JPH11262968A - 透明導電膜 - Google Patents
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- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
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- C03C2217/90—Other aspects of coatings
- C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
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Abstract
(57)【要約】
【課題】低抵抗を有し、耐湿性および耐薬品性にも優れ
た透明導電膜の提供。 【解決手段】基体１上に、酸化物膜２、金属膜４、酸化
物膜６とがこの順に（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）で積層さ
れた透明導電膜において、金属膜の上下の２つの界面の
うち少なくとも基体から遠い側の界面には、ＮｉとＺｎ
とを含有する酸化物膜３、５が透明導電膜を形成する酸
化物膜２、６の一部または全部として設けられてなる透
明導電膜。
た透明導電膜の提供。 【解決手段】基体１上に、酸化物膜２、金属膜４、酸化
物膜６とがこの順に（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）で積層さ
れた透明導電膜において、金属膜の上下の２つの界面の
うち少なくとも基体から遠い側の界面には、ＮｉとＺｎ
とを含有する酸化物膜３、５が透明導電膜を形成する酸
化物膜２、６の一部または全部として設けられてなる透
明導電膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は透明導電膜に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】Ａｇ層を透明酸化物層で挟んだ多層構成
のＡｇ系透明導電膜は、現在広く使われているＩＴＯ膜
よりも容易に低抵抗が得られるため、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）等の表示用透明電極として期待されている。
Ａｇ系透明導電膜としては、１）Ａｇ層をＩｎ2 Ｏ3 層
で挟んだＩｎ2 Ｏ3 ／Ａｇ／Ｉｎ2 Ｏ3 、２）ＩＴＯ層
で挟んだＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯ、３）Ｇａ添加ＺｎＯ
（ＧＺＯ）層で挟んだＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯなどが知ら
れている。Ｉｎ2 Ｏ3 ／Ａｇ／Ｉｎ2 Ｏ3 やＩＴＯ／Ａ
ｇ／ＩＴＯは、耐薬品性に優れてはいるものの、室内放
置により白色欠点が生じるほど耐湿性が不充分である。
一方、ＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯは、耐湿性は良好であるが
耐薬品性が不充分であるという欠点がある。このため、
いずれの構成の膜もＬＣＤ用としては実用化されていな
い。
のＡｇ系透明導電膜は、現在広く使われているＩＴＯ膜
よりも容易に低抵抗が得られるため、液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）等の表示用透明電極として期待されている。
Ａｇ系透明導電膜としては、１）Ａｇ層をＩｎ2 Ｏ3 層
で挟んだＩｎ2 Ｏ3 ／Ａｇ／Ｉｎ2 Ｏ3 、２）ＩＴＯ層
で挟んだＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯ、３）Ｇａ添加ＺｎＯ
（ＧＺＯ）層で挟んだＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯなどが知ら
れている。Ｉｎ2 Ｏ3 ／Ａｇ／Ｉｎ2 Ｏ3 やＩＴＯ／Ａ
ｇ／ＩＴＯは、耐薬品性に優れてはいるものの、室内放
置により白色欠点が生じるほど耐湿性が不充分である。
一方、ＧＺＯ／Ａｇ／ＧＺＯは、耐湿性は良好であるが
耐薬品性が不充分であるという欠点がある。このため、
いずれの構成の膜もＬＣＤ用としては実用化されていな
い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ＬＣＤなど
に使用できる低い抵抗を有し、耐湿性および耐薬品性に
も優れた透明導電膜の提供を目的とする。
に使用できる低い抵抗を有し、耐湿性および耐薬品性に
も優れた透明導電膜の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、基体上に、酸
化物膜、金属膜、酸化物膜とがこの順に（２ｎ＋１）層
（ｎ≧１）で積層された透明導電膜において、金属膜と
酸化物膜とで形成される２つの界面のうち少なくとも基
体から遠い側の界面には、ＮｉとＺｎとを含有する酸化
物膜（以下、ＮＺ酸化物膜という）が酸化物膜の一部ま
たは全部として設けられてなる透明導電膜を提供する。
ＮＺ酸化物膜は、ＮｉとＺｎとの複合酸化物膜、あるい
はＮｉとＺｎとの複合酸化物膜を主成分とする膜であ
る。より良好な耐湿性、耐薬品性が得られることから、
ＮＺ酸化物膜は、金属膜と酸化物膜とで形成される２つ
の界面の両側に設けられることが好ましい。
化物膜、金属膜、酸化物膜とがこの順に（２ｎ＋１）層
（ｎ≧１）で積層された透明導電膜において、金属膜と
酸化物膜とで形成される２つの界面のうち少なくとも基
体から遠い側の界面には、ＮｉとＺｎとを含有する酸化
物膜（以下、ＮＺ酸化物膜という）が酸化物膜の一部ま
たは全部として設けられてなる透明導電膜を提供する。
ＮＺ酸化物膜は、ＮｉとＺｎとの複合酸化物膜、あるい
はＮｉとＺｎとの複合酸化物膜を主成分とする膜であ
る。より良好な耐湿性、耐薬品性が得られることから、
ＮＺ酸化物膜は、金属膜と酸化物膜とで形成される２つ
の界面の両側に設けられることが好ましい。
【０００５】図１に本発明に係る金属膜を１層用いた透
明導電膜の代表例の断面図を、図２に本発明に係る金属
膜を２層用いた透明導電膜の代表例の断面図を示す。１
は基体、３、５、７、９はＮＺ酸化物膜、２、６、１０
は酸化物膜、４、８は金属膜である。
明導電膜の代表例の断面図を、図２に本発明に係る金属
膜を２層用いた透明導電膜の代表例の断面図を示す。１
は基体、３、５、７、９はＮＺ酸化物膜、２、６、１０
は酸化物膜、４、８は金属膜である。
【０００６】本発明における基体１としては、ガラス
板、樹脂製フィルム、樹脂製板などが使用できる。ま
た、ガラス板などの上にカラー画素となるカラーフィル
タ層を形成し、該カラーフィルタ層上に、カラーフィル
タを保護、平滑化するための透明樹脂層を形成し、さら
に該透明樹脂層上にシリカ、ＳｉＮx などの無機中間膜
層（透明導電膜との密着改善層）を順次積層したものを
基体として用いてもよい。
板、樹脂製フィルム、樹脂製板などが使用できる。ま
た、ガラス板などの上にカラー画素となるカラーフィル
タ層を形成し、該カラーフィルタ層上に、カラーフィル
タを保護、平滑化するための透明樹脂層を形成し、さら
に該透明樹脂層上にシリカ、ＳｉＮx などの無機中間膜
層（透明導電膜との密着改善層）を順次積層したものを
基体として用いてもよい。
【０００７】ＮＺ酸化物膜３、５、７、９は、ＮｉとＺ
ｎの総和に対してＮｉを５〜８０原子％含むことが好ま
しい。５原子％未満では、耐薬品性が不充分であるし、
８０原子％超では、金属膜（特に、後述するＡｇを主成
分とする膜）との密着性が不充分となるため湿気の影響
で剥離が生じやすくなる。
ｎの総和に対してＮｉを５〜８０原子％含むことが好ま
しい。５原子％未満では、耐薬品性が不充分であるし、
８０原子％超では、金属膜（特に、後述するＡｇを主成
分とする膜）との密着性が不充分となるため湿気の影響
で剥離が生じやすくなる。
【０００８】また、導電性を高めるために、ＮＺ酸化物
膜３、５、７、９は、Ｇａを含有することが好ましい。
特に、ＧａをＮｉ、Ｚｎ、Ｇａの総和に対して２〜１５
原子％含むことが好ましい。
膜３、５、７、９は、Ｇａを含有することが好ましい。
特に、ＧａをＮｉ、Ｚｎ、Ｇａの総和に対して２〜１５
原子％含むことが好ましい。
【０００９】酸化物膜２、６、１０は、耐薬品性に優れ
た膜であることが好ましい。例えば、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＴｉＯ2 、ＮＺ酸化物等の材料が使用で
きる。それぞれの酸化物膜は２種以上の酸化物膜が積層
され多層で構成されていてもよい。高導電率が必要とさ
れる場合は、Ｉｎ2 Ｏ3 やＩＴＯ等の導電性膜を用いる
ことが好ましい。より具体的には、酸化物膜として、
１）ＩＴＯ膜、２）ＮＺ酸化物膜／ＩＴＯ膜、３）ＮＺ
酸化物膜、などを用いる。
た膜であることが好ましい。例えば、Ｉｎ2 Ｏ3 、ＩＴ
Ｏ、ＳｎＯ2 、ＴｉＯ2 、ＮＺ酸化物等の材料が使用で
きる。それぞれの酸化物膜は２種以上の酸化物膜が積層
され多層で構成されていてもよい。高導電率が必要とさ
れる場合は、Ｉｎ2 Ｏ3 やＩＴＯ等の導電性膜を用いる
ことが好ましい。より具体的には、酸化物膜として、
１）ＩＴＯ膜、２）ＮＺ酸化物膜／ＩＴＯ膜、３）ＮＺ
酸化物膜、などを用いる。
【００１０】酸化物膜２、６、１０のそれぞれの膜厚
は、光学特性の観点から、ＮＺ酸化物膜の膜厚との合計
で１０〜１５０ｎｍの膜厚であることが好ましい。１０
ｎｍ未満および１５０ｎｍ超では可視光透過率が低下す
る。
は、光学特性の観点から、ＮＺ酸化物膜の膜厚との合計
で１０〜１５０ｎｍの膜厚であることが好ましい。１０
ｎｍ未満および１５０ｎｍ超では可視光透過率が低下す
る。
【００１１】ＮＺ酸化物膜３、５、７、９の膜厚は１ｎ
ｍ以上が好ましい。１ｎｍ未満では金属膜（特に後述す
るＡｇを主成分とする膜）との密着性が不充分となるた
め耐湿性が不良となる。
ｍ以上が好ましい。１ｎｍ未満では金属膜（特に後述す
るＡｇを主成分とする膜）との密着性が不充分となるた
め耐湿性が不良となる。
【００１２】本発明の透明導電膜には、機械的、化学的
耐久性を向上させる目的で、基体から最も遠い（２ｎ＋
１）層目の酸化物膜のさらに外側に保護層などを設け得
る。
耐久性を向上させる目的で、基体から最も遠い（２ｎ＋
１）層目の酸化物膜のさらに外側に保護層などを設け得
る。
【００１３】本発明における酸化物膜の形成は、生産性
を考慮するとスパッタリング法で作製することが好まし
い。酸化物膜の形成法には、酸化物焼結体ターゲットを
用いてＡｒ雰囲気中もしくは酸化性ガスを少量添加した
Ａｒ雰囲気中でスパッタリングする方法と、金属ターゲ
ットを用いて酸化性ガス・Ａｒガス混合雰囲気中でスパ
ッタリングする方法とがあるが、ＮＺ酸化物膜は前者の
方法で作製することが好ましい。後者の方法では金属膜
にダメージを与えるため比抵抗が上昇する。ＮＺ酸化物
膜以外の酸化物膜は、どちらの方法で作製してもよい。
ターゲット材料コスト、生産性、生産安定性等を考慮し
て決定される。なお、いずれの酸化物膜も、用いるター
ゲットが導電性を有しており、直流スパッタリングによ
る成膜が可能な場合は、生産性の観点から直流スパッタ
リングで成膜することが好ましい。
を考慮するとスパッタリング法で作製することが好まし
い。酸化物膜の形成法には、酸化物焼結体ターゲットを
用いてＡｒ雰囲気中もしくは酸化性ガスを少量添加した
Ａｒ雰囲気中でスパッタリングする方法と、金属ターゲ
ットを用いて酸化性ガス・Ａｒガス混合雰囲気中でスパ
ッタリングする方法とがあるが、ＮＺ酸化物膜は前者の
方法で作製することが好ましい。後者の方法では金属膜
にダメージを与えるため比抵抗が上昇する。ＮＺ酸化物
膜以外の酸化物膜は、どちらの方法で作製してもよい。
ターゲット材料コスト、生産性、生産安定性等を考慮し
て決定される。なお、いずれの酸化物膜も、用いるター
ゲットが導電性を有しており、直流スパッタリングによ
る成膜が可能な場合は、生産性の観点から直流スパッタ
リングで成膜することが好ましい。
【００１４】金属膜４、８は、低比抵抗、高可視光透過
率が得られることからＡｇを主成分とする膜であること
が好ましい。Ａｇを主成分とする膜は、Ａｇのみからな
る膜でもよいが、Ａｇの安定性が向上することから、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ｐｔ、ＣｏおよびＣｕからなる群から選ばれ
る１種以上の金属を含む合金膜であることが好ましい。
率が得られることからＡｇを主成分とする膜であること
が好ましい。Ａｇを主成分とする膜は、Ａｇのみからな
る膜でもよいが、Ａｇの安定性が向上することから、Ｐ
ｄ、Ａｕ、Ｐｔ、ＣｏおよびＣｕからなる群から選ばれ
る１種以上の金属を含む合金膜であることが好ましい。
【００１５】Ｐｄ、Ａｕ、Ｐｔ、ＣｏおよびＣｕからな
る群から選ばれる１種以上の金属は、Ａｇとの合量に対
して０．１〜１０原子％の割合で含まれることが好まし
い。０．１原子％未満では耐久性が不充分となり、１０
原子％を超えると可視光透過率の低下および高比抵抗化
をもたらす。
る群から選ばれる１種以上の金属は、Ａｇとの合量に対
して０．１〜１０原子％の割合で含まれることが好まし
い。０．１原子％未満では耐久性が不充分となり、１０
原子％を超えると可視光透過率の低下および高比抵抗化
をもたらす。
【００１６】金属膜４、８の膜厚は、３〜２５ｎｍが好
ましい。３ｎｍ未満ではシート抵抗が高くなり、２５ｎ
ｍを超えると可視光透過率が低下する。金属膜は、金属
ターゲットを用いてＡｒガス雰囲気中でスパッタリング
することで形成される。金属ターゲットは充分な導電性
を有しているため、直流スパッタリングによる成膜が可
能である。比抵抗調整や機械的耐久性向上の目的で雰囲
気中にＮ2 などのガスを添加してもよい。
ましい。３ｎｍ未満ではシート抵抗が高くなり、２５ｎ
ｍを超えると可視光透過率が低下する。金属膜は、金属
ターゲットを用いてＡｒガス雰囲気中でスパッタリング
することで形成される。金属ターゲットは充分な導電性
を有しているため、直流スパッタリングによる成膜が可
能である。比抵抗調整や機械的耐久性向上の目的で雰囲
気中にＮ2 などのガスを添加してもよい。
【００１７】本発明の透明導電膜は成膜後、１００〜３
００℃の温度で加熱処理されてもよい。加熱処理によ
り、低抵抗化、高可視光透過率化、耐久性向上が期待で
きる。
００℃の温度で加熱処理されてもよい。加熱処理によ
り、低抵抗化、高可視光透過率化、耐久性向上が期待で
きる。
【００１８】
【作用】Ａｇ系透明導電膜の耐湿劣化（白色斑点発生）
は、湿気の影響でＡｇ膜と酸化物膜の界面で剥離が生じ
酸化物膜が破損することによる。Ａｇ膜との高い密着性
を有するＮＺ酸化物膜をＡｇ膜と酸化物膜の界面に導入
することにより、剥離を防止し、耐湿性を向上できる。
また、ＮＺ酸化物膜自体が高い耐薬品性を有するため、
ＮＺ酸化物膜を透明導電膜を構成する酸化物膜の一部ま
たは全部に用いることで、得られる透明導電膜の耐湿性
と耐薬品性を向上させることができる。
は、湿気の影響でＡｇ膜と酸化物膜の界面で剥離が生じ
酸化物膜が破損することによる。Ａｇ膜との高い密着性
を有するＮＺ酸化物膜をＡｇ膜と酸化物膜の界面に導入
することにより、剥離を防止し、耐湿性を向上できる。
また、ＮＺ酸化物膜自体が高い耐薬品性を有するため、
ＮＺ酸化物膜を透明導電膜を構成する酸化物膜の一部ま
たは全部に用いることで、得られる透明導電膜の耐湿性
と耐薬品性を向上させることができる。
【００１９】
【実施例】ガラス基板上に、表１の例１〜８に示す構成
の透明導電膜を直流スパッタリング法により形成した。
表１の( )内の数字は膜厚（ｎｍ）である。左側が基板
側である。Ｉｎ2 Ｏ3 膜は、Ｉｎ2 Ｏ3 焼結体ターゲッ
トを用い、２体積％酸素を含んだＡｒガス６ｍＴｏｒｒ
の雰囲気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッ
タリングすることにより成膜した。
の透明導電膜を直流スパッタリング法により形成した。
表１の( )内の数字は膜厚（ｎｍ）である。左側が基板
側である。Ｉｎ2 Ｏ3 膜は、Ｉｎ2 Ｏ3 焼結体ターゲッ
トを用い、２体積％酸素を含んだＡｒガス６ｍＴｏｒｒ
の雰囲気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッ
タリングすることにより成膜した。
【００２０】ＩＴＯ膜は、ＳｎとＩｎの総和に対してＳ
ｎを１０原子％含むＩｎ2 Ｏ3 焼結体ターゲットを用
い、２体積％酸素を含んだＡｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲
気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッタリン
グすることにより成膜した。成膜後のＩＴＯ膜の組成
は、用いたターゲットの組成と同一であった。
ｎを１０原子％含むＩｎ2 Ｏ3 焼結体ターゲットを用
い、２体積％酸素を含んだＡｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲
気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッタリン
グすることにより成膜した。成膜後のＩＴＯ膜の組成
は、用いたターゲットの組成と同一であった。
【００２１】Ｇａ2 Ｏ3 を添加したＮＺ酸化物膜（以下
ＧＮＺ膜と略す）は、Ｎｉ、Ｚｎの総和に対してＮｉを
１５．７原子％含み、かつＮｉ、Ｇａ、Ｚｎの総和に対
してＧａを４．３原子％含むＺｎＯ焼結体ターゲットを
用い、Ａｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲気中、２．２Ｗ／ｃ
ｍ2 の電力密度で直流スパッタリングすることにより成
膜した。成膜後のＧＮＺ膜の組成は、用いたターゲット
の組成と同一であった。
ＧＮＺ膜と略す）は、Ｎｉ、Ｚｎの総和に対してＮｉを
１５．７原子％含み、かつＮｉ、Ｇａ、Ｚｎの総和に対
してＧａを４．３原子％含むＺｎＯ焼結体ターゲットを
用い、Ａｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲気中、２．２Ｗ／ｃ
ｍ2 の電力密度で直流スパッタリングすることにより成
膜した。成膜後のＧＮＺ膜の組成は、用いたターゲット
の組成と同一であった。
【００２２】ＧＺＯ膜は、ＧａをＧａとＺｎの総和に対
して５．０原子％含むＺｎＯ焼結体ターゲットを用い、
Ａｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の
電力密度で直流スパッタリングすることにより成膜し
た。成膜後のＧＺＯ膜の組成は、用いたターゲットの組
成と同一であった。
して５．０原子％含むＺｎＯ焼結体ターゲットを用い、
Ａｒガス６ｍＴｏｒｒの雰囲気中、２．２Ｗ／ｃｍ2 の
電力密度で直流スパッタリングすることにより成膜し
た。成膜後のＧＺＯ膜の組成は、用いたターゲットの組
成と同一であった。
【００２３】ＡｇＰｄ膜は、Ｐｄ１原子％含むＡｇ−Ｐ
ｄ合金ターゲットを用い、Ａｒガス２ｍＴｏｒｒの雰囲
気中、０．５５Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッタリ
ングすることにより成膜した。成膜後のＡｇＰｄ膜の組
成は、用いたターゲットの組成と同一であった。成膜
後、すべての透明導電膜について、２５０℃の雰囲気中
で３０分間熱処理を行った。表１に各構成の透明導電膜
のシート抵抗の測定結果、耐湿性および耐アルカリ性の
評価結果を示す。シート抵抗は、四探針法により測定し
た。
ｄ合金ターゲットを用い、Ａｒガス２ｍＴｏｒｒの雰囲
気中、０．５５Ｗ／ｃｍ2 の電力密度で直流スパッタリ
ングすることにより成膜した。成膜後のＡｇＰｄ膜の組
成は、用いたターゲットの組成と同一であった。成膜
後、すべての透明導電膜について、２５０℃の雰囲気中
で３０分間熱処理を行った。表１に各構成の透明導電膜
のシート抵抗の測定結果、耐湿性および耐アルカリ性の
評価結果を示す。シート抵抗は、四探針法により測定し
た。
【００２４】耐湿性については、７０℃、湿度９０％の
雰囲気中に１週間放置するという耐湿試験を行った後、
直径０．５ｍｍ以上の白色斑点が発生しなかったサンプ
ルを○、直径１ｍｍ以上の白色斑点が発生したサンプル
を×と判定した。
雰囲気中に１週間放置するという耐湿試験を行った後、
直径０．５ｍｍ以上の白色斑点が発生しなかったサンプ
ルを○、直径１ｍｍ以上の白色斑点が発生したサンプル
を×と判定した。
【００２５】耐アルカリ性については、室温の１重量％
ＮａＯＨ水溶液中に２０分間浸けるという耐アルカリ試
験を行った後、膜に変化が見られなかったサンプルを
○、変色等の劣化が見られたものを×と判定した。
ＮａＯＨ水溶液中に２０分間浸けるという耐アルカリ試
験を行った後、膜に変化が見られなかったサンプルを
○、変色等の劣化が見られたものを×と判定した。
【００２６】表１より、Ｉｎ2 Ｏ3 膜とＡｇＰｄ膜を積
層させた構成（例５、６）およびＩＴＯ膜とＡｇＰｄ膜
を積層させた構成（例７）では、良好な耐アルカリ性を
示すが、耐湿性が不良であることがわかる。また、ＧＺ
Ｏ膜と ＡｇＰｄ膜を積層させた構成（例８）では、耐
湿性は良好であるが、耐アルカリ性が不良である。これ
に対して、本発明によるＩｎ2 Ｏ3 膜とＡｇＰｄ膜の間
に薄いＧＮＺ膜を導入した構成の膜（例１、２）、ＩＴ
Ｏ膜とＡｇＰｄ膜間に薄いＧＮＺ膜を導入した構成の膜
（例３）およびＧＮＺ膜とＡｇＰｄ膜を積層させた膜
（例４）では、耐湿性、耐アルカリ性ともに良好であ
る。
層させた構成（例５、６）およびＩＴＯ膜とＡｇＰｄ膜
を積層させた構成（例７）では、良好な耐アルカリ性を
示すが、耐湿性が不良であることがわかる。また、ＧＺ
Ｏ膜と ＡｇＰｄ膜を積層させた構成（例８）では、耐
湿性は良好であるが、耐アルカリ性が不良である。これ
に対して、本発明によるＩｎ2 Ｏ3 膜とＡｇＰｄ膜の間
に薄いＧＮＺ膜を導入した構成の膜（例１、２）、ＩＴ
Ｏ膜とＡｇＰｄ膜間に薄いＧＮＺ膜を導入した構成の膜
（例３）およびＧＮＺ膜とＡｇＰｄ膜を積層させた膜
（例４）では、耐湿性、耐アルカリ性ともに良好であ
る。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、耐湿性と耐薬品性を兼
ね備えた、低抵抗の透明導電膜が提供できる。特に、３
Ω／□以下の低抵抗の透明導電膜も容易に作製できる。
ね備えた、低抵抗の透明導電膜が提供できる。特に、３
Ω／□以下の低抵抗の透明導電膜も容易に作製できる。
【００２９】本発明の透明導電膜は、液晶ディスプレ
イ、エレクトロクロミックディスプレイ、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ用な
どの透明電極以外に、熱線遮断膜、電磁波遮蔽膜、防曇
ガラス用透明発熱体等に好適である。
イ、エレクトロクロミックディスプレイ、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ用な
どの透明電極以外に、熱線遮断膜、電磁波遮蔽膜、防曇
ガラス用透明発熱体等に好適である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る金属膜を１層用いた透明導電膜の
代表例の断面図。
代表例の断面図。
【図２】本発明に係る金属膜を２層用いた透明導電膜の
代表例の断面図。
代表例の断面図。
１：基体 ２、６、１０：酸化物膜 ３、５、７、９：ＮｉとＺｎとを含有する酸化物膜 ４、８：金属膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 青嶋 有紀 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】基体上に、酸化物膜、金属膜、酸化物膜と
がこの順に（２ｎ＋１）層（ｎ≧１）で積層された透明
導電膜において、金属膜の上下の２つの界面のうち少な
くとも基体から遠い側の界面には、ＮｉとＺｎとを含有
する酸化物膜が透明導電膜を形成する酸化物膜の一部ま
たは全部として設けられてなる透明導電膜。 - 【請求項２】ＮｉとＺｎとを含有する酸化物膜が、Ｎｉ
とＺｎの総和に対してＮｉを５〜８０原子％含む請求項
１記載の透明導電膜。 - 【請求項３】ＮｉとＺｎとを含有する酸化物膜が、Ｇａ
を含有する請求項１または２記載の透明導電膜。 - 【請求項４】金属膜が、Ａｇを主成分とする膜である請
求項１、２または３記載の透明導電膜。 - 【請求項５】Ａｇを主成分とする膜が、Ｐｄ、Ａｕ、Ｐ
ｔ、ＣｏおよびＣｕからなる群から選ばれる１種以上の
金属を含む合金膜である請求項４記載の透明導電膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10068990A JPH11262968A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 透明導電膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10068990A JPH11262968A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 透明導電膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11262968A true JPH11262968A (ja) | 1999-09-28 |
Family
ID=13389622
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10068990A Pending JPH11262968A (ja) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 透明導電膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11262968A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006030762A1 (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 透明導電膜及びその製造方法、並びに透明導電性基材、発光デバイス |
| JP2007302508A (ja) * | 2006-05-11 | 2007-11-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化物焼結体、ターゲット、およびそれを用いて得られる透明導電膜 |
| EP2920127A1 (en) * | 2012-11-19 | 2015-09-23 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating including zinc oxide inclusive layer (s) with additional metal(s) |
| WO2020092508A3 (en) * | 2018-10-31 | 2020-06-18 | Cardinal Cg Company | Low solar heat gain coatings, laminated glass assemblies, and methods of producing same |
| US11149486B2 (en) | 2015-03-20 | 2021-10-19 | Cardinal Cg Company | Nickel-aluminum blocker film multiple cavity controlled transmission coating |
| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
-
1998
- 1998-03-18 JP JP10068990A patent/JPH11262968A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| WO2006030762A1 (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 透明導電膜及びその製造方法、並びに透明導電性基材、発光デバイス |
| US8728615B2 (en) | 2004-09-13 | 2014-05-20 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | Transparent conductive film and method of fabricating the same, transparent conductive base material, and light-emitting device |
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| US11155493B2 (en) | 2010-01-16 | 2021-10-26 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| US12006249B2 (en) | 2010-01-16 | 2024-06-11 | Cardinal Cg Company | Alloy oxide overcoat indium tin oxide coatings, coated glazings, and production methods |
| EP2920127A1 (en) * | 2012-11-19 | 2015-09-23 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-e coating including zinc oxide inclusive layer (s) with additional metal(s) |
| JP2016503382A (ja) * | 2012-11-19 | 2016-02-04 | ガーディアン インダストリーズ コーポレイションＧｕａｒｄｉａｎ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｃｏｒｐ． | 追加金属を有する亜鉛酸化物含有層を含む低放射率コーティングを有する被覆製品 |
| US11149486B2 (en) | 2015-03-20 | 2021-10-19 | Cardinal Cg Company | Nickel-aluminum blocker film multiple cavity controlled transmission coating |
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