JPH11258487A - 光学系の調整方法及び光学装置 - Google Patents
光学系の調整方法及び光学装置Info
- Publication number
- JPH11258487A JPH11258487A JP10073147A JP7314798A JPH11258487A JP H11258487 A JPH11258487 A JP H11258487A JP 10073147 A JP10073147 A JP 10073147A JP 7314798 A JP7314798 A JP 7314798A JP H11258487 A JPH11258487 A JP H11258487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- image
- phase pattern
- respect
- imaging optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】実使用状態またはそれに準じた状態において、
再現性良く光学系を調整することができる光学系の調整
方法を提供する。 【解決手段】少なくとも１つの凸部Ｔと１つの凹部Ｂと
を有する位相パターン４の像を被検光学系３によって結
像し、位相パターン４の凸部Ｔの像と凹部Ｂの像との境
界Ｅに生じる光量Ｉの極値ＩEの位置ｘEに関して凸部側
の光量傾斜部の結像位置ｘTと、凹部側の光量傾斜部の
結像位置ｘBとの距離Δｘを求め、位相パターン４の像
のデフォーカス量Δｚが互いに異なる複数の状態で前記
距離Δｘを求め、デフォーカス量Δｚと前記距離Δｘと
の間の関係に基づいて被検光学系３の光学調整を行うこ
とを特徴とする。
再現性良く光学系を調整することができる光学系の調整
方法を提供する。 【解決手段】少なくとも１つの凸部Ｔと１つの凹部Ｂと
を有する位相パターン４の像を被検光学系３によって結
像し、位相パターン４の凸部Ｔの像と凹部Ｂの像との境
界Ｅに生じる光量Ｉの極値ＩEの位置ｘEに関して凸部側
の光量傾斜部の結像位置ｘTと、凹部側の光量傾斜部の
結像位置ｘBとの距離Δｘを求め、位相パターン４の像
のデフォーカス量Δｚが互いに異なる複数の状態で前記
距離Δｘを求め、デフォーカス量Δｚと前記距離Δｘと
の間の関係に基づいて被検光学系３の光学調整を行うこ
とを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体や液晶等の製
造工程において用いられる、投影露光装置に備えられた
投影光学系及びアライメント光学系、あるいは投影露光
装置に内設又は外設された重ね合わせ測定装置に用いら
れる測定光学系といった光学系の収差状態および光学調
整状態の検査および調整に関するものである。
造工程において用いられる、投影露光装置に備えられた
投影光学系及びアライメント光学系、あるいは投影露光
装置に内設又は外設された重ね合わせ測定装置に用いら
れる測定光学系といった光学系の収差状態および光学調
整状態の検査および調整に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体素子や液晶表示素子等を製
造するフォトリソグラフィ工程で用いる投影露光装置で
は、マスクやレチクルなどの投影原版に形成されたパタ
ーンを、投影光学系を介して、ウエハやガラスプレート
などの感光性基板に複数回にわたって転写する。すなわ
ち、ウエハ上にすでに転写されたパターンに対して、投
影光学系を介して形成されるマスクパターンの投影像を
位置合わせ装置（アライメント光学系）により位置合わ
せして、重ね合わせ露光を行う。さらに、投影露光装置
に内設または外設された重ね合わせ測定装置により、上
記位置合わせの良否を判定している。
造するフォトリソグラフィ工程で用いる投影露光装置で
は、マスクやレチクルなどの投影原版に形成されたパタ
ーンを、投影光学系を介して、ウエハやガラスプレート
などの感光性基板に複数回にわたって転写する。すなわ
ち、ウエハ上にすでに転写されたパターンに対して、投
影光学系を介して形成されるマスクパターンの投影像を
位置合わせ装置（アライメント光学系）により位置合わ
せして、重ね合わせ露光を行う。さらに、投影露光装置
に内設または外設された重ね合わせ測定装置により、上
記位置合わせの良否を判定している。
【０００３】この場合、投影光学系の光学調整が不十分
であったり、投影光学系に収差が残存していると、マス
クパターンの投影像が正確に結像されず、ウエハ上に歪
みのある転写パターンが形成される。また、位置合わせ
装置の光軸調整が不十分であったり、位置合わせ装置の
光学系に収差が残存していると、マスクとウエハとの正
確な位置合わせを行うことができず、高精度な重ね合わ
せ露光を行うことができない。さらに、重ね合わせ測定
装置についても、光軸調整不良や残留収差があると、高
精度な重ね合わせ測定を行うことができない。
であったり、投影光学系に収差が残存していると、マス
クパターンの投影像が正確に結像されず、ウエハ上に歪
みのある転写パターンが形成される。また、位置合わせ
装置の光軸調整が不十分であったり、位置合わせ装置の
光学系に収差が残存していると、マスクとウエハとの正
確な位置合わせを行うことができず、高精度な重ね合わ
せ露光を行うことができない。さらに、重ね合わせ測定
装置についても、光軸調整不良や残留収差があると、高
精度な重ね合わせ測定を行うことができない。
【０００４】そこで、マスクの光透過部分に形成された
複数の遮光パターンを投影光学系を介してウエハ上に転
写し、ウエハ上に形成されたレジスト像の非対称量を電
子顕微鏡を用いて観察して、投影光学系の収差を検査す
る方法が従来から採用されている。また、特開平５−１
１８９５７号公報には、投影光学系を介して形成された
マスク遮光パターンの空間像を検出することによって、
投影光学系の非対称収差を検査する方法が開示されてい
る。さらに、光軸調整については、特開平６−６９０９
７号公報や特開平６−１３２１９７号公報などに、光軸
ずれや光軸の傾斜を補正する方法が開示されている。
複数の遮光パターンを投影光学系を介してウエハ上に転
写し、ウエハ上に形成されたレジスト像の非対称量を電
子顕微鏡を用いて観察して、投影光学系の収差を検査す
る方法が従来から採用されている。また、特開平５−１
１８９５７号公報には、投影光学系を介して形成された
マスク遮光パターンの空間像を検出することによって、
投影光学系の非対称収差を検査する方法が開示されてい
る。さらに、光軸調整については、特開平６−６９０９
７号公報や特開平６−１３２１９７号公報などに、光軸
ずれや光軸の傾斜を補正する方法が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の技術のうち、電子顕微鏡を用いてレジスト像を観察
する方法では、ウエハ上にレジスト像を実際に形成する
必要がある。このため、検査に先立って煩雑な工程に長
時間を要していた。さらに、レジスト像の検査には、通
常、走査型電子顕微鏡を用いるが、走査型電子顕微鏡の
分解能は操作者の個人差や装置の状態に依存して変化す
るので、検査再現性が良くなかった。また、特開平５−
１１８９５７号公報に開示された空間像を用いる方法で
は、照明σ（結像開口数に対する照明開口数の比）を小
さくしないと十分な精度を得ることができない。ところ
が、照明σを変化させると、投影光学系の波面収差に対
する光束の寄与の仕方が変化する。このため、照明σを
絞った状態で得られた空間像に基づいて求められた収差
は、実使用状態における収差とは異なってしまう。
来の技術のうち、電子顕微鏡を用いてレジスト像を観察
する方法では、ウエハ上にレジスト像を実際に形成する
必要がある。このため、検査に先立って煩雑な工程に長
時間を要していた。さらに、レジスト像の検査には、通
常、走査型電子顕微鏡を用いるが、走査型電子顕微鏡の
分解能は操作者の個人差や装置の状態に依存して変化す
るので、検査再現性が良くなかった。また、特開平５−
１１８９５７号公報に開示された空間像を用いる方法で
は、照明σ（結像開口数に対する照明開口数の比）を小
さくしないと十分な精度を得ることができない。ところ
が、照明σを変化させると、投影光学系の波面収差に対
する光束の寄与の仕方が変化する。このため、照明σを
絞った状態で得られた空間像に基づいて求められた収差
は、実使用状態における収差とは異なってしまう。
【０００６】さらに、特開平６−６９０９７号公報や特
開平６−１３２１９７号公報などに開示された光軸調整
方法は、光学系のテレセントリシティと光束のケラレと
を明確に区別せずに徒に調整している。したがって、テ
レセントリシティと光束のケラレとの双方を十分に調整
することができなかった。したがって本発明は、実使用
状態またはそれに準じた状態において、再現性良く光学
系を調整することができる光学系の調整方法を提供する
ことを課題とし、また、この調整方法を具備した光学装
置を提供することを課題とする。
開平６−１３２１９７号公報などに開示された光軸調整
方法は、光学系のテレセントリシティと光束のケラレと
を明確に区別せずに徒に調整している。したがって、テ
レセントリシティと光束のケラレとの双方を十分に調整
することができなかった。したがって本発明は、実使用
状態またはそれに準じた状態において、再現性良く光学
系を調整することができる光学系の調整方法を提供する
ことを課題とし、また、この調整方法を具備した光学装
置を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するためになされたものであり、すなわち、少なくとも
１つの凸部と１つの凹部とを有する位相パターンの像を
被検光学系によって結像し、該位相パターンの前記凸部
の像と凹部の像との境界に生じる光量の極値の位置に関
して凸部側の光量傾斜部の結像位置と、凹部側の光量傾
斜部の結像位置との距離を求め、前記位相パターンの像
のディフォーカス量が互いに異なる複数の状態で前記距
離を求め、前記ディフォーカス量と前記距離との間の関
係に基づいて被検光学系の光学調整を行うことを特徴と
する光学系の調整方法である。
するためになされたものであり、すなわち、少なくとも
１つの凸部と１つの凹部とを有する位相パターンの像を
被検光学系によって結像し、該位相パターンの前記凸部
の像と凹部の像との境界に生じる光量の極値の位置に関
して凸部側の光量傾斜部の結像位置と、凹部側の光量傾
斜部の結像位置との距離を求め、前記位相パターンの像
のディフォーカス量が互いに異なる複数の状態で前記距
離を求め、前記ディフォーカス量と前記距離との間の関
係に基づいて被検光学系の光学調整を行うことを特徴と
する光学系の調整方法である。
【０００８】本発明はまた、位相パターンを照明する照
明光学系と、前記位相パターンの像を形成する結像光学
系と、該結像光学系により前記位相パターン像が形成さ
れる位置に配置された光電検出手段とを有する光学装置
において、前記位相パターンの凸部の像と凹部の像との
境界において生ずる前記光電検出手段からの出力信号レ
ベルの極値の位置に関して、前記出力信号レベルの極値
の位置を形成する互いに異なる２つの信号傾斜部の内の
一方の第１信号傾斜部に基づいて第１の位置を検出する
と共に、前記出力信号レベルの極値の位置を形成する互
いに異なる２つの信号傾斜部の内の他方の第２信号傾斜
部に基づいて第２の位置を検出する信号処理手段と、前
記結像光学系により形成される前記位相パターンの像を
前記光電検出手段に対してディフォーカスさせるディフ
ォーカス手段とを有し、前記信号処理手段は、前記ディ
フォーカス手段により形成される前記光電検出手段に対
する前記位相パターンの像の各ディフォーカス状態に応
じて、前記第１の位置と前記第２の位置との差を検出す
る位置変位検出系を有することを特徴とする光学装置で
ある。この光学装置は、前記位相パターンのうちの予め
定められた２つの部分の位置ずれを計測するための重ね
合わせ測定装置として用いることもできるし、また、前
記位相パターンの位置を検出するための位置検出装置と
して用いることもできる。
明光学系と、前記位相パターンの像を形成する結像光学
系と、該結像光学系により前記位相パターン像が形成さ
れる位置に配置された光電検出手段とを有する光学装置
において、前記位相パターンの凸部の像と凹部の像との
境界において生ずる前記光電検出手段からの出力信号レ
ベルの極値の位置に関して、前記出力信号レベルの極値
の位置を形成する互いに異なる２つの信号傾斜部の内の
一方の第１信号傾斜部に基づいて第１の位置を検出する
と共に、前記出力信号レベルの極値の位置を形成する互
いに異なる２つの信号傾斜部の内の他方の第２信号傾斜
部に基づいて第２の位置を検出する信号処理手段と、前
記結像光学系により形成される前記位相パターンの像を
前記光電検出手段に対してディフォーカスさせるディフ
ォーカス手段とを有し、前記信号処理手段は、前記ディ
フォーカス手段により形成される前記光電検出手段に対
する前記位相パターンの像の各ディフォーカス状態に応
じて、前記第１の位置と前記第２の位置との差を検出す
る位置変位検出系を有することを特徴とする光学装置で
ある。この光学装置は、前記位相パターンのうちの予め
定められた２つの部分の位置ずれを計測するための重ね
合わせ測定装置として用いることもできるし、また、前
記位相パターンの位置を検出するための位置検出装置と
して用いることもできる。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面によっ
て説明する。図１は、本発明による光学系の調整方法を
適用した光学装置の第１実施例を示す。光源１より発し
た光束は、ハーフミラー２によって反射し、被検光学系
となる対物レンズ３を透過して位相パターン４を均一に
照明する。位相パターン４は、対物レンズ３の光軸ｚ方
向に昇降するＺステージ５上に載置されている。位相パ
ターン４より発した光束は、対物レンズ３とハーフミラ
ー２を透過した後に、光電検出手段であるＣＣＤ６上に
結像する。ＣＣＤ６によって得られた電気信号とＺステ
ージ５のｚ方向の位置信号は、信号処理手段７に送られ
る。
て説明する。図１は、本発明による光学系の調整方法を
適用した光学装置の第１実施例を示す。光源１より発し
た光束は、ハーフミラー２によって反射し、被検光学系
となる対物レンズ３を透過して位相パターン４を均一に
照明する。位相パターン４は、対物レンズ３の光軸ｚ方
向に昇降するＺステージ５上に載置されている。位相パ
ターン４より発した光束は、対物レンズ３とハーフミラ
ー２を透過した後に、光電検出手段であるＣＣＤ６上に
結像する。ＣＣＤ６によって得られた電気信号とＺステ
ージ５のｚ方向の位置信号は、信号処理手段７に送られ
る。
【００１０】図２は、位相パターンのパターン方向ｘと
像の光強度Ｉとの関係を示す。位相パターン４の凸部Ｔ
の像の光強度ＩTは、凸部Ｔの反射率に対応して高くな
る。同様に、位相パターン４の凹部Ｂの像の光強度ＩB
は、凹部Ｂの反射率に対応して高くなる。しかるに凸部
Ｔと凹部Ｂとの境界Ｅの像の光強度ＩEは、境界Ｅ及び
位相パターン面において光束が散乱又は回折されて対物
レンズ３の瞳を通過後、所定の像面にて干渉すること
で、凸部Ｔの像の光強度ＩTや凹部Ｂの像の光強度ＩBに
比較して低下する。この結果、光強度Ｉの分布は、凸部
Ｔと凹部Ｂとの境界Ｅの像の位置ｘEに極小値を持ち、
したがってこの極小値の位置ｘEに関して凸部側に凸部
側光量傾斜部ＩTi（ｉ＝１〜ｎ：ｎは測定データ数）を
持ち、凹部側に凹部側光量傾斜部ＩBiを持つことにな
る。
像の光強度Ｉとの関係を示す。位相パターン４の凸部Ｔ
の像の光強度ＩTは、凸部Ｔの反射率に対応して高くな
る。同様に、位相パターン４の凹部Ｂの像の光強度ＩB
は、凹部Ｂの反射率に対応して高くなる。しかるに凸部
Ｔと凹部Ｂとの境界Ｅの像の光強度ＩEは、境界Ｅ及び
位相パターン面において光束が散乱又は回折されて対物
レンズ３の瞳を通過後、所定の像面にて干渉すること
で、凸部Ｔの像の光強度ＩTや凹部Ｂの像の光強度ＩBに
比較して低下する。この結果、光強度Ｉの分布は、凸部
Ｔと凹部Ｂとの境界Ｅの像の位置ｘEに極小値を持ち、
したがってこの極小値の位置ｘEに関して凸部側に凸部
側光量傾斜部ＩTi（ｉ＝１〜ｎ：ｎは測定データ数）を
持ち、凹部側に凹部側光量傾斜部ＩBiを持つことにな
る。
【００１１】そして本実施例では、凸部側光量傾斜部Ｉ
Tiの位置ｘTiから、その平均位置ｘTを、 ｘT＝ΣｘTi／ｎ によって求め、同様に、凹部側光量傾斜部ＩBiの位置ｘ
Biから、その平均位置ｘBを、 ｘB＝ΣｘBi／ｎ によって求め、両者の距離Δｘを、 Δｘ＝ｘB−ＸT によって求めている。なお、距離Δｘは、信号処理手段
７の中の位置変位検出系７ａにおいて求めている。位置
変位検出系７ａとしては、例えば差動増幅器を用いるこ
とができる。
Tiの位置ｘTiから、その平均位置ｘTを、 ｘT＝ΣｘTi／ｎ によって求め、同様に、凹部側光量傾斜部ＩBiの位置ｘ
Biから、その平均位置ｘBを、 ｘB＝ΣｘBi／ｎ によって求め、両者の距離Δｘを、 Δｘ＝ｘB−ＸT によって求めている。なお、距離Δｘは、信号処理手段
７の中の位置変位検出系７ａにおいて求めている。位置
変位検出系７ａとしては、例えば差動増幅器を用いるこ
とができる。
【００１２】図３は、凸部側、又は凹部側の光量傾斜部
Ｉiの位置ｘiを求めるロジックの一例を示す。凸部Ｔと
凹部Ｂとの境界Ｅの像の光量をＩEとし、光量傾斜部に
関して境界Ｅとは反対側に生じる光量の極大値をＩaと
する。光量ＩEとＩaを適当な比率で按分した光量をＩi
とする。例えば等分の比率で按分するときには、 Ｉi＝（ＩE＋Ｉa）／２ となる。この光量Ｉiを与える位置が光量傾斜部Ｉiの位
置ｘiとなる。
Ｉiの位置ｘiを求めるロジックの一例を示す。凸部Ｔと
凹部Ｂとの境界Ｅの像の光量をＩEとし、光量傾斜部に
関して境界Ｅとは反対側に生じる光量の極大値をＩaと
する。光量ＩEとＩaを適当な比率で按分した光量をＩi
とする。例えば等分の比率で按分するときには、 Ｉi＝（ＩE＋Ｉa）／２ となる。この光量Ｉiを与える位置が光量傾斜部Ｉiの位
置ｘiとなる。
【００１３】図４は、Ｚステージ５を昇降してＣＣＤ６
に対してパターン４の像の位置をディフォーカスさせな
がら、凸部側光量傾斜部の位置と凹部側光量傾斜部の位
置との距離Δｘを測定した結果を示す。このうち、図４
（ａ）は、対物レンズ３にコマ収差も光束ケラレも照明
光の光軸のパターン４に対する傾きも存在しない場合を
示す。この場合には、ディフォーカス量Δｚのいかんに
かかわらず距離ΔｘはΔｘ＝０となる。図４（ｂ）は、
対物レンズ３にコマ収差が存在する場合を示す。この場
合には、合焦状態からディフォーカス量Δｚが増大する
と、これに比例して、距離Δｘは増大又は減少する。比
例定数は正のことも負のこともある。したがってディフ
ォーカス量Δｚと距離Δｘとの関係を表す線は、Δｘ＝
０を表す直線に対して、ある角度αだけ傾斜した直線と
なり、この角度αが、コマ収差の指標を表すこととな
る。なお角度については、例えば反時計方向を正とす
る。
に対してパターン４の像の位置をディフォーカスさせな
がら、凸部側光量傾斜部の位置と凹部側光量傾斜部の位
置との距離Δｘを測定した結果を示す。このうち、図４
（ａ）は、対物レンズ３にコマ収差も光束ケラレも照明
光の光軸のパターン４に対する傾きも存在しない場合を
示す。この場合には、ディフォーカス量Δｚのいかんに
かかわらず距離ΔｘはΔｘ＝０となる。図４（ｂ）は、
対物レンズ３にコマ収差が存在する場合を示す。この場
合には、合焦状態からディフォーカス量Δｚが増大する
と、これに比例して、距離Δｘは増大又は減少する。比
例定数は正のことも負のこともある。したがってディフ
ォーカス量Δｚと距離Δｘとの関係を表す線は、Δｘ＝
０を表す直線に対して、ある角度αだけ傾斜した直線と
なり、この角度αが、コマ収差の指標を表すこととな
る。なお角度については、例えば反時計方向を正とす
る。
【００１４】図４（ｃ）は、対物レンズ３に光束ケラレ
が存在する場合を示す。この場合には、合焦状態からデ
ィフォーカス量Δｚの絶対値が増大すると、この絶対値
に比例して、距離Δｘは増大又は減少する。比例定数は
正のことも負のこともある。したがってディフォーカス
量Δｚと距離Δｘとの関係を表す直線は、合焦状態にお
いて折れ曲がり、前ピン（ＣＣＤ６の撮像面が合焦位置
よりも対物レンズ３側にある状態をいう。）側では、Δ
ｘ＝０を表す直線に対して、ある角度φだけ傾斜した直
線となり、後ピン（ＣＣＤ６の撮像面が合焦位置よりも
対物レンズ３の反対側にある状態をいう。）側では、Δ
ｘ＝０を表す直線に対して、−φだけ傾斜した直線とな
り、この角度φが、光束ケラレの指標を表すこととな
る。
が存在する場合を示す。この場合には、合焦状態からデ
ィフォーカス量Δｚの絶対値が増大すると、この絶対値
に比例して、距離Δｘは増大又は減少する。比例定数は
正のことも負のこともある。したがってディフォーカス
量Δｚと距離Δｘとの関係を表す直線は、合焦状態にお
いて折れ曲がり、前ピン（ＣＣＤ６の撮像面が合焦位置
よりも対物レンズ３側にある状態をいう。）側では、Δ
ｘ＝０を表す直線に対して、ある角度φだけ傾斜した直
線となり、後ピン（ＣＣＤ６の撮像面が合焦位置よりも
対物レンズ３の反対側にある状態をいう。）側では、Δ
ｘ＝０を表す直線に対して、−φだけ傾斜した直線とな
り、この角度φが、光束ケラレの指標を表すこととな
る。
【００１５】図４（ｄ）は、対物レンズ３にコマ収差と
光束ケラレとの双方が存在する場合を示す。この場合に
は、前ピン側では、Δｘ＝０を表す直線に対して、ある
角度βだけ傾斜した直線となる。その内訳は、コマ収差
に起因してαだけ傾斜し、更に光束ケラレに起因してφ
だけ傾斜しているから、 β＝α＋φ である。また、後ピン側では、Δｘ＝０を表す直線に対
して、ある角度γだけ傾斜した直線となる。その内訳
は、コマ収差に起因してαだけ傾斜し、更に光束ケラレ
に起因して−φだけ傾斜しているから、 γ＝α−φ である。
光束ケラレとの双方が存在する場合を示す。この場合に
は、前ピン側では、Δｘ＝０を表す直線に対して、ある
角度βだけ傾斜した直線となる。その内訳は、コマ収差
に起因してαだけ傾斜し、更に光束ケラレに起因してφ
だけ傾斜しているから、 β＝α＋φ である。また、後ピン側では、Δｘ＝０を表す直線に対
して、ある角度γだけ傾斜した直線となる。その内訳
は、コマ収差に起因してαだけ傾斜し、更に光束ケラレ
に起因して−φだけ傾斜しているから、 γ＝α−φ である。
【００１６】したがって、前ピン側での傾斜角度βと、
後ピン側での傾斜角度γとを測定することにより、 α＝（β＋γ）／２ φ＝（β−γ）／２ を求めることにより、対物レンズ３が持つコマ収差の指
標αと、光束ケラレの指標φとを知ることができる。そ
してこの結果に基づき、α＝０、φ＝０となるように対
物レンズ３を構成するレンズ部品や開口絞りを偏心調整
することにより、被検光学系のコマ収差と光束ケラレと
を解消することができる。また、被検光学系の光軸がパ
ターン４に対して傾いている時（すなわち、照明光がパ
ターンを斜めに照射するときには、境界Ｅにて位相パタ
ーンの段差による影のため、凸部側光量傾斜部の平均位
置ｘTそのものと、凹部側光量傾斜部の平均位置ｘBその
ものは各々変化し、両者間の距離Δｘが生じるものの、
ディフォーカス量Δｚに対しては両者間の距離Δｘは変
化しない。すなわち、Δｚに対して一定のΔｘを検出す
ることで、被検光学系の光軸の物体面に対する傾斜量を
測定することができるので、光源１を偏心調整すること
で、被検光学系の物体面に対する光軸傾斜を解消するこ
とが可能になる。
後ピン側での傾斜角度γとを測定することにより、 α＝（β＋γ）／２ φ＝（β−γ）／２ を求めることにより、対物レンズ３が持つコマ収差の指
標αと、光束ケラレの指標φとを知ることができる。そ
してこの結果に基づき、α＝０、φ＝０となるように対
物レンズ３を構成するレンズ部品や開口絞りを偏心調整
することにより、被検光学系のコマ収差と光束ケラレと
を解消することができる。また、被検光学系の光軸がパ
ターン４に対して傾いている時（すなわち、照明光がパ
ターンを斜めに照射するときには、境界Ｅにて位相パタ
ーンの段差による影のため、凸部側光量傾斜部の平均位
置ｘTそのものと、凹部側光量傾斜部の平均位置ｘBその
ものは各々変化し、両者間の距離Δｘが生じるものの、
ディフォーカス量Δｚに対しては両者間の距離Δｘは変
化しない。すなわち、Δｚに対して一定のΔｘを検出す
ることで、被検光学系の光軸の物体面に対する傾斜量を
測定することができるので、光源１を偏心調整すること
で、被検光学系の物体面に対する光軸傾斜を解消するこ
とが可能になる。
【００１７】本実施例では、ＣＣＤ６の撮像面に対して
位相パターン４の像をディフォーカスさせるために、Ｚ
ステージ５によって位相パターン４を光軸ｚ方向に移動
したが、別の方法として、ＣＣＤ６の撮像面を光軸方向
に移動することもできるし、対物レンズ３を光軸ｚ方向
に移動することもできる。また、被検光学系のコマ収差
や光束ケラレや物体面に対する光軸傾斜の検出感度を最
適化するために、ディフォーカス範囲や、照明σ（コヒ
ーレンスファクター）及び照明波長といった照明条件
や、位相パターン形状を変化させて検出感度の制御をす
ることが望ましい。
位相パターン４の像をディフォーカスさせるために、Ｚ
ステージ５によって位相パターン４を光軸ｚ方向に移動
したが、別の方法として、ＣＣＤ６の撮像面を光軸方向
に移動することもできるし、対物レンズ３を光軸ｚ方向
に移動することもできる。また、被検光学系のコマ収差
や光束ケラレや物体面に対する光軸傾斜の検出感度を最
適化するために、ディフォーカス範囲や、照明σ（コヒ
ーレンスファクター）及び照明波長といった照明条件
や、位相パターン形状を変化させて検出感度の制御をす
ることが望ましい。
【００１８】次に、図５は本発明の第２実施例を示し、
この実施例は本発明方法を重ね合わせ測定装置に適用し
たものである。光源１より発した光束は、ハーフミラー
２によって反射し、第１対物レンズ８を透過して、ウエ
ハＷ上に形成された第１マークＷＭ１と第２マークＷＭ
２を均一に照明する。第１対物レンズ８は駆動装置８ａ
によって光軸ｚ方向に移動するように構成されており、
本実施例では駆動装置８ａとしてピエゾ素子を用いてい
る。またウエハＷは、第１対物レンズ８の光軸ｚと直交
するｘ−ｙ平面方向に移動するＸＹステージ９上に載置
されている。ウエハＷ上に形成された第１マークＷＭ１
と第２マークＷＭ２は、共に位相パターンであり、両マ
ークＷＭ１、ＷＭ２は、異なる露光工程によってウエハ
Ｗ上に形成されたマークである。この重ね合わせ測定装
置は、両マークＷＭ１、ＷＭ２の位置ずれを検出する装
置である。
この実施例は本発明方法を重ね合わせ測定装置に適用し
たものである。光源１より発した光束は、ハーフミラー
２によって反射し、第１対物レンズ８を透過して、ウエ
ハＷ上に形成された第１マークＷＭ１と第２マークＷＭ
２を均一に照明する。第１対物レンズ８は駆動装置８ａ
によって光軸ｚ方向に移動するように構成されており、
本実施例では駆動装置８ａとしてピエゾ素子を用いてい
る。またウエハＷは、第１対物レンズ８の光軸ｚと直交
するｘ−ｙ平面方向に移動するＸＹステージ９上に載置
されている。ウエハＷ上に形成された第１マークＷＭ１
と第２マークＷＭ２は、共に位相パターンであり、両マ
ークＷＭ１、ＷＭ２は、異なる露光工程によってウエハ
Ｗ上に形成されたマークである。この重ね合わせ測定装
置は、両マークＷＭ１、ＷＭ２の位置ずれを検出する装
置である。
【００１９】両マークＷＭ１、ＷＭ２より発した光束
は、第１対物レンズ８とハーフミラー２を透過し、第２
対物レンズ１０を透過した後に、ウエハ共役位置１１に
両マークＷＭ１、ＷＭ２の像を結像する。また、第２対
物レンズ１０を構成する１枚又は１群のレンズ１０ａ
は、駆動装置１０ｂによって光軸ｚと直交するｘ−ｙ平
面方向に偏心可能に配置されている。ウエハ共役位置１
１を通過した光束は、第１リレーレンズ１２、開口絞り
１３、及び第２リレーレンズ１４を通過した後に、ＣＣ
Ｄ６上に再結像する。開口絞り１３は、駆動装置１３ａ
によって光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に
配置されている。また、ＣＣＤ６によって得られた電気
信号と第１対物レンズ８のｚ方向の位置信号は、信号処
理手段７に送られる。
は、第１対物レンズ８とハーフミラー２を透過し、第２
対物レンズ１０を透過した後に、ウエハ共役位置１１に
両マークＷＭ１、ＷＭ２の像を結像する。また、第２対
物レンズ１０を構成する１枚又は１群のレンズ１０ａ
は、駆動装置１０ｂによって光軸ｚと直交するｘ−ｙ平
面方向に偏心可能に配置されている。ウエハ共役位置１
１を通過した光束は、第１リレーレンズ１２、開口絞り
１３、及び第２リレーレンズ１４を通過した後に、ＣＣ
Ｄ６上に再結像する。開口絞り１３は、駆動装置１３ａ
によって光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に
配置されている。また、ＣＣＤ６によって得られた電気
信号と第１対物レンズ８のｚ方向の位置信号は、信号処
理手段７に送られる。
【００２０】本実施例では、駆動装置８ａによって第１
対物レンズ８をｚ方向に移動し、ディフォーカス量Δｚ
の異なる複数の状態において、ウエハＷ上に形成された
第１マークＷＭ１と第２マークＷＭ２の像を撮像する。
そして先の実施例と同様に、両マークＷＭ１、ＷＭ２の
凸部側光量傾斜部の平均位置ｘTと凹部側光量傾斜部の
平均位置ｘBとの距離Δｘを求め、ディフォーカス量Δ
ｚと距離Δｘとの関係から、コマ収差の指標αと光束ケ
ラレの指標φ及び光軸傾斜の指標Δｘを求める。そして
コマ収差がなくなるように、駆動装置１０ｂによって第
２対物レンズ中のレンズ１０ａをｘ−ｙ平面方向に移動
し、また、光束ケラレがなくなるように、駆動装置１３
ａによって開口絞り１３をｘ−ｙ平面方向に移動する。
更に、光軸傾斜がなくなるように、例えば光源１の偏心
調整を行う。こうしてウエハＷからＣＣＤ６に至る光路
に配置された被検光学系の光学調整を行うことができ
る。
対物レンズ８をｚ方向に移動し、ディフォーカス量Δｚ
の異なる複数の状態において、ウエハＷ上に形成された
第１マークＷＭ１と第２マークＷＭ２の像を撮像する。
そして先の実施例と同様に、両マークＷＭ１、ＷＭ２の
凸部側光量傾斜部の平均位置ｘTと凹部側光量傾斜部の
平均位置ｘBとの距離Δｘを求め、ディフォーカス量Δ
ｚと距離Δｘとの関係から、コマ収差の指標αと光束ケ
ラレの指標φ及び光軸傾斜の指標Δｘを求める。そして
コマ収差がなくなるように、駆動装置１０ｂによって第
２対物レンズ中のレンズ１０ａをｘ−ｙ平面方向に移動
し、また、光束ケラレがなくなるように、駆動装置１３
ａによって開口絞り１３をｘ−ｙ平面方向に移動する。
更に、光軸傾斜がなくなるように、例えば光源１の偏心
調整を行う。こうしてウエハＷからＣＣＤ６に至る光路
に配置された被検光学系の光学調整を行うことができ
る。
【００２１】次に、図６は本発明の第３実施例を示し、
この実施例は本発明方法を投影光学系と、これに付設さ
れたオフアクシスアライメント光学系に適用したもので
ある。不図示の照明光学系から発した露光光は、レチク
ルＲを均一に照明する。レチクルＲ上にはウエハＷに転
写しようとする回路パターンＲＰと、レチクルＲの位置
決めを図るためのレチクルマークＲＭとが描かれてい
る。回路パターンＲＰを透過した光束は、投影光学系１
５を透過してウエハＷ上に結像し、こうしてレチクル上
の回路パターンＲＰがウエハＷ上の感光面に転写され
る。投影光学系１５を構成する１枚又は１群のレンズ１
５ａは、光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に
配置されており、また、投影光学系１５の開口絞り１５
ｂも、光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に配
置されている。
この実施例は本発明方法を投影光学系と、これに付設さ
れたオフアクシスアライメント光学系に適用したもので
ある。不図示の照明光学系から発した露光光は、レチク
ルＲを均一に照明する。レチクルＲ上にはウエハＷに転
写しようとする回路パターンＲＰと、レチクルＲの位置
決めを図るためのレチクルマークＲＭとが描かれてい
る。回路パターンＲＰを透過した光束は、投影光学系１
５を透過してウエハＷ上に結像し、こうしてレチクル上
の回路パターンＲＰがウエハＷ上の感光面に転写され
る。投影光学系１５を構成する１枚又は１群のレンズ１
５ａは、光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に
配置されており、また、投影光学系１５の開口絞り１５
ｂも、光軸ｚと直交するｘ−ｙ平面方向に偏心可能に配
置されている。
【００２２】ウエハＷ上には、ウエハＷの位置決めを図
るためのウエハマークＷＭが描かれている。また、ウエ
ハＷは、ｘ、ｙ、ｚ方向に移動可能なＸＹＺステージ１
６上に載置されている。ＸＹＺステージ１６上には、ウ
エハＷの感光面と同じ高さに開口が配置されており、こ
の開口を通過した光束の光量を計測するように光電検出
器１７が配置されている。ＸＹＺステージ１６のｘ、
ｙ、ｚ方向の位置は、干渉計１８によって計測されてい
る。他方、オフアクシスアライメント光学系の構成は先
の第２実施例と同じである。但し、ウエハＷの共役位置
１１には、ウエハマークＷＭの位置を計測する指標とな
る指標板が配置されている。また、全体の装置は演算装
置１９によって統括されており、この演算装置１９の１
つの要素として、信号処理手段７が設けられている。
るためのウエハマークＷＭが描かれている。また、ウエ
ハＷは、ｘ、ｙ、ｚ方向に移動可能なＸＹＺステージ１
６上に載置されている。ＸＹＺステージ１６上には、ウ
エハＷの感光面と同じ高さに開口が配置されており、こ
の開口を通過した光束の光量を計測するように光電検出
器１７が配置されている。ＸＹＺステージ１６のｘ、
ｙ、ｚ方向の位置は、干渉計１８によって計測されてい
る。他方、オフアクシスアライメント光学系の構成は先
の第２実施例と同じである。但し、ウエハＷの共役位置
１１には、ウエハマークＷＭの位置を計測する指標とな
る指標板が配置されている。また、全体の装置は演算装
置１９によって統括されており、この演算装置１９の１
つの要素として、信号処理手段７が設けられている。
【００２３】本実施例では、次のようにして投影光学系
１５の光学調整を行う。すなわち、ＸＹＺステージ１６
によって光電検出器１７をｚ方向に移動し、ディフォー
カス量Δｚの異なる複数の状態に上記開口を置く。次い
でその高さにてＸＹＺステージ１６によって開口をｘ−
ｙ面内で走査しながら、光電検出器１７の出力を計測す
る。そして先の実施例と同様に、回路パターンＲＰが位
相パターンであれば、その凸部側光量傾斜部の平均位置
ｘTと凹部側光量傾斜部の平均位置ｘBとの距離Δｘを求
め、ディフォーカス量Δｚと距離Δｘとの関係から、コ
マ収差の指標αと光束ケラレの指標φと光軸傾斜の指標
Δｘを求める。そしてコマ収差がなくなるように、投影
光学系中のレンズ１５ａをｘ−ｙ平面方向に移動し、ま
た、光束ケラレがなくなるように、開口絞り１５ｂをｘ
−ｙ平面方向に移動する。更に、光軸傾斜がなくなるよ
うに、不図示の照明光学系の光源の偏心調整を行う。こ
うしてレチクルＲから光電検出器１７に至る光路に配置
された被検光学系、すなわち投影光学系１５の光学調整
を行うことができる。他方、オフアクシスアライメント
光学系の光学調整は、第２実施例と同様にして行う。
１５の光学調整を行う。すなわち、ＸＹＺステージ１６
によって光電検出器１７をｚ方向に移動し、ディフォー
カス量Δｚの異なる複数の状態に上記開口を置く。次い
でその高さにてＸＹＺステージ１６によって開口をｘ−
ｙ面内で走査しながら、光電検出器１７の出力を計測す
る。そして先の実施例と同様に、回路パターンＲＰが位
相パターンであれば、その凸部側光量傾斜部の平均位置
ｘTと凹部側光量傾斜部の平均位置ｘBとの距離Δｘを求
め、ディフォーカス量Δｚと距離Δｘとの関係から、コ
マ収差の指標αと光束ケラレの指標φと光軸傾斜の指標
Δｘを求める。そしてコマ収差がなくなるように、投影
光学系中のレンズ１５ａをｘ−ｙ平面方向に移動し、ま
た、光束ケラレがなくなるように、開口絞り１５ｂをｘ
−ｙ平面方向に移動する。更に、光軸傾斜がなくなるよ
うに、不図示の照明光学系の光源の偏心調整を行う。こ
うしてレチクルＲから光電検出器１７に至る光路に配置
された被検光学系、すなわち投影光学系１５の光学調整
を行うことができる。他方、オフアクシスアライメント
光学系の光学調整は、第２実施例と同様にして行う。
【００２４】
【発明の効果】以上のように、本発明方法及び装置を用
いれば、光学系のコマ収差や光束ケラレ及び物体面に対
する光軸傾斜が容易かつ高精度に判定できるので、この
情報を元に光学系に搭載した収差補正手段や光軸調整手
段を用いて、コマ収差や光束ケラレや光軸傾斜を高精度
に調整することができる。特に、半導体製造に用いる重
ね合わせ測定装置の測定光学系や、露光装置の投影光学
系およびアライメント光学系の収差補正や光軸調整にお
いて有用である。
いれば、光学系のコマ収差や光束ケラレ及び物体面に対
する光軸傾斜が容易かつ高精度に判定できるので、この
情報を元に光学系に搭載した収差補正手段や光軸調整手
段を用いて、コマ収差や光束ケラレや光軸傾斜を高精度
に調整することができる。特に、半導体製造に用いる重
ね合わせ測定装置の測定光学系や、露光装置の投影光学
系およびアライメント光学系の収差補正や光軸調整にお
いて有用である。
【図１】本発明の第１実施例を示す構成図
【図２】位相パターンの像の光量分布を示す説明図
【図３】光量傾斜部の位置を決定する一手法を示す説明
図
図
【図４】ディフォーカス量Δｚと、凸部側光量傾斜部と
凹部側光量傾斜部との距離Δｘとの関係を示す説明図
凹部側光量傾斜部との距離Δｘとの関係を示す説明図
【図５】本発明の第２実施例を示す構成図
【図６】本発明の第３実施例を示す構成図
１…光源 ２…ハーフミラー ３…対物レンズ ４…位相パターン ５…Ｚステージ ６…ＣＣＤ ７…信号処理手段 ７ａ…位置変位検出
系 ８…第１対物レンズ ８ａ…駆動装置 ９…ＸＹステージ １０…第２対物レン
ズ １０ａ…レンズ １０ｂ…駆動装置 １１…ウエハ共役位置 １２…第１リレーレ
ンズ １３…開口絞り １３ａ…駆動装置 １４…第２リレーレンズ １５…投影光学系 １５ａ…レンズ １５ｂ…開口絞り １６…ＸＹＺステージ １７…光電検出器 １８…干渉計 １９…演算装置 Ｗ…ウエハ ＷＭ、ＷＭ１、ＷＭ
２…ウエハマーク Ｒ…レチクル ＲＰ…回路パターン ＲＭ…レチクルマーク ｚ…光軸
系 ８…第１対物レンズ ８ａ…駆動装置 ９…ＸＹステージ １０…第２対物レン
ズ １０ａ…レンズ １０ｂ…駆動装置 １１…ウエハ共役位置 １２…第１リレーレ
ンズ １３…開口絞り １３ａ…駆動装置 １４…第２リレーレンズ １５…投影光学系 １５ａ…レンズ １５ｂ…開口絞り １６…ＸＹＺステージ １７…光電検出器 １８…干渉計 １９…演算装置 Ｗ…ウエハ ＷＭ、ＷＭ１、ＷＭ
２…ウエハマーク Ｒ…レチクル ＲＰ…回路パターン ＲＭ…レチクルマーク ｚ…光軸
Claims (10)
- 【請求項１】少なくとも１つの凸部と１つの凹部とを有
する位相パターンの像を被検光学系によって結像し、該
位相パターンの前記凸部の像と凹部の像との境界に生じ
る光量の極値の位置に関して凸部側の光量傾斜部の結像
位置と、凹部側の光量傾斜部の結像位置との距離を求
め、前記位相パターンの像のディフォーカス量が互いに
異なる複数の状態で前記距離を求め、前記ディフォーカ
ス量と前記距離との間の関係に基づいて被検光学系の光
学調整を行うことを特徴とする光学系の調整方法。 - 【請求項２】前記凸部側又は凹部側の光量傾斜部の結像
位置は、該光量傾斜部の前後に生じる光量の極値を予め
定められた比率にて按分した光量、を与える結像位置に
よって求めることを特徴とする請求項１に記載の光学系
の調整方法。 - 【請求項３】前記ディフォーカス量と前記距離との間の
関係に基づいて被検光学系のコマ収差調整、光束ケラレ
調整又は物体面に対する光軸の傾斜調整を行うことを特
徴とする請求項１又は２に記載の光学系の調整方法。 - 【請求項４】位相パターンを照明する照明光学系と、前
記位相パターンの像を形成する結像光学系と、該結像光
学系により前記位相パターン像が形成される位置に配置
された光電検出手段とを有する光学装置において、 前記位相パターンの凸部の像と凹部の像との境界におい
て生ずる前記光電検出手段からの出力信号レベルの極値
の位置に関して、前記出力信号レベルの極値の位置を形
成する互いに異なる２つの信号傾斜部の内の一方の第１
信号傾斜部に基づいて第１の位置を検出すると共に、前
記出力信号レベルの極値の位置を形成する互いに異なる
２つの信号傾斜部の内の他方の第２信号傾斜部に基づい
て第２の位置を検出する信号処理手段と、 前記結像光学系により形成される前記位相パターンの像
を前記光電検出手段に対してディフォーカスさせるディ
フォーカス手段とを有し、 前記信号処理手段は、前記ディフォーカス手段により形
成される前記光電検出手段に対する前記位相パターンの
像の各ディフォーカス状態に応じて、前記第１の位置と
前記第２の位置との差を検出する位置変位検出系を有す
ることを特徴とする光学装置。 - 【請求項５】前記ディフォーカス手段は、前記位相パタ
ーン、前記結像光学系、及び前記光電検出手段のうちの
少なくとも１つを、前記結像光学系の光軸方向に移動さ
せることを特徴とする請求項４に記載の光学装置。 - 【請求項６】前記照明光学系は、前記位相パターンの照
明状態を変化させる手段を備えることを特徴とする請求
項４又は５に記載の光学装置。 - 【請求項７】前記結像光学系は、該結像光学系のコマ収
差を調整する手段を有することを特徴とする請求項４、
５又は６に記載の光学装置。 - 【請求項８】前記照明光学系又は結像光学系は、該照明
光学系又は結像光学系の光軸を調整する手段を有するこ
とを特徴とする請求項４、５、６又は７に記載の光学装
置。 - 【請求項９】露光用の光でマスクを照明する露光用照明
系と、マスク上の転写パターンを基板に投影する投影系
と、前記基板に形成された位相パターンの位置を検出す
るアライメント系とを備えた露光装置において、 前記アライメント系は、 位相パターンを照明する位置検出用照明系と、 前記位相パターンの像を形成する検出光学系と、 該検出光学系により前記位相パターン像が形成される位
置に配置された光電検出手段と、 前記位相パターンの凸部の像と凹部の像との境界におい
て生ずる前記光電検出手段からの出力信号レベルの極値
の位置に関して、前記出力信号レベルの極値の位置を形
成する互いに異なる２つの信号傾斜部の内の一方の第１
信号傾斜部に基づいて第１の位置を検出すると共に、前
記出力信号レベルの極値の位置を形成する互いに異なる
２つの信号傾斜部の内の他方の第２信号傾斜部に基づい
て第２の位置を検出する信号処理手段と、 前記結像光学系により形成される前記位相パターンの像
を前記光電検出手段に対してディフォーカスさせるディ
フォーカス手段とを有し、 前記信号処理手段は、前記ディフォーカス手段により形
成される前記光電検出手段に対する前記位相パターンの
像の各ディフォーカス状態に応じて、前記第１の位置と
前記第２の位置との差を検出する位置変位検出系を有す
ることを特徴とする露光装置。 - 【請求項１０】露光用の光でマスクを照明する露光用照
明系と、露光用マスク上の転写パターンを基板に投影す
る投影系とを備えた露光装置において、 前記投影系の結像特性を検査する検査装置を配置し、 前記検査装置は、前記露光用マスクとは異なる検査用マ
スクの位相パターンの像を前記投影系を介して光電検出
する光電検出手段と、 前記位相パターンの凸部の像と凹部の像との境界におい
て生ずる前記光電検出手段からの出力信号レベルの極値
の位置に関して、前記出力信号レベルの極値の位置を形
成する互いに異なる２つの信号傾斜部の内の一方の第１
信号傾斜部に基づいて第１の位置を検出すると共に、前
記出力信号レベルの極値の位置を形成する互いに異なる
２つの信号傾斜部の内の他方の第２信号傾斜部に基づい
て第２の位置を検出する信号処理手段と、 前記結像光学系により形成される前記位相パターンの像
を前記光電検出手段に対してディフォーカスさせるディ
フォーカス手段とを有し、 前記信号処理手段は、前記ディフォーカス手段により形
成される前記光電検出手段に対する前記位相パターンの
像の各ディフォーカス状態に応じて、前記第１の位置と
前記第２の位置との差を検出する位置変位検出系を有す
ることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10073147A JPH11258487A (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 光学系の調整方法及び光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10073147A JPH11258487A (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 光学系の調整方法及び光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258487A true JPH11258487A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13509804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10073147A Pending JPH11258487A (ja) | 1998-03-06 | 1998-03-06 | 光学系の調整方法及び光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258487A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1073097A3 (en) * | 1999-07-26 | 2001-07-11 | Komatsu Ltd | Dot mark reading apparatus and reading method |
| JP2003092249A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Nikon Corp | 光学的位置ずれ検出装置 |
| CN111521617A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-11 | 上海御微半导体技术有限公司 | 光学检测设备、光学检测设备的控制方法及存储介质 |
-
1998
- 1998-03-06 JP JP10073147A patent/JPH11258487A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1073097A3 (en) * | 1999-07-26 | 2001-07-11 | Komatsu Ltd | Dot mark reading apparatus and reading method |
| JP2003092249A (ja) * | 2001-09-18 | 2003-03-28 | Nikon Corp | 光学的位置ずれ検出装置 |
| CN111521617A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-08-11 | 上海御微半导体技术有限公司 | 光学检测设备、光学检测设备的控制方法及存储介质 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4908656A (en) | Method of dimension measurement for a pattern formed by exposure apparatus, and method for setting exposure conditions and for inspecting exposure precision | |
| JP3927774B2 (ja) | 計測方法及びそれを用いた投影露光装置 | |
| JP2773147B2 (ja) | 露光装置の位置合わせ装置及び方法 | |
| US6614535B1 (en) | Exposure apparatus with interferometer | |
| US6573015B2 (en) | Method of measuring optical aberration | |
| JP3327781B2 (ja) | 位置検出装置及びその検定方法と調整方法 | |
| JPH06349696A (ja) | 投影露光装置及びそれを用いた半導体製造装置 | |
| JP2938187B2 (ja) | パターン形成方法及び同方法を実施するための装置 | |
| US8023759B2 (en) | Focus monitoring method | |
| JP2005337912A (ja) | 位置計測装置、露光装置、及びデバイスの製造方法 | |
| JP2712330B2 (ja) | 露光条件測定方法 | |
| JP3230094B2 (ja) | 投影光学系の光学特性測定方法、光学特性測定装置、露光方法及びマスク | |
| JP2010251546A (ja) | 露光方法 | |
| JP3117095B2 (ja) | 投影光学系の検査方法 | |
| JP2696962B2 (ja) | 線幅測定方法及び該方法を用いた露光装置の検査方法 | |
| JPH11258487A (ja) | 光学系の調整方法及び光学装置 | |
| JPH0949781A (ja) | 光学系の検査装置および該検査装置を備えた投影露光装置 | |
| JPH0992591A (ja) | 位置合わせ方法 | |
| JP4143614B2 (ja) | 計測方法 | |
| JPH10284414A (ja) | 結像位置検出装置及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2003068612A (ja) | 重ね合わせ検査装置 | |
| TWI908211B (zh) | 測定物體表面位置的方法 | |
| JPH10141915A (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
| JP2005175383A (ja) | 露光装置、アライメント方法、及び、デバイスの製造方法 | |
| JP2000089129A (ja) | 位相差付与部材の位置決め方法 |