JPH11258403A - 反射防止膜およびそれを配置した表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】塗布組成物が経時安定性に優れ、それによって
得られた反射防止膜は膜強度、耐久性、耐汚れ付着性、
耐熱性に優れたものである反射防止膜を提供する。 【解決手段】低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR¹)₄（式中
Ｒ¹ は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４の
アシル基）で表されるアルコキシシランおよび／または
(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
アルキル基、アルケニル基またはアリール基、Ｒ³ は前
記Ｒ¹ に同義の基）で表されるオルガノシラン、および
／または(c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ
² に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に同義の基）で表される
オルガノシラン、および(d)下記一般式(A)で表されるシ
ラノール末端ポリシロキサンの加水分解物および／また
はその部分縮合物を含有する組成物を塗設して形成され
た反射防止膜。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置（Ｌ
ＣＤ）等の画像表示装置の表面の反射率低下に有効な反
射防止膜およびその反射防止膜を有する画像表示装置に
関する。特に、量産性と優れた反射防止効果を実現する
反射防止膜およびそれを配置した表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置の普及、大型化や野
外使用化に伴い、その使用条件下でのタフネス化、例え
ば、反射光耐性（視認性確保）、防汚性や耐熱性の向上
が求められている。表示装置の視認性向上は該装置の主
機能に関わる課題であり、当然その重要性も高く、活発
に視認性向上のための施策が検討されている。一般に視
認性を低下させるのは外光の表面反射による景色の写り
込みであり、最表面に反射防止膜を設ける方法が一般的
な対処として行われる。しかしながら、この反射防止膜
はその機能発現のために最表面に設けられるため、必然
的に反射防止膜の性能に対してタフネス化の観点から多
くの高品質化の課題が集中してくる。例えば、極限まで
の反射率低下（反射率１％以下）、指紋や油脂等の付着
防止や易除去性、炎天下や自動車室内のような高温環境
下での諸性能の維持などである。

【０００３】従来、可視光の波長域を全てカバーできる
性能を有する広波長域／低反射率の反射防止膜として
は、金属酸化物等の透明薄膜を積層させた多層膜が用い
られてきた。単層膜では単色光に対しては有効であるも
のの、ある程度の波長域を有する光に対しては有効に反
射防止できないのに対し、このような多層膜においては
積層数が多いほど広い波長領域で有効な反射防止膜とな
るためである。そのため、従来の反射防止膜には、物理
又は化学蒸着法等の手段によって金属酸化物等を３層以
上積層したものが用いられてきた。しかしながら、この
ような多層蒸着した反射防止膜は、予め最適に設計され
た各層の屈折率と膜厚との関係に従い、その膜厚を高精
度に制御した蒸着を何回も行う必要があり、非常に高コ
ストなものであり、かつ、広い面積の膜を得ることの非
常に困難な大量製造適性に乏しいものであった。

【０００４】一方、上述のような多層膜による方法の他
に、空気との界面において屈折率が除去に変化する様な
膜によって有効な反射防止効果を得る方法が従来知られ
ている。例えば、特開平２−２４５７０２号公報には、
ガラス基板とＭｇＦ₂ の中間の屈折率を持つＳｉＯ₂ 超
微粒子とＭｇＦ₂ 超微粒子を混合してガラス基板に塗布
し、ガラス基板面から塗布膜面に向かって徐々にＳｉＯ
₂ の混合比を減少させてＭｇＦ₂ の混合比を増加させる
事により、塗布面とガラス基板との界面における屈折率
変化が緩やかとなり、反射防止効果が得られる事が記載
されている。

【０００５】また、特開平５−１３０２１号公報には、
エチルシリケート中に分散したＭｇＦ₂ 、ＳｉＯ₂ を有
する超微粒子を用いた二層からなる反射防止膜が開示さ
れている。例えば、第一層は、ＭｇＦ₂ ／ＳｉＯ₂ が７
／３の層で、第二層は、ＭｇＦ₂ ／ＳｉＯ₂ が１／１の
層で、第一層の屈折率が１．４２そして第二層の屈折率
が１．４４である。従って、屈折率変化は大きいとは言
えず、充分な反射防止効果は得られない。

【０００６】更に特開平７−９２３０５号公報には、コ
ア部とその周囲のシェル部からなる屈折率１．４２８の
超微粒子からなり、空気と微粒子とから形成された表面
が凹凸の上層部（低屈折率）と、微粒子のみから形成さ
れた下層部とからなる反射防止膜が、特開平７−１６８
００６号公報には、空気と微粒子（例、ＭｇＦ₂ ）とか
ら形成された表面が凹凸の上層部（低屈折率）、微粒子
のみの中層部（中屈折率）、及び微粒子とバインダーか
ら形成された下層部とからなる反射防止膜が開示されて
いる。

【０００７】しかしながら、前記の特開平２−２４５７
０２号公報、特開平５−１３０２１号公報、特開平７−
９２３０５号公報及び特開平７−１６８００６号公報に
記載の反射防止膜は、空気に対する屈折率が膜厚方向に
徐々に変化する原理を利用したものである。これらの反
射防止膜は、その作成に、煩雑な操作と、熟練した技術
が必要であり、また得られる膜も満足な反射防止効果が
得られていない。

【０００８】また、特公平６−９８７０３号、特開昭６
３−２１６０１号公報にはアルコキシシラン化合物の加
水分解部分縮合物からなる組成物をプラスチック基材表
面に塗布して反射光を低減化させる技術が開示されてい
る。しかしながらこれらの公報に記載の反射防止技術は
基材との屈折率差が小さいため十分な反射防止効果を得
られず、また、塗布する組成物の経時安定性が不足で、
液が数時間で粘度上昇や硬化してしまい、反射防止フィ
ルムを連続塗布で製造するには、適性のないものであっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、塗布
組成物が経時安定性に優れ、また、大量かつ大面積製造
の適性があり、それによって得られた反射防止膜は広範
な波長領域において一様に低い反射率（反射率１％以
下）を示し、同時に膜強度、耐久性、耐汚れ付着性、耐
熱性に優れた反射防止膜を提供することにある。また、
その反射防止膜を配置した表示装置を提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の上述の課題は、
下記により達成された。 低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR¹)₄（式中Ｒ¹ は炭
素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基
を表す）で表されるアルコキシシランおよび／または
(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
アルキル基、アルケニル基、アリール基を表し、Ｒ³ は
前記Ｒ¹ に同義の基を表す）で表されるオルガノシラ
ン、および／または(c) 一般式R⁴ ₂ Si(OR⁵)₂（式中、Ｒ
⁴ は前記Ｒ² に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に同義の基を
表す）で表されるオルガノシラン、および(d)下記一般
式(A)で表されるシラノール末端ポリシロキサンの加水
分解物および／またはその部分縮合物を含有する組成物
を塗設して形成されたものであることを特徴とする反射
防止膜。

【００１１】

【化３】

【００１２】式中、Ｒ⁶ は前記Ｒ² に同義の基を表し、
ｎは繰り返しを示し、数平均分子量が３００〜５０００
０である。

【００１３】本発明における反射防止膜のより好ましい
態様は下記〜であり、また、本発明の反射防止膜を
配置した表示装置は下記である。 低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR¹)₄（式中Ｒ¹ は炭
素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基
を表す）で表されるアルコキシシランおよび／または
(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１〜１０の
アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表し、Ｒ
³ は前記Ｒ¹ に同義の基を表す）で表されるオルガノシ
ラン、および／または(c) 一般式R⁴ ₂ Si(OR⁵)₂（式中、
Ｒ⁴ は前記Ｒ ² に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に同義の基
を表す）で表されるオルガノシランおよび／または(e)
末端あるいは側鎖に加水分解性基および／または水酸基
と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少
なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマー、およ
び(d)下記一般式(A)で表されるシラノール末端ポリシロ
キサンの加水分解物および／またはその部分縮合物を含
有する組成物を塗設して形成されたものであることを特
徴とする反射防止膜。

【００１４】

【化４】

【００１５】式中、 R⁶ は前記Ｒ² に同義の基を表し、
ｎは繰り返しを示し、数平均分子量が３００〜５０００
０である。 該低屈折率層(1) とそれに隣接して屈折率が１．７
以上である高屈折率層(2)からなることを特徴とする
またはに記載の反射防止膜。 該高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層(1) の反対
側に層(3) を有し、更に屈折率が１．６以下の層(4) を
有するものであって、層(3) が層(4) の屈折率と高屈折
率層(2) の屈折率の中間の屈折率を有することを特徴と
する乃至に記載の反射防止膜。 乃至に記載の反射防止膜を配置したことを特徴
とする表示装置。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明は、前記に記載した通り
オルガノシランの加水分解／部分縮合物から形成された
組成物を低屈折率層の塗設することに特徴がある。本発
明の構成要件を詳細に説明する。

【００１７】〔オルガノシラン〕オルガノシランは分子
内に少なくとも１つの加水分解によりシラノールを与え
ることのできる官能基を有するシラン化合物を表し、本
発明の組成物中では、加水分解、縮合して得られる加水
分解物および／または部分縮合物となり組成物中におけ
る結合剤としての働きをするものである。一般的には式
(R⁹ )₄Siで表される化合物である。式中、Ｒ⁹ は炭素数
１〜１０のアルキル基、アルケニル基またはアリール
基、炭素数１〜５のアルコキシル基または炭素数１〜４
のオキシアシル基、ハロゲン原子を表す。１分子中の４
個のＲ⁹ はこの定義の範疇であれば互いに同じであって
も異なっていても良く、自由に組み合わせて選択するこ
とができるが、４つが同時に炭素数１〜１０のアルキル
基、アルケニル基またはアリール基になることはない。

【００１８】Ｒ⁹ の具体例は、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、アルケニル基またはアリール基としてメチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基などのアル
キル基、そのほかγ−クロロプロピル基、ビニル基、 C
F₃- 、CF₃CH₂CH₂ - 、CF₃CH₂CH₂CH₂- 、C₂F₅CH₂CH₂CH
₂-、C₃F₇CH₂CH₂CH₂-、C₂F₅CH₂CH₂- 、CF₃OCH₂CH₂CH₂-、
C₂F₅OCH₂CH₂CH₂- 、C₃F₇OCH₂CH₂CH₂- 、(CF₃)₂CHOCH₂CH
₂CH₂- 、C₄F₉CH₂OCH₂CH₂CH₂-、３−（パーフルオロシク
ロヘキシルオキシ）プロピル、H(CF₂)₄CH₂OCH₂CH ₂CH₂-
、H(CF₂)₄CH₂CH₂CH₂- 、γ−グリシドキシプロピル
基、γ−メタクリルオキシプロピル基、γ−メルカプト
プロピル基、フェニル基、３，４−エポキシシクロヘキ
シルエチル基などが挙げられる。炭素数１〜５のアルコ
キシ基または炭素数１〜４のオキシアシル基としては、
例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ
−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、sec-ブトキシ基、te
rt−ブトキシ基、アセトキシ基、ハロゲンとしてはフッ
素、塩素、臭素、ヨウ素などを挙げられる。

【００１９】これらのオルガノシランの具体例として
は、以下で説明する(a) 〜(c) 成分のものを挙げること
ができる。 〔(a) 成分〕(a) 成分は、一般式Si(OR¹)₄で表されるア
ルコキシシランであり、本発明の組成物中では、加水分
解、縮合して得られる加水分解物および／または部分縮
合物となり組成物中における結合剤としての働きをする
ものである。かかるアルコキシシラン中のＲ¹ は、炭素
数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４のアシル基で
あり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec-ブチル基、tert−ブ
チル基、アセチル基などが挙げられる。

【００２０】これらのアルコキシシランの具体例として
は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テ
トラ(n)プロポキシシラン、テトラ(i)プロポキシシラ
ン、テトラ(n)ブトキシシラン、テトラアセトキシシラ
ンなどを挙げることができ、テトラメトキシシラン、テ
トラエトキシシラン、テトラ(n)プロポキシシラン、テ
トラ(i)プロポキシシラン、テトラアセトキシシランが
好ましく、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラアセトキシシランが特に好ましい。上記アル
コキシシランは１種単独でも、その２種以上を併用して
も良い。

【００２１】〔(b) 成分〕(b) 成分は、一般式R²Si(O
R³)₃で表されるオルガノシランであり、本発明の組成物
中では、加水分解、縮合して得られる加水分解物および
／または部分縮合物となり組成物中における結合剤とし
ての働きをするものである。かかるオルガノシラン中の
Ｒ² は、炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル基ま
たはアリール基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ
−プロピル基、ｉ−プロピル基などのアルキル基、その
ほかγ−クロロプロピル基、ビニル基、CF₃-、CF₃CH₂-
、CF₃CH₂CH₂-、CF₃CH₂CH₂CH₂- 、C₂F₅CH₂CH₂CH₂-、C₃F
₇CH₂CH₂CH₂-、C₂F₅CH₂CH₂- 、CF ₃OCH₂CH₂CH₂-、C₂F₅OCH
₂CH₂CH₂- 、C₃F₇OCH₂CH₂CH₂- 、(CF₃)₂CHOCH₂CH₂CH₂-
、C₄F₉CH₂OCH₂CH₂CH₂-、３−（パーフルオロシクロヘ
キシルオキシ）プロピル、H(CF₂)₄CH₂OCH₂CH₂CH₂- 、H
(CF₂)₄CH₂CH₂CH₂- 、γ−グリシドキシプロピル基、γ
−メタクリルオキシプロピル基、γ−メルカプトプロピ
ル基、フェニル基、３，４−エポキシシクロヘキシルエ
チル基などが挙げられる。また、オルガノシラン中のＲ
³ は、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４の
アシル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、sec-ブチル
基、tert−ブチル基、アセチル基などが挙げられる。

【００２２】これらのオルガノシランの具体例として
は、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシ
ラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラ
ン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリエト
キシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，４
−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、
３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシ
ラン、CF₃CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、CF₃CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、
C₂Ｆ₅CH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、C₂F₅CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、C₃
F₇CH ₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、C₂F₅OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃ 、C₃
F₇OCH₂CH₂CH₂Si(OC₂H₅)₃、(CF₃)₂CHOCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)
₃ 、C₄F₉CH₂OCH₂CH₂CH₂Si(OCH₃)₃、H(CF₂)₄ CH₂OCH₂CH₂
CH₂Si(OCH₃)₃、３−（パーフルオロシクロヘキシルオキ
シ）プロピルシラン等を挙げることができる。

【００２３】このうち、フッ素原子を有するオルガノシ
ランが好ましい。また、Ｒ² としてはフッ素原子を含ま
ないオルガノシランを用いる場合、メチルトリメトキシ
シランまたはメチルトリエトキシシランを用いる事が好
ましい。上記のオルガノシランは１種単独で使用しても
よいし、２種以上を併用する事もできる。

【００２４】〔(c) 成分〕(c) 成分は、一般式R⁴ ₂Si(OR
⁵)₂ （式中、Ｒ⁴ およびＲ⁵ は前記(b) 成分に使用され
るオルガノシランで定義されたＲ² およびＲ³ と同義）
で表されるジオルガノシランである。ただし、Ｒ⁴ およ
びＲ⁵ は(b) 成分と同じ置換基でなくてもよい。本発明
の組成物中では加水分解、縮合して得られる加水分解物
および／または部分縮合物となり、組成物中における結
合剤としての働きをするとともに、塗膜を柔軟化し耐ア
ルカリ性を向上させるものである。

【００２５】これらのジオルガノシランの具体例は、ジ
メチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、
ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラ
ン、ジ−ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロ
ピルジエトキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシ
ラン、ジ−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、(CF₃
CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂ 、(CF₃CH₂CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂、(C₃F
₇OCH₂CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂、（H(CF₂)₆CH₂OCH₂CH₂CH₂)₂Si
(OCH₃)₂ 、(C₂F₅CH₂CH₂)₂Si(OCH₃)₂などを挙げる事がで
き、好ましくはフッ素原子を有するオルガノシランであ
る。またＲ⁴ としてフッ素原子有さないオルガノシラン
を用いる場合には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチ
ルジエトキシシランが好ましい。このようなR⁴ ₂Si(OR⁵)
₂ で表されるオルガノシランは、１種単独で用いてもよ
いし、あるいは２種以上を併用することもできる。(c)
成分の本発明の組成物中における割合は、(a) 及び(b)
成分に対して０〜１５０重量％、好ましくは５〜１００
重量％、さらに好ましくは１０〜６０重量％であり、１
５０重量％を超えると得られる塗膜の密着性、硬化性が
低下する。

【００２６】〔(d)成分〕(d) 成分は、下記一般式(A)で
表されるシラノール末端ポリシロキサンであり、クロル
シランの加水分解を化学的に制御するか、あるいは環状
シロキサンを加圧下に水と平衡重合させるなど方法によ
り合成することができる。また、いくつかの種類は、Ｇ
ｅｌｅｓｔ社などから購入することができる。

【００２７】

【化５】

【００２８】式中、R⁶は前記Ｒ² に同義の基を表し、ｎ
は繰り返しを表す。かかるシラノール末端ポリシロキサ
ン中のR⁶は、炭素数１〜１０のアルキル基、アルケニル
基またはアリール基であり、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基な
どのアルキル基、そのほかγ−クロロプロピル基、ビニ
ル基、CF₃-、CF₃CH₂- 、CF₃CH₂CH₂-、CF₃CH₂CH₂CH₂- 、
C₂F₅CH₂CH₂CH₂-、C₃F₇CH ₂CH₂CH₂-、C₂F₅CH₂CH₂- 、H(CF
₂)₄CH₂CH₂CH₂- 、γ−メルカプトプロピル基、フェニル
基などが挙げられる。

【００２９】このうち、フッ素原子を有するシラノール
末端ポリシロキサンが好ましい。また、 R⁶ としてフッ
素原子を有さない場合、メチル基またはエチル基を用い
たシラノール末端ポリシロキサンが好ましい。このシラ
ノール末端ポリシロキサンの数平均分子量は、好ましく
は３００〜５００００、さらに好ましくは４００〜２５
０００である。平均分子量がこの範囲より小さいと本発
明の組成物から得られる低屈折率層の反射防止性能が減
少し、平均分子量がこの範囲より大きいと得られる膜硬
度が低下する。

【００３０】これらのシラノール末端ポリシロキサンの
具体例としては、次のものがあげられる。

【００３１】

【化６】

【００３２】

【化７】

【００３３】

【化８】

【００３４】

【化９】

【００３５】上記のシラノール末端ポリシロキサンは１
種単独で使用してもよいし、２種以上を併用する事もで
きる。(d) 成分の本発明の組成物中における割合は、
(a) 、(b)、(c)および(e) 成分（同時に(a)、(b)、
(c)、(e)は０となることはない）に対して１〜５０重量
％、好ましくは２〜２５重量％、さらに好ましくは５〜
２０重量％であり、５０重量％を超えると得られる塗膜
の密着性、硬化性が低下する。

【００３６】〔(e) シリル基含有ビニルポリマー〕(e)
シリル基含有ビニルポリマーは、主鎖がビニル系重合体
からなり、末端あるいは側鎖に加水分解性基および／ま
たは水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重
合体１分子中に少なくとも１個、好ましくは２個以上含
有するものであり、該シリル基の多くは、下記一般式

【００３７】

【化１０】

【００３８】（式中、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ
基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基、チオ
アルコキシ基、アミノ基などの加水分解性基および／ま
たは水酸基、Ｒ¹⁰は水素原子、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、または炭素数１〜１０のアラルキル基、ａは１〜
３の整数である）で表される。

【００３９】(e) シリル基含有ビニルポリマーは、
（イ）ヒドロシラン化合物を炭素−炭素二重結合を有す
るビニルポリマーと反応させることにより製造してもよ
く、また（ロ）下記一般式

【００４０】

【化１１】

【００４１】（ただし、Ｘ、Ｒ¹⁰、ａは前記に同じ、Ｒ
¹¹は重合性二重結合を有する有機基である）で表される
シラン化合物と、各種ビニル系化合物とを重合すること
により製造してもよく、その製造方法は限定されるもの
ではない。

【００４２】ここで、前記（イ）で示される製造方法で
使用されるヒドロシラン化合物としては、例えばメチル
ジクロルシラン、トリクロルシラン、フェニルジクロル
シランなどのハロゲン化シラン類；メチルジエトキシシ
ラン、メチルジメトキシシラン、フェニルジメトキシシ
ラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシランなどの
アルコキシシラン類；メチルジアセトキシシラン、フェ
ニルジアセトキシシラン、トリアセトキシシランなどの
アシロキシシラン類；メチルジアミノキシシラン、トリ
アミノキシシラン、ジメチルアミノキシシラン、トリア
ミノシランなどのアミノシラン類が挙げられる。

【００４３】また、（イ）で示される製造方法で使用さ
れるビニルポリマーとしては、水酸基を含むビニルポリ
マーを除く以外に特に限定はなく、例えば（メタ）アク
リル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）ア
クリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸２−エチルヘキシル、ベンジル（メタ）
アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートな
どの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル
酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水
マレイン酸などの酸無水物；グリシジル（メタ）アクリ
レートなどのエポキシ化合物；ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、アミノエチルビニルエーテルな
どのアミノ化合物；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−
ブチル（メタ）アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、
α−エチルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸
ジアミド、マレイン酸ジアミド、Ｎ−ブトキシメチル
（メタ）アクリルアミドなどのアミド化合物；アクリロ
ニトリル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチ
レン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
Ｎ−ビニルピロリドン、

【００４４】

【化１２】

【００４５】

【化１３】

【００４６】

【化１４】

【００４７】などから選ばれるビニル系化合物をアリル
メタクリレートのような側鎖に二重結合を有するモノマ
ーと共重合したビニルポリマーが好ましく、共重合モノ
マーとして含フッ素モノマーを少くとも１種用いたもの
が特に好ましい。

【００４８】一方、（ロ）で示される製造方法で使用さ
れるシラン化合物としては、次のものが挙げられる。

【００４９】

【化１５】

【００５０】

【化１６】

【００５１】また、（ロ）で示される製造方法で使用さ
れるビニル系化合物としては、前記（イ）の製造方法で
ビニルポリマーの重合時に用いられるビニル系化合物を
使用することが可能であるが、かかる（イ）の製造方法
に記載された以外に、２−ヒドロキシエチル（メタ）ア
クリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレ
ート、２−ヒドロキシビニルエーテル、Ｎ−メチロール
アクリルアミドなどの水酸基を含むビニル系化合物を挙
げることもできる。また、含フッ素モノマーを１種用い
たものが特に好ましい。

【００５２】以上のようなシリル基含有ビニルポリマー
の好ましい具体例としては、例えば下記一般式

【００５３】

【化１７】

【００５４】（式中、Ｒ¹²、Ｒ¹⁴は水素原子、フッ素原
子またはメチル基、Ｒ¹³は水素原子、炭素数１〜１２の
アルキル基（例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、
アリル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｎ−ペンテル、ｎ−
ヘキシル、ベンジル、(CF₃)₂CH- 、CF₃CH₂- 、C₇F₁₅CH₂
- 、C₂F₁₅CH₂CH₂-、等の(a) 成分で説明したフッ素原子
を含むアルキル基）を表し、Ｒ¹⁵はメチレン基、エチレ
ン基、プロピレン基、ブチレン基などの炭素数１〜４の
アルキレン基、Ｒ¹⁶はＲ¹³と同様であり、ｍ／（ｌ＋
ｍ）＝０．０１〜０．４、好ましくは０．０２〜０．２
である）で表されるトリアルコキシシリル基含有アクリ
ル重合体を挙げることができる。このシリル基含有ビニ
ルポリマーの数平均分子量は、好ましくは2,000 〜100,
000 、さらに好ましくは4,000 〜50,000である。

【００５５】以上のような本発明に使用される(e) シリ
ル基含有ビニルポリマーの具体例としては、鐘淵化学工
業（株）製、カネカゼムラックや下記のポリマーを挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。

【００５６】Ｐ−１：メチルメタクリレート／γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン（９０／１０：
重量比） Ｐ−２：ｎ−ブチルメタクリレート／γ−メタクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−３：メチルメタクリレート／γ−アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン（８０／２０：重量比） Ｐ−４：メチルメタクリレート／γ−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン（７０／３０：重量比） Ｐ−５：メチルメタクリレート／エチルアクリレート／
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０
／３５／１５：重量比）

【００５７】Ｐ−６：エチルメタクリレート／γ−メタ
クリロキシプロピルトリメトキシシラン（８０／２０：
重量比） Ｐ−７：ｎ−ブチルメタクリレート／スチレン／γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン（５０／３５
／１５：重量比） Ｐ−８：メチルメタクリレート／シクロヘキシルアクリ
レート／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン（４０／４５／１５：重量比） Ｐ−９：メチルメタクリレート／メチルアクリレート／
γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン（４０／
４０／２０：重量比） Ｐ−10：メチルメタクリレート／ｎ−ブチルアクリレー
ト／ビニルトリメトキシシラン（６０／３０／１０：重
量比）

【００５８】Ｐ−11：FM-1／γ−メタクリロキシプロピ
ルトリメトキシシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−12：FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−13：FM-2／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（８５／１５：重量比） Ｐ−14：FM-4／γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン（７０／３０：重量比） Ｐ−15：FM-4/FM-7/γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン（３０／５５／１５：重量比）

【００５９】Ｐ−16：FM-2/FM-4/γ−アクリロキシプロ
ピルトリメトキシシラン（３０／５０／２０：重量比） Ｐ−17：FM-3/FM-4/γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン（２５／６０／１５：重量比） Ｐ−18：FM-9／メチルメタクリレート／γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン（６０／２５／１５：
重量比） Ｐ−19：FM-7／メチルメタクリレート／γ−アクリロキ
シプロピルトリメトキシシラン（４０／４５／１５：重
量比） Ｐ−20：FM-4／メチルメタクリレート／ビニルトリメト
キシシラン（６５／２０／１５：重量比）

【００６０】(e)成分の本発明の組成物中の割合は、
(a)、(b)または(c)成分の総和に対して、０〜１００重
量％、好ましくは２〜８０重量％、さらに好ましくは５
〜５０重量％である。(e)が２重量％未満では、得られ
る塗膜の耐アルカリ性が低く、一方１００重量％を越え
ると、得られる塗膜の耐久性の悪化を招く。

【００６１】本発明の低屈折率層は上述の方法で調製し
た有機珪素を主成分とする網目高分子構造により形成さ
れている。この網目構造を構築する主成分（モノマー）
は上述の(a) 〜(e) の化合物である。これら有機珪素モ
ノマー化合物の本発明における好ましい組み合わせにつ
いて下記および実施例に例示する。混合比はゾル液調製
時に使用した各化合物の重量(g) を示す。

【００６２】ＳＰ−１：メチルトリメトキシシラン １
０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５ｇ、ＡＡ−１
２．５ｇ、Ｐ−１２ ２．５ｇ ＳＰ−２：メチルトリメトキシシラン １２ｇ、ジメチ
ルジエトキシシラン ８ｇ、３，３，３−トリフルオロ
プロピルトリメトキシシラン ４ｇ、ＡＡ−２２ｇ、Ｐ
−１２ ３ｇ ＳＰ−３：テトラエトキシシラン １５ｇ、３，３，３
−トリフルオロブチルトリエトキシシラン １５ｇ、Ａ
Ａ−４ １ｇ ＳＰ−４：テトラエトキシシラン １０ｇ、ジメチルジ
メトキシシラン ５ｇ、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン １０ｇ、ＡＡ−８ ０．５
ｇ、Ｐ−１２ １．５ｇ ＳＰ−５：メチルトリメトキシシラン １０ｇ、ジメチ
ルジメトキシシラン ５ｇ、３−パーフルオロエトキシ
プロピルトリメトキシシラン ５ｇ、ＡＡ−１１１．５
ｇ、Ｐ−５ ２．５ｇ ＳＰ−６：テトラエトキシシラン １０ｇ、ビス（３，
３，３−トリフルオロプロピル）ジエトキシシラン ５
ｇ、ＡＡ−１３ ２ｇ、Ｐ−７ ３ｇ ＳＰ−７：テトラエトキシシラン ５ｇ、メチルトリメ
トキシシラン １０ｇ、ジメチルジメトキシシラン ５
ｇ、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシ
ラン １２ｇ、ＡＡ−１９ ３ｇ ＳＰ−８：シクロヘキシルトリメトキシシラン １８
ｇ、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリエ
トキシシラン １２ｇ、テトラエトキシシラン １５
ｇ、ＡＡ−２０ ５ｇ ＳＰ−９：テトラエトキシシラン １２ｇ、ジメチルジ
クロロシラン １０ｇ、３，３，３−トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン １５ｇ、ＡＡ−１ １．０ｇ ＳＰ−10：メチルトリエトキシシラン １２ｇ、ジメチ
ルジメトキシシラン ５ｇ、ビス（３，３，３−トリフ
ルオロプロピル）トリメトキシシラン ５ｇ、ＡＡ−１
５．５ｇ、Ｐ−８ ４．５ｇ

【００６３】本発明の組成物に用いられる硬化反応促進
化合物としては特に制限はなく、用いた組成物の構成成
分に応じて縮合反応を促進可能な成分を有するものであ
れば好適に用いることができる。一般的に有効なのは下
記(f) 〜(i) の化合物群であり、これらの中から好まし
い化合物を必要量添加することができる。また、これら
の群の中から２種以上をお互いの促進効果が阻害されな
い範囲内で適宜選択して併用することができる。なお、
硬化促進化合物はオルガノシランに対して０．１〜２０
重量％用いることが好ましい。

【００６４】〔（ｆ) 成分〕（ｆ) の無機酸としては、
塩酸、臭化水素、ヨウ化水素、硫酸、亜硫酸、硝酸、亜
硝酸、リン酸、亜リン酸など、有機酸化合物としてはカ
ルボン酸類（蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、コハク
酸、シクロヘキサンカルボン酸、オクタン酸、マレイン
酸、２−クロロプロピオン酸、シアノ酢酸、トリフルオ
ロ酢酸、パーフルオロオクタン酸、安息香酸、ペンタフ
ルオロ安息香酸、フタル酸など）、スルホン酸類（メタ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸、トリフルオロメタン
スルホン酸）、ｐ−トルエンスルホン酸、ペンタフルオ
ロベンゼンスルホン酸など）、リン酸・ホスホン酸類
（リン酸ジメチルエステル、フェニルホスホン酸な
ど）、ルイス酸類（三フッ化ホウ素エーテラート、スカ
ンジウムトリフレート、アルキルチタン酸、アルミン酸
など）、ヘテロポリ酸（リンモリブデン酸、リンタング
ステン酸など）を挙げることができる。

【００６５】〔（ｇ) 成分〕（ｇ) の無機塩基としては
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、アンモ
ニアなど、有機塩基化合物としてはアミン類（エチレン
ジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、テトラエチレンペンタミン、トリエチルアミン、
ジブチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、ピペ
リジン、ピペラジン、モルホリン、エタノールアミン、
ジアザビシクロウンデセン、キヌクリジン、アニリン、
ピリジンなど）、ホスフィン類（トリフェニルホスフィ
ン、トリメチルホスフィンなど）、金属アルコキサイド
（ナトリウムメチラート、カリウムエチラートなど）を
挙げることができる。

【００６６】〔（ｈ) 成分〕（ｈ) の金属キレート化合
物は、一般式Ｒ¹⁷ＯＨ（式中、Ｒ¹⁷は炭素数１〜６のア
ルキル基を示す）、で表されるアルコールとＲ¹⁸ＣＯＣ
Ｈ₂ ＣＯＲ¹⁹（式中、Ｒ¹⁸は炭素数１〜６のアルキル
基、Ｒ¹⁹は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜
１６のアルコキシ基を示す）で表されるジケトンを配位
子とした、遷移金属を中心金属とするものであれば特に
制限なく好適に用いることができる。この範疇であれ
ば、２種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。
本発明の（ｈ) 金属キレート化合物として特に好ましい
ものは中心金属にＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒを有するものであ
り、一般式 Zr(OR¹⁷) _p1(R¹⁸COCHCOR¹⁹)_p2、Ti (OR¹⁷)
_q1(R¹⁸COCHCOR¹⁹)_q2および Al(OR¹⁷) _r1(R¹⁸COCHCOR¹⁹)
_r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前
記(a) 〜(d) 成分と(e) シリル基含有ビニル系樹脂との
縮合反応を促進する作用をなす。

【００６７】（ｈ) 金属キレート化合物中のＲ¹⁷および
Ｒ¹⁸は、同一または異なってもよく炭素数１〜６のアル
キル基、具体的にはエチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プ
ロピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、ｔ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、フェニル基などである。また、Ｒ
¹⁹は、前記と同様の炭素数１〜６のアルキル基のほか、
炭素数１〜１６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、sec −ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウ
リル基、ステアリル基などである。また、（ｈ) 金属キ
レート化合物中のｐ₁ 〜ｒ₂ は４あるいは６座配位とな
るように決定される整数を表す。

【００６８】これらの（ｈ) 金属キレート化合物の具体
例としては、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテー
トジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセト
アセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチ
ルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−
プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス
（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキ
ス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどのジル
コニウムキレート化合物；ジイソプロポキシ・ビス（エ
チルアセトアセテート）チタニウム、ジイソプロポキシ
・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジイソプロ
ポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウムなどのチ
タニウムキレート化合物；ジイソプロポキシエチルアセ
トアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチル
アセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチ
ルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビ
ス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エ
チルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチ
ルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナ
ート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムな
どのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。こ
れらの（ｈ) 金属キレート化合物のうち好ましいもの
は、トリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコ
ニウム、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナー
ト）チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテ
ートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）
アルミニウムである。これらの（ｈ) 金属キレート化合
物は、１種単独であるいは２種以上混合して使用するこ
とができる。また、（ｈ) 成分としては、これらの金属
キレート化合物の部分加水分解物を使用することもでき
る。

【００６９】（ｈ) 金属キレート化合物の組成物中の割
合は、ゾル液の原料であるオルガノシランに対し、０．
０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜５０重量％、さ
らに好ましくは０．５〜１０重量％である。

【００７０】〔（ｉ) 成分〕（ｉ) の好ましい有機金属
化合物としては特に制限はないが有機遷移金属が活性が
高く、好ましい。中でもスズの化合物は安定性と活性が
良く特に好ましい。これらの具体的化合物例としては、
(C₄H₉)₂Sn(OCOC₁₁H₂₃)₂ 、(C₄H₉)₂Sn(OCOCH=CHCOOC
H₃)₂、(C₄H₉)₂Sn(OCOCH=CHCOOC₄H₉)₂ 、(C₈H₁₇)₂Sn(OCO
C₁₁H₂₃)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(OCOCH=CHCOOCH₃)₂ 、(C₈H₁₇)₂Sn
(OCOCH=CHCOOC₄H₉)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(OCOCH=CHCOOC
₈H₁₇)₂ 、Sn(OCOCC₈H₁₇)₂などのカルボン酸型有機スズ
化合物；(C₄H₉)₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂、(C₄H₉)₂Sn(SCH₂CO
OC₈H₁₇)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂ 、(C ₈H₁₇)₂Sn(S
CH₂CH₂COOC₈H₁₇)₂、(C₈H₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₈H₁₇)₂ 、(C₈H
₁₇)₂Sn(SCH₂COOC₁₂H₂₅)₂、

【００７１】

【化１８】

【００７２】などのメルカプチド型有機スズ化合物

【００７３】

【化１９】

【００７４】などのスルフィド型有機スズ化合物

【００７５】(C₄H₉)₂SnO、(C₈H₁₇)₂SnO 、または(C₄H₉)
₂SnO、(C₈H₁₇)₂SnO などの有機スズオキサイドとエチル
シリケートマレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、
フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成
物などの有機スズ化合物などを挙げることができる。

【００７６】〔（ｊ) 成分〕（ｊ) の金属塩類としては
有機酸のアルカリ金属塩（例えばナフテン酸ナトリウ
ム、ナフテン酸カリウム、オクタン酸ナトリウム、２−
エチルヘキサン酸ナトリウム、ラウリル酸カリウムな
ど）が好ましく用いられる。

【００７７】本発明の組成物には上記成分の外に必要に
応じて種々の化合物を添加して使用することができる。
以下に主な併用素材を挙げて説明する。

【００７８】〔Ａ：溶媒〕溶媒はゾル液中の(a) 〜(e)
成分および硬化反応促進化合物(f) 〜(j)成分を均一に
混合させ、本発明の組成物の固形分調整をすると同時
に、種々の塗布方法に適用できるようにし、組成物の分
散安定性及び保存安定性を向上させるものである。これ
らの溶媒は上記目的の果たせるものであれば特に限定さ
れない。これらの溶媒の好ましい例として、例えば水、
アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン
類、エステル類等が好適である。

【００７９】このうち、アルコール類としては、例えば
１価アルコールまたは２価アルコールを挙げることがで
き、このうち１価アルコールとしては炭素数１〜８の飽
和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類
の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロ
ピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチル
アルコール、sec −ブチルアルコール、tert−ブチルア
ルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノ
ブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエ
ーテルなどを挙げることができる。

【００８０】また、芳香族炭化水素類の具体例として
は、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類
の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンな
ど、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケト
ンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、
酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げ
ることができる。これらの有機溶媒は、１種単独である
いは２種以上を混合して使用することもできる。有機溶
媒の組成物中の割合は特に限定されるものではなく、全
固形分濃度を使用目的に応じて調節する量が用いられ
る。

【００８１】〔Ｂ：キレート配位子化合物〕本発明の組
成物に(h)金属錯体化合物を用いる場合、硬化反応速度
の調節や液安定性向上の観点でキレート配位能のある化
合物を用いることも好ましい。好ましく用いられるもの
としては一般式R¹⁸COCH₂COR^1９ で表されるβ−ジケト
ン類および／またはβ−ケトエステル類であり、本発明
の組成物の安定性向上剤として作用するものである。す
なわち、前記促進液中に存在する(g) 金属キレート化合
物（好ましくはジルコニウム、チタニウムおよび／また
はアルミニウム化合物）中の金属原子に配位することに
より、これらの金属キレート化合物による(a)〜(e) 成
分の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる膜の硬
化速度をコントロールするものと考えられる。Ｒ¹⁸およ
びＲ¹⁹は、前記(h) 金属キレート化合物を構成するＲ¹⁸
およびＲ¹⁹と同義であるが、使用に際して同一構造であ
る必要はない。

【００８２】このβ−ジケトン類および／またはβ−ケ
トエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、ア
セト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−
プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ
−ブチル、アセト酢酸−sec-ブチル、アセト酢酸−ｔ−
ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン
−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタ
ン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘ
キサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのう
ち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好まし
く、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジ
ケトン類および／またはβ−ケトエステル類は、１種単
独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。
かかるβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステル
類は、(h) 金属キレート化合物１モルに対し２モル以
上、好ましくは３〜２０モルであり、２モル未満では得
られる組成物の保存安定性に劣るものとなる。

【００８３】〔Ｃ：水〕本発明の好ましいゾル液には、
前記(a) 〜(e) 成分を主成分した混合物の加水分解・縮
合用として水を添加する。水の使用量は、(a) 〜(e) 成
分１モルに対し、通常、１．２〜３．０モル、好ましく
は１．３〜２．０モル、程度である。本発明の好ましい
ゾル液及び促進液は、その全固形分濃度が、０．１〜５
０重量％、好ましくは１〜４０重量％であり、５０重量
％を超えると、組成物の保存安定性が悪化して好ましく
ない。

【００８４】〔Ｄ：充填剤〕本発明のゾル液には、得ら
れる塗膜の硬度向上を目的としてコロイド状シリカを添
加することも可能である。このコロイド状シリカとして
は、水分散コロイド状シリカ、メタノールもしくはイソ
プロピルアルコールなどの有機溶媒分散コロイド状シリ
カを挙げることができる。

【００８５】本発明の組成物には、得られる塗膜の着
色、凹凸性の付与、下地への紫外線透過防止、防蝕性の
付与、耐熱性などの諸特性を発現させるために、上記コ
ロイド状シリカの他に充填材を添加・分散させることも
可能である。この充填材としては、例えば有機顔料、無
機顔料などの非水溶性の顔料または顔料以外の粒子状、
繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれら
の酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙
げられる。この充填材の具体例としては、粒子状、繊維
状もしくは鱗片状の鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、
銀、亜鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス
鋼、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸
化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、
酸化コバルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水
酸化鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレ
ー、ケイソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム、ベントナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト
緑、ビリジアン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェー
レ緑、緑上、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、
紺青、ピグメントグリーン、岩群青、コバルト青、セル
リアンブルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバ
ルト紫、マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレッ
ト、亜酸化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化
鉛、クロム黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム
黄、チタン黄、リサージ、ピグメントエロー、亜酸化
銅、カドミウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベ
ンガラ、亜鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン
白、リトポン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン
白、鉛亜鉛華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン
白、硫酸鉛、黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、
サーマトミック黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィス
カー、二硫化モリブデンなどを挙げることができる。

【００８６】これらの充填材の平均粒径または平均長さ
は、通常、５〜５００nm、好ましくは１０〜２００nmで
ある。充填材を用いる場合の組成物中の割合は、(a) 〜
(e)成分の全固形分１００重量部に対し、１０〜３００
重量部程度である。

【００８７】〔Ｅ：その他の添加物〕本発明のゾル液及
び促進液には、そのほかオルトギ酸メチル、オルト酢酸
メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤、各
種界面活性剤、前記以外のシランカップリング剤、チタ
ンカップリング剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング
剤などの添加剤を添加することもできる。

【００８８】さらに、本発明のゾル液中には、前記溶媒
以外の溶剤を含有させることができ、かかる溶剤として
は、前記(a) 〜(e) 成分を混合した際に、沈澱を生起し
ない溶剤であればどのようなものでもよく、一般の塗
料、コーティング剤などに用いられる脂肪族炭化水素
類、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類、ケトン
類、エステル類、エーテル類、ケトンエーテル類、ケト
ンエステル類、エステルエーテル類などを挙げることが
でき、この具体例としては例えばベンゼン、トルエン、
キシレン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢
酸ブチル、酢酸イソアミルなどである。これらの有機溶
剤は、本発明の組成物１００重量部に対し、通常、１０
０重量部以下程度使用される。

【００８９】本発明のゾル液を調製するに際しては、ま
ず前記(a) 〜(e) 成分を含有する組成物を調製し、これ
に水を添加して加水分解する方法であれば如何なる方法
でもよい。この時必要に応じて加水分解を促進するため
に触媒を用いても良い。用いる触媒の量は、液の経時安
定性を損なわない範囲であれば特に制限はない。例えば
下記〜の調製方法が好ましい。 (a)〜(e) 成分と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液
に、オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水
を加えて加水分解・縮合反応を行う方法。

【００９０】 (a)〜(d) 成分と溶媒からなる溶液に、
オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水を加
えて加水分解・縮合反応を行い、次いで(e) シリル基含
有ビニルポリマーと加水分解触媒を添加する方法。 (a)〜(d) 成分と溶媒及び加水分解触媒からなる溶液
に、オルガノシラン類１モルに対し０．２〜３モルの水
を加えて加水分解・縮合反応を行い、次いで(e) シリル
基含有ビニルポリマーを加えて混合し、さらに縮合反応
を行なう方法。

【００９１】本発明のゾル液及び促進液をカーテンフロ
ーコート、ディップコート、スピンコート、ロールコー
ト等の塗布法によって、透明フィルムあるいは高または
中屈折率層等に塗布し、常温での乾燥、あるいは３０〜
２００℃程度の温度で１分〜１００時間程度加熱するこ
とにより、低屈折率層は形成される。

【００９２】同時重層塗布をする場合には多段の吐出口
を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液
のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整
し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させ
る方法（同時重層法）が特に好ましい。

【００９３】本発明の反射防止膜は、上記の方法で組成
物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、それよりも
高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成され、２
層以上の層より構成されることが好ましい。低屈折率層
の屈折率は１．４５以下が好ましく、特に１．４０以下
が好ましい。高屈折率層の屈折率は１．７以上が好まし
く、特に１．７５以上が好ましい。また、これらの層が
支持体、好ましくは透明フィルム上に塗設されているこ
とが好ましい。

【００９４】また、本発明の反射防止膜は、上記の方法
で組成物を塗設して形成された低屈折率層(1) が、それ
よりも高い屈折率を有する高屈折率層(2) の上に形成さ
れ、高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層(1) の反対側
に中屈折率層(3) が、さらに層(4) （支持体下塗など）
の屈折率と高屈折率層の屈折率の中間の屈折率を有する
中屈折率層の上に高屈折率層が形成された４層より構成
されることが特に好ましい。低屈折率層に隣接する高屈
折率層の屈折率として、１．７以上が好ましく、特に
１．７５以上が好ましい。また、これらの層が支持体、
好ましくは透明フィルム上に塗設されていることが好ま
しい。

【００９５】それぞれの層の膜厚は、層(1) が５０〜２
００nm、層(2) が５０〜２００nm、層(3) が５０〜２０
０nm、層(4) が１μｍ〜１００μｍが好ましく、更に好
ましくは層(1) が６０〜１５０nm、層(2) が５０〜１５
０nm、層(3) が６０〜１５０nm、層(4) が５〜２０μ
ｍ、特に好ましくは層(1) が６０〜１２０nm、層(2) が
５０〜１００nm、層(3) が６０〜１２０nm、層(4) が５
〜１０μｍである。層(4) は屈折率が１．６０以下であ
ることが好ましく、層(3) は層(2) と層(4) の中間の屈
折率が好ましい。

【００９６】本発明の反射防止膜の代表例を図１に示
す。高屈折率層１２が透明フィルム（支持体）１３上に
形成され、さらに低屈折率層１１が高屈折率層１２上に
形成されている。反射防止膜を構成する層数の増加は、
通常反射防止膜が適用可能な光の波長範囲を拡大する。
これは、金属化合物を用いる従来の多層膜の形成原理に
基づくものである。

【００９７】上記二層を有する反射防止膜では、高屈折
率層１２及び低屈折率層１１がそれぞれ下記の条件(1)
及び(2) を一般に満足する。 mλ／４×０．７＜ｎ₁ ｄ₁ ＜ mλ／４×１．３ (1) nλ／４×０．７＜ｎ₂ ｄ₂ ＜ nλ／４×１．３ (2) 上記式に於て、ｍは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ₁ は高屈折率層の屈折率を表し、ｄ₁ は高屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｎは正の奇数（一般に、
１）を表し、ｎ₂ は低屈折率層の屈折率を表し、そして
ｄ₂ は低屈折率層の層厚（nm）を表す。高屈折率層の屈
折率ｎ₁ は、一般に透明フィルムより少なくとも０．０
５高く、そして、低屈折率層の屈折率ｎ₂ は、一般に高
屈折率層の屈折率より少なくとも０．１低くかつ透明フ
ィルムより少なくとも０．０５低い。更に、高屈折率層
の屈折率ｎ₁ は、一般に１．７〜２．２の範囲にある。
上記条件(1) 及び(2) は、従来から良く知られた条件で
あり、例えば、特開昭５９−５０４０１号公報に記載さ
れている。

【００９８】本発明の反射防止膜の他の代表例を図２に
示す。下塗層２０と中屈折率層２２が透明フィルム（支
持体）２３上に形成され、高屈折率層２４が中屈折層２
２上に形成され、さらに低屈折率層２１が高屈折率層２
４上に形成されている。中屈折層率２２の屈折率は、高
屈折率層２４と下塗層２０との間の値を有する。図２の
反射防止膜は、図１の反射防止膜に比較して、更に適用
可能な光の波長領域が拡がっている。

【００９９】三層を有する反射防止膜の場合、中、高及
び低屈折率層がそれぞれ下記の条件(3) 〜(5) を一般に
満足する。 ｈλ／４×０．７＜ｎ₃ ｄ₃ ＜ｈλ／４×１．３ (3) ｋλ／４×０．７＜ｎ₄ ｄ₄ ＜ｋλ／４×１．３ (4) ｊλ／４×０．７＜ｎ₅ ｄ₅ ＜ｊλ／４×１．３ (5) 上記式に於て、ｈは正の整数（一般に、１、２又は３）
を表し、ｎ₃ は中屈折率層の屈折率を表し、ｄ₃ は中屈
折率層の層厚（nm）を表し、ｋは正の整数（一般に、
１、２又は３）を表し、ｎ₄ は高屈折率層の屈折率を表
し、ｄ₄ は高屈折率層の層厚（nm）を表し、ｊは正の奇
数（一般に、１）を表し、ｎ₅ は低屈折率層の屈折率を
表し、そしてｄ₅ は低屈折率層の層厚（nm）を表す。中
屈折率層の屈折率ｎ₃ は、一般に１．５〜１．７の範囲
にあり、高屈折率層の屈折率ｎ₄ は、一般に１．７〜
２．２の範囲にある。

【０１００】本発明の反射防止膜は、一般に、支持体と
その上に設けられた低屈折率層からなる。支持体は通
常、透明フィルムである。透明フィルムを形成する材料
としては、セルロース誘導体（例、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニル
セルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニ
ルセルロース及びニトロセルロース）、ポリアミド、ポ
リカーボネート（例、米国特許第３，０２３，１０１号
に記載のもの）、ポリエステル（ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレ
フタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレン
テレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシ
エタン−４，４′−ジカルボキシレート及び特公昭４８
−４０４１４号公報に記載のポリエステル）、ポリスチ
レン、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピ
レン及びポリメチルペンテン）、ポリメチルメタクリレ
ート、シンジオタクチックポリスチレン、ポリスルホ
ン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリ
エーテルイミド及びポリオキシエチレンを挙げることが
できる。トリアセチルセルロース、ポリカーボネート及
びポリエチレンテレフタレートが好ましい。透明フィル
ムの屈折率は１．４０〜１．６０が好ましい。

【０１０１】本発明の反射防止膜が、多層膜である場
合、一般に、低屈折率層は、低屈折率層より高い屈折率
を有する少なくとも一層の層（即ち、前記の高屈折率
層、中屈折率層）と共に用いられる。上記より高い屈折
率を有する層を形成するための有機材料としては、熱可
塑性樹脂（例、ポリスチレン、ポリスチレン共重合体、
ポリカーボネート、ポリスチレン以外の芳香環、複素
環、脂環式環状基を有するポリマー、またはフッ素以外
のハロゲン基を有するポリマー）；熱硬化性樹脂組成物
（例、メラミン樹脂、フェノール樹脂、〜エポキシ樹脂
などを硬化剤とする樹脂組成物）；ウレタン形成性組成
物（例、脂環式〜は芳香族イソシアネートおよびポリオ
ールの組み合わせ）；およびラジカル重合性組成物（上
記の化合物（ポリマー等）に二重結合を導入することに
より、ラジカル硬化を可能にした変性樹脂またはプレポ
リマーを含む組成物）などを挙げることができる。高い
皮膜形成性を有する材料が好ましい。上記より高い屈折
率を有する層は、有機材料中に分散した無機系微粒子も
使用することができる。上記に使用される有機材料とし
ては、一般に無機系微粒子が高屈折率を有するため有機
材料単独で用いられる場合よりも低屈折率のものも用い
ることができる。そのような材料として、上記に述べた
有機材料の他、アクリル系を含むビニル系共重合体、ポ
リエステル、アルキド樹脂、繊維素系重合体、ウレタン
樹脂およびこれらを硬化せしめる各種の硬化剤、硬化性
官能基を有する組成物など、透明性があり無機系微粒子
を安定に分散せしめる各種の有機材料を挙げることがで
きる。

【０１０２】さらに有機置換されたケイ素系化合物をこ
れに含めることができる。これらのケイ素系化合物は下
記一般式で表される化合物、あるいはその加水分解生成
物である。： Ｒ⁵¹ｍＲ⁵² _n ＳｉＺ_(4-m-n) （ここでＲ⁵¹及びＲ⁵²は、それぞれアルキル基、アルケ
ニル基、アリル基、またはハロゲン、エポキシ、アミ
ノ、メルカプト、メタクリロイル〜シアノで置換された
炭化水素基を表し、Ｚは、アルコキシル基、アルコキシ
アルコキシル基、ハロゲン原子〜アシルオキシ基から選
ばれた加水分解可能な基を表し、ｍ＋ｎが１または２で
ある条件下で、ｍ及びｎはそれぞれ０、１または２であ
る。）

【０１０３】これらに分散される無機系微粒子の好まし
い無機化合物としては、アルミニウム、チタニウム、ジ
ルコニウム、アンチモンなどの金属元素の酸化物を挙げ
ることができる。これらの化合物は、微粒子状で、即ち
粉末〜は水および／またはその他の溶媒中へのコロイド
状分散体として、市販されている。これらをさらに上記
の有機材料または有機ケイ素化合物中に混合分散して使
用する。

【０１０４】上記より高い屈折率を有する層を形成する
材料として、被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機系材料（例、各種元素のアルコキシ
ド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
（例、キレート化合物）、活性無機ポリマー）を挙げる
ことができる。これらの好適な例としては、チタンテト
ラエトキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシド、チタ
ンテトラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｎ−ブト
キシド、チタンテトラ−sec −ブトキシド、チタンテト
ラ−tert−ブトキシド、アルミニウムトリエトキシド、
アルミニウムトリ−ｉ−プロポキシド、アルミニウムト
リブトキシド、アンチモントリエトキシド、アンチモン
トリブトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジル
コニウムテトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−ｎ−プロポキシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−ブト
キシド、ジルコニウムテトラ−sec −ブトキシド及びジ
ルコニウムテトラ−tert−ブトキシドなどの金属アルコ
レート化合物；ジイソプロポキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ジブトキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ジエトキシチタニウムビス（アセ
チルアセトネート）、ビス（アセチルアセトンジルコニ
ウム）、アルミニウムアセチルアセトネート、アルミニ
ウムジ−ｎ−ブトキシドモノエチルアセトアセテート、
アルミニウムジ−ｉ−プロポキシドモノメチルアセトア
セテート及びトリ−ｎ−ブトキシドジルコニウムモノエ
チルアセトアセテートなどのキレート化合物；さらには
炭素ジルコニルアンモニウムあるいはジルコニウムを主
成分とする活性無機ポリマーなどを挙げることができ
る。上記に述べた他に、屈折率が比較的低いが上記の化
合物と併用できるものとしてとくに各種のアルキルシリ
ケート類もしくはその加水分解物、微粒子状シリカとく
にコロイド状に分散したシリカゲルも使用することがで
きる。

【０１０５】本発明の反射防止膜は、表面にアンチグレ
ア機能（即ち、入射光を表面で散乱させて膜周囲の景色
が膜表面に移るのを防止する機能）を有するように処理
することができる。例えば、このような機能を有する反
射防止膜は、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成
し、そしてその表面に反射防止膜（例、低屈折率層等）
を形成することにより得られる。上記微細な凹凸の形成
は、例えば、無機又は有機の微粒子を含む層を透明フィ
ルム表面に形成することにより行なわれる。５０nm〜２
μm の粒径を有する微粒子を低屈折率層形成塗布液に、
０．１〜５０重量％の量で導入し、反射防止膜の最上層
に凹凸を形成しても良い。アンチグレア機能を有する
（即ち、アンチグレア処理された）反射防止膜は、一般
に３〜３０％のヘイズを有する。

【０１０６】本発明の反射防止膜（アンチグレア機能を
有する反射防止膜が好ましい）は、液晶表示装置（ＬＣ
Ｄ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エクレトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置
（ＣＲＴ）等の画像表示装置に組み込むことができる。
このような反射防止膜を有する画像表示装置は、入射光
の反射が防止され、視認性が格段に向上する。本発明の
反射防止膜を備えた液晶表示装置（ＬＣＤ）は、たとえ
ば、下記の構成を有する。透明電極を有する一対の基板
とその間に封入されたネマチック液晶からなる液晶セ
ル、及び液晶セルの両側に配置された偏光板からなる液
晶表示装置であって、少なくとも一方の偏光板が表面に
本発明の反射防止膜を備えている液晶表示装置。

【０１０７】本発明においては、中間層としてハードコ
ート層、防湿防止層、帯電防止層等を、透明フィルム上
に設けることもできる。ハードコート層としては、アク
リル系、ウレタン系、エポキシ系のポリマー及び／又は
オリゴマー及びモノマー（例、紫外線硬化型樹脂）の他
に、シリカ系の材料も使用することができる。

【０１０８】

【実施例】以下に実施例を挙げ本発明を更に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
実施例中、部および％は、特に断らない限り重量基準で
ある。

【０１０９】(1) シリル基含有ビニル系樹脂（Ｐ−12）
の調製 還流冷却器、攪拌機を装着した１リットル三ツ口フラスコ
に、フッ素モノマーＦＭ−４を３０．６ｇ、γ−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン５．４ｇを入れ、
窒素気流下７０℃に加熱攪拌した。２，２′−アゾビス
（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬（株）
よりＶ−６５の名称で市販）４．８ｇをメチルエチルケ
トン２５mlに溶解した溶液を添加すると同時に、２７
５．４ｇのＦＭ−４、γ−メタクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン４８．６ｇに１９．２ｇのＶ−６５を溶
解した溶液の滴下を開始し、等速で６時間かけて滴下し
た。滴下終了後、４．８ｇのＶ−６５と２５mlのメチル
エチルケトン溶液を加え、８０℃でさらに４時間加熱攪
拌を行ったのちメチルエチルケトン２８０mlを加え、冷
却する事により標記Ｐ−１２の溶液６３５ｇを得た。固
形分含量は５４．４％、得られたポリマーのゲルパーミ
エーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算
数平均分子量は９６００であった。

【０１１０】(2) 低屈折率層用ゾル液の調製 攪拌機を備えた反応器に(b) メチルトリメトキシシラン
１００ｇ、(c) ジメチルジメトキシシラン５０ｇ、(d)
ＡＡ−１ ５ｇ、(f) 0.01N 塩酸エタノール５０ｇを加
え混合し、２５℃で４８時間反応させ、低屈折率層用ゾ
ル液ＳＡを得た。必要に応じて(a) テトラエトキシシラ
ンを用いて同様の反応を行ない、表１に示すゾル液ＳＢ
〜ＳＨ、ＳＸ、ＳＹを得た。また、攪拌機、還流冷却器
を備えた反応器に(b) メチルトリメトキシシラン１００
ｇ、(c) ジメチルジメトキシシラン５０ｇ、(d) ＡＡ−
１ １０ｇ、(e) シラノール基含有ポリマー Ｐ−１２
５０ｇ、（ｆ）アルミニウムジイソプロポキシアセトア
セテート２０ｇ、メチルエチルケトン３０ｇ、水１０ｇ
を加え、６０℃で４分間反応させたのち、室温まで冷却
し、低屈折率層用ゾル液ＰＡを得た。必要に応じて(a)
テトラエトキシシランを用いて同様の反応を行ない、表
２に示すゾル液ＰＢ〜ＰＨ、ＰＸ、ＰＹを得た。

【０１１１】

【表１】

【０１１２】

【表２】

【０１１３】(3) 第１層（ハードコート層）の塗設 ２５重量部のジペンタエリスリトールペンタ／ヘキサア
クリレート（商品名：ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）、
２５重量部のウレタンアクリレートオリゴマー（商品
名：ＵＶ−６３００Ｂ、日本合成化学工業（株）製）、
２重量部の光重合開始剤（商品名：イルガキュアー９０
７、チバ−ガイギー社製）及び０．５重量部の増感剤
（商品名：カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）
を５０重量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液
を、９０μm の厚みを有するＴＡＣフィルム上にワイヤ
ーバーを用いて塗布し、次いで塗布膜に紫外線照射して
ハードコート層（屈折率：１．５３、層厚：５μm ）を
形成した。

【０１１４】(4) 第２層（中屈折率層）の塗設 ＴｉＯ₂ の微分散液とバインダーとしてポリメチルメタ
クリレート（屈折率：１．４８）を含む塗布液（固形
分：２重量％、ＴｉＯ₂ ／バインダー＝２２／７８、重
量比）を、ハードコート層の上にワイヤーバーを用いて
塗布し、１００℃で乾燥して、中屈折率層（屈折率：
１．６２、層厚：７８nm）を形成した。 (5) 第３層（高屈折率層）の塗設 ＴｉＯ₂ の微分散液と上記バインダーを含む塗布液（固
形分：２重量％、ＴｉＯ₂ ／バインダー＝６８／３２、
重量比）を、中屈折率層の上にワイヤーバーを用いて塗
布し、１００℃で乾燥して、高屈折率層（屈折率：２．
００、層厚：１２７nm）を形成した。

【０１１５】(6) 第４層（低屈折率層）の塗設 上記の表１および表２の組成物を高屈折率層の上に膜厚
９４nmとなる様にワイヤーバーを用いて塗布し、１２０
℃、５分間乾燥して低屈折率層を形成した。層の屈折率
は１．３〜１．５の範囲であった。

【０１１６】(7) 塗設フィルムの性能評価 こうして得られた第１〜４層を塗設したフィルムについ
て、表面反射率（光波長４００〜６５０nmの平均反射
率）および膜表面強度の測定を実施した。膜表面強度
は、手指先、ティッシュ、消しゴム、手指爪先でそれぞ
れこすり、目視観察し、手指先こすりで傷付くものを
０、ティッシュでこすり傷付くものを１、消しゴムこす
りで傷付くものを２、手指爪先こすりで傷付くものを
３、どの方法でも傷が認められないものを４とした。結
果を表３に示した。

【０１１７】

【表３】

【０１１８】本実施例から明らかなように、本発明の反
射防止膜は非常に低い表面反射率と広い波長領域を有
し、かつ十分に強靱な膜強度を有していることがわか
る。また、指紋跡もティッシュふき取りで容易に消す事
ができ耐汚れ付着性も良好であった。一方、比較例では
表面反射率あるいは膜強度が不十分のものが多かった。

【０１１９】（８) （反射防止フィルムを設置した表示
装置の作成） 上記実施例で作成した実施例１〜１４、比較例１、４の
反射防止フィルムを日本電気株式会社より入手したパー
ソナルコンピューターＰＣ９８２１ＮＳ／３４０Ｗの液
晶ディスプレイ表面に貼り付け、表面装置サンプルを作
成し、その表面反射による風景映り込み程度を目視にて
評価した。本発明の実施例１〜１４の反射防止フィルム
を設置した表示装置は周囲の風景映り込みが殆どなく、
快適な視認性を示しかつ充分な表面強度を有するもので
あったのに対し、比較例１，４のフィルムを設置した表
示装置は周囲の映り込みが多く、視認性が劣るものであ
った。

【０１２０】

【発明の効果】本発明では、シラノール末端ポリシロキ
サン、アルコシキシランおよび／または有機ポリマーの
縮重合反応により得られた組成物を塗布して低屈折率層
を作成し、さらにその直下層の屈折率を１．７以上とす
ることにより、良好な光学特性、膜強度に優れた大面積
の反射防止膜を安価にかつ製造適性を有した形で提供で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止膜の代表的な一例の断面図を
示す。

【図２】本発明の反射防止膜の代表的な別の一例の断面
図を示す。

【符号の説明】

１１、２１：低屈折率層 １２、２４：高屈折率層 ２２：中屈折率層 １３、２３：透明フィルム ２０：下塗り層

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR¹)₄（式
   中Ｒ¹ は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４
   のアシル基を表す）で表されるアルコキシシランおよび
   ／または(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１
   〜１０のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を
   表し、Ｒ³ は前記Ｒ¹ に同義の基を表す）で表されるオ
   ルガノシラン、および／または(c) 一般式R⁴ ₂Si(OR⁵)₂
   （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ² に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に
   同義の基を表す）で表されるオルガノシラン、および
   (d)下記一般式(A)で表されるシラノール末端ポリシロキ
   サンの加水分解物および／またはその部分縮合物を含有
   する組成物を塗設して形成されたものであることを特徴
   とする反射防止膜。 【化１】 式中、R⁶は前記Ｒ² に同義の基を表し、ｎは繰り返しを
   示し、数平均分子量が３００〜５００００である。
2. 【請求項２】 低屈折率層が、(a) 一般式Si(OR¹)₄（式
   中Ｒ¹ は炭素数１〜５のアルキル基または炭素数１〜４
   のアシル基を表す）で表されるアルコキシシランおよび
   ／または(b) 一般式R²Si(OR³)₃（式中、Ｒ² は炭素数１
   〜１０のアルキル基、アルケニル基またはアリール基を
   表し、Ｒ³ は前記Ｒ¹ に同義の基を表す）で表されるオ
   ルガノシラン、および／または(c) 一般式R⁴ ₂ Si(OR⁵)₂
   （式中、Ｒ⁴ は前記Ｒ² に同義の基、Ｒ⁵ は前記Ｒ¹ に
   同義の基を表す）で表されるオルガノシランおよび／ま
   たは(e) 末端あるいは側鎖に加水分解性基および／また
   は水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合
   体中に少なくとも１個有するシリル基含有ビニルポリマ
   ー、および(d)下記一般式(A)で表されるシラノール末端
   ポリシロキサンの加水分解物および／またはその部分縮
   合物を含有する組成物を塗設して形成されたものである
   ことを特徴とする反射防止膜。 【化２】 式中、 R⁶ は前記Ｒ² に同義の基を表し、ｎは繰り返し
   を示し、数平均分子量が３００〜５００００である。
3. 【請求項３】 該低屈折率層(1) とそれに隣接して屈折
   率が１．７以上である高屈折率層(2) からなることを特
   徴とする請求項１または２に記載の反射防止膜。
4. 【請求項４】 該高屈折率層(2) に隣接し、低屈折率層
   (1) の反対側に層(3) を有し、更に屈折率が１．６以下
   の層(4) を有するものであって、層(3) が層(4) の屈折
   率と高屈折率層(2) の屈折率の中間の屈折率を有するこ
   とを特徴とする請求項１乃至３に記載の反射防止膜。
5. 【請求項５】 請求項１乃至４に記載の反射防止膜を配
   置したことを特徴とする表示装置。