JPH11260893A - カセット内の収納物検出装置 - Google Patents

カセット内の収納物検出装置

Info

Publication number
JPH11260893A
JPH11260893A JP10062434A JP6243498A JPH11260893A JP H11260893 A JPH11260893 A JP H11260893A JP 10062434 A JP10062434 A JP 10062434A JP 6243498 A JP6243498 A JP 6243498A JP H11260893 A JPH11260893 A JP H11260893A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cassette
laser beam
slot
wafer
light beam
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10062434A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshitaka Yamamoto
敏隆 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Heavy Industries Ltd filed Critical Sumitomo Heavy Industries Ltd
Priority to JP10062434A priority Critical patent/JPH11260893A/ja
Publication of JPH11260893A publication Critical patent/JPH11260893A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小さい占有スペースで、カセット内のウェハ
を確実に検出する。 【解決手段】 カセット20のスロットと平行な方向に
レーザビーム103を投光し、スロットを通った反射ビ
ーム103Bの有無により、ウェハ10の有無を確認す
るための、カセット室の側面54A、56Aに配設され
たレーザビームセンサ100と、該レーザビームセンサ
100から投光されたレーザビーム103Aをカセット
室54、56内に導入し、カセット室内で反射された反
射ビーム103Bをレーザビームセンサ100に導くた
めのミラー130を含む光ビーム導入出用のアクリル箱
122と、前記カセット室内の、前記スロットを挟んで
前記アクリル箱122と反対側に配設された反射板12
0とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カセット内の収納
物検出装置に係り、特に、半導体用ウェハの表面洗浄装
置に用いるのに好適な、収納物を収納するスロットを多
数備えたカセットの各スロット内の収納物の有無を、カ
セットを相対移動可能な状態で収容するカセット室の外
部から検出することが可能な、スロット内の収納物を確
実に検出でき、しかも、占有スペースも小さなカセット
内の収納物検出装置に関する。
【0002】
【従来の技術】LSI製造工程等の真空容器中で用いら
れるウェハ搬送ロボット等でのウェハの自動搬送に際し
て、ウェハ搬送ロボットがウェハを自動的に取り出しに
いく際に、ウェハを収納するスロットを多数備えたカセ
ット内のどのスロットにウェハが入っているかを検出す
る必要がある。又、カセットを搭載するカセットステー
ジの周囲、例えばカセット室の寸法やウェハ搬送ロボッ
トの寸法を小さくするためには、ウェハ検出機構の占有
スペースも小さくする必要がある。
【0003】このような目的で、従来は、図5(斜視
図)及び図6(正面図)に例示する如く、カセット20
を搭載するカセットステージ22上に、上向きに超音波
センサ24を設け、図6に示す如く、その上方のウェハ
10の下面までの距離Lを測定することにより、カセッ
ト20内のウェハが入っている最下段のスロットを検出
することが行われていた。
【0004】あるいは、図7に例示する如く、真空ロボ
ット28のロボットアーム30が昇降するタイプでは、
ウェハ10を搬送するロボットハンド32の後部に超音
波センサ等の距離センサ32を設け、後ろ向きのロボッ
トハンド32を真空ロボット28によりカセット20の
上下の寸法だけ昇降させて、ウェハ10の側面までの距
離Mを検出することにより、カセット20内のどのスロ
ットにウェハ10が入っているかを一度に検出すること
も行われている。
【0005】又、図8に例示する如く、カセットステー
ジ22が昇降するタイプでは、カセット20の後方若し
くは前方にレーザの投光器を設け、反対側に受光器を設
けるか、あるいは図8に示した如く、レーザ投受光器4
0を同じ側(図8ではカセット20の前方)に設け、反
対側(図8ではカセット20の後方)に反射板44を設
け、ウェハ10が存在する場合には、ビーム42がウェ
ハ10によって遮られることを利用して、各スロットに
おけるウェハ10の有無を検出することも行われてい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図5及
び6に示した如く、カセットステージ22上に、最下段
のウェハ10の下面までの距離Lを検出する超音波セン
サ24を設ける方法では、ウェハが存在する最下段のス
ロットしか検出できないため、最下段から順番にしかウ
ェハを取り出すことができず、上方のウェハを選択して
取り出すことはできないという問題点を有する。
【0007】又、図7に示した如く、ロボットハンド3
2の後部に距離センサ34を設けて、ウェハ10までの
距離Mを検出する方法では、最初にどのスロットにウェ
ハが入っているかを一度に検出してしまうため、ウェハ
を選択して取り出すことは可能であるが、図5及び6に
示した方法と共通する問題点として、カセットステージ
22や真空ロボット28の内部に配線を通さなければな
らず、機構が複雑になる。特に、真空容器に取り付ける
場合は、配線のシールも問題になり、より複雑になる。
又、1つのロボットが複数のカセットを取り扱う場合に
は、独立したカセット検出はできない等の問題点を有し
ていた。
【0008】一方、図8に示した如く、カセット20の
前方と後方に、レーザの投光器及び受光器を設けるか、
あるいは、レーザ投受光器40と反射板44を設ける方
法では、カセット20の前後にレーザ投受光器や反射板
等のスペースが必要となり、カセット室の寸法が大きく
なる。又、カセット20の側方であるとカセットの出し
入れの邪魔になるため、カセットの下部にセンサ等を設
けることも考えられるが、この場合には、その高さ分だ
け、カセットの昇降ストロークが大きくなり、好ましく
ない等の問題点を有していた。
【0009】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、小さい占有スペースで、カセット内
の収納物を確実に検出することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、収納物を収納
するスロットを多数備えたカセットの各スロット内の収
納物の有無を、カセットを相対移動可能な状態で収容す
るカセット室の外部から検出するためのカセット内の収
納物検出装置において、前記スロットと平行な方向に光
ビームを投光し、スロットを通った反射ビームの有無に
より、収納物の有無を検出するための、前記カセット室
の側面に配設された光ビームセンサと、該光ビームセン
サから投光された光ビームをカセット室内に導入し、カ
セット室内で反射された反射ビームを光ビームセンサに
導くための、光路変更手段(例えばミラー)を含む光ビ
ーム導入出手段と、前記カセット室内の、前記スロット
を挟んで前記光ビーム導入出手段と反対側に配設された
反射手段とを備えるようにして、前記課題を解決したも
のである。
【0011】本発明においては、光ビームセンサがカセ
ット室の側面に配設され、ミラー等の光路変更手段を含
む光ビーム導入出手段により、カセット室内に光ビーム
を導入し、反射手段により反射された反射ビームを、再
び光ビーム導入出手段より光ビームセンサに導くように
したので、小さい占有スパースで、カセット内の収納物
を確実に検出することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して、本発明の実
施形態を詳細に説明する。
【0013】本実施形態が適用される半導体用ウェハの
表面洗浄装置の全体構成を図1に示す。この表面洗浄装
置には、装置外部から被洗浄物であるウェハ10が多数
収容されたカセット20が交互に搬入出され、ロードロ
ックされて、真空状態に排気される2つのカセット室5
4、56と、洗浄前のウェハ10を、前記カセット室5
4、56の一方のカセット20から1枚ずつ引き出し
て、矢印Aに示す如く、次のバッファ室62に搬入する
と共に、洗浄後のウェハを、バッファ室62から搬出し
て、矢印Bに示す如く、所定のカセット20に挿入する
ための、ウェハハンドリング用の、水平面内で伸縮と回
転の2軸動作可能な真空ロボット28が配設されたロボ
ット室60と、常時、真空に保たれているロボット室6
0とエアロゾル噴射ノズル66から噴射される洗浄用の
エアロゾル68により真空度が低下する洗浄室64間の
圧力差を解消して、ウェハの受け渡しをするためのバッ
ファ室62と、該バッファ室62内で待機しているウェ
ハを、プロセスハンド72により洗浄室64に搬入(Y
方向)しながら、ノズル穴のピッチ分だけ図の左右方向
(X方向)に走査するための走査機構70と、下を通過
するウェハに対してエアロゾルを噴射して洗浄するため
のノズル66を備えた洗浄室64と、該ノズル66に供
給されるAr+N2 混合ガスを冷却するための冷却器を
構成する冷凍機76、コンプレッサ78及び熱交換器8
0と、前記カセット室54、56、ロボット室60、バ
ッファ室62、洗浄室64を排気して真空にするための
排気装置82とが、主に備えられている。
【0014】前記ロボット室60には、ウェハ10を搭
載可能なロボットハンド32と、該ロボットハンド32
を駆動するためのロボットアーム30が設けられてい
る。
【0015】図において、22は、前記カセット20を
搭載する、昇降及びステージ端部を中心に水平面内で回
転可能なカセットステージ、54D、56Dは、それぞ
れ、カセット室54、56のドア、55、57、61
は、それぞれ、カセット室54とロボット室60間、カ
セット室56とロボット室60間、ロボット室60とバ
ッファ室62間に設けられたゲートバルブである。
【0016】本実施形態は、このような表面洗浄装置に
おいて、図2(カセット室の平面図)及び図3(カセッ
ト室の側面図)に示す如く、カセット室54、56の互
いに離れた方の側面54A、56Aに、図4に示す如
く、投光器102と受光器104が一体とされた反射型
のレーザビームセンサ100を、ビーム103が水平面
内になるように、又、位置を若干ずらせて配置する。
【0017】該レーザビームセンサ100の投光器10
2と受光器104は、それぞれセンサ固定金具110、
111により水平方向に微調整可能な状態で、センサ取
付台112に取り付けられ、該センサ取付台112は、
前記カセット室側面54A、56Aに取り付けられてい
る。
【0018】前記カセット室54、56のゲートバルブ
側の内面54B、56Bのゲート開口部の上部若しくは
下部には、レーザビーム103の反射板120が取り付
けられている。この反射板120の位置は、レーザビー
ム103の方向と同じ水平面内とされている。
【0019】前記カセット室54、56のレーザビーム
センサ100が取り付けられている側面54A、56A
のレーザビームを投光する方向には、開口部54C、5
6Cが設けられ、外側に密閉構造になるようにアクリル
箱122が取り付けられている。このアクリル箱122
は、レーザビーム103が、該アクリル箱122の側面
122Aに垂直に通過するように取り付けられている。
このアクリル箱122の内部には、前記投光器102か
ら投光されるレーザビーム103Aを前記反射板120
に向けて反射でき、且つ、前記反射板120によって反
射されたレーザビーム103Bを前記受光器104に向
けて反射できる角度で、且つ、カセット室54、56の
底面と垂直にミラー130が設置されている。
【0020】以下、実施形態の作用を説明する。
【0021】前記レーザビームセンサ100の投光器1
02から出たレーザビーム103Aは、前記アクリル箱
122の側面122Aを通過して、ミラー130で反射
された後、反射板120に到達する。反射板120で反
射されたレーザビーム103Bは、再びミラー130で
反射された後、アクリル箱122の側面122Aを通過
して、受光器104に届く。従って、該レーザビーム1
03A、103Bの通り道上に障害物がなければ、投光
器102から出たレーザビーム103Aは、受光器10
4に戻ってくるが、何か障害物があれば、受光器104
に戻ってこない。
【0022】このような状態で、レーザビームの通り道
をカセット20の壁が遮らないように、且つ、カセット
20のスロット内をレーザビームが通過するようにカセ
ット20を配置し、カセット20内のウェハ10のスロ
ットが、例えば最上段から最下段まで、レーザビームの
位置に来るように、カセット20を昇降させる。
【0023】すると、カセット20内にウェハ10が存
在すれば、レーザビームセンサ100の投光器102か
ら出たレーザビームは、ウェハ10により遮られて、レ
ーザビームセンサ100の受光器104に戻ってこな
い。一方、カセット20内にウェハ10が存在しなけれ
ば、レーザビームセンサ100の投光器102から出た
レーザビームは、遮られることなく、受光器104に戻
ってくる。従って、カセット20の昇降位置とカセット
20内のスロットの位置の対応を付けて、その高さでレ
ーザビームセンサ100の受光器104の受光の有無を
調べれば、カセット20内のどのスロットにウェハが存
在しているかが分かる。
【0024】本実施形態においては、カセット室の内面
54B、56Bに反射板120を設けているので、レー
ザビームセンサ100の受光器104により、反射光を
確実に検出することができる。なお、前記内面54B、
56Bが鏡面状態である場合等、十分な反射光が得られ
る場合には、反射板を省略することも可能である。又、
光ビームセンサの種類も、レーザビームセンサに限定さ
れない。
【0025】又、前記実施形態においては、レーザビー
ムセンサ100から投光されたレーザビーム103Aを
カセット室内に導入し、カセット室内で反射された反射
ビーム103Bを受光器104に導くための光路変更手
段としてミラー130が用いられていたが、光路変更手
段はミラーに限定されず、例えば、プリズムの全反射等
を利用して光路を変更することも可能である。
【0026】前記実施形態においては、本発明が、カセ
ット昇降型の半導体用ウェハの洗浄装置に適用されてい
たが、本発明の適用対象はこれに限定されず、ロボット
ハンド昇降型の洗浄装置や、液晶ガラス基板やハードデ
ィスク等のカセットからの取り出しや、CD、CD−R
OM、DVD等のカセットからの取り出しにも、同様に
適用できることは明らかである。
【0027】
【発明の効果】本発明によれば、小さい占有スペース
で、カセット内の収納物の有無を確実に検出することが
可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される半導体用ウェハの表面洗浄
装置の一例の全体構成を示す平面図
【図2】本発明の実施形態が配設されたカセット室を示
す平面図
【図3】同じく側面図
【図4】本実施形態で用いられているレーザビームセン
サの原理的な構成を示す略図
【図5】従来のウェハ検出機構の一例の構成を示す斜視
図
【図6】同じく正面図
【図7】従来のウェハ検出機構の他の例の構成を示す斜
視図
【図8】同じく更に他の例の構成を示す斜視図
【符号の説明】
10…ウェハ(収納物) 20…カセット 22…カセットステージ 28…真空ロボット 30…ロボットアーム 32…ロボットハンド 54、56…カセット室 100…レーザビームセンサ 102…投光器 103、103A、103B…レーザビーム 104…受光器 110、111…センサ固定金具 112…センサ取付台 120…反射板 122…アクリル箱 130…ミラー

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】収納物を収納するスロットを多数備えたカ
    セットの各スロット内の収納物の有無を、カセットを相
    対移動可能な状態で収容するカセット室の外部から検出
    するためのカセット内の収納物検出装置において、 前記スロットと平行な方向に光ビームを投光し、スロッ
    トを通った反射ビームの有無により、収納物の有無を検
    出するための、前記カセット室の側面に配設された光ビ
    ームセンサと、 該光ビームセンサから投光された光ビームをカセット室
    内に導入し、カセット室内で反射された反射ビームを光
    ビームセンサに導くための、光路変更手段を含む光ビー
    ム導入出手段と、 前記カセット室内の、前記スロットを挟んで前記光ビー
    ム導入出手段と反対側に配設された反射手段と、 を備えたことを特徴とするカセット内の収納物検出装
    置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記光路変更手段がミ
    ラーであることを特徴とするカセット内の収納物検出装
    置。
JP10062434A 1998-03-13 1998-03-13 カセット内の収納物検出装置 Pending JPH11260893A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10062434A JPH11260893A (ja) 1998-03-13 1998-03-13 カセット内の収納物検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10062434A JPH11260893A (ja) 1998-03-13 1998-03-13 カセット内の収納物検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11260893A true JPH11260893A (ja) 1999-09-24

Family

ID=13200086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10062434A Pending JPH11260893A (ja) 1998-03-13 1998-03-13 カセット内の収納物検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH11260893A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110752168A (zh) * 2019-09-24 2020-02-04 北京北方华创微电子装备有限公司 一种晶片检测装置、晶片传输系统及晶片检测方法
KR20230102360A (ko) * 2021-12-30 2023-07-07 주식회사 테스 기판 감지유닛
WO2023162355A1 (ja) * 2022-02-22 2023-08-31 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法および基板処理装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110752168A (zh) * 2019-09-24 2020-02-04 北京北方华创微电子装备有限公司 一种晶片检测装置、晶片传输系统及晶片检测方法
CN110752168B (zh) * 2019-09-24 2022-08-16 北京北方华创微电子装备有限公司 一种晶片检测装置、晶片传输系统及晶片检测方法
KR20230102360A (ko) * 2021-12-30 2023-07-07 주식회사 테스 기판 감지유닛
WO2023162355A1 (ja) * 2022-02-22 2023-08-31 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法および基板処理装置
JP2023122329A (ja) * 2022-02-22 2023-09-01 株式会社Screenホールディングス 基板処理方法および基板処理装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN112735974B (zh) 竖式分批炉组件
JP6455239B2 (ja) ドア開閉装置
US8565911B2 (en) Thermal processing apparatus, thermal processing method, and storage medium
JP7385151B2 (ja) マッピング方法、efem
US6053983A (en) Wafer for carrying semiconductor wafers and method detecting wafers on carrier
JP7787449B2 (ja) ロードポート
JP7769186B2 (ja) ロードポート
TW202029387A (zh) 晶圓儲存器
US20210118711A1 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method and recording medium
US20090060692A1 (en) Substrate positional misalignment detection system
US6396072B1 (en) Load port door assembly with integrated wafer mapper
US6412502B1 (en) Wafer container cleaning system
US20170352556A1 (en) Substrate-processing apparatus and method of manufacturing semiconductor device
JP2020087960A (ja) 搬送ロボットシステム、教示方法、及びウエハ収容容器
JP2010232560A (ja) マッピング機構、foup、及びロードポート
WO2009114193A2 (en) Bare reticle storage chamber and stocker
JP2009200063A (ja) 基板の変形検出機構,処理システム,基板の変形検出方法及び記録媒体
US6610993B2 (en) Load port door assembly with integrated wafer mapper
US20090294442A1 (en) Lid opening/closing system for closed container, contained object insertion/takeout system having same lid opening/closing system, and substrate processing method using same lid opening/closing system
JP2003218018A (ja) 処理装置
JP3524140B2 (ja) 処理装置
US20060154385A1 (en) Fabrication pathway integrated metrology device
JP4314780B2 (ja) 無人搬送車システム
JP2002134587A (ja) 被処理体の搬送機構及び処理システム
JP2025047267A (ja) 基板搬送装置及びそれを備えた基板処理装置