JPH11260887A - 基板保持チャック洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 使用処理液量が大幅に削減可能であると共
に、乾燥時にも周囲への水滴などの吹き飛びがなくパー
ティクルの発生を防止する。 【解決手段】 基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２
３ｂの形状にそれぞれ応じた両収納凹部２７ａ，２７
ｂ，２８ａ，２８ｂがそれぞれ基板保持部２２ａ，２２
ｂ，２３ａ，２３ｂをそれぞれ挟み込んで両収納凹部２
７ａ，２７ｂ，２８ａ，２８ｂ内に隙間を有した状態で
収納してここに洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体を通
して洗浄および乾燥処理を行う。このため、洗浄チャン
バ２６ａ，２６ｂおよび洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂを
小型化できて洗浄時の使用処理液（薬液や純水など）量
および乾燥時の処理流体（窒素ガスやＩＰＡベーパな
ど）量を大幅に削減できる。また、基板保持部２２ａ，
２２ｂ，２３ａ，２３ｂをそれぞれ両収納凹部２７ａ，
２７ｂ，２８ａ，２８ｂ内にそれぞれ収容するので洗浄
用の液体や乾燥用の流体が周囲に漏れない。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示パネル用ガラス基板などの電子部品製造用の複数
の薄板状被処理基板（以下単に基板という）を処理液中
に浸漬させたり、処理液蒸気や処理ガスに接触させたり
することにより、基板に所定の処理を施す基板処理装置
などに用いられ、複数の基板を一括保持して各処理部間
を搬送する基板保持チャックを、各処理部による処理に
先だって洗浄する基板保持チャック洗浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体ウエハや液晶表示パネル用
ガラス基板などを用いた精密電子基板の製造プロセスに
おいては、基板を処理液に浸漬させて種々の表面処理を
施す基板処理装置が用いられている。このような基板の
表面処理においては、エッチング液（燐酸溶液など）な
どの薬液を貯留した薬液槽、さらに、リンス液である純
水を貯留した水洗槽に順次基板を浸漬させて、基板に所
定の薬液処理を施した後に、さらに、水洗槽にて基板に
付着した薬液やそれによって発生したパーティクルなど
の汚染物質を洗い流すリンス処理を行っている。

【０００３】これらの処理に先だって、複数の基板を整
列させた状態で一括保持して搬送する基板保持チャック
の洗浄工程がある。この基板保持チャックの洗浄工程に
おいては、基板保持チャックを洗浄して乾燥する基板保
持チャック洗浄装置が設けられている。

【０００４】このような基板保持チャック洗浄装置とし
て、基板保持チャックに向けて純水シャワーを噴射させ
ることで、基板保持チャックに付着したパーティクルな
どの汚染物質を流し取って洗浄し、スキャンノズルから
の窒素ブローで基板保持チャックに付いた水滴などを吹
き飛ばして乾燥処理していた。

【０００５】また、純水シャワーと窒素ブローによる基
板保持チャックの洗浄および乾燥処理の他に、水洗処理
槽内の純水中に基板保持チャックを浸漬させることで、
基板保持チャックに付着していたパーティクルなどの汚
染物質を取り去り、さらに、基板保持チャックの水洗処
理槽内からの引き上げ時にエアーナイフで基板保持チャ
ックに付いた水滴などを吹き飛ばすことで基板保持チャ
ックの表面を乾燥させるように構成したものもある。

【０００６】さらに、基板保持チャックを純水シャワー
や水洗ディップで洗浄した後に、水滴の付いた基板保持
チャックに対してスポンジを当てがって拭き取ったり、
スポンジローラなどによって水分を吸い取ったりする構
成のものもある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の純水シャワ
ー式や水洗ディップ式の洗浄では、純水などの使用処理
液量が多く、また、基板保持チャックに対する純水シャ
ワーや水洗ディップの後に、窒素ブローやエアーナイフ
によって基板保持チャックを乾燥させる場合に、これら
によって基板保持チャックに付いた水滴などを吹き飛ば
して乾燥処理を行っており、その跳び散った霧状の水分
がウエハなどの表面に付着すると、それがしみの原因と
なり、それがパーティクルの原因ともなっていた。ま
た、基板保持チャックを純水シャワーや水洗ディップで
洗浄した後に、基板保持チャックの表面に付着した水滴
などをスポンジなどで拭き取って基板保持チャックの表
面の水分を取る場合には、スポンジからパーティクルが
発生する虞があるという問題を有していた。

【０００８】このように、基板保持チャックの基板保持
部にパーティクルなどの汚染物質が付着したままである
と、その基板保持部からウエハなどの表面に汚染物質が
再付着してしまい、その再付着したパーティクルなどの
汚染物質によって製品品質に多大なる悪影響を与えてし
まう。

【０００９】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、使用処理液量が大幅に削減すると共に、乾燥時にも
周囲への水滴などの飛び散りがなくパーティクルの発生
を防止することができる基板保持チャック洗浄装置を提
供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の基板処理装置
は、平行して配設された少なくとも一対の基板保持部に
それぞれ複数の保持溝部が設けられ、複数の基板の縁を
複数の保持溝部で支持させて、複数の基板を一括して保
持する基板保持チャックを洗浄する基板保持チャック洗
浄装置において、前記基板保持チャックの基板保持部の
形状に対応した収納凹部を有し、基板保持部を両側から
挟み込んで両収納凹部内に隙間を有した状態で前記基板
保持チャックを収納し、収納凹部内に対して洗浄用の処
理液さらに乾燥用の処理流体を供給すると共に収納凹部
内から処理液および処理流体をそれぞれ排出する流通経
路が設けられたことを特徴とするものである。

【００１１】この構成により、洗浄時や乾燥時の周囲へ
の水滴などの飛び散り防止のために、基板保持チャック
全体を単に覆って洗浄および乾燥処理するのではなく、
少なくとも基板保持部の形状に対応した収納凹部が基板
保持部を囲むように挟み込んで収納凹部内に隙間を有し
た洗浄用の処理液さらに乾燥用の処理流体の流通経路を
形成した状態で収納して洗浄および乾燥処理を行うの
で、洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体の量は、基板保
持部を囲った収納凹部内を含む流通経路内の最小限の容
積だけで済み、洗浄時に使用する処理液量や、乾燥時に
使用する処理流体量が大幅に削減され得ると共に、流通
経路内で処理液をフィルタなどを介してリサイクルさせ
つつ循環させれば、更なる使用処理液量の削減が可能と
なり、また、基板保持部を収容した収納凹部内との隙間
を処理液や処理流体が流れることで洗浄乾燥効果および
洗浄乾燥効率も向上する。さらに、基板保持部を収納凹
部内に収容しているので、洗浄時や乾燥時にも周囲への
水滴などの飛び散りがなくパーティクルの発生も防止さ
れると共に、基板保持部を収容した収納凹部内との隙間
を処理流体が流れることで乾燥効果および乾燥効率も向
上する。

【００１２】また、好ましくは、本発明の基板処理装置
における流通経路は、基板保持部の複数の保持溝部にそ
れぞれ略対向した位置に開口する複数の流体導入口と、
これらの複数の流体導入口の略反対側に設けられ複数の
流体導入口からそれぞれ供給された洗浄用の処理液さら
に乾燥用の処理流体を両収納凹部と基板保持部の隙間を
介して排出する排出口とを有することを特徴としてい
る。

【００１３】従来は、基板保持チャックの基板保持部に
ある複数の保持溝内に純水シャワーが当たって、その保
持溝内から汚染物質が流れ落ちたとしても隣側の保持溝
内や保持溝間などに汚染物質が周り込んで再び付着した
りして汚染物質が取れにくい場合があり得る。

【００１４】本発明においては、上記構成により、複数
の流体導入口からそれぞれ複数の保持溝部に向けてそれ
ぞれ吐出された処理液または処理流体は、複数の保持溝
部にそれぞれ当たってそこを通過しパーティクルなどの
汚染物質を落して、複数の保持溝部内から基板保持部と
両収納凹部との隙間内にその汚染物質と共に流れ出た
後、その基板保持部と両収納凹部との隙間を通して排出
口から排出する。つまり、複数の保持溝部毎に吐出され
てくる処理液または処理流体の流れは、従来のように、
隣接する他の保持溝部の方向へは流れにくく、基板保持
部の保持溝内から流れ落ちた汚染物質は隣の保持溝内や
保持溝間などに周り込んで再び付着するようなことはな
くなり、各保持溝部から基板保持部と両収納凹部の隙間
を通して汚染物質と共に排出口からスムーズに流れ出る
ことになる。このように、基板保持チャックの基板保持
部における複数の保持溝部内から効率よく汚染物質が取
り除かれると共に、その汚染物質によるウエハなどの表
面への転写も抑制され、それによる製品品質に対する悪
影響を防止することも可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
図面を参照して説明するが、本発明は以下に示す実施形
態に限定されるものではない。

【００１６】（実施形態１）図１は本発明の実施形態１
における基板保持チャック洗浄装置を組み込んでなるウ
エットステーションの概略構成を示す平面図であり、矢
印Ｆで示される面が装置の正面である。

【００１７】図１において、ウエットステーション１
は、複数のウエハ２を収容したキャリア３から、各処理
槽へ複数のウエハ２を搬送するための搬送用ロボット９
に対して複数のウエハ２を一括して移載する搬入側のウ
エハ移替部５と、これとは逆に、搬送用ロボット９から
キャリア３に複数のウエハ２を一括して移載する搬出側
のウエハ移替部６と、このウエハ移替部５に隣接し、薬
液または純水である各種処理液をそれぞれ貯留した複数
の処理槽にわたってウエハ２を順次浸漬させることによ
りウエハ２に薬液処理や水洗処理などの一連の各種処理
が施される処理ユニット７と、この処理ユニット７と搬
出側のウエハ移替部６との間に配設され、処理ユニット
７で処理後のウエハ２をスピン乾燥させる乾燥部８とを
有している。

【００１８】この処理ユニット７は、これらの各処理槽
に複数のウエハ２を整列させた状態で一括して搬送する
ための搬送用ロボット９のハンド部分である基板保持チ
ャック１０を、本発明の実施形態１の基板保持チャック
洗浄装置１１で洗浄して乾燥するハンド洗浄部１２と、
このハンド洗浄部１２側に隣接し、処理液としてのエッ
チング液などの薬液を貯留した薬液槽を有し、この薬液
槽にウエハ２を浸漬することで薬液処理する第１の薬液
処理部１３および第２の薬液処理部１４と、この薬液処
理部１４側に隣接し、ウエハ２に付いた薬液を素早く水
洗する機能水洗処理部１５と、この機能水洗処理部１５
側に隣接し、ウエハ２を最終的に水洗する最終水洗処理
部１６とを処理工程順に有している。これら第１および
第２の薬液処理部１３，１４を２つ設けたのは、これら
の薬液処理部１３，１４による薬液処理が他の処理部に
よる処理に比べて時間がかかるため、処理タクトを短縮
するべく並行して薬液処理を行うためである。

【００１９】図２は図１の搬送用ロボット９のハンド部
分の概略要部構成を模式的に示す縦断面図である。

【００２０】図２において、基板保持チャック１０は、
それぞれ垂下された左側前後の２本のアーム部材２１ａ
および、右側前後の２本のアーム部材２１ｂと、左側前
後に位置する２本のアーム部材２１ａの先端部分を連結
するように水平に配設された基板保持部２２ａと、右側
前後に位置する２本のアーム部材２１ｂの先端部分を連
結するように水平に配設された基板保持部２２ｂと、こ
の基板保持部２２ａの上方に平行に位置し、左側前後２
本のアーム部材２１ａを連結するように水平方向に配設
された基板保持部２３ａと、この基板保持部２２ｂの上
方に平行に位置し、右側前後２本のアーム部材２１ｂを
連結するように水平方向に配設された基板保持部２３ｂ
とを有し、これらの２本のアーム部材２１ａおよび基板
保持部２２ａ，２３ａと、２本のアーム部材２１ｂおよ
び基板保持部２２ｂ，２３ｂとを矢印Ａに示すように、
接近または離間自在に構成して複数のウエハ２を受渡し
自在になっている。

【００２１】これらの両基板保持部２２ａ，２２ｂは平
行に配設されており、複数の保持溝部２４ａ，２４ｂが
所定間隔毎に対向した状態でそれぞれ縦方向に設けら
れ、複数のウエハ２の両側斜め下方からウエハ２を受け
るように両基板保持部２２ａ，２２ｂで挟み込んで複数
のウエハ２のそれぞれをその厚み方向に保持溝部２４
ａ，２４ｂでそれぞれ嵌合させて、複数のウエハ２を整
列させて一括保持するようになっている。また同様に、
それらの上方に位置する両基板保持部２３ａ，２３ｂも
平行に配設されており、複数の保持溝部２５ａ，２５ｂ
が所定間隔毎に対向した状態でそれぞれ縦方向に設けら
れ、複数のウエハ２の両側から両基板保持部２３ａ，２
３ｂで挟み込んで複数のウエハ２のそれぞれをその厚み
方向に保持溝部２５ａ，２５ｂでそれぞれ嵌合させて、
複数のウエハ２を整列させて一括保持するようになって
いる。

【００２２】図３は図２の搬送用ロボット９のハンド部
分を基板保持チャック洗浄装置１１内に収容した状態の
概略要部構成を模式的に示す縦断面図である。

【００２３】図３において、洗浄チャンバ２６ａ，２６
ｂおよび洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂはそれぞれ、図示
しないエアーまたは油圧シリンダなどの駆動手段で駆動
されて開閉動作が為されるようにそれぞれ構成されてお
り、開状態の洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂ間に左側の基
板保持チャック１０を挿入して基板保持部２２ａ，２３
ａを所定の位置に位置決めさせると共に、開状態の洗浄
チャンバ３５ａ，３５ｂ間に右側の基板保持チャック１
０を挿入して基板保持部２２ｂ，２３ｂを所定の位置に
位置決めさせた後に、左側の洗浄チャンバ２６ａ，２６
ｂを閉状態とすると共に右側の洗浄チャンバ３５ａ，３
５ｂを閉状態として、両収納凹部２７ａ内に基板保持部
２２ａを収容すると共に両収納凹部２８ａ内に基板保持
部２３ａを収容し、かつ、両収納凹部２７ｂ内に基板保
持部２２ｂを収容すると共に両収納凹部２８ｂ内に基板
保持部２３ｂを収容するようになっている。これらの位
置決めはリミットスイッチや光センサなどによるセンシ
ングによって正確に行うことができ、両収納凹部２７
ａ，２７ｂ，２８ａ，２８ｂのうち例えば両収納凹部２
７ａを例に説明すると、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂが
開状態のときに両収納凹部２７ａは左右２つの収納凹部
に分かれており、これらの離間した２つの収納凹部の間
に丸棒状の基板保持部２２ａを位置決めして所定の位置
に位置させた後に、基板保持部２２ａの両側から左右２
つの収納凹部で挟み込んで多少の隙間を介して基板保持
部２２ａを密閉状態で収容するようになっている。

【００２４】つまり、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂにお
いて、上下に位置する左側の各基板保持部２２ａ，２３
ａの各円柱形状にそれぞれ対応した形状の各両収納凹部
２７ａ，２８ａがそれぞれ各基板保持部２２ａ，２３ａ
をそれぞれ挟み込んで各両収納凹部２７ａ，２８ａ内に
それぞれ収納自在に構成されている。これらの各基板保
持部２２ａ，２３ａに対して各両収納凹部２７ａ，２８
ａはそれぞれ周囲に洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体
が流通可能な程度の隙間がそれぞれ空くようにある程度
大きくそれぞれ構成されている。また、これらの各収納
凹部２７ａ，２８ａに対してそれぞれ処理液を供給する
流体導入口としてのノズル２９ａ，３０ａと、これらの
各ノズル２９ａ，３０ａの反対側に配設され、各両収納
凹部２６ａ，２７ａから洗浄用の処理液や乾燥用の処理
流体をそれぞれ排出する排出口３１ａ，３２ａとがそれ
ぞれ設けられて流通経路３３ａ，３４ａとなっている。

【００２５】また同様に、右側の洗浄チャンバ３５ａ，
３５ｂにおいて、上下に位置する右側の各基板保持部２
２ｂ，２３ｂの各円柱形状に対応した各両収納凹部２７
ｂ，２８ｂがそれぞれ各基板保持部２２ｂ，２３ｂをそ
れぞれ挟み込んで各両収納凹部２７ｂ，２８ｂ内にそれ
ぞれ収納自在に構成されている。これらの各基板保持部
２２ｂ，２３ｂにそれぞれ対して各両収納凹部２７ｂ，
２８ｂはそれぞれ、周囲に洗浄用の処理液や乾燥用の処
理流体が流通可能な程度の隙間がそれぞれ空くようにあ
る程度大きくそれぞれ構成されている。また、これらの
各両収納凹部２７ｂ，２８ｂに対してそれぞれ処理液を
供給する流体導入口としてのノズル２９ｂ，３０ｂと、
これらの各ノズル２９ｂ，３０ｂの反対側に配設され、
各両収納凹部２６ｂ，２７ｂから洗浄用の処理液や乾燥
用の処理流体をそれぞれ排出する排出口３１ｂ，３２ｂ
とがそれぞれ設けられて流通経路３３ｂ，３４ｂとなっ
ている。

【００２６】図４は図３の搬送用ロボット９のハンド部
分を基板保持チャック洗浄装置１１内に収容した状態の
概略要部構成を模式的に示す斜視図である。

【００２７】図４において、洗浄チャンバ２６ａ，２６
ｂにおいて、洗浄チャンバ２６ａの一の外側壁下部に導
入管４１ａが着脱自在に連結され、洗浄チャンバ２６ｂ
の一の外側壁下部に排出管４２ａが着脱自在に連結され
ている。また、洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂにおいて、
洗浄チャンバ３５ａの一の外側壁下部に導入管４１ｂが
着脱自在に連結され、洗浄チャンバ３５ｂの一の外側壁
下部に排出管４２ｂが着脱自在に連結されている。

【００２８】また、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂにおい
て、導入管４１ａは流通経路３３ａおよび流通経路３４
ａを並列に介して排出管４２ａに連通しており、また、
洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂにおいて、これらの導入管
４１ｂは流通経路３３ｂおよび流通経路３４ｂを並列に
介して排出管４２ｂに連通している。

【００２９】さらに、これらの導入管４１ａと排出管４
２ａの間、および導入管４１ｂと排出管４２ｂとの間に
はそれぞれ、高温窒素とＩＰＡベーパなどの乾燥用の各
処理流体ライン（図示せず）と、減圧ポンプ（図示せ
ず）が配管接続された減圧ライン（図示せず）と、処理
液供給ライン（図示せず）とが配管で連結可能なように
なっており、複数の電磁弁（図示せず）などで構成され
た切換手段によって各ラインがシーケンサなどの制御手
段からの制御信号（洗浄処理や乾燥処理における各種時
間に応じた所定時間毎に反転する信号など）で切換自在
に構成されている。なお、本実施形態１では、導入管４
１ａと排出管４２ａとの間、および導入管４１ｂと排出
管４２ｂとの間にそれぞれ処理液供給ラインに配管接続
して洗浄用の処理液を供給するように構成したが、導入
管４１ａと排出管４２ａとの間、および導入管４１ｂと
排出管４２ｂとの間にそれぞれ、図示しない循環ポンプ
および、汚染物質を漉すフィルタを連結すれば、洗浄用
の処理液をリサイクルさせつつ循環させることも可能と
なって、更なる使用処理液量の削減が可能となる。

【００３０】図５は図３のＢＢ′線の一部横断面図であ
り、図６は図３の流通経路３４ｂの一部概略構成を模式
的に示す斜視図であり、図７は図３の流通経路３４ｂの
拡大断面図である。なお、流通経路３３ａ，３３ｂ，３
４ａ，３４ｂのうち流通経路３４ｂを一例に説明し、こ
こでは、その構成が同一であるので他の流通経路３３
ａ，３３ｂ，３４ａについてはその説明を省略する。

【００３１】図５〜図７において、この流通経路３４ｂ
は、基板保持部２３ｂの複数の保持溝部２５ｂにそれぞ
れ略対向した位置に開口する複数の流体導入口としての
ノズル３０ｂと、これらの複数のノズル３０ｂの略反対
側に、複数のノズル３０ｂから両収納凹部２８ｂ内にそ
れぞれ供給された洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体を
両収納凹部２８ｂと基板保持部２３ｂの隙間を介して矢
印Ｃに示すように基板保持部２３ｂの円形の外周に沿っ
て排出する排出口３２ｂとを有している。このため、流
通経路３４ｂは、パーティクルなどの汚染物質を複数の
保持溝部２５ｂから追い出した後に円柱状の基板保持部
２３ｂの外周部に沿った隙間を通って排出口３２ｂから
排出する流体の流れが形成されるようになっており、従
来のように保持溝部２５ｂから追い出された汚染物質は
他の保持溝部２５ｂに周り込むようなことはない。

【００３２】また、円柱状の基板保持部２３ｂには、そ
の長手方向に所定間隔を置いて複数の保持溝部２５ｂが
それぞれ形成されているが、それらの複数の保持溝部２
５ｂはそれぞれ、ノズル３０ｂから噴出されて保持溝部
２５ｂ内に入った洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体が
よりスムーズに両収納凹部２８ｂと基板保持部２３ｂの
隙間に流れ出ることができるように、保持溝部２５ｂの
両端部分４３がテーパ状に構成されている。また、ノズ
ル３０ｂは本実施形態では特に絞った導入口としていな
いが、絞った導入口として勢いよく保持溝部２５ｂ内に
洗浄用の処理液や乾燥用の処理流体を噴出させるように
構成することもできる。

【００３３】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。まず、クリーンルーム内にウエットステーション１
が設置されており、オペレータは、正面方向からこのウ
エハ搬入側のウエハ移載部５における第１のテーブル上
に各キャリア３をそれぞれ載置する。その後、オペレー
タによるスイッチ操作で駆動を開始して、搬送用ロボッ
ト９は、複数のウエハ２の搬送に先だって、搬送用ロボ
ット９のハンド部分である基板保持チャック１０を基板
保持チャック洗浄装置１１で洗浄して乾燥させるハンド
洗浄乾燥工程を実施する。

【００３４】このハンド洗浄乾燥工程は、図８に示すよ
うに、ハンド洗浄部１２において、洗浄チャンバ２６
ａ，２６ｂおよび洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂがそれぞ
れ開状態となって、基板保持チャック１０が降下し、洗
浄チャンバ２６ａ，２６ｂの間に基板保持チャック１０
の左側が、洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂの間に基板保持
チャック１０の右側が挿入された後に、洗浄チャンバ２
６ａ，２６ｂおよび洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂがそれ
ぞれ閉状態となる。このとき、基板保持チャック１０の
アーム部材２１ａ，２１ｂの先端部分と一緒に、両収納
凹部２７ａ内に基板保持部２２ａを収容すると共に両収
納凹部２８ａ内に基板保持部２３ａを収容し、かつ、両
収納凹部２７ｂ内に基板保持部２２ｂを収容すると共に
両収納凹部２８ｂ内に基板保持部２３ｂが収容される。

【００３５】その後、導入管４１ａ，４１ｂはそれぞれ
処理液供給ラインに接続され、洗浄チャンバ２６ａの導
入管４１ａからは、洗浄用の純水などの処理液が、流通
経路３３ａおよび流通経路３４ａを並列に流れて洗浄チ
ャンバ２６ｂの排出管４２ａから排出され、また、洗浄
チャンバ３５ａの導入管４１ｂからも、洗浄用の純水な
どの処理液が、流通経路３３ｂおよび流通経路３４ｂを
並列に流れて洗浄チャンバ３５ｂの排出管４２ｂから排
出される。このとき、流通経路３３ａ，３４ａおよび流
通経路３３ｂ，３４ｂのうち流通経路３４ｂを一例とし
て説明すると、図６および図７に示すように、導入管４
１ｂから導入された処理液は、ノズル３０ｂから保持溝
部２５ｂ内に向けて噴出し、保持溝部２５ｂ内に当たっ
た処理液は保持溝部２５ｂ内に沿って汚染物質と共に押
し流して上下に分岐して流れ、両収納凹部２８ｂと基板
保持部２３ｂの隙間に出た後、その隙間をそれぞれ通過
して排出口３２ｂから排出され、さらに排出管４２ｂか
ら外部に排出されることで基板保持部２３ｂがその保持
溝２５ｂを中心として洗浄処理されることになる。

【００３６】さらに、洗浄に要する所定時間後に、導入
管４１ａ，４１ｂはそれぞれＩＰＡ（イソプロピルアル
コール）ベーパの供給ラインに接続され、洗浄チャンバ
２６ａの導入管４１ａからは、ＩＰＡベーパが高温窒素
と共に、流通経路３３ａおよび流通経路３４ａを並列に
流れて洗浄チャンバ２６ｂの排出管４２ａから排出さ
れ、また、洗浄チャンバ３５ａの導入管４１ｂからも、
ＩＰＡベーパが高温窒素と共に、流通経路３３ｂおよび
流通経路３４ｂを並列に流れて洗浄チャンバ３５ｂの排
出管４２ｂから排出される。このとき、流通経路３３
ａ，３４ａおよび流通経路３３ｂ，３４ｂのうち流通経
路３４ｂで乾燥用のＩＰＡベーパの流れを説明すると、
図６および図７に示すように、導入管４１ａから導入さ
れた乾燥用のＩＰＡベーパは、ノズル３０ｂから保持溝
部２５ｂ内に向けて噴出し、保持溝部２５ｂ内に当たり
保持溝部２５ｂ内に沿って上下に分岐して流れ、両収納
凹部２８ｂと基板保持部２３ｂの隙間に出た後、その隙
間をそれぞれ通過して排出口３２ｂから排出され、さら
に排出管４２ａから外部に排出されることで基板保持部
２３ｂがその保持溝２５ｂを中心として乾燥処理される
ことになる。

【００３７】さらに、ベーパ乾燥に要する所定時間後
に、導入管４１ａ，４１ｂはそれぞれ減圧ポンプ（図示
せず）の減圧ラインに接続され、導入管４１ａ，４１ｂ
が閉止状態となって、洗浄チャンバ２６ｂの排出管４２
ａから流通経路３３ａおよび流通経路３４ａ内が並列に
減圧され、また、洗浄チャンバ３５ｂの排出管４２ｂか
らも流通経路３３ｂおよび流通経路３４ｂが並列に減圧
される。

【００３８】さらに、所定の減圧時間後に、導入管４１
ａ，４１ｂはそれぞれ高温窒素ラインに接続され、排出
管４２ａ，４２ｂ側が閉止状態となって、洗浄チャンバ
２６ａの導入管４１ａから、高温窒素が流通経路３３ａ
および流通経路３４ａを並列に流入し、また、洗浄チャ
ンバ３５ａの導入管４１ｂからも、窒素が流通経路３３
ｂおよび流通経路３４ｂを並列に流入して、流通経路３
３ａ，３３ｂおよび流通経路３４ａ，３４ｂの内部を大
気圧（常圧）に戻す。

【００３９】その後、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂおよ
び洗浄チャンバ３５ａ，３５ｂがそれぞれ開状態となっ
て、基板保持チャック１０が所定の位置まで上昇するこ
とになる。

【００４０】次に、複数のウエハ２を収容したキャリア
３からウエハ移替部５を介して搬送用ロボット９の基板
保持チャック１０に複数のウエハ２を一括して移載す
る。さらに、複数のウエハ２は、搬送用ロボット９の基
板保持チャック１０によってリフタ装置（図示せず）に
受け渡され、このリフタ装置にて複数のウエハ２は一括
して処理ユニット７の第１および第２の薬液処理部１
３，１４の各薬液槽内の薬液中に順次浸漬されてエッチ
ング処理などの薬液処理がそれぞれ施される。

【００４１】さらに、第１および第２の薬液処理部１
３，１４による薬液処理が終了し、さらに、機能水洗処
理部１５でウエハ２を機能水洗し、さらに最終水洗処理
部１６でウエハ２を最終的に水洗した後に、複数のウエ
ハ２を乾燥部８でスピン乾燥する。以上のようにして、
所定の表面処理が為されスピン乾燥された複数のウエハ
２は搬出側のウエハ移替部６のキャリア４内に搬送用ロ
ボット９の基板保持チャック１０で搬送されて回収さ
れ、搬出側のウエハ移替部６において、上記ウエハ移替
部５の場合とは逆に、２個の搬送用のキャリア３に２つ
のウエハ群に分けられて前後のキャリア３内にそれぞれ
移し替えられることになる。オペレータは、処理済みの
複数のウエハ２が収容された２つのキャリア３を搬出す
ればよい。

【００４２】（実施形態２）上記実施形態１ではハンド
洗浄部１２としてチャック洗浄乾燥ポジションを別に設
けたが、本実施形態２では、ハンド洗浄部１２として別
にチャック洗浄乾燥ポジションを設けることなく、図９
に示すように、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂおよび洗浄
チャンバ３５ａ，３５ｂをハンドの洗浄乾燥時に基板保
持チャック１０の下方位置までシリンダのような駆動手
段によって移動させるように構成することもできる。こ
の場合には、洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂおよび洗浄チ
ャンバ３５ａ，３５ｂを配設するための専用のチャック
洗浄乾燥ポジションはいらず、その分、省スペースとな
って基板処理装置自体が小型化可能となる。

【００４３】したがって、上記実施形態１，２によれ
ば、基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２３ｂの形状
にそれぞれ合った両収納凹部２７ａ，２７ｂ，２８ａ，
２８ｂがそれぞれ基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３ａ，
２３ｂをそれぞれ挟み込んで両収納凹部２７ａ，２７
ｂ，２８ａ，２８ｂ内に隙間を有した状態で収納してこ
こに洗浄および乾燥用の処理流体をそれぞれ通して洗浄
および乾燥処理を行うため、各基板保持部２２ａ，２２
ｂ，２３ａ，２３ｂをそれぞれ囲った両収納凹部２７
ａ，２７ｂ，２８ａ，２８ｂ内を含む流通経路３３ａ，
３４ａ，３３ｂ，３４ｂ内の最小限の容積だけで済み、
洗浄チャンバ２６ａ，２６ｂおよび洗浄チャンバ３５
ａ，３５ｂを小型化することができて洗浄時の使用処理
液（薬液や純水など）量および処理流体（高温の窒素ガ
スとＩＰＡベーパなど）量を大幅に削減することができ
ると共に、処理液をリサイクルさせて循環させれば、更
なる使用処理液量を削減することができ、また、処理液
の流れによって洗浄効果および洗浄効率も向上させるこ
とができる。また、基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３
ａ，２３ｂをそれぞれ両収納凹部２７ａ，２７ｂ，２８
ａ，２８ｂ内にそれぞれ収容して洗浄用の液体や乾燥用
の流体が周囲に漏れないため、特に、乾燥時にも周囲へ
の水滴などの飛び散りがなくパーティクルの発生も防止
することができると共に、基板保持部２２ａ，２２ｂ，
２３ａ，２３ｂを収容した両収納凹部２７ａ，２７ｂ，
２８ａ，２８ｂ内との隙間を処理流体が流れることで乾
燥効果および乾燥効率も向上させることができる。

【００４４】また、複数のノズル２９ａ，２９ｂ，３０
ａ，３０ｂからそれぞれ複数の保持溝部２４ａ，２４
ｂ，２５ａ，２５ｂに向けてそれぞれ吐出された処理液
および処理流体は、複数の保持溝部２４ａ，２４ｂ，２
５ａ，２５ｂにそれぞれ当たって通過しパーティクルな
どの汚染物質を落して、複数の保持溝部２４ａ，２４
ｂ，２５ａ，２５ｂ内からそれぞれ各隙間内にその汚染
物質と共にそれぞれ流れ出た後、その各隙間内をそれぞ
れ通して排出口３１ａ，３１ｂ，３２ａ，３２ｂからそ
れぞれ排出する。このため、複数の保持溝部毎にそれぞ
れ吐出されてくる処理液または処理流体の流れはそれぞ
れ、従来のように、隣接する他の保持溝部の方向へは流
れないことから、各基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３
ａ，２３ｂの保持溝２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂ内
からそれぞれ流れ落ちた汚染物質は隣の保持溝内や保持
溝間などに周り込んで再び付着するようなこともなくな
り、各保持溝部から基板保持部と両収納凹部の隙間を通
して汚染物質と共に排出口を介して流れ出るため、基板
保持チャック１０の基板保持部２２ａ，２２ｂ，２３
ａ，２３ｂにおける複数の保持溝部内から効率よく汚染
物質を取り除くことができると共に、その汚染物質によ
るウエハ２などの基板表面への転写も抑制することがで
き、それによる製品品質に対する悪影響を防止すること
ができる。

【００４５】また、チャンバのノズルとチャック保持溝
との距離（ギャップ）が比較的小さいため、保持溝部に
対して１対１の細やかな洗浄を行うことができる。

【００４６】さらに、基板保持チャック洗浄装置１１は
小型に構成できるため、その設置スペースを省スペース
とすることができて基板処理装置の小型化も達成するこ
とができる。

【００４７】なお、上記実施形態１，２のウエットステ
ーション１は、多槽式基板処理装置の一例であって、そ
の具体的な構成は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で適
宜変更可能である。例えば、多槽式基板処理装置だけで
はなく、単槽式基板処理装置に対しても適用可能なこと
はいうまでもないことである。また、上記実施形態の処
理ユニット７では、一連の各種薬液処理として、燐酸溶
液による窒化膜除去のエッチング処理の他に、レジスト
膜剥離処理、酸化膜エッチング処理、ライトエッチング
処理および拡散前洗浄処理などの各種薬液処理がある。

【００４８】

【発明の効果】以上のように本発明の請求項１によれ
ば、基板保持部の形状に応じた収納凹部が基板保持部を
挟み込んで収納凹部内に隙間を有した状態で収納して洗
浄および乾燥処理を行うため、基板保持部を囲った収納
凹部内を含む流通経路内の最小限の容積だけで済み、洗
浄時の使用処理液量を大幅に削減することができると共
に、処理液をリサイクルさせて循環させれば、更なる使
用処理液量を削減することができ、また、処理液の流れ
によって洗浄効果および洗浄効率も向上させることがで
きる。また、基板保持部を収納凹部内に収容するため、
乾燥時にも周囲への水滴などの飛び散りがなくパーティ
クルの発生も防止することができると共に、基板保持部
を収容した収納凹部内との隙間を処理流体が流れること
で乾燥効果および乾燥効率も向上させることができる。

【００４９】また、本発明の請求項２によれば、複数の
保持溝部毎に吐出されてくる処理液または処理流体の流
れは、従来のように、隣接する他の保持溝部の方向へは
流れないことから、基板保持部の保持溝内から流れ落ち
た汚染物質は隣の保持溝内や保持溝間などに周り込んで
再び付着するようなこともなくなり、各保持溝部から基
板保持部と収納凹部の隙間を通して汚染物質と共に排出
口を介して流れ出るため、基板保持チャックの基板保持
部における複数の保持溝部内から効率よく汚染物質を取
り除くことができると共に、その汚染物質によるウエハ
などの基板表面への転写も抑制することができ、それに
よる製品品質に対する悪影響を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１における基板保持チャック
洗浄装置を組み込んでなるウエットステーションの概略
構成を示す平面図である。

【図２】図１の搬送用ロボットのハンド部分の概略要部
構成を模式的に示す縦断面図である。

【図３】図２の搬送用ロボットのハンド部分を基板保持
チャック洗浄装置内に収容した状態の概略要部構成を模
式的に示す縦断面図である。

【図４】図３の搬送用ロボットのハンド部分を基板保持
チャック洗浄装置内に収容した状態の概略要部構成を模
式的に示す斜視図である。

【図５】図３のＢＢ′線の一部横断面図である。

【図６】図３の上側の流通経路の一部概略構成を模式的
に示す斜視図である。

【図７】図３の上側の流通経路の拡大断面図である。

【図８】図１のハンド洗浄部を模式的に示す斜視図であ
る。

【図９】本発明の実施形態２のハンド洗浄部を模式的に
示す斜視図である。

【符号の説明】

１ ウエットステーション ２ ウエハ ７ 処理ユニット ９ 搬送用ロボット １０ 基板保持チャック １１ 基板保持チャック洗浄装置 １２ ハンド洗浄部 ２１ａ，２１ｂ アーム部材 ２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２３ｂ 基板保持部 ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂ 保持溝部 ２６ａ，２６ｂ，３５ａ，３５ｂ 洗浄チャンバ ２７ａ，２７ｂ，２８ａ，２８ｂ 両収納凹部 ２９ａ，２９ｂ，３０ａ，３０ｂ ノズル ３１ａ，３１ｂ，３２ａ，３２ｂ 排出口 ３３ａ，３４ａ，３３ｂ，３４ｂ 流通経路 ４１ａ，４１ｂ 導入管 ４２ａ，４２ｂ 排出管

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 平行して配設された少なくとも一対の基
   板保持部にそれぞれ複数の保持溝部が設けられ、複数の
   基板の縁を前記複数の保持溝部で支持させて、前記複数
   の基板を一括して保持する基板保持チャックを洗浄する
   基板保持チャック洗浄装置において、 前記基板保持チャックの基板保持部の形状に対応した収
   納凹部を有し、前記基板保持部を両側から挟み込んで前
   記両収納凹部内に隙間を有した状態で、前記基板保持チ
   ャックを収納し、収納凹部内に対して洗浄用の処理液さ
   らに乾燥用の処理流体を供給すると共に前記収納凹部内
   から前記処理液および処理流体をそれぞれ排出する流通
   経路が設けられたことを特徴とする基板保持チャック洗
   浄装置。
2. 【請求項２】 前記流通経路は、前記基板保持部の複数
   の保持溝部にそれぞれ略対向した位置に開口する複数の
   流体導入口と、これらの複数の流体導入口の略反対側に
   設けられ前記複数の流体導入口からそれぞれ供給された
   洗浄用の処理液さらに乾燥用の処理流体を前記両収納凹
   部と基板保持部の隙間を介して排出する排出口とを有す
   ることを特徴とする請求項１に記載の基板保持チャック
   洗浄装置。