JPH11259842A - 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH11259842A JPH11259842A JP10061349A JP6134998A JPH11259842A JP H11259842 A JPH11259842 A JP H11259842A JP 10061349 A JP10061349 A JP 10061349A JP 6134998 A JP6134998 A JP 6134998A JP H11259842 A JPH11259842 A JP H11259842A
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
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- G11B21/20—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板５０上に犠牲層５１を形成後、保護膜層
４１、浮上面層４２、ヘッド素子層４３及びアクチュエ
ータ層４４を形成し、更にスライダ本体部４５をめっき
にて形成し、その後、犠牲層５１を除去することによ
り、基板５０から分離して得られる磁気ヘッドスライダ
４０において、磁気ヘッドスライダ４０のアクチュエー
タ部４０ａをロード・アンロードさせてヘッド素子４３
を媒体に近づけるか接触させる際に生ずる摩擦力を低減
させてヘッド素子４３をトラックに対する追随性を良好
なものとする。 【解決手段】 ヘッド素子層４３の一部が、媒体対向面
から媒体側に突出した少なくとも１つの突起４６を形成
することを特徴とする。
４１、浮上面層４２、ヘッド素子層４３及びアクチュエ
ータ層４４を形成し、更にスライダ本体部４５をめっき
にて形成し、その後、犠牲層５１を除去することによ
り、基板５０から分離して得られる磁気ヘッドスライダ
４０において、磁気ヘッドスライダ４０のアクチュエー
タ部４０ａをロード・アンロードさせてヘッド素子４３
を媒体に近づけるか接触させる際に生ずる摩擦力を低減
させてヘッド素子４３をトラックに対する追随性を良好
なものとする。 【解決手段】 ヘッド素子層４３の一部が、媒体対向面
から媒体側に突出した少なくとも１つの突起４６を形成
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
に用いられる磁気ヘッドスライダ及びそれの製造方法に
関する。近年、磁気ディスク装置の小型化、高性能化、
低価格化に伴い、高性能かつ低価格の薄膜磁気ヘッドの
開発が望まれている。この要求を満たす方式として、薄
膜パターン成膜面を、浮上面と平行としたホリゾンタル
ヘッド（プレーナヘッド）が提案されている。その理由
は、ホリゾンタルヘッドは、特定の形状を有する浮上レ
ールの形成が容易であるために安定して低浮上のヘッド
を実現しやすいこと、機械加工部を減らしやすいために
低価格を実現しやすいこと等による。
に用いられる磁気ヘッドスライダ及びそれの製造方法に
関する。近年、磁気ディスク装置の小型化、高性能化、
低価格化に伴い、高性能かつ低価格の薄膜磁気ヘッドの
開発が望まれている。この要求を満たす方式として、薄
膜パターン成膜面を、浮上面と平行としたホリゾンタル
ヘッド（プレーナヘッド）が提案されている。その理由
は、ホリゾンタルヘッドは、特定の形状を有する浮上レ
ールの形成が容易であるために安定して低浮上のヘッド
を実現しやすいこと、機械加工部を減らしやすいために
低価格を実現しやすいこと等による。
【０００２】また、磁気記録の高密度化への要求や、ヘ
ッド素子及び磁気ヘッドスライダの小型化への要望が強
まるのに伴い、機械加工や取扱いが問題となっている。
ッド素子及び磁気ヘッドスライダの小型化への要望が強
まるのに伴い、機械加工や取扱いが問題となっている。
【０００３】
【従来の技術】上記の理由から、機械加工がほとんど不
要な磁気ヘッドスライダが、提案されている（特開平９
−８１９２４号公報：薄膜磁気ヘッドスライダ及び静電
アクチュエータ）。以下、この従来技術の内容について
説明する。
要な磁気ヘッドスライダが、提案されている（特開平９
−８１９２４号公報：薄膜磁気ヘッドスライダ及び静電
アクチュエータ）。以下、この従来技術の内容について
説明する。
【０００４】図１（ａ）〜（ｃ）はこの従来技術に係る
薄膜磁気ヘッドスライダを示す。図１（ａ）はヘッドサ
スペンション３０に装着されたスライダ１０を浮上面側
から見た斜視図であり、図１（ｂ）はヘッドサスペンシ
ョン３０に装着する前のスライダ１０自体を背面側（浮
上面とは反対側）から見た斜視図であり、図１（ｃ）は
図１（ｂ）の線Ｂ−Ｂ′における断面を示す図である。
薄膜磁気ヘッドスライダを示す。図１（ａ）はヘッドサ
スペンション３０に装着されたスライダ１０を浮上面側
から見た斜視図であり、図１（ｂ）はヘッドサスペンシ
ョン３０に装着する前のスライダ１０自体を背面側（浮
上面とは反対側）から見た斜視図であり、図１（ｃ）は
図１（ｂ）の線Ｂ−Ｂ′における断面を示す図である。
【０００５】記録媒体（図示せず）に対向する、スライ
ダ１０の浮上面の側は、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等から成
る浮上面層１１の一部が媒体側に突出しており、矢印Ａ
方向に移動する媒体に対する流入端１３から流出端１４
まで延びた２つの浮上レール１５を形成している。ま
た、これらの２つの浮上レール１５の間の流入端１３側
に中心レール１７が形成されている。浮上面層１１の背
面に形成されているスライダ１０の本体１２及び端子パ
ッド部１８（図１（ｂ））はＮｉ等の金属をめっきして
形成してある。
ダ１０の浮上面の側は、ＳｉＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等から成
る浮上面層１１の一部が媒体側に突出しており、矢印Ａ
方向に移動する媒体に対する流入端１３から流出端１４
まで延びた２つの浮上レール１５を形成している。ま
た、これらの２つの浮上レール１５の間の流入端１３側
に中心レール１７が形成されている。浮上面層１１の背
面に形成されているスライダ１０の本体１２及び端子パ
ッド部１８（図１（ｂ））はＮｉ等の金属をめっきして
形成してある。
【０００６】素子部駆動機構部２０（トラッキング機
構）は、２つの浮上レール１５の間の位置で、且つ端子
パッド部１８と流出端１４との間の位置に、浮上面層１
１の一部に形成されている。即ち、トラッキング機構部
２０の部分は、スライダ１０の本体部１２のめっき（Ｎ
ｉ等の金属）が形成されていない。トラッキング機構部
２０は、図１（ｃ）の断面図に示すように、静電吸引力
を利用したものであって、可動子は固定部から延びた２
本の平行ばね２１（１本のみ示す）とそれらの先端側に
支持された素子搭載部２２から成る。可動子の平行ばね
２１と、それと対向する固定子２３側はＮｉ，Ｃｕ等の
金属から成る。或いは、可動子及び固定子はそれぞれ対
向する部分に金属電極を有しており、固定子電極２３と
可動子電極２１との間に電圧を印加して吸引力を発生さ
せることによってトラッキングを行うものである。
構）は、２つの浮上レール１５の間の位置で、且つ端子
パッド部１８と流出端１４との間の位置に、浮上面層１
１の一部に形成されている。即ち、トラッキング機構部
２０の部分は、スライダ１０の本体部１２のめっき（Ｎ
ｉ等の金属）が形成されていない。トラッキング機構部
２０は、図１（ｃ）の断面図に示すように、静電吸引力
を利用したものであって、可動子は固定部から延びた２
本の平行ばね２１（１本のみ示す）とそれらの先端側に
支持された素子搭載部２２から成る。可動子の平行ばね
２１と、それと対向する固定子２３側はＮｉ，Ｃｕ等の
金属から成る。或いは、可動子及び固定子はそれぞれ対
向する部分に金属電極を有しており、固定子電極２３と
可動子電極２１との間に電圧を印加して吸引力を発生さ
せることによってトラッキングを行うものである。
【０００７】なお、可動子は、ヘッド素子２４あるいは
素子の磁極先端２４ａのみを媒体（図示せず）側に突出
させ、駆動電極部２１，２３は媒体より離れるように設
置してある。これは、駆動部がスライダ１０の浮上力に
影響を及ぼさないため、電極２１，２３間の電圧により
ヘッド素子２４のまわりに塵埃を引きつけさせないため
である。
素子の磁極先端２４ａのみを媒体（図示せず）側に突出
させ、駆動電極部２１，２３は媒体より離れるように設
置してある。これは、駆動部がスライダ１０の浮上力に
影響を及ぼさないため、電極２１，２３間の電圧により
ヘッド素子２４のまわりに塵埃を引きつけさせないため
である。
【０００８】図２に上記従来例における静電アクチュエ
ータの他の例を示す。外枠部分はＮｉめっきで形成され
た固定部３１本体で、図示しない基板上に固定されてい
る。固定部３１本体の内壁には、内周に向かって、一定
間隔の互いに平行な歯３１ａを、固定部３１本体と同時
にＮｉめっきで設ける。これらの歯３１ａは基板上に固
定されていてもよいし、基板との間に隙間（図示せず）
を持って設けても良い。固定部３１の枠の内側にある中
央の部分は固定部３１本体と同時にＮｉめっきで形成さ
れた可動部３２本体で、基板との間に隙間（図示せず）
を持って、固定部３１に対して相対運動可能に設けられ
ている。また、可動部３２本体には、固定部３１に設け
られた互いに隣合う歯３１ａの中心からずれた位置に、
それと平行するように複数の歯３２ａが設けられてい
る。図中、可動部３２の上方および下方には基板に固定
された支柱３３が形成され、支柱３３と可動部３２本体
の間には、可動部３２を図中の上下方向のみに運動可能
とする支持ばね３４が設けられている。固定部３１の右
下および、下側の支柱からは、図示しない端子に接続す
るための導線３５，３６をＮｉめっきで形成する。
ータの他の例を示す。外枠部分はＮｉめっきで形成され
た固定部３１本体で、図示しない基板上に固定されてい
る。固定部３１本体の内壁には、内周に向かって、一定
間隔の互いに平行な歯３１ａを、固定部３１本体と同時
にＮｉめっきで設ける。これらの歯３１ａは基板上に固
定されていてもよいし、基板との間に隙間（図示せず）
を持って設けても良い。固定部３１の枠の内側にある中
央の部分は固定部３１本体と同時にＮｉめっきで形成さ
れた可動部３２本体で、基板との間に隙間（図示せず）
を持って、固定部３１に対して相対運動可能に設けられ
ている。また、可動部３２本体には、固定部３１に設け
られた互いに隣合う歯３１ａの中心からずれた位置に、
それと平行するように複数の歯３２ａが設けられてい
る。図中、可動部３２の上方および下方には基板に固定
された支柱３３が形成され、支柱３３と可動部３２本体
の間には、可動部３２を図中の上下方向のみに運動可能
とする支持ばね３４が設けられている。固定部３１の右
下および、下側の支柱からは、図示しない端子に接続す
るための導線３５，３６をＮｉめっきで形成する。
【０００９】二つの導線３５，３６の間に電圧を印加す
ると、固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａの
間に働く静電吸引力により、可動部３２が上方へ吸引さ
れ、支持ばね３４の復元力と釣り合う位置まで移動す
る。吸引力は電位差の二乗に比例するので極性とは関係
なく同じ方向に移動する。なお、過大な電圧入力があっ
た場合に固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａ
が接触して短絡するのを防ぐために、支柱３３の一部
に、可動部３２との空隙を短くした部分を設け、ストッ
パ３７としている。
ると、固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａの
間に働く静電吸引力により、可動部３２が上方へ吸引さ
れ、支持ばね３４の復元力と釣り合う位置まで移動す
る。吸引力は電位差の二乗に比例するので極性とは関係
なく同じ方向に移動する。なお、過大な電圧入力があっ
た場合に固定部３１の歯３１ａと可動部３２の歯３２ａ
が接触して短絡するのを防ぐために、支柱３３の一部
に、可動部３２との空隙を短くした部分を設け、ストッ
パ３７としている。
【００１０】次に、図３〜図５を参照して上記の従来例
（特開平９−８１９２４号公報）における磁気ヘッドス
ライダの製造方法について説明する。図３は従来の別の
形式の磁気ヘッドスライダを示すが、レールの形状及び
配置が図１（ａ）のものと異なるのみで製造方法は同じ
である。図４は図３のＣ−Ｃ1 断面、図５（ａ）〜図５
（ｄ）は製造工程を示す。
（特開平９−８１９２４号公報）における磁気ヘッドス
ライダの製造方法について説明する。図３は従来の別の
形式の磁気ヘッドスライダを示すが、レールの形状及び
配置が図１（ａ）のものと異なるのみで製造方法は同じ
である。図４は図３のＣ−Ｃ1 断面、図５（ａ）〜図５
（ｄ）は製造工程を示す。
【００１１】図３において、この磁気ヘッドスライダは
ホリゾンタルヘッド素子を搭載した、静電アクチュエー
タ部４０ａ（図４の保護膜層４１からアクチュエータ層
４４まで）が、トラッキング方向（図３のＸ方向）に駆
動して、媒体（図示せず）上のトラックに追随し、読み
書きするものである。トラックに追随するので、トラッ
クピッチを詰められ、記録密度を上げられる。
ホリゾンタルヘッド素子を搭載した、静電アクチュエー
タ部４０ａ（図４の保護膜層４１からアクチュエータ層
４４まで）が、トラッキング方向（図３のＸ方向）に駆
動して、媒体（図示せず）上のトラックに追随し、読み
書きするものである。トラックに追随するので、トラッ
クピッチを詰められ、記録密度を上げられる。
【００１２】また、静電アクチュエータ部は上下方向
（図３のＺ方向）にも動き、ヘッド素子をロード・アン
ロードさせる。即ち、読み書きの際にはヘッド素子４３
を媒体に近づけて浮上させるか又は媒体に接触させる。
それ以外の時は、ヘッド素子４３を媒体から離してお
く。ヘッド素子４３のみを近づけるので、スライダ４０
自体の浮上量を確保して、スライダ４０を安定的に浮上
させつつ、記録密度を上げられる。
（図３のＺ方向）にも動き、ヘッド素子をロード・アン
ロードさせる。即ち、読み書きの際にはヘッド素子４３
を媒体に近づけて浮上させるか又は媒体に接触させる。
それ以外の時は、ヘッド素子４３を媒体から離してお
く。ヘッド素子４３のみを近づけるので、スライダ４０
自体の浮上量を確保して、スライダ４０を安定的に浮上
させつつ、記録密度を上げられる。
【００１３】この磁気ヘッドスライダ４０のアクチュエ
ータ部の製造方法を以下に説明する。 基板５０上に、犠牲層５１（例えば、Ａｌ膜）を形
成し、その上に保護膜層４１（例えば、ＤＬＣ膜）、浮
上面層４２（例えば、ＳｉＯ2 膜）を形成する（図５
（ａ））。
ータ部の製造方法を以下に説明する。 基板５０上に、犠牲層５１（例えば、Ａｌ膜）を形
成し、その上に保護膜層４１（例えば、ＤＬＣ膜）、浮
上面層４２（例えば、ＳｉＯ2 膜）を形成する（図５
（ａ））。
【００１４】 浮上面層４２及び保護膜層４１を貫通
し、犠牲層５１でとまる孔５２をあける。この孔５２を
形成するには、例えばイオンミリングや反応性エッチン
グ等を用いる。（図５（ｂ））。 この孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るよう
に、ヘッド素子４３を形成する（図５（ｃ））。
し、犠牲層５１でとまる孔５２をあける。この孔５２を
形成するには、例えばイオンミリングや反応性エッチン
グ等を用いる。（図５（ｂ））。 この孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るよう
に、ヘッド素子４３を形成する（図５（ｃ））。
【００１５】 ヘッド素子層４３上に、めっきベース
を介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４５
をめっき（例えば、Ｎｉめっき）にて形成する。これに
より基板５０上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスラ
イダ４０を形成する（図５（ｄ））。 犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水
溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板
５０から分離して、磁気ヘッドスライダ４０が完成され
る。（図４）。
を介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４５
をめっき（例えば、Ｎｉめっき）にて形成する。これに
より基板５０上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスラ
イダ４０を形成する（図５（ｄ））。 犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水
溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板
５０から分離して、磁気ヘッドスライダ４０が完成され
る。（図４）。
【００１６】このときのスライダ４０の媒体対向面で
は、ヘッド素子４３の先端部は保護膜層４１と同一平面
まで、突出している。なお、図４及び図５におけるアク
チュエータ層４４は、図１（ｃ）のヘッド搭載部２２あ
るいは図２の可動部３２に相当し、ヘッド素子をトラッ
キング方向（図３のＸ方向）にも上下方向（ロード・ア
ンロード方向で図３のＺ方向）にも移動可能に支持して
いることは前述のとおりである。
は、ヘッド素子４３の先端部は保護膜層４１と同一平面
まで、突出している。なお、図４及び図５におけるアク
チュエータ層４４は、図１（ｃ）のヘッド搭載部２２あ
るいは図２の可動部３２に相当し、ヘッド素子をトラッ
キング方向（図３のＸ方向）にも上下方向（ロード・ア
ンロード方向で図３のＺ方向）にも移動可能に支持して
いることは前述のとおりである。
【００１７】他の従来技術として、特開平８−２０３０
５３号公報があるが、媒体である磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの接触力を制御可能とし、両者の接触状態を安定
に保つために、主スライダと副スライダとの間にエアギ
ャップを形成しエアギャップ内に設けた電極に与える電
圧を制御することで磁気ヘッドスライダと磁気ディスク
との接触力を調整している。
５３号公報があるが、媒体である磁気ディスクと磁気ヘ
ッドとの接触力を制御可能とし、両者の接触状態を安定
に保つために、主スライダと副スライダとの間にエアギ
ャップを形成しエアギャップ内に設けた電極に与える電
圧を制御することで磁気ヘッドスライダと磁気ディスク
との接触力を調整している。
【００１８】また、特開平９−２２５１９号公報では、
トラック密度の高い磁気ディスクに対応するため、記録
素子と再生素子の相対的な運動が可能となる微動機構を
設けている。
トラック密度の高い磁気ディスクに対応するため、記録
素子と再生素子の相対的な運動が可能となる微動機構を
設けている。
【００１９】
【発明が解決しようとする課題】上記の特開平９−８１
９２４号公報に記載された磁気ヘッドスライダにおい
て、静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロード
させて、ヘッド素子４３を媒体に近づけるか接触させ
る。接触時には媒体と静電アクチュエータ部４０ａの全
体とが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド
素子４３を媒体に近づけたときも、衝突がおこり、その
際にも、接触時と同様のことが起こる。この接触時に、
静電アクチュエータ部４０ａをトラッキング方向に駆動
しようとすると、それに抗しようとする摩擦力が生ず
る。
９２４号公報に記載された磁気ヘッドスライダにおい
て、静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロード
させて、ヘッド素子４３を媒体に近づけるか接触させ
る。接触時には媒体と静電アクチュエータ部４０ａの全
体とが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド
素子４３を媒体に近づけたときも、衝突がおこり、その
際にも、接触時と同様のことが起こる。この接触時に、
静電アクチュエータ部４０ａをトラッキング方向に駆動
しようとすると、それに抗しようとする摩擦力が生ず
る。
【００２０】一方、静電アクチュエータ部４０ａは、ト
ラッキング方向に駆動して、ヘッド素子４３を媒体上の
トラックに追随させ、読み書きするため、負荷ないし抵
抗はできるだけ少ない方が良い。しかし、上記の摩擦力
は静電アクチュエータ部４０ａの駆動力に充分抵抗し、
その変位量を少なくするため、ヘッド素子４３はトラッ
クに充分追随できないという課題があった。
ラッキング方向に駆動して、ヘッド素子４３を媒体上の
トラックに追随させ、読み書きするため、負荷ないし抵
抗はできるだけ少ない方が良い。しかし、上記の摩擦力
は静電アクチュエータ部４０ａの駆動力に充分抵抗し、
その変位量を少なくするため、ヘッド素子４３はトラッ
クに充分追随できないという課題があった。
【００２１】従って、本発明の課題は、ヘッドスライダ
４０の静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロー
ドさせて、ヘッド素子４３を媒体に近付けるか接触させ
た際に生ずる、静電アクチュエータ部４０ａ全体と媒体
との間の摩擦力を低減させる磁気ヘッドスライダ４０及
びその製造方法を提供することにある。
４０の静電アクチュエータ部４０ａをロード・アンロー
ドさせて、ヘッド素子４３を媒体に近付けるか接触させ
た際に生ずる、静電アクチュエータ部４０ａ全体と媒体
との間の摩擦力を低減させる磁気ヘッドスライダ４０及
びその製造方法を提供することにある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面
層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に
該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形
成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記
基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、
ヘッド素子層及びアクチュエータ層から成るアクチュエ
ータ部とスライダ本体部とからなり、且つ前記保護膜層
が記録媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッ
ドスライダにおいて、前記ヘッド素子層の一部が、前記
媒体対向面から媒体側に突出した少なくとも１つの突起
を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダが提供
される。本発明によれば、ヘッド素子層の一部が媒体側
に突出した少なくとも１つの突起を形成しているので、
アクチュエータ部が媒体に接近又は接触した時の摩擦力
を低減してヘッド素子の媒体トラックへの追随性を良好
なものとする。
に犠牲層を形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面
層、ヘッド素子層及びアクチュエータ層を形成し、更に
該アクチュエータ層上にスライダ本体部をめっきにて形
成し、その後、前記犠牲層を除去することにより、前記
基板から分離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、
ヘッド素子層及びアクチュエータ層から成るアクチュエ
ータ部とスライダ本体部とからなり、且つ前記保護膜層
が記録媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッ
ドスライダにおいて、前記ヘッド素子層の一部が、前記
媒体対向面から媒体側に突出した少なくとも１つの突起
を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダが提供
される。本発明によれば、ヘッド素子層の一部が媒体側
に突出した少なくとも１つの突起を形成しているので、
アクチュエータ部が媒体に接近又は接触した時の摩擦力
を低減してヘッド素子の媒体トラックへの追随性を良好
なものとする。
【００２３】前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起
の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出して、
前記突起の一部を形成することを特徴とする。この場合
において、前記浮上面層の、前記ヘッド素子層の突起の
周囲部分が、前記媒体対向面の側に突出することによ
り、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部
分が、前記媒体対向面より媒体側に突出していることを
特徴とする。
の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出して、
前記突起の一部を形成することを特徴とする。この場合
において、前記浮上面層の、前記ヘッド素子層の突起の
周囲部分が、前記媒体対向面の側に突出することによ
り、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲部
分が、前記媒体対向面より媒体側に突出していることを
特徴とする。
【００２４】前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面より
媒体側に突出した、複数個の突起を形成することを特徴
とする。或いはまた、前記ヘッド素子層が、前記媒体対
向面より媒体側に突出した少なくとも１つの前記突起
（第１の突起）を有すると共に、ヘッド素子層を含まな
い、前記媒体対向面より媒体側に突出する、１個又は複
数個の第２の突起を有することを特徴とする。
媒体側に突出した、複数個の突起を形成することを特徴
とする。或いはまた、前記ヘッド素子層が、前記媒体対
向面より媒体側に突出した少なくとも１つの前記突起
（第１の突起）を有すると共に、ヘッド素子層を含まな
い、前記媒体対向面より媒体側に突出する、１個又は複
数個の第２の突起を有することを特徴とする。
【００２５】前記突起はダイアモンド・ライク・カーボ
ン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする。
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面側に突出する少な
くとも１本のレール部の一部を形成していることを特徴
とする。前記ヘッド素子層が複数あって、前記媒体対向
面側に突出する複数個のレール部の一部を形成している
ことを特徴とする。
ン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする。
前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面側に突出する少な
くとも１本のレール部の一部を形成していることを特徴
とする。前記ヘッド素子層が複数あって、前記媒体対向
面側に突出する複数個のレール部の一部を形成している
ことを特徴とする。
【００２６】前記ヘッド素子層を含む前記レール部（第
１のレール部）を具備すると共に、前記ヘッド素子層を
含まない１本又は複数本の第２のレール部を有すること
を特徴とする。前記ヘッド素子層が、媒体対向面に露出
しないように膜で覆われていることを特徴とする。
１のレール部）を具備すると共に、前記ヘッド素子層を
含まない１本又は複数本の第２のレール部を有すること
を特徴とする。前記ヘッド素子層が、媒体対向面に露出
しないように膜で覆われていることを特徴とする。
【００２７】また、本発明によると、基板上に犠牲層を
形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素
子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエ
ータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その
後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分
離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子
層、アクチュエータ層及びスライダ本体部からなり、且
つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向面を規
定する磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記基
板又は犠牲層に窪みを設けておき、該窪みを含む基板又
は犠牲層の上に磁気ヘッドスライダを形成する際、前記
窪み部分にて、前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対
向面から媒体側に突出する少なくとも１つの突起を形成
することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法が
提供される。この場合において、前記窪みは、化学的エ
ッチング又はイオンミリングにより形成される。
形成後、該犠牲層上に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素
子層及びアクチュエータ層を形成し、更に該アクチュエ
ータ層上にスライダ本体部をめっきにて形成し、その
後、前記犠牲層を除去することにより、前記基板から分
離して得られる、前記保護膜層、浮上面層、ヘッド素子
層、アクチュエータ層及びスライダ本体部からなり、且
つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向面を規
定する磁気ヘッドスライダの製造方法において、前記基
板又は犠牲層に窪みを設けておき、該窪みを含む基板又
は犠牲層の上に磁気ヘッドスライダを形成する際、前記
窪み部分にて、前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対
向面から媒体側に突出する少なくとも１つの突起を形成
することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造方法が
提供される。この場合において、前記窪みは、化学的エ
ッチング又はイオンミリングにより形成される。
【００２８】
【発明の実施の形態】図６に本発明の磁気ヘッドスライ
ダ全体の斜視図を示し、図７に静電アクチュエータ部を
断面図で示す。構成は以下のようである。基板５０上
に、犠牲層５１、保護膜層４１、浮上面層４２、ヘッド
素子層４３、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４
５の順番で磁気ヘッドスライダ４０を成膜する構成にし
たものである。ヘッド素子層４３の先端部４３ａが突起
４６の一部を形成し、媒体対向面側に突出している。
ダ全体の斜視図を示し、図７に静電アクチュエータ部を
断面図で示す。構成は以下のようである。基板５０上
に、犠牲層５１、保護膜層４１、浮上面層４２、ヘッド
素子層４３、アクチュエータ層４４、スライダ本体部４
５の順番で磁気ヘッドスライダ４０を成膜する構成にし
たものである。ヘッド素子層４３の先端部４３ａが突起
４６の一部を形成し、媒体対向面側に突出している。
【００２９】磁気ヘッドスライダ４０は０８Ｔ以下の大
きさを仮定している。０８Ｔ磁気ヘッドスライダ４０の
浮上面形状は８００μｍ×６００μｍ程度である。ま
た、厚さは数十〜百数十μｍ程度である。図６の静電ア
クチュエータ部４０ａの外形は１００μｍ角程度であ
る。以下に、図８を参照し、静電アクチュエータ部４０
ａを中心に本発明の磁気ヘッドスライダの製造工程例を
示す。
きさを仮定している。０８Ｔ磁気ヘッドスライダ４０の
浮上面形状は８００μｍ×６００μｍ程度である。ま
た、厚さは数十〜百数十μｍ程度である。図６の静電ア
クチュエータ部４０ａの外形は１００μｍ角程度であ
る。以下に、図８を参照し、静電アクチュエータ部４０
ａを中心に本発明の磁気ヘッドスライダの製造工程例を
示す。
【００３０】 ガラス基板５０上に、全面に犠牲層５
１（Ａｌ等、〜１μｍ厚）を成膜する。これは後にエッ
チングにより、基板５０とスライダ４０とを分離するた
めのものである（図８（ａ））。 この犠牲層５１に、後に突起４６となる窪み５３
を、イオンミリングや化学エッチング等で形成する（図
８（ｂ））。この窪み５３は破線で示すように基板５０
にまで貫通していてもよい。
１（Ａｌ等、〜１μｍ厚）を成膜する。これは後にエッ
チングにより、基板５０とスライダ４０とを分離するた
めのものである（図８（ａ））。 この犠牲層５１に、後に突起４６となる窪み５３
を、イオンミリングや化学エッチング等で形成する（図
８（ｂ））。この窪み５３は破線で示すように基板５０
にまで貫通していてもよい。
【００３１】ここで、突起部４６（突起高さは数〜数十
nm程度、直径は数〜数十μｍ程度）は、保護膜層４１、
浮上面層４２、ヘッド素子層４３からなる。 この窪み５３も含めたアクチュエータ部を含む全面
に、保護膜層４１と浮上面層４２をスパッタやＣＶＤ等
により形成する（図８（ｃ））。このとき、窪み５３に
対応する窪み５３′が浮上面層４２に形成される。ここ
で、保護膜層４１としてはスパッタカーボン膜（ダイヤ
モンドライクカーボン：ＤＬＣ，１０nm厚）やプラズマ
ＣＶＤによるカーボン膜等があり、媒体との接近又は接
触時に耐磨耗性を持つものである。浮上面層４２として
はＳｉＯ2 膜（数μｍ厚）があり、スライダ４０表面を
形成するとともに、このなかにはヘッド素子４３やアク
チュエータ層４４へ電気を送る配線が通っている（図示
せず）。
nm程度、直径は数〜数十μｍ程度）は、保護膜層４１、
浮上面層４２、ヘッド素子層４３からなる。 この窪み５３も含めたアクチュエータ部を含む全面
に、保護膜層４１と浮上面層４２をスパッタやＣＶＤ等
により形成する（図８（ｃ））。このとき、窪み５３に
対応する窪み５３′が浮上面層４２に形成される。ここ
で、保護膜層４１としてはスパッタカーボン膜（ダイヤ
モンドライクカーボン：ＤＬＣ，１０nm厚）やプラズマ
ＣＶＤによるカーボン膜等があり、媒体との接近又は接
触時に耐磨耗性を持つものである。浮上面層４２として
はＳｉＯ2 膜（数μｍ厚）があり、スライダ４０表面を
形成するとともに、このなかにはヘッド素子４３やアク
チュエータ層４４へ電気を送る配線が通っている（図示
せず）。
【００３２】 孔部５２を形成するために保護膜層４
１と浮上面層４２の一部をイオンミリング等で除去する
（図８（ｄ））。なお、この孔部５２は窪み５３よりも
径が小さいものであって、保護膜層４１まで貫通し、犠
牲層５１でとまっている。 孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るように、
ヘッド素子４３を形成する（図８（ｅ））。
１と浮上面層４２の一部をイオンミリング等で除去する
（図８（ｄ））。なお、この孔部５２は窪み５３よりも
径が小さいものであって、保護膜層４１まで貫通し、犠
牲層５１でとまっている。 孔部５２にヘッド素子４３の先端部が来るように、
ヘッド素子４３を形成する（図８（ｅ））。
【００３３】ヘッド素子層４３としては、ホリゾンタル
ヘッド、ＭＲヘッド等があり、媒体と信号のやりとりを
して、情報を読み書きするものである。 これ以降は従来例と同じである。すなわち、めっき
ベースを介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体
部４５をめっき（例えば、Ｎｉめっき）して、基板５０
上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスライダ４０を形
成する。
ヘッド、ＭＲヘッド等があり、媒体と信号のやりとりを
して、情報を読み書きするものである。 これ以降は従来例と同じである。すなわち、めっき
ベースを介して、アクチュエータ層４４、スライダ本体
部４５をめっき（例えば、Ｎｉめっき）して、基板５０
上に、アクチュエータ付き磁気ヘッドスライダ４０を形
成する。
【００３４】ここで、アクチュエータ層４４及びスライ
ダ本体部４５はＮｉめっきからなる。アクチュエータ層
４４（めっき厚数μｍ程度）は、ヘッド素子４３を搭載
して、トラッキング方向に動き、媒体のトラックに追随
すると同時に、上下方向にも駆動し、ヘッド素子４３を
ロード・アンロードさせるものである。スライダ本体部
４５（めっき厚１００μｍ程度）はアクチュエータ層４
４やヘッド素子層４３等を搭載して、媒体上を浮上
（０．１〜０．２μｍ程度）するものである。
ダ本体部４５はＮｉめっきからなる。アクチュエータ層
４４（めっき厚数μｍ程度）は、ヘッド素子４３を搭載
して、トラッキング方向に動き、媒体のトラックに追随
すると同時に、上下方向にも駆動し、ヘッド素子４３を
ロード・アンロードさせるものである。スライダ本体部
４５（めっき厚１００μｍ程度）はアクチュエータ層４
４やヘッド素子層４３等を搭載して、媒体上を浮上
（０．１〜０．２μｍ程度）するものである。
【００３５】ここまでで、保護膜層４１からスライダ本
体部４５までが磁気ヘッドスライダ４０の構成部分とな
る。 犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水
溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板
５０から分離して、図７に示すような本発明の磁気ヘッ
ドスライダ４０（静電アクチュエータ部４０ａ）が完成
する。
体部４５までが磁気ヘッドスライダ４０の構成部分とな
る。 犠牲層５１をエッチングにより（例えば、ＫＯＨ水
溶液で）除去することで磁気ヘッドスライダ４０を基板
５０から分離して、図７に示すような本発明の磁気ヘッ
ドスライダ４０（静電アクチュエータ部４０ａ）が完成
する。
【００３６】次に、本発明の磁気ヘッドスライダの作用
を説明する。図７に示すように、突起４６内のヘッド素
子４３は保護膜層４１、浮上面層４２とともに、その周
囲より媒体対向面側に突出している。このような構成の
磁気ヘッドスライダ４０で、静電アクチュエータ部４０
ａをロード・アンロードさせて、ヘッド素子４３を媒体
に近づけるか接触させる。接触時には媒体と静電アクチ
ュエータ部４０ａ全体とは接触せず、媒体と突起４６の
みが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド素
子４３を媒体に近づけたときも、接触時と同様のことが
起こる。この接触時に、静電アクチュエータ部４０ａを
トラッキング方向に駆動しようとすると、それに抗しよ
うとする摩擦力が生ずる。しかし、上記の媒体と突起４
６との接触面積は狭く、摩擦力は静電アクチュエータ部
４０ａの駆動力を妨げる程ではなく、ヘッド素子４３は
トラックに充分追随できるようになる。
を説明する。図７に示すように、突起４６内のヘッド素
子４３は保護膜層４１、浮上面層４２とともに、その周
囲より媒体対向面側に突出している。このような構成の
磁気ヘッドスライダ４０で、静電アクチュエータ部４０
ａをロード・アンロードさせて、ヘッド素子４３を媒体
に近づけるか接触させる。接触時には媒体と静電アクチ
ュエータ部４０ａ全体とは接触せず、媒体と突起４６の
みが接触し、ヘッド素子４３で読み書きする。ヘッド素
子４３を媒体に近づけたときも、接触時と同様のことが
起こる。この接触時に、静電アクチュエータ部４０ａを
トラッキング方向に駆動しようとすると、それに抗しよ
うとする摩擦力が生ずる。しかし、上記の媒体と突起４
６との接触面積は狭く、摩擦力は静電アクチュエータ部
４０ａの駆動力を妨げる程ではなく、ヘッド素子４３は
トラックに充分追随できるようになる。
【００３７】図９は本発明の他の実施形態を示すもので
ある。上述の実施形態では、１つの突起４６でヘッド素
子４３のリード部、ライト部を覆っていた。即ち、突起
４６は１つのみである。しかし、素子部４３以外にも１
つのまたは複数の別の突起４７を配する構成もある（図
９（ａ））。ロード時に、読み書き用の突起４６が媒体
と接触した際に、媒体６０が回転していることにより、
流出端方向への摩擦力が生じる。この力により、アクチ
ュエータ部４０ａが傾斜し過ぎて、媒体と衝突し、破壊
されるところを、別の突起４７が媒体６０にあたること
で、防いでいる（図９（ｂ））。従って、ロード時のア
クチュエータ部４０ａの浮上または接触の安定性が得ら
れる。
ある。上述の実施形態では、１つの突起４６でヘッド素
子４３のリード部、ライト部を覆っていた。即ち、突起
４６は１つのみである。しかし、素子部４３以外にも１
つのまたは複数の別の突起４７を配する構成もある（図
９（ａ））。ロード時に、読み書き用の突起４６が媒体
と接触した際に、媒体６０が回転していることにより、
流出端方向への摩擦力が生じる。この力により、アクチ
ュエータ部４０ａが傾斜し過ぎて、媒体と衝突し、破壊
されるところを、別の突起４７が媒体６０にあたること
で、防いでいる（図９（ｂ））。従って、ロード時のア
クチュエータ部４０ａの浮上または接触の安定性が得ら
れる。
【００３８】図１０は本発明の更に他の実施形態を示す
ものである。ヘッド素子４３のリード部、ライト部が離
れている構成の場合には、１つの突起４６でリード部、
もう１つの突起４７でライト部を覆う構成もできる（図
１０（ａ））。さらに、前述の実施形態では突起４６の
みを考えてきたが、レール４８状であっても良い（図１
０（ｂ），（ｃ），（ｄ））。トラッキング方向への負
荷が問題ない状況下であれば、レール４８にすること
で、接触面積が広い分、耐磨耗性が増加する。
ものである。ヘッド素子４３のリード部、ライト部が離
れている構成の場合には、１つの突起４６でリード部、
もう１つの突起４７でライト部を覆う構成もできる（図
１０（ａ））。さらに、前述の実施形態では突起４６の
みを考えてきたが、レール４８状であっても良い（図１
０（ｂ），（ｃ），（ｄ））。トラッキング方向への負
荷が問題ない状況下であれば、レール４８にすること
で、接触面積が広い分、耐磨耗性が増加する。
【００３９】レール４８を図１０（ｂ），（ｃ），
（ｄ）のように配した効果はそれぞれ、突起４６にした
場合と同じである。また、前述の実施形態の突起４６内
の先端部ではヘッド素子４３が表面に露出していたが、
露出しないように、保護膜で覆うことも考えられる。ヘ
ッド素子部４３を環境下から保護するとともに、耐磨耗
性を向上できるからである。この保護膜は前述の保護膜
４１と同時に形成しても良いし、スライダ分離後に形成
しても良い。
（ｄ）のように配した効果はそれぞれ、突起４６にした
場合と同じである。また、前述の実施形態の突起４６内
の先端部ではヘッド素子４３が表面に露出していたが、
露出しないように、保護膜で覆うことも考えられる。ヘ
ッド素子部４３を環境下から保護するとともに、耐磨耗
性を向上できるからである。この保護膜は前述の保護膜
４１と同時に形成しても良いし、スライダ分離後に形成
しても良い。
【００４０】ここでは、突起４６やレール４８の形状や
数を限定するものではなく、上記の実施形態以外にも、
様々な形状が考えられる。また、前述の突起４６やレー
ル４８形状を組み合わせた形状もありうる。
数を限定するものではなく、上記の実施形態以外にも、
様々な形状が考えられる。また、前述の突起４６やレー
ル４８形状を組み合わせた形状もありうる。
【００４１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の磁気ヘッ
ドスライダの構成によれば、静電アクチュエータ部４０
ａの突起４６内のヘッド素子４３はその周囲より媒体対
向面に突出しているために、静電アクチュエータ部４０
ａのロード時には媒体と突起４６のみが接触するので、
トラッキング方向に駆動する際に生じる摩擦力が小さく
なり、ヘッド素子４３はトラックに充分追随できるよう
になる効果がある。
ドスライダの構成によれば、静電アクチュエータ部４０
ａの突起４６内のヘッド素子４３はその周囲より媒体対
向面に突出しているために、静電アクチュエータ部４０
ａのロード時には媒体と突起４６のみが接触するので、
トラッキング方向に駆動する際に生じる摩擦力が小さく
なり、ヘッド素子４３はトラックに充分追随できるよう
になる効果がある。
【００４２】また、ロード時に突起４６が媒体と接触し
た際に、媒体が回転していることにより、流出端方向へ
の摩擦力が生じる。この力により、アクチュエータ部４
０ａが傾斜し過ぎて、破壊されるところを、別の突起４
７が媒体にあたることで、防ぐという、浮上または接触
安定性を向上させる効果もある。
た際に、媒体が回転していることにより、流出端方向へ
の摩擦力が生じる。この力により、アクチュエータ部４
０ａが傾斜し過ぎて、破壊されるところを、別の突起４
７が媒体にあたることで、防ぐという、浮上または接触
安定性を向上させる効果もある。
【図１】従来の磁気ヘッドスライダであって、（ａ）は
浮上面側から見た傾斜図、（ｂ）は背面側から見た傾斜
図、（ｃ）はＢ−Ｂ′断面を示す。
浮上面側から見た傾斜図、（ｂ）は背面側から見た傾斜
図、（ｃ）はＢ−Ｂ′断面を示す。
【図２】従来の磁気ヘッドスライダにおける静電アクチ
ュエータの平面図である。
ュエータの平面図である。
【図３】従来の別の形式の磁気ヘッドスライダを浮上面
側から見た傾斜図である。
側から見た傾斜図である。
【図４】図３に示した従来例の磁気ヘッドスライダにお
けるアクチュエータ部の断面図である。
けるアクチュエータ部の断面図である。
【図５】従来の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュエ
ータ部の製造工程を示す。
ータ部の製造工程を示す。
【図６】本発明の磁気ヘッドスライダを浮上面側から見
た傾斜図である。
た傾斜図である。
【図７】図６に示した本発明の磁気ヘッドスライダにお
けるアクチュエータ部の断面図である。
けるアクチュエータ部の断面図である。
【図８】本発明の磁気ヘッドスライダにおけるアクチュ
エータ部の製造工程を示す。
エータ部の製造工程を示す。
【図９】複数のパッドを有するヘッドスライダの実施形
態を示すもので、（ａ）は平面図、（ｂ）ロード時の断
面図である。
態を示すもので、（ａ）は平面図、（ｂ）ロード時の断
面図である。
【図１０】複数のレール（パッド）を有するヘッドスラ
イダの各種の実施形態を平面図で示す。
イダの各種の実施形態を平面図で示す。
４０…磁気ヘッドスライダ ４０ａ…アクチュエータ部 ４１…保護膜層 ４２…浮上面層 ４３…ヘッド素子層 ４４…アクチュエータ層 ４５…スライダ本体部 ４６…突起 ４７…別の突起 ４８…レール ５０…基板 ５１…犠牲層
Claims (14)
- 【請求項１】 基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上
に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエ
ータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ
本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去
することにより、前記基板から分離して得られる、前記
保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエータ
層から成るアクチュエータ部とスライダ本体部とからな
り、且つ前記保護膜層が記憶媒体側に対向する媒体対向
面を規定する磁気ヘッドスライダにおいて、 前記ヘッド素子層の一部が、前記媒体対向面から媒体側
に突出した少なくとも１つの突起を形成することを特徴
とする磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】 前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突
起の周囲部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出し
て、前記突起の一部を形成することを特徴とする請求項
１に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項３】 前記浮上面層の、前記ヘッド素子層の突
起の周囲部分が、前記媒体対向面の側に突出することに
より、前記保護膜層の、前記ヘッド素子層の突起の周囲
部分が、前記媒体対向面より媒体側に突出していること
を特徴とする請求項２に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項４】 前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面よ
り媒体側に突出した、複数個の突起を形成することを特
徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気ヘッ
ドスライダ。 - 【請求項５】 前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面よ
り媒体側に突出した少なくとも１つの前記突起（第１の
突起）を有すると共に、ヘッド素子層を含まない、前記
媒体対向面より媒体側に突出する、１個又は複数個の第
２の突起を有することを特徴とする請求項１〜４のいず
れか１項に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項６】 前記突起はダイアモンド・ライク・カー
ボン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とする
請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスライ
ダ。 - 【請求項７】 前記ヘッド素子層が、前記媒体対向面側
に突出する少なくとも１本のレール部の一部を形成して
いることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスラ
イダ。 - 【請求項８】 前記ヘッド素子層が複数あって、前記媒
体対向面側に突出する複数個のレール部の一部を形成し
ていることを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドス
ライダ。 - 【請求項９】 前記ヘッド素子層を含む前記レール部
（第１のレール部）を具備すると共に、前記ヘッド素子
層を含まない１本又は複数本の第２のレール部を有する
ことを特徴とする請求項７又は８に記載の磁気ヘッドス
ライダ。 - 【請求項１０】 前記突起はダイアモンド・ライク・カ
ーボン（ＤＬＣ）により構成されていることを特徴とす
る請求項７〜９のいずれか１項に記載の磁気ヘッドスラ
イダ。 - 【請求項１１】 前記ヘッド素子層が、媒体対向面に露
出しないように膜で覆われていることを特徴とする請求
項１〜１０に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項１２】 基板上に犠牲層を形成後、該犠牲層上
に、保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層及びアクチュエ
ータ層を形成し、更に該アクチュエータ層上にスライダ
本体部をめっきにて形成し、その後、前記犠牲層を除去
することにより、前記基板から分離して得られる、前記
保護膜層、浮上面層、ヘッド素子層、アクチュエータ層
及びスライダ本体部からなり、且つ前記保護膜層が記憶
媒体側に対向する媒体対向面を規定する磁気ヘッドスラ
イダの製造方法において、 前記基板又は犠牲層に窪みを設けておき、該窪みを含む
基板又は犠牲層の上に磁気ヘッドスライダを形成する
際、前記窪み部分にて、前記ヘッド素子層の一部が、前
記媒体対向面から媒体側に突出する少なくとも１つの突
起を形成することを特徴とする磁気ヘッドスライダの製
造方法。 - 【請求項１３】 前記窪みは、化学的エッチングにより
形成されることを特徴とする請求項１２に記載の磁気ヘ
ッドスライダの製造方法。 - 【請求項１４】 前記窪みは、イオンミリングにより形
成されることを特徴とする請求項１２に記載の磁気ヘッ
ドスライダの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06134998A JP3649573B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| US09/264,098 US6317293B1 (en) | 1998-03-12 | 1999-03-08 | Magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06134998A JP3649573B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11259842A true JPH11259842A (ja) | 1999-09-24 |
| JP3649573B2 JP3649573B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=13168583
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06134998A Expired - Fee Related JP3649573B2 (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6317293B1 (ja) |
| JP (1) | JP3649573B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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