。原子比は、Ｓｉ：Ｏ：Ｎ＝１：１．
０：０．３であると測定された。

【００８１】被覆プラスチックの物理特性を下表１に示
し、実施例３からの被覆プラスチックと比較した。

【００８２】実施例５：架橋被覆及びバリヤー被覆を有
するポリグルタルイミド基材の調製 以下の手順によるイオンビームスパッタリング法を用
い、実施例４にしたがって調製されたプラスチックシー
トの両面にオキシ窒化ケイ素フィルムを付着させた。

【００８３】プラスチックシートの表面を、アルゴン／
酸素プラズマ中で約３０分処理した。アルゴン（７５％
の気体圧）、酸素（２２％）及び窒素（３％）からなる
予め混合された雰囲気中において、イオンビームによっ
てケイ素金属ターゲットをスパッタリングした。バック
グラウンド圧力は５×１０^−５ｔｏｒｒであった。全気
体圧力は約７×１０^−４ｔｏｒｒであった。フィルム付
着速度は約０．５オングストローム／秒であった。被覆
の厚さは、１０００オングストロームであると測定され
た（透過電子顕微鏡により測定した）。付着されたフィ
ルムのＳｉ：Ｏ：Ｎ比を、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）
によって測定した。原子比は、Ｓｉ：Ｏ：Ｎ＝１：０．
３：０．７であると測定された。

【００８４】次に、ＳｉＯ_０．３Ｎ_０．７が被覆された
プラスチックシートを、シリカが充填されたアルコキシ
シラン被覆溶液（Ｓｉｌｖｕｅ１２１，ＳＤＣ Ｃｏａ
ｔｉｎｇｓ Ｉｎｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏ
ｒｎｉａ）中に浸漬した。被覆剤溶液の粘度は１０セン
チポイズであった。シートを、２５ｃｍ／分の速度で溶
液から引き出し、被覆プラスチック基材を、室温におい
て３０分空気乾燥した。被覆樹脂を、対流オーブン中に
おいて１２５℃で１時間加熱することによって、シルセ
スキオキサン（ｓｉｌｓｅｓｑｕｉｏｘａｎｅ）被覆に
硬化させた。得られたシルセスキオキサン被覆の厚さは
約５μであった。

【００８５】下表１は、この実施例５からの被覆プラス
チックの物理特性を、実施例３及び４からの被覆プラス
チック及び未被覆プラスチックと比較して示す。

【００８６】

【表１】

【００８７】実施例６：導電性層の適用 実施例３及び５からの被覆プラスチックの片、及び実施
例１Ａからの未被覆プラスチックの片（対照目的）を、
透明な導電性ＩＴＯフィルムで、一方の側を被覆した。
ＩＴＯフィルム（インジウム：スズの比＝１０：１）
を、ＤＣマグネトロンスパッタリングによって、ＩＴＯ
ターゲットから施した（Ｒ．Ｆ．Ｂｕｎｓｈａｈ（編）
のＨａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ Ｔ
ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ ｆｏｒ Ｆｉｌｍｓ ａｎｄ
Ｃｏａｔｉｎｇｓ，第２版（Ｎｏｙｅｓ Ｐｕｂｌｉ
ｃａｔｉｏｎｓ，Ｐａｒｋ Ｒｉｄｇｅ，Ｎｅｗ Ｊｅ
ｒｓｅｙ）を参照）。ＩＴＯの厚さは約１５０ｎｍであ
った。ＩＴＯ接着性及び表面抵抗並びに最高使用温度を
試験した。特性を下表２に報告する。

【００８８】

【表２】

【００８９】実施例７：被覆ポリグルタルイミド基材 実施例１Ｂのイミド化アクリルプラスチック（２０５℃
のＴｇ）を、研磨されたクロムプレートの間において、
２５０℃で、圧縮成形によって厚さ１．０ｍｍのシート
に成形した。プラスチックシートは、直交偏光子の間で
観察して、光を偏光しなかった。プラスチックシート
を、実施例３と同様に、架橋被覆で被覆した。次に、実
施例５と同様にシートをオキシ窒化ケイ素で被覆した
後、シリカを充填したアルコキシシラン被覆溶液（Ｓｉ
ｌｖｕｅ１２１，ＳＤＣ Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｉｎ
ｃ．，Ａｎａｈｅｉｍ，Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ）中に浸
漬し、硬化させた。

【００９０】下表３は、未被覆プラスチックと比較した
被覆プラスチックの特性を示す。

【００９１】

【表３】

【００９２】実施例８：被覆ポリグルタルイミドプラス
チック基材 シートダイ及び研磨されたロールを有する直径６．３ｃ
ｍの単軸２ステージ押出機を用いて、実施例１Ｃからの
イミド化アクリルプラスチック（約１８０℃のＴｇ）
を、０．４ｍｍのフィルムに押出した。押出機のバレル
温度は３００〜３１５℃であり、ダイ温度は２８０℃で
あり、ロール温度は１３０℃であった。ロール速度は、
約１００ｃｍ／分であった。０．４ｍｍのフィルムの全
光透過率は９２％であった。

【００９３】実施例４に記載のようにして、ポリグルタ
ルイミドフィルムの、両側を被覆した。次に、被覆プラ
スチックを、実施例５に記載の方法にしたがって、オキ
シ窒化ケイ素フィルムで両側を被覆した。オキシ窒化ケ
イ素フィルムのターゲット厚さは８００Åであった。被
覆プラスチックフィルム基材の特性を下表４に示す。

【００９４】

【表４】

【００９５】試験法 上記の実施例において調製した基材を試験するために以
下の試験法を用いた。これらの試験法は一例であり、結
果は方法に依存しないことが、当該技術において理解さ
れる。

【００９６】光透過率 プラスチックシートの全光透過率は、Ｇａｒｄｎｅｒ
ＸＬ−２１１ Ｈａｚｅｇａｒｄ装置（Ｐａｃｉｆｉｃ
Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ；Ｓｉｌｖｅｒ Ｓｐｒｉｎ
ｇ，Ｍａｒｙｌａｎｄ）を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ−１０
０３の方法を用いて測定した。曇り度の測定は、同じ装
置を用いて、ＡＳＴＭ Ｄ−１００３のＡｐｐｅｎｄｉ
ｘ Ｘ２の方法によって行なった。

【００９７】屈折率 プラスチックシートの屈折率は、ＡＳＴＭ Ｄ−５４２
の方法によって測定した。

【００９８】オプティカルリターダンス 以下の方法で、６３２．８ｎｍの波長におけるオプティ
カルリターダンスを測定した。偏光されたレーザービー
ム（実験フレームに対して−４５°で偏光した）を、プ
ラスチックシートを通して通過させ、次に、実験フレー
ムに対して０°に設定した光学軸で配向した光弾性モジ
ュレーター（ｐｈｏｔｏｅｌａｓｔｉｃｍｏｄｕｌａｔ
ｏｒ：ＰＥＭ）（モデルＰＥＭ−９０，ＨＩｎｄｓ Ｉ
ｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｉｎｃ．；Ｈｉｌｌｓｂｏｒ
ｏ，Ｏｒｅｇｏｎ）を通して通過させた。ＰＥＭ電圧
を、１／４波長リターダンス（１５８．２ｎｍ）に設定
した。次に、光を、第２の線状偏光子（偏光軸＋４５
°）を通して通過させ、シリコンダイオード検出器（モ
デルＰＤＡ−５０，ＴｈｏｒＬａｂｓ Ｉｎｃ．；Ｎｅ
ｗｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によって強度を検出
した。ＰＥＭ及び検出器をモジュレートし、検出器から
の信号を固定増幅器（モデル５２１０，ＥＧ＆ＧＰｒｉ
ｎｃｅｔｏｎ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅｓｅａｒｃｈ；Ｐ
ｒｉｎｓｔｏｎ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙ）によって処理
した。プラスチックシートを、レーザービームに対して
直角に回転させて、最大信号を見出した。最大信号を、
標準１／４波長板に関して測定された信号と比較するこ
とによって、オプティカルリターダンスを決定した。

【００９９】ガラス転移温度 プラスチックのガラス転移温度を、示差走査熱量計（モ
デルＤＳＣ−７，Ｐｅｒｋｉｎ−Ｅｌｍｅｒ Ｃｏｒ
ｐ．；Ｎｏｒｗａｌｋ，Ｃｏｎｎｅｃｔｉｃｕｔ）によ
って測定した。試験の前に、それぞれの樹脂の２０ｍｇ
の試料を予め秤量した。プラスチックのそれぞれの試料
を、計算されたガラス転移温度よりも２０℃高い温度に
加熱し、その温度に１分間保持した後、室温に冷却する
ことによって、予備コンディショニングした。熱容量対
温度を、１分あたり２０℃の走査速度で記録した。商業
的に入手し得るプラスチックに関するＴｇ値を製品文献
から得た。

【０１００】ガス透過 酸素透過を、Ｏｘｔｒａｎ１０００装置（Ｍｏｄｅｒｎ
Ｃｏｎｔｒｏｌｓ，Ｉｎｃ．；Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉ
ｓ，Ｍｉｎｎｅｓｏｔａ）を用いて測定した。用いた試
験手順はＡＳＴＭ Ｄ−３９８５であった。試験気体
は、相対湿度０％の１００％酸素であった。試験温度は
２３℃であった。水蒸気透過を、Ｐｅｒｍａｔｒａｎ
Ｗ６００装置（Ｍｏｄｅｒｎ Ｃｏｎｔｒｏｌｓ，Ｉｎ
ｃ．；Ｍｉｎｎｅａｐｏｌｉｓ，Ｍｉｎｎｅｓｏ）を用
いて測定した。用いた試験手順は、ＡＳＴＭ Ｆ−１２
４９であった。試験温度は３７℃であった。試験は、１
００％の相対湿度下で行なった。測定値は、他に示さな
い限りにおいて、平衡状態において測定した。

【０１０１】窒素含量 イミド化アクリルポリマーの窒素含量を、窒素分析器
（Ｃａｒｌｏ ＥｒｂａＳｔｒｕｍｅｎｔａｚｉｏｎｅ
ＮＡ１５００；Ｍｉｌａｎ，Ｉｔａｌｙ）を用いて測
定した。装置中において、プラスチック（０．１ｇ）を
フラッシュ燃焼によって完全に酸化した後、金属銅で還
元して、酸素ガスを除去し、全ての窒素酸化物を元素状
窒素に還元した。水及び二酸化炭素を濾過カラムによっ
て除去した。最後に、窒素重量％を、アセトアニリド
（Ｃ_８Ｈ_９ＮＯ）標準試料（窒素１０．３６％）を用い
て、熱導電度検出器によって測定した。

【０１０２】最高使用温度 被覆プラスチックを、所定の温度に３０分加熱し、室温
に冷却し、視認及び顕微鏡により検査した。被覆中のク
ラック、被覆の外観における変化、被覆の粗化、又は被
覆の剥離は、不可として示された。この手順を、不可が
報告されるまで、１０℃の昇温間隔で繰り返した。プラ
スチックが破壊されることなく加熱することのできた最
高温度が、最高使用温度として報告される。

【０１０３】接着性 接着性をＡＳＴＭ Ｄ−３３５９の方法によって測定し
た。試験の完了後に被覆によって覆われた試験領域の割
合を記録した。１００％の値は、完全な接着性を示す。

【０１０４】硬度 硬度を「鉛筆硬度試験」によって測定した。種々の程度
の鉛硬度（最も軟質な６Ｂから最も硬質な９Ｈまで）の
鉛筆を用いた。最も硬質の鉛筆をまず適用した。鉛筆を
基材に対して４５°の角度に保持し、鉛筆を表面に沿っ
て動かしながら均一で一定の圧力を加えた。表面にスク
ラッチを与えなかった鉛筆が見出されるまで、硬度を減
少させた鉛筆を引き続いて用いた。基材の硬度を、表面
にスクラッチを与えなかった最も硬質の鉛筆の硬度とし
て報告した。

【０１０５】耐摩耗性 １００ｇ／ｃｍ^２の圧力を用いて、チーズクロスを、試
料の表面上で１００ストローク擦った。基材の表面を、
擦減及び損傷に関して視認した。

【０１０６】耐溶剤性 プラスチック及び被覆プラスチックの片を室温（２３
℃）で１０分間浸漬することによって、溶剤に対する耐
性を測定した。用いた溶剤は、イソプロピルアルコー
ル、脱イオン水、アセトン、Ｎ−メチルピロリドン、γ
−ブチロラクトン、酢酸ブチル、５％ＨＣｌ及びＥ７液
晶混合物（ＥＭ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｈａｗｔｈｏ
ｒｎｅ，Ｎｅｗ Ｙｏｒｋにより供給）であった。プラ
スチック基材の表面の状態の視認検査を報告した。溶剤
に対する曝露後に外観の変化がなかった場合には、基材
はその溶剤に対して耐性であると記載した。表面が、変
形、剥離、粗化、クラッキング又は他の損傷を受けた場
合には、基材は、その溶剤によって侵されたと報告し
た。

【０１０７】ＩＴＯシート抵抗 四点プローブ法を用いて、導電性被覆のシート抵抗を測
定した。四つのプローブチップ（金属オスミウム）を、
等距離に離して直線状に整列させ、均一な力を用いて、
導電性被覆プラスチックの表面に適用した。電流源を用
いて、二つの外側のプローブチップを通して電流（Ｉ）
を流した。二つの内側のプローブを通る電圧降下（Ｖ）
を、電圧計を用いて測定した。式： ＲＳ＝（π／ｌｎ２）・（Ｖ／Ｉ） を用いてシート抵抗を算出した。

【０１０８】滴定試験（ＭＡＡのｗｔ％） 滴定剤として０．１Ｎアルコール性ＫＯＨを用いて、
１：１（ｖ：ｖ）のメチレンジクロリド：メタノール中
に溶解したポリマーの０．１５ｇ試料の滴定によって
（ＪＴ Ｂａｋｅｒにより供給されるＨＰＬＣグレード
のメチレンジクロリド、及びＥＭ Ｓｃｉｅｎｃｅによ
り供給されるオムニソルブ（Ｏｍｎｉｓｏｌｖ）グレー
ドのメタノール）、ポリメタクリルイミド中の全滴定可
能酸性官能価を測定した。滴定の前に、試料を、超音波
浴中で短く処理することによって溶解し、０．１ＮのＨ
Ｃｌ水溶液の０．２０ｃｃのアリコートを、滴定の直前
に加えた。この撹拌された溶液に、０．１Ｎ−ＫＯＨ
（メタノール中）を、ガラスｐＨ電極（ＰＨＧ２０１）
及びカロメル参照電極、ＬｉＣｌ塩ブリッジ溶液（ＲＥ
Ｆ９０１）、およびＡＢＵ９３トリビュレット装置を有
するＳＡＭ９０滴定セルを有するＶＩＴ９０滴定器（Ｒ
ａｄｉｏｍｅｔｅｒ，Ｃｏｐｅｎｈａｇｅｎ）を用い
て、電位差測定の終点に加えた。ＭＡＡに関するｍｅｑ
／ｇ値を下式Ａから算出する。 ［Ｎ］ＫＯＨ・［（終点までのｃｃ，試料）−（終点までのブランクｃｃ ，ブランク）］／試料重量（ｇ） Ａ ＭＡＡのｗｔ％値は、下式Ｂから算出する。 ｗｔ％ＭＡＡ＝１００［（ｍｅｑ／ｇ）・０．０８６０９ｇ／ｍｅｑ］＝ ８．６０９（ｍｅｑ／ｇ） Ｂ ＫＯＨ溶液は、無水フタル酸水素カリウムの滴定に基づ
いて標準化する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 図１Ａは、通常の「オーバーフロー」法装置
の正面図であり、図１Ｂは、図１Ａの装置の側面図であ
る。

【図２】 図２は、本発明の電子プレートの一態様の断
面の概念図である。

【図３】 図３は、本発明の電子プレートの他の態様の
断面の概念図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０９Ｄ 4/06 Ｃ０９Ｄ 4/06 5/24 5/24 133/24 133/24 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 5/20 １０１ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ (72)発明者 マイケル・ポール・ホールデン−アバート ン アメリカ合衆国ペンシルバニア州19002, メープル・グレン，ホイットニー・レー ン・964 (72)発明者 オードリー・ブレンダ・リス アメリカ合衆国ペンシルバニア州18940, ニュータウン，イートン・コート・21 (72)発明者 スティーブン・デービッド・フィールズ アメリカ合衆国ペンシルバニア州19067, ヤードリー，シナバー・レーン・283

Claims (22)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくとも
   ８８％の全白色光透過率、及び０．１％以下の収縮率を
   有する２５ｍｍ以下のポリグルタルイミドシートを含む
   ことを特徴とする電子ディスプレイ用途のためのプラス
   チック基材。
2. 【請求項２】 ポリグルタルイミドシートが、更に、２
   ０ｎｍ以下のオプティカルリターダンスを有する請求項
   １に記載の基材。
3. 【請求項３】 ポリグルタルイミドシートが、１ｍｍ以
   下の厚さを有する請求項１に記載の基材。
4. 【請求項４】 架橋被覆の少なくとも一つの層を更に含
   む請求項１に記載の基材。
5. 【請求項５】 架橋被覆が、アクリレートホモポリマー
   及びコポリマー、メタクリレートホモポリマー及びコポ
   リマー、シリコンモノマーを含むアクリルポリマー、シ
   リコーンポリマー、ポリウレタン、エポキシ樹脂、及び
   プラズマ蒸着ポリマーからなる群から選択されるポリマ
   ーを含む請求項４に記載の基材。
6. 【請求項６】 架橋被覆が、（メタ）アクリレート及び
   有機官能性アルコキシシランからなる群から選択される
   ホモ又はコポリマーを含む請求項５に記載の基材。
7. 【請求項７】 架橋被覆が、ポリ（メチルメタクリレー
   ト／メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン）、
   （メタ）アクリレート及び多官能性（メタ）アクリレー
   トモノマーのコポリマー、ポリ（スチレン／多官能性コ
   モノマー）コポリマー、ポリ（スチレン／アクリロニト
   リル／多官能性コモノマー）、及びメチルメタクリレー
   ト及びα−メチルスチレンと多官能性コモノマーとのコ
   ポリマーからなる群から選択されるポリマーを含む請求
   項６に記載の基材。
8. 【請求項８】 バリヤー被覆の少なくとも一つの層を更
   に含む請求項１又は４に記載の基材。
9. 【請求項９】 バリヤー被覆が、金属酸化物、金属窒化
   物、金属オキシ窒化物、炭化ケイ素及びこれらの混合物
   からなる群から選択される無機材料を含む請求項８に記
   載の基材。
10. 【請求項１０】 無機材料が、二酸化ケイ素、一酸化ケ
    イ素及び他のケイ素酸化物；窒化ケイ素；酸化アルミニ
    ウム；窒化アルミニウム；二酸化チタン；酸化スズ；酸
    化イットリウム；酸化マグネシウム；オキシ窒化ケイ
    素；オキシ窒化アルミニウム；炭化ケイ素；及びこれら
    の混合物からなる群から選択される請求項９に記載の基
    材。
11. 【請求項１１】 バリヤー被覆が、ガス抵抗性又は湿分
    抵抗性を有するポリマーを含む請求項８に記載の基材。
12. 【請求項１２】 基材抵抗性を有するポリマーが、ポリ
    ビニルアルコール；エチレンビニルアルコール；ハロゲ
    ン化ポリマー；ポリアクリロニトリル及びそのコポリマ
    ー；及びプラズマポリマーからなる群から選択される請
    求項１１に記載の基材。
13. 【請求項１３】 湿分抵抗性を有するポリマーが、ハロ
    ゲン化ポリマー及びコポリマー；ポリアクリロニトリル
    及びそのコポリマー；ナイロン；テトラフルオロエチレ
    ンと環式ペルフルオロビニルアリルエーテルとのコポリ
    マー；フッ素化ポリイミド；エチレン及び環式オレフィ
    ンのポリマー及びコポリマー；ノルボルネンモノマーの
    ポリマー及びコポリマー；及びプラズマポリマーからな
    る群から選択される請求項１１に記載の基材。
14. 【請求項１４】 カラーフィルター被覆の少なくとも一
    つの層を更に含む請求項１、４又は８に記載の基材。
15. 【請求項１５】 カラーフィルターが、染料又は顔料を
    含むポリマーを含む請求項１４に記載の基材。
16. 【請求項１６】 透明な導電性被覆の少なくとも一つの
    層を更に含む請求項１、４、８又は１４に記載の基材。
17. 【請求項１７】 透明な導電性被覆が、インジウムスズ
    オキシド、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化
    カドミウム、カドミウムスズオキシド、及びこれらの混
    合物からなる群から選択される請求項１６に記載の基
    材。
18. 【請求項１８】 少なくとも１５０℃のＴｇ、少なくと
    も８８％の全白色光透過率、及び０．１％以下の収縮率
    を有する２５ｍｍ以下のポリグルタルイミドシート；ポ
    リグルタルイミドシートのいずれかの面上に配置された
    架橋被覆の層；グルタルイミドシートの外側の架橋被覆
    のそれぞれの層の上に配置されたバリヤー被覆の層；及
    び架橋被覆の外側のバリヤー被覆の層の上に配置された
    透明な導電性被覆の層の；を含むことを特徴とする電子
    ディスプレイ用途のためのプラスチック基材。
19. 【請求項１９】 架橋被覆が、多官能性アクリレートと
    有機官能性シランとの反応生成物を含み且つ分散された
    シリカを含み、バリヤー被覆がオキシ窒化ケイ素を含
    み、透明な導電性被覆がインジウムスズオキシドを含む
    請求項１８に記載の基材。
20. 【請求項２０】 少なくとも一つの基材が請求項１５に
    記載の基材であり、一緒にサンドイッチされていて、そ
    れらの端部で一緒にシールされて、内部空間が形成され
    ている二つの基材；及び二つの基材の間に形成された内
    部空間内に分散された液晶の層；を含む、電子ディスプ
    レイ用途において有用な液晶ディスプレイセル。
21. 【請求項２１】 少なくとも９５％のイミド化度及び１
    重量％以下の酸レベルを有するポリグルタルイミド。
22. 【請求項２２】 酸レベルが０．３重量％以下である請
    求項２１に記載のポリグルタルイミド。