JPH11258613A - 液晶パネル用基板及び液晶表示素子 - Google Patents
液晶パネル用基板及び液晶表示素子Info
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- JPH11258613A JPH11258613A JP6577498A JP6577498A JPH11258613A JP H11258613 A JPH11258613 A JP H11258613A JP 6577498 A JP6577498 A JP 6577498A JP 6577498 A JP6577498 A JP 6577498A JP H11258613 A JPH11258613 A JP H11258613A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ラビング処理によりスペーサができるだけダメ
ージを受けず、スペーサ以外の部分が十分にラビングさ
れ均一な配向状態を与えるスペーサを有する液晶パネル
用基板及び液晶パネルを提供する。 【解決手段】ラビング方向１０２とほぼ同一方向に長手
方向３０１を有する光感光性樹脂からなる楕円状、菱
形、平行四辺形状、直線状の微細なスペーサを形成す
る。
ージを受けず、スペーサ以外の部分が十分にラビングさ
れ均一な配向状態を与えるスペーサを有する液晶パネル
用基板及び液晶パネルを提供する。 【解決手段】ラビング方向１０２とほぼ同一方向に長手
方向３０１を有する光感光性樹脂からなる楕円状、菱
形、平行四辺形状、直線状の微細なスペーサを形成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、家庭用、事務用お
よび産業用の情報表示端末として使われる液晶ディスプ
レイに関わる。更に詳しくは一対の基板間隙を保持する
基板間隔支持部材の形状に関する。
よび産業用の情報表示端末として使われる液晶ディスプ
レイに関わる。更に詳しくは一対の基板間隙を保持する
基板間隔支持部材の形状に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶ディスプレイは、低消費電力、省ス
ペースという特徴を有するのでノートパソコンの表示部
として広く用いられている。近年、大型化が進み、対角
15インチから21インチの大きさのものが製造されつつあ
り、次第にデスクトップパソコンやテレビなどで使われ
ているＣＲＴ（Cathod Ray Tube ）と入れ替わっていく
ものと予想されている。デスクトップ用の液晶ディスプ
レイには、ネマチック液晶を使用して薄膜トランジスタ
ー（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）で駆動するタイプ
の他に、強誘電性液晶（ＦＬＣ：Ferroelectric Liquid
Crystal）あるいは反強誘電性液晶（ＡＦＬＣ：Anti-F
erroelectric Liquid Crystal ）を使うタイプがある。
これらは表示の原理や駆動方式が異なるが、いずれの液
晶ディスプレイでも一対のガラス基板間（液晶パネル
枠）に液晶を狭持するという構造は変わらない。
ペースという特徴を有するのでノートパソコンの表示部
として広く用いられている。近年、大型化が進み、対角
15インチから21インチの大きさのものが製造されつつあ
り、次第にデスクトップパソコンやテレビなどで使われ
ているＣＲＴ（Cathod Ray Tube ）と入れ替わっていく
ものと予想されている。デスクトップ用の液晶ディスプ
レイには、ネマチック液晶を使用して薄膜トランジスタ
ー（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）で駆動するタイプ
の他に、強誘電性液晶（ＦＬＣ：Ferroelectric Liquid
Crystal）あるいは反強誘電性液晶（ＡＦＬＣ：Anti-F
erroelectric Liquid Crystal ）を使うタイプがある。
これらは表示の原理や駆動方式が異なるが、いずれの液
晶ディスプレイでも一対のガラス基板間（液晶パネル
枠）に液晶を狭持するという構造は変わらない。
【０００３】本発明の対象であるＴＦＴ駆動型のディス
プレイの一対の基板の間隔は、概略３〜６μｍの範囲で
一定であるが可能な限り均一でなければならない。この
ために、スペーサービーズという球形もしくは棒状の基
板間隔支持部材を基板間に散布する方法が採用されてい
る。スペーサービーズは、ガラス製や樹脂製があり、適
当な溶媒にこれを分散させて基板上に塗布乾燥する。塗
布乾燥工程は静電気や異物の影響を受けやすく、結果と
してスペーサービーズが凝集したり、分布が不均一であ
ったりすると、基板間隔が一様でなくなり表示品質が落
ちる原因となる。液晶パネル体が大型化すると、均一に
散布すること自体が難しくなってくる。また、スペーサ
ービーズは基板間隙に浮遊しているにすぎないので、基
板間隔は外部からの圧力により容易に変形し変化する
が、こうしたことにより液晶が流動するとスペーサが移
動してしまうという問題も生じる。更に別の問題はスペ
ーサの位置が制御できないので表示画素上に位置した場
合、その部分が白抜けするなどである。
プレイの一対の基板の間隔は、概略３〜６μｍの範囲で
一定であるが可能な限り均一でなければならない。この
ために、スペーサービーズという球形もしくは棒状の基
板間隔支持部材を基板間に散布する方法が採用されてい
る。スペーサービーズは、ガラス製や樹脂製があり、適
当な溶媒にこれを分散させて基板上に塗布乾燥する。塗
布乾燥工程は静電気や異物の影響を受けやすく、結果と
してスペーサービーズが凝集したり、分布が不均一であ
ったりすると、基板間隔が一様でなくなり表示品質が落
ちる原因となる。液晶パネル体が大型化すると、均一に
散布すること自体が難しくなってくる。また、スペーサ
ービーズは基板間隙に浮遊しているにすぎないので、基
板間隔は外部からの圧力により容易に変形し変化する
が、こうしたことにより液晶が流動するとスペーサが移
動してしまうという問題も生じる。更に別の問題はスペ
ーサの位置が制御できないので表示画素上に位置した場
合、その部分が白抜けするなどである。
【０００４】こうしたスペーサビーズ散布方式の欠点を
取り除く手段としてフォトリソグラフィにより微細な部
材を形成してスペーサとする、あるいは更に進めてこれ
らを介して一対の基板を完全に接着する技術が公開され
ている（例えば、特開昭６３−５０８１７号公報、特公
平２−３６９３０号公報、特開平４−２５５８２６号公
報、特開平７−８４２６７号公報など）。これらの技術
によれば非画素部に選択的に基板間隔支持部材（以下、
これはスペーサと同義である）を形成することが可能で
あり、かつ基板間隔の均一性が優れている。基板上に固
着しているため移動することが無く、かつ基板を洗浄す
ることができるので、セル作成時の歩留まりも格段に優
れる。
取り除く手段としてフォトリソグラフィにより微細な部
材を形成してスペーサとする、あるいは更に進めてこれ
らを介して一対の基板を完全に接着する技術が公開され
ている（例えば、特開昭６３−５０８１７号公報、特公
平２−３６９３０号公報、特開平４−２５５８２６号公
報、特開平７−８４２６７号公報など）。これらの技術
によれば非画素部に選択的に基板間隔支持部材（以下、
これはスペーサと同義である）を形成することが可能で
あり、かつ基板間隔の均一性が優れている。基板上に固
着しているため移動することが無く、かつ基板を洗浄す
ることができるので、セル作成時の歩留まりも格段に優
れる。
【０００５】一対の基板を接着するにはまず基板上に配
向膜を形成し、次いでその上に所望の厚さの感光性樹脂
を塗布する。その後適切なパターンのマスクを使って露
光現像し乾燥する。この工程により所望の厚みを有する
感光性樹脂のパターン、即ちスペーサ部材を形成し得
る。このスペーサ部材を有する基板と他方の基板とを密
着させたまま、概略１５０〜１７０℃程度の環境に１時
間程度保持すると両基板は完全に接着する。感光性樹脂
は、高温にすると配向膜素材であるポリイミドとの化学
的に相互作用し強い粘接着性が発現するためである。感
光性樹脂としてはポジ型、ネガ型何れも使用可能であ
る。スペーサの形状は一応点状、直線状などどんな形状
も考えられる。配向用のポリイミド溶液の塗布はスペー
サを形成した後でも可能であるが、スペーサ部材の材質
によりポリイミドがはじかれるもしくは溶剤によりスペ
ーサが溶けるなど塗布の均一性に問題があり汎用性がな
い。両基板を接着しようとする場合にはスペーサ頂部に
ポリイミドが載ってしまい接着しないという重大な弱点
がある。
向膜を形成し、次いでその上に所望の厚さの感光性樹脂
を塗布する。その後適切なパターンのマスクを使って露
光現像し乾燥する。この工程により所望の厚みを有する
感光性樹脂のパターン、即ちスペーサ部材を形成し得
る。このスペーサ部材を有する基板と他方の基板とを密
着させたまま、概略１５０〜１７０℃程度の環境に１時
間程度保持すると両基板は完全に接着する。感光性樹脂
は、高温にすると配向膜素材であるポリイミドとの化学
的に相互作用し強い粘接着性が発現するためである。感
光性樹脂としてはポジ型、ネガ型何れも使用可能であ
る。スペーサの形状は一応点状、直線状などどんな形状
も考えられる。配向用のポリイミド溶液の塗布はスペー
サを形成した後でも可能であるが、スペーサ部材の材質
によりポリイミドがはじかれるもしくは溶剤によりスペ
ーサが溶けるなど塗布の均一性に問題があり汎用性がな
い。両基板を接着しようとする場合にはスペーサ頂部に
ポリイミドが載ってしまい接着しないという重大な弱点
がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ＴＦＴ駆動型の液晶パ
ネルにおいて、フォトリソ法で感光性樹脂スペーサを形
成するとその形状により次の問題が生じた。ストライプ
状の電極群の上に先ず液晶配向用のポリイミド膜を塗布
し、光感光性樹脂でスペーサを形成するが一般にはこの
後ラビング処理を施す。スペーサを形成する前にラビン
グ処理を施しても構わないが、アルカリ溶液による現像
過程によりポリイミド表面が加水分解により変質した
り、レジスト残膜が薄く残ったりして液晶の配向性が低
下する。そのため電極エッジ周囲にディスクリネーショ
ンが生じやすくなることが多い。従って現像後にリンス
等の処理を施したのちラビング処理するのが望ましい工
程である。この場合、３〜５μｍ程度の凸部があるとス
ペーサの形状によっては、頂部が布で強く摩擦されると
上部が削られたり、甚だしい場合は倒れたり潰れたりす
ることである。あるいはスペーサの厚みが増したとき
に、陰になる部分が摩擦されず配向性が付与できないも
しくは、スペーサの存在自体が配向性を低下させること
であった。
ネルにおいて、フォトリソ法で感光性樹脂スペーサを形
成するとその形状により次の問題が生じた。ストライプ
状の電極群の上に先ず液晶配向用のポリイミド膜を塗布
し、光感光性樹脂でスペーサを形成するが一般にはこの
後ラビング処理を施す。スペーサを形成する前にラビン
グ処理を施しても構わないが、アルカリ溶液による現像
過程によりポリイミド表面が加水分解により変質した
り、レジスト残膜が薄く残ったりして液晶の配向性が低
下する。そのため電極エッジ周囲にディスクリネーショ
ンが生じやすくなることが多い。従って現像後にリンス
等の処理を施したのちラビング処理するのが望ましい工
程である。この場合、３〜５μｍ程度の凸部があるとス
ペーサの形状によっては、頂部が布で強く摩擦されると
上部が削られたり、甚だしい場合は倒れたり潰れたりす
ることである。あるいはスペーサの厚みが増したとき
に、陰になる部分が摩擦されず配向性が付与できないも
しくは、スペーサの存在自体が配向性を低下させること
であった。
【０００７】本発明は、以上の事柄を鑑みて考案された
ものである。その目的は、ラビング処理によりスペーサ
ができるだけダメージを受けず、スペーサ以外の部分が
十分にラビングされ均一な配向状態を与えるスペーサを
有する液晶パネル用基板及び液晶パネルを提供すること
である。
ものである。その目的は、ラビング処理によりスペーサ
ができるだけダメージを受けず、スペーサ以外の部分が
十分にラビングされ均一な配向状態を与えるスペーサを
有する液晶パネル用基板及び液晶パネルを提供すること
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明になる請求項１に
記載の液晶パネル用基板は、ラビング方向とほぼ同一方
向に長手方向を有する光感光性樹脂からなる微細なスペ
ーサが形成されていることを特徴とする液晶パネル用基
板である。請求項２に記載の液晶パネル用基板は、微細
な形状のスペーサの高さが２. ５μｍから５μｍの範囲
にあることを特徴とするもので、主としてネマチック液
晶を用いるの液晶パネルに好適な液晶パネル用基板であ
る。請求項３に記載の液晶パネル用基板は、微細な形状
の形状のスペーサが液晶配向用の配向膜上に形成されて
いることを特徴とするものである。この手順により配向
膜がスペーサ部材の材質によらず、配向膜に含まれる溶
剤の影響を受けることなく均一に塗布可能となる。請求
項４に記載の液晶パネルは一対の両基板はスペーサを介
して完全に接着した液晶パネル枠にネマチック液晶を保
持したものである。
記載の液晶パネル用基板は、ラビング方向とほぼ同一方
向に長手方向を有する光感光性樹脂からなる微細なスペ
ーサが形成されていることを特徴とする液晶パネル用基
板である。請求項２に記載の液晶パネル用基板は、微細
な形状のスペーサの高さが２. ５μｍから５μｍの範囲
にあることを特徴とするもので、主としてネマチック液
晶を用いるの液晶パネルに好適な液晶パネル用基板であ
る。請求項３に記載の液晶パネル用基板は、微細な形状
の形状のスペーサが液晶配向用の配向膜上に形成されて
いることを特徴とするものである。この手順により配向
膜がスペーサ部材の材質によらず、配向膜に含まれる溶
剤の影響を受けることなく均一に塗布可能となる。請求
項４に記載の液晶パネルは一対の両基板はスペーサを介
して完全に接着した液晶パネル枠にネマチック液晶を保
持したものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明を説
明する。一般に液晶セルはストライプ状の透明電極が形
成された一対の基板を互いの透明電極が直交するように
張り合わせて製造する。ＴＦＴ駆動用の液晶セルはマト
リックス状の多数のＴＦＴが形成された一方の基板と、
平面状の電極を有する他方の基板を張り合わせて製造す
る。いずれにしても一方の基板に間隙支持部材として光
感光性樹脂を使って微細なスペーサを形成する。上下の
ラビング方向は同一（平行）でなく一方の基板側から見
ると略９０度の角度をなすように対抗している。具体的
には図１に示したように基板の対角線方向１０１、１０
２にラビングを行う。これは上下の基板の電極線の伸び
る方向１０３、１０４が長方形の辺方向に平行であっ
て、対角線方向にラビングすると表示画像の角度依存性
が左右上下で減少する効果があるからである。この時ス
トライプ状の電極に対し斜め方向からラビングが行われ
る。
明する。一般に液晶セルはストライプ状の透明電極が形
成された一対の基板を互いの透明電極が直交するように
張り合わせて製造する。ＴＦＴ駆動用の液晶セルはマト
リックス状の多数のＴＦＴが形成された一方の基板と、
平面状の電極を有する他方の基板を張り合わせて製造す
る。いずれにしても一方の基板に間隙支持部材として光
感光性樹脂を使って微細なスペーサを形成する。上下の
ラビング方向は同一（平行）でなく一方の基板側から見
ると略９０度の角度をなすように対抗している。具体的
には図１に示したように基板の対角線方向１０１、１０
２にラビングを行う。これは上下の基板の電極線の伸び
る方向１０３、１０４が長方形の辺方向に平行であっ
て、対角線方向にラビングすると表示画像の角度依存性
が左右上下で減少する効果があるからである。この時ス
トライプ状の電極に対し斜め方向からラビングが行われ
る。
【００１０】従って、表示画素以外の場所にスペーサを
形成するとしてもその形状によっては先述した問題が生
じるので、その形状を適切に選択する必要がある。本発
明はスペーサが形成される基板のラビング方向１０２と
スペーサの長手方向３０１がほぼ一致する方向に伸びた
スペーサを非画素部に形成するものである（図２参
照）。非電極部の幅は概ね１５〜３０μｍ程度であるの
でこの中に収まる様に配置する。好ましい形状の例とし
ては、例えば、図３に示すような楕円状、菱形、平行四
辺形状、直線状のスペーサを挙げることができる。こう
するとラビングしてもスペーサにかかる圧力が緩和され
るのでスペーサが削られたりすることがないし倒れるこ
ともない。またラビング方法に対し陰になる部分の面積
がなくなる。スペーサ近傍の配向規制力もスペーサ壁の
延長方向であって異常な配向状態は誘導されない。勿論
スペーサの底面積が広いと形状の対称性を上げることも
可能であるが、これは非画素部の面積に依存する。スペ
ーサ高が増すと削られる量も増えてくるが本発明者の実
験では図３に示したような形状では８μｍ程度までは全
く問題がなかった。
形成するとしてもその形状によっては先述した問題が生
じるので、その形状を適切に選択する必要がある。本発
明はスペーサが形成される基板のラビング方向１０２と
スペーサの長手方向３０１がほぼ一致する方向に伸びた
スペーサを非画素部に形成するものである（図２参
照）。非電極部の幅は概ね１５〜３０μｍ程度であるの
でこの中に収まる様に配置する。好ましい形状の例とし
ては、例えば、図３に示すような楕円状、菱形、平行四
辺形状、直線状のスペーサを挙げることができる。こう
するとラビングしてもスペーサにかかる圧力が緩和され
るのでスペーサが削られたりすることがないし倒れるこ
ともない。またラビング方法に対し陰になる部分の面積
がなくなる。スペーサ近傍の配向規制力もスペーサ壁の
延長方向であって異常な配向状態は誘導されない。勿論
スペーサの底面積が広いと形状の対称性を上げることも
可能であるが、これは非画素部の面積に依存する。スペ
ーサ高が増すと削られる量も増えてくるが本発明者の実
験では図３に示したような形状では８μｍ程度までは全
く問題がなかった。
【００１１】以下、実施例により説明する。
【００１２】
【実施例】＜実施例１＞先ず透明な長方形のガラス基板
２枚を用意してスパッター法によりＩＴＯ（indium tin
oxide) を２０００オングストロームの厚みに製膜し
た。一方の基板は常方のフォトリソ法によりエッチング
して線幅２７０オングストロームでピッチ３００オング
ストロームのストライプ状のＩＴＯ（indium tin oxid
e) 透明電極群を形成した。何れも２５０度で１時間焼
成した。片側を平面状電極としたのはＴＦＴ駆動の液晶
表示素子を模したである。勿論両方をストライプ状電極
を形成して直交するように対抗させても良い。
２枚を用意してスパッター法によりＩＴＯ（indium tin
oxide) を２０００オングストロームの厚みに製膜し
た。一方の基板は常方のフォトリソ法によりエッチング
して線幅２７０オングストロームでピッチ３００オング
ストロームのストライプ状のＩＴＯ（indium tin oxid
e) 透明電極群を形成した。何れも２５０度で１時間焼
成した。片側を平面状電極としたのはＴＦＴ駆動の液晶
表示素子を模したである。勿論両方をストライプ状電極
を形成して直交するように対抗させても良い。
【００１３】次いで両方の基板に液晶配向用のポリイミ
ド溶液HL1110（日立化成（株）製）を塗布し乾燥し７０
０オングストロームの配向膜を形成した。次に平面状電
極を有する基板上にネガ型の光感光性樹脂MR83（東京応
化（株）製）を４. ５μｍ厚に塗布して90℃で30分乾燥
させた。その後、図３に示すスペーサパタンを有するマ
スクを用いて露光現像し、約１４０℃で１時間ほど乾燥
した。これにより図３のような扁平な菱形の形状のスペ
ーサが形成された。スペーサの長軸は４０μｍ、単軸は
１０μｍでその比は４：１であった。その後スペーサを
形成した基板はスペーサの延長方向と平行に同一方向に
３回ラビングを行った。他方の基板は図１に示したラビ
ング方向になるようにラビング処理を施した。
ド溶液HL1110（日立化成（株）製）を塗布し乾燥し７０
０オングストロームの配向膜を形成した。次に平面状電
極を有する基板上にネガ型の光感光性樹脂MR83（東京応
化（株）製）を４. ５μｍ厚に塗布して90℃で30分乾燥
させた。その後、図３に示すスペーサパタンを有するマ
スクを用いて露光現像し、約１４０℃で１時間ほど乾燥
した。これにより図３のような扁平な菱形の形状のスペ
ーサが形成された。スペーサの長軸は４０μｍ、単軸は
１０μｍでその比は４：１であった。その後スペーサを
形成した基板はスペーサの延長方向と平行に同一方向に
３回ラビングを行った。他方の基板は図１に示したラビ
ング方向になるようにラビング処理を施した。
【００１４】この一対の基板をスペーサが対抗するスト
ライプ状電極の間隙に収まるようにアライメントをとっ
て対抗させ基板間隙を減圧し、両基板を密着させてた．
このまま１６０度のオーブン中に１時間保持して冷却す
ると感光性スペーサにより両基板は完全に接着した。こ
の液晶パネル枠の液晶浸透用の開口部を除いて、周囲を
エポキシ樹脂でシールして後約９０度に放置すると周囲
が補強された液晶パネル枠を得た。この液晶パネル枠に
ネマチック液晶（ＺＬＩ４５３６：メルク社製）を浸透
させ再度、液体状態から徐冷したところスペーサ周囲も
含めて異常な配向状態は全く見られなかった。適切な電
極を選択して駆動用の信号を印加しても、一方の直線状
電極のエッジ部にディスクリネーションが発生すること
もなかった。スペーサの厚みを６μｍ程度にしても全く
同じ結果が得られた。この液晶パネルに対して単位面積
当たり４０ニュートンの圧力を加えても表示状態が乱れ
ることはなかった。
ライプ状電極の間隙に収まるようにアライメントをとっ
て対抗させ基板間隙を減圧し、両基板を密着させてた．
このまま１６０度のオーブン中に１時間保持して冷却す
ると感光性スペーサにより両基板は完全に接着した。こ
の液晶パネル枠の液晶浸透用の開口部を除いて、周囲を
エポキシ樹脂でシールして後約９０度に放置すると周囲
が補強された液晶パネル枠を得た。この液晶パネル枠に
ネマチック液晶（ＺＬＩ４５３６：メルク社製）を浸透
させ再度、液体状態から徐冷したところスペーサ周囲も
含めて異常な配向状態は全く見られなかった。適切な電
極を選択して駆動用の信号を印加しても、一方の直線状
電極のエッジ部にディスクリネーションが発生すること
もなかった。スペーサの厚みを６μｍ程度にしても全く
同じ結果が得られた。この液晶パネルに対して単位面積
当たり４０ニュートンの圧力を加えても表示状態が乱れ
ることはなかった。
【００１５】＜比較例１＞実施例１と同じ手順により液
晶パネル枠を作製し同じ液晶を浸透させた。但し、実施
例１と異なりスペーサの形状は長方形（３０μｍ×１５
μｍ）で長手方向はストライプ電極の延長方向と同一で
ある。この場合ラビングが斜めに行われるのでスペーサ
の陰の部分が約２０μｍ程度の幅で配向状態が周囲と異
なっていた。また陰に近接する部分の電極エッジには駆
動時にディスクリネーションが発生し光抜けが生じてコ
ントラストが低下するのが認められた。尚、付言すると
感光性樹脂としてはネガ型のみならずポジ型感光性樹脂
も使用できる。但し、ポジ型は高温で圧力がかかると潰
れて所望のセルギャップが得られない。従ってスペーサ
として用いて一対の基板を接着するのでない場合には利
用が可能である。
晶パネル枠を作製し同じ液晶を浸透させた。但し、実施
例１と異なりスペーサの形状は長方形（３０μｍ×１５
μｍ）で長手方向はストライプ電極の延長方向と同一で
ある。この場合ラビングが斜めに行われるのでスペーサ
の陰の部分が約２０μｍ程度の幅で配向状態が周囲と異
なっていた。また陰に近接する部分の電極エッジには駆
動時にディスクリネーションが発生し光抜けが生じてコ
ントラストが低下するのが認められた。尚、付言すると
感光性樹脂としてはネガ型のみならずポジ型感光性樹脂
も使用できる。但し、ポジ型は高温で圧力がかかると潰
れて所望のセルギャップが得られない。従ってスペーサ
として用いて一対の基板を接着するのでない場合には利
用が可能である。
【００１６】
【発明の効果】本発明によれば、先ず配向用ポリイミド
が最初に塗布されるため配向膜が均一に塗布される。形
成されるスペーサ部材は、ラビング処理により磨耗変形
したり倒れたりすることがない。ラビング方向から見て
スペーサ部材の陰になる面積が少ないため、ラビングが
基板全体で均一に行われる。従って凸部があっても配向
乱れやディスクリネーションの発生が抑止される。両基
板上のポリイミド膜がスペーサ部材を介して柔軟強固に
接着されることにより耐衝撃性に優れた液晶パネルが製
造可能となった。
が最初に塗布されるため配向膜が均一に塗布される。形
成されるスペーサ部材は、ラビング処理により磨耗変形
したり倒れたりすることがない。ラビング方向から見て
スペーサ部材の陰になる面積が少ないため、ラビングが
基板全体で均一に行われる。従って凸部があっても配向
乱れやディスクリネーションの発生が抑止される。両基
板上のポリイミド膜がスペーサ部材を介して柔軟強固に
接着されることにより耐衝撃性に優れた液晶パネルが製
造可能となった。
【００１７】
【図１】上下の基板のラビング方向及び電極方向を説明
する説明図である。
する説明図である。
【図２】スペーサの形状とそれらを電極線間（非画素
部）に配置する一例を示す説明図である。
部）に配置する一例を示す説明図である。
【図３】スペーサ部材形状の一例を示す説明図である。
１０１、１０２ ラビング方向 １０３、１０４ 電極方向 ３０１ スペーサの長手方向
Claims (4)
- 【請求項１】ラビング方向とほぼ同一方向に長手方向を
有する光感光性樹脂からなる微細なスペーサが形成され
ていることを特徴とする液晶パネル用基板。 - 【請求項２】前記微細なスペーサの高さが２. ５μｍか
ら５μｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載
の液晶パネル用基板。 - 【請求項３】前記微細なスペーサが液晶配向用の配向膜
上に形成されていることを特徴とする請求項１及び請求
項２に記載の液晶パネル用基板。 - 【請求項４】請求項１から請求項３のいずれか一つに記
載の液晶パネル用基板と対抗する電極付基板とを前記微
細なスペーサを介して接着した液晶パネル枠にネマチッ
ク液晶を保持したことを特徴とする液晶表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6577498A JPH11258613A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 液晶パネル用基板及び液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6577498A JPH11258613A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 液晶パネル用基板及び液晶表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11258613A true JPH11258613A (ja) | 1999-09-24 |
Family
ID=13296726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6577498A Pending JPH11258613A (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 液晶パネル用基板及び液晶表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11258613A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-03-16 JP JP6577498A patent/JPH11258613A/ja active Pending
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