JPH11264968A

JPH11264968A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JPH11264968A
Application number: JP10067094A
Authority: JP
Inventors: Masato Shimura; 正人志村; Hiroaki Asuma; 宏明阿須間; Shigeru Matsuyama; 茂松山
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1998-03-17
Filing date: 1998-03-17
Publication date: 1999-09-28

Abstract

(57)【要約】【課題】絶縁基板間の間隙を全面にわって均一に保持
するための突起状スペーサを備えた液晶表示装置におい
て、線状欠陥や表示むら等の表示不良を防止し、良好な
表示品質を得る。【解決手段】少なくとも一方に遮光手段を有する一対
の対向する絶縁基板の対向面のそれぞれに形成される一
対の配向膜間に挟持されて一対の絶縁基板の対向間隙を
一定に保持するスペーサ３０および液晶組成物と、液晶
組成物に電界を印加するための画素電極と基準電極と、
液晶組成物の周辺を囲んで一対の絶縁基板間を接着する
シール材とを具備し、スペーサ３０を一対の絶縁基板の
少なくとも一方の遮光手段２２で遮光される部分（スペ
ーサ３０Ａ，３０Ｂ）とシール塗布部分（スペーサ３０
ｈ）のみに存在させた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に一対の絶縁基板をスペーサ材（以下、単位スペ
ーサと言う）を介して一定の間隙で対向させ、当該間隙
に保持した液晶組成物を構成する液晶分子を所定の向き
に配向させて保持した液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示装置は、薄型軽量かつ低
消費電力という特徴と陰極線管に匹敵する高表示品質が
得られるようになったことから、従来の小型表示装置か
ら所謂ＯＡ機器等の表示端末用に広く普及している。ま
た、表示情報の大容量化や高精細化と言ったさらに高品
位化への要求が高まっており、それに応じて製造精度の
向上が重要となってきた。

【０００３】この液晶表示装置は、基本的には少なくと
も一方が透明なガラス板等からなる一対の絶縁基板の間
に液晶組成物の層（液晶層）を挟持して所謂液晶パネル
（液晶セルとも言う）を構成し、この液晶パネルの絶縁
基板に形成した画素形成用の各種電極に選択的に電圧を
印加して所定画素部分の液晶組成物を構成する液晶分子
の配向方向を変化させて画素形成を行う形式（単純マト
リクス）、上記各種電極と画素選択用のアクティブ素子
を形成してこのアクティブ素子を選択することにより当
該アクティブ素子に接続した画素電極と基準電極の間に
ある画素の液晶分子の配向方向を変化させて画素形成を
行う形式（アクティブマトリクス）とに大きく分類され
る。

【０００４】一般に、アクティブマトリクス型液晶表示
装置は、一方の基板に形成した電極と他方の基板に形成
した電極との間に液晶層の配向方向を変えるための電界
を印加する、所謂縦電界方式を採用している。

【０００５】一方、液晶層に印加する電界の方向を基板
面とほぼ平行な方向とする、所謂横電界方式（ＩＰＳ方
式とも言う）の液晶表示装置が実用化されている。この
横電界方式の液晶表示装置を開示したものとしては、二
枚の基板の一方に櫛歯電極を用いて非常に広い視野角を
得るようにしたものが知られている（特公昭６３−２１
９０７号公報、米国特許第４３４５２４９号明細書）。

【０００６】この種の液晶表示装置に使用される液晶パ
ネルは、その一対の絶縁基板間の液晶組成物を充填する
間隙にスペーサを介在させて当該間隙を所定値に保つよ
うにしている。

【０００７】従来のスペーサは、樹脂やガラス系の素材
からなる球状スペーサを用い、あるいはこれに着色剤や
接着剤、配向処理剤等の表面処理を施して、絶縁基板の
うち電極基板側の内面に静電散布法あるいはセミドライ
散布法等により散布しているのが一般的である。

【０００８】また、上記のような球状スペーサに替え
て、遮光部（遮光膜、ブラックマトリクス）で遮光され
る領域（非画素部）の少なくとも一部にホトリソグラフ
ィ技術や印刷技術等により所定のパターンの柱状スペー
サ（突起）を形成することも提案されている（特開平７
−３２５２９８号公報、特開平８−２８６１９４号公報
参照）。

【０００９】上記のスペーサを形成した後、当該絶縁基
板の電極あるいはその他の機能膜をと共に当該柱状スペ
ーサを覆ってポリイミド樹脂等の配向膜を塗布し、この
配向膜の表面に所定方向に液晶配向制御能を付与する配
向工程（一般に、ラビング処理と称するが、最近では所
定の偏光を照射して液晶配向制御能を付与する、所謂光
配向処理もある）を行う。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、球状ス
ペーサを上記したような散布法で散布した場合、電極基
板上の任意の位置に選択的に配置することが困難であ
り、球状スペーサが画素領域内にも散布されてしまい、
画素領域内にいてスペーサ本体あるいはスペーサの周辺
からの光抜けが発生し、表示画像のコントラストが低下
するという問題があると共に、散布ムラ、あるいは液晶
パネルのセル形成時や液晶組成物の充填時、あるいは製
品の搬送時の振動や衝撃でスペーサが移動することによ
るスペーサ配置密度のムラ（内面ムラ）や移動跡に起因
する表示ムラが発生し、表示品質を低下させるという問
題があった。

【００１１】一方、フォトリソグラフィ技術や印刷法に
より電極基板の非画素部に選択的に突起を形成してなる
スペーサではその配置位置で非画素部でさらに固定され
ているため、上記球状スペーサを用いる場合のような問
題は生じない。しかし、予め突起を形成したことに関し
て、それ以降の製造工程については考慮されていない。
すなわち、液晶パネルの周辺を囲むシール材の外側にも
突起が存在していることから、液晶パネル内への液晶組
成物の封入後にシール材の外側に残った液晶組成物が突
起によってトラップされ、液晶組成物の封入後に行う液
晶パネルの洗浄では除去が困難となり、結果として液晶
表示装置の動作時に残留した液晶組成物による電蝕が生
じで電極を損傷し、線状欠陥を招き、表示品質が著しく
低下するという問題があった。

【００１２】また、液晶パネルを構成する一対の絶縁基
板においては、表示部分とシール材を塗布する部分とで
は膜構造がことなり、両者の厚さが異なるにもかかわら
ず、突起状のスペーサが絶縁基板の全面で等しい高さで
形成されているため、絶縁基板を貼り合わせた際にシー
ル部近傍の表示部、すなわち表示部の周辺部においては
シール部の絶縁基板間の間隙（ギャップ）の影響で生じ
る歪みのために間隙が表示部の中央部と異なり、間隙ム
ラ（ギャップむら）となって表示品質が低下するという
問題が生じる。

【００１３】さらに、表示部の突起状スペーサの高さが
全て等しいと、液晶パネルの温度が常温より高くなって
液晶パネル内の液晶組成物の体積が膨張した場合に突起
状スペーサとこの突起状スペーサの無い絶縁基板との接
触が表示部全体で一度に無くなるとシール部分、あるい
は絶縁基板上に存在した歪みのために間隙むらが発生
し、表示品質が低下するという問題があった。

【００１４】本発明の目的は、上記従来技術の諸問題を
解消し、絶縁基板間の間隙を全面にわって均一に保持す
るための突起状スペーサを備えた液晶表示装置におい
て、線状欠陥や表示むら等の表示不良を防止し、良好な
表示品質を得ることができる液晶表示装置を提供するこ
とにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、下記の（１）〜（６）に記載の構成とし
たことを特徴とする。

【００１６】（１）少なくとも一方に遮光手段を有する
一対の対向する絶縁基板と、前記一対の絶縁基板の対向
面のそれぞれに形成される一対の配向膜と、前記一対の
配向膜間に挟持されて前記一対の絶縁基板の対向間隙を
一定に保持するスペーサおよび液晶組成物と、前記液晶
組成物に電界を印加するための画素電極と基準電極と、
前記液晶組成物の周辺を囲んで前記一対の絶縁基板間を
接着するシール材とを具備し、前記スペーサを前記一対
の絶縁基板の少なくとも一方の前記遮光手段で遮光され
る部分に固定し、当該スペーサが前記シール材が有る部
分およびその内側である表示部内にのみ存在する構成と
した。

【００１７】このように構成したことにより、絶縁基板
間に介在したスペーサがシール材の境界およびその内側
に選択的に配置され、従来の突起状スペーサがシールの
外側にあるために液晶パネルの周辺に残留した液晶組成
物に起因する電極の損傷で線状欠陥等の表示不良の発生
が防止される。

【００１８】（２）（１）における前記表示部内の周辺
部における前記一対の絶縁基板間の間隙が前記表示部の
中央部における間隙と略等しくなるように、前記シール
材の有る部分に位置するスペーサの高さをそれより内側
に位置するスペーサの高さより高くした。

【００１９】この構成により、表示部内の周辺部におけ
る絶縁基板間の間隙が表示部の中央部における間隙と略
等しくなり、間隙むらの無い均一な表示が実現される。

【００２０】（３）（１）または（２）における前記表
示部内の周辺部に位置するスペーサのうち、一部のスペ
ーサの高さをその他のスペーサの高さより高くした。

【００２１】このように構成したことにより、表示部内
のスペーサの高さに分布を持たせたことから、液晶パネ
ルの温度が高くなってもスペーサと絶縁基板との接点が
一度に外れることがなく、シール材や絶縁基板の歪みに
よって生じる間隙の変動が抑制され、間隙むらの無い均
一な表示が実現される。

【００２２】（４）（１）乃至（３）の何れかにおける
前記画素電極および基準電極を前記一方の基板上に形成
し、他方の基板上に少なくとも１種の有機膜を形成し
て、前記有機膜で前記スペーサを形成した。

【００２３】この構成では、一対の絶縁基板の内の一方
の絶縁基板側に画素電極および基準電極を形成して、絶
縁基板の面に略平行な電界を与えることによって液晶組
成物を構成する液晶分子の捻じれを制御するものであ
り、特に電極が形成されていない側の絶縁基板にスペー
サを形成したことで、液晶組成物と接触するように形成
しなければならない配向膜の下層には、通常、有機絶縁
膜が形成されていることから、この有機膜の形成工程で
フォトリソグラフィ法や印刷法でパターニング技術を用
い、新たな材料を導入することなくスペーサを形成でき
る。

【００２４】（５）（４）における前記有機膜をカラー
フィルタあるいはカラーフィルタの上層に成膜された保
護膜の少なくとも一方を含んだものとした。

【００２５】（６）（１）乃至（５）の何れかにおい
て、前記液晶組成物を一定方向に配向させる前記配向膜
の液晶配向制御能を、光照射により付与した。

【００２６】これにより、ラビング処理生じるスペーサ
が存在するために配向処理が不十分な領域が解消され、
配向の安定性が増し、諧調切替え時のドメイン発生によ
る表示不良が抑制される。

【００２７】なお、本発明は、従来から知られている縦
電界方式の液晶表示装置、あるいは単純マトリクス型の
液晶表示装置にも同様に適用できるものであることは言
うまでもない。

【００２８】また、遮光膜は画素を囲む格子状であるも
のに限るものではなく、ストライプ状のものでも同様で
ある。

【００２９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。

【００３０】図１は本発明による液晶表示装置の一実施
例を説明する液晶パネルの平面模式図、図２は図１のＡ
−Ａ線に沿った断面図である。

【００３１】図１において、１０１は表示領域（表示
部）、１０２はブラックマトリクスで形成した額縁部
分、１０３はシール塗布領域（図ではシール塗布部とし
て示す）を示す。また、図２において、１Ｂはカラーフ
ィルタ基板（Ｃ／Ｆ基板）、２２は遮光手段（ブラック
マトリクス）、２３はカラーフィルタ、２４は保護膜
（オーバーコート層）、３０はスペーサであり、３０Ａ
と３０Ｂは表示領域のスペーサ、３０ｈはシール塗布領
域のスペーサである。この実施例では、スペーサはシー
ル塗布領域１０３と、それよりも内側、すなわち表示領
域１０１に形成される。

【００３２】表示領域に形成されるスペーサ３０ａ，３
０ｂはブラックマトリクス２２の上に位置し、保護膜２
４と同一材料で形成される。同様に、シール塗布領域１
０３に形成されるスペーサ３０ｈも保護膜２４と同一材
料で形成される。そして、表示領域に形成されるスペー
サ３０ａと３０ｂの高さは異なり、その高さはそれぞれ
Ｔａ，Ｔｂであり（Ｔａ≠Ｔｂ）、シール塗布領域１０
３に位置するスペーサ３０ｈの高さはＴｈである。これ
らのスペーサの高さは、Ｔｈ＞Ｔａ＞Ｔｂである。

【００３３】表示領域に位置するスペーサ３０ａの高さ
Ｔａは絶縁基板１Ｂと図示しないもう一枚の絶縁基板と
の間に形成される間隔（所謂、セルギャップ、例えば
３．５０μｍ）より高く形成され、最大で３．５２μｍ
であり、他のスペーサ３０ｂはこれより低く（セルギャ
ップと略同等、あるいはスペーサ３０ａより若干低い）
形成される。そして、高い方のスペーサ３０ａの割合は
表示領域に形成する全スペーサの１／２乃至１／５、好
ましくは１／４とした。この割合でスペーサ３０ａと３
０ｂを配置することで、液晶パネルの熱膨張に起因する
セルギャップの変動を抑制できることが実験で確認され
ている。

【００３４】また、シール塗布領域１０３に形成するス
ペーサ３０ｈの高さＴｈは、一対の絶縁基板を貼り合わ
せたときに表示領域１０１とシール塗布領域１０３とが
平坦になる高さであり、本実施例では５．２μｍとし
た。

【００３５】なお、上記スペーサ３０ａの割合はもう一
方の絶縁基板の表面性に応じて決められ、各スペーサの
高さは適用する液晶パネルを構成する一対の絶縁基板の
内面に成膜される各種の薄膜、設定されるセルギャップ
その他の仕様に応じて適宜選択されるものである。

【００３６】このような有機膜でスペーサを形成する方
法は、既知のホトリソグラフィ法や印刷法、その他のパ
ターニング技法を用いることができる。

【００３７】次に、本発明による液晶表示装置の具体的
な実施例について説明する。

【００３８】図３は本発明による液晶表示装置の等価回
路の説明図であって、３００は液晶パネルであり、その
表示部がマトリクス状に配置された複数の画素の集合で
構成され、それぞれの画素は液晶パネル３００の背部に
設置される照明光源（バックライト：図示せず）からの
透過光を独自に変調制御できるように構成されている。

【００３９】そして、各画素における光変調は横電界方
式と称する方法を採用しており、その構成は後述する
が、互いに対向配置される絶縁基板（以下の説明では透
明基板とし説明する）１００（１Ａ，１Ｂ）の間に介在
される液晶組成物の層（液晶層）内に発生させる電界は
透明基板１Ａ，１Ｂと略平行な方向となるようにされ
る。

【００４０】このような液晶パネル３００は、その表示
面に対して大きな角度視野から観察しても鮮明な画像を
認識でき、所謂広視野角特性に優れたものとして知られ
ている。すなわち、この液晶パネル３００の液晶層を介
して互いに対向配置される透明基板１Ａ，１Ｂのうち、
一方の透明基板１Ａの液晶層側の面に、そのｘ方向（行
方向）に延在し、ｙ方向（列方向）に並設される走査信
号線２および基準信号線４とが形成されている。

【００４１】この場合、同図では透明基板１Ａの図の上
方から走査信号線２、この走査信号線２と近接して配置
された基準信号線４、この基準信号線４と比較的大きく
離間して配置された走査信号線２、この走査信号線２と
近接配置された基準信号線４、・・・・というように、
順次配置されている。

【００４２】そして、これら走査信号線２および基準信
号線４とそれぞれ絶縁されてｙ方向に延在し、ｘ方向に
並設される映像信号線３が形成されている。

【００４３】ここで、走査信号線２、基準信号線４およ
び映像信号線３のそれぞれによって囲まれる矩形状の比
較的広い面積の各領域において単位画素が形成され、こ
れら各単位画素がマトリクス状に配置されて表示面を構
成する。なお、画素の詳細構成は後述する。

【００４４】そして、液晶パネル３００には、その外部
回路として垂直走査回路５および映像信号駆動回路６が
備えられており、垂直走査回路５によって前記走査信号
線２のそれぞれに順次走査信号（電圧）が供給され、そ
のタイミングに合わせて映像信号駆動回路６から映像信
号線３に映像信号（電圧）が供給される。

【００４５】なお、垂直走査回路５および映像信号駆動
回路６には、液晶駆動電源回路７から電源が供給される
と共に、ＣＰＵ８から画像情報（映像情報）がコントロ
ーラ９によってそれぞれ表示データおよび制御信号に分
けられて入力される。

【００４６】また、基準信号線４には液晶駆動電源回路
７から基準電圧（例えば、一定電圧）が供給されるよう
になっている。

【００４７】図４は図３における単位画素の周辺構造を
説明する平面図である。また、図５は図４のIV−IV線に
沿った断面図、図６は図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図、
図７は図４のVI−VI線に沿った断面図である。

【００４８】図４において、透明基板１Ａの主表面にｘ
方向に延在する基準信号線４とこの基準信号線４と図中
下方側のｙ方向に比較的大きく離間され、かつ平行に走
査信号線２が形成されている。

【００４９】ここで、基準信号線４には、３本の基準電
極１４が一体に形成されている。すなわち、そのうちの
２本の基準電極１４は一対の後述する映像信号線３とで
形成される画素領域のｙ方向辺、すなわち前記したそれ
ぞれの映像信号線３に近接して図中下方側のｙ方向に走
査信号線２の近傍まで延在されて形成され、残りの１本
はそれらの間に形成されている。

【００５０】そして、これらの走査信号線２、基準信号
線４および基準電極１４が形成された透明基板１Ａの表
面には、これら走査信号線２等をも覆って、例えばシリ
コン窒化膜からなる絶縁膜１５（図５、図６、図７参
照）が形成されている。この絶縁膜１５は、後述する映
像信号線３に対しては走査信号線２および基準信号線４
との交差部に対する層間絶縁膜として薄膜トランジスタ
ＴＦＴの形成領域に対してはゲート絶縁膜として、蓄積
容量Ｃｓｔｇの形成領域に対しては誘電体膜として機能
するようになっている。

【００５１】この絶縁膜１５の表面には、まず、その薄
膜トランジスタＴＦＴの形成領域において半導体層１６
が形成されている。この半導体層１６は、例えばアモル
ファスシリコン（ａ−Ｓｉ）からなり、走査信号線２上
において映像信号線３に近接した部分に重畳して形成さ
れている。これにより、走査信号線２の一部が薄膜トラ
ンジスタＴＦＴのゲート電極を兼ねた構成となってい
る。

【００５２】そして、このように形成された絶縁膜１５
の表面には、図４に示したように、そのｙ方向に延在
し、ｘ方向に並設される映像信号線３が形成されてい
る。

【００５３】そして、映像信号線３は、薄膜トランジス
タＴＦＴの前記半導体層１６の表面の一部まで延在され
て形成されたドレイン電極３Ａが一体となって備えられ
ている。

【００５４】さらに、画素領域における絶縁膜１５の表
面には画素電極１８が形成されている。この画素電極１
８は前記基準電極１４の間を走行するように形成されて
いる。すなわち、画素電極１８の一端は前記薄膜トラン
ジスタＴＦＴのソース電極１８Ａを兼ね、そのまま図中
上方側のｙ方向に延在され、さらに基準信号線４上に沿
ってｘ方向に延在された後に図中下方側のｙ方向に延在
して他端を有するコ字形状となっている。

【００５５】この場合、画素電極１８の基準信号線４に
重畳される部分は、前記基準信号線４との間に誘電体膜
としての前記絶縁膜１５を備える蓄積要領Ｃｓｔｇを構
成している。この蓄積要領Ｃｓｔｇによって、例えば薄
膜トランジスタＴＦＴがオフした際に画素電極１８に映
像情報を長く蓄積させる効果を奏する。

【００５６】なお、前記した薄膜トランジスタＴＦＴの
ドレイン電極３Ａとソース電極１８Ａとの界面に相当す
る半導体層１６の表面には、リン（Ｐ）がドープされて
高濃度層となっており、これにより前記各電極における
オーミックコンタクトを図っている。この場合、半導体
層１６の表面の全域には前記高濃度層が形成されてお
り、前記各電極を形成した後に、当該電極をマスクとし
てその電極形成領域以外の高濃度層をエッチングするよ
うにして上記した構成とすることができる。

【００５７】このようにして薄膜トランジスタＴＦＴ、
映像信号線３、画素電極１８、および蓄積要領Ｃｓｔｇ
が形成された絶縁膜１５の上面には、例えばシリコン窒
化膜からなる保護膜１９（図５、図６、図７参照）が形
成され、この保護膜１９の上面には配向膜２０Ａが形成
されて液晶パネル３００の透明基板１Ａを構成してい
る。なお、この透明基板１Ａの液晶層側と反対側の面に
は偏光板２１Ａが積層されている。

【００５８】そして、図５に示したように、透明基板１
Ｂの液晶層側の部分には、表示領域を各画素毎に区分し
て遮光膜であるブラックマトリクス２２が形成されてい
る。このブラックマトリクス２２は前記薄膜トランジス
タＴＦＴに直接光が照射されるのを防止するための機能
と、表示コントラストを向上する機能とを有する。

【００５９】ブラックマトリクス２２は、図４に破線で
示した領域に形成され、形成された開口部が実質的な画
素を構成する。

【００６０】さらに、ブラックマトリクス２２の開口部
を覆ってカラーフィルタ２３が形成されている。このカ
ラーフィルタ２３はｘ方向に隣接する画素領域における
それとは異なった色を有すると共に、それぞれブラック
マトリクス２２上において境界部を有する。また、この
ようにカラーフィルタ２３を形成した面には、樹脂膜等
からなる平坦化膜２４が被着されている。この平坦化膜
２４の表面には配向膜２０Ｂが形成されている。なお、
透明基板１Ｂの液晶層側と反対側の面には、偏光板２１
Ｂが配置されている。

【００６１】図８は一方の透明基板１Ａ側に形成された
配向膜２０Ａと偏光板２１Ａおよび他方の透明基板１Ｂ
側に形成された配向膜２９Ｂと偏光板２１Ｂの光学軸の
関係の説明図である。

【００６２】画素電極１８と基準電極１４との間に印加
される電界の方向１２０に対して、配向膜２０Ａおよび
配向膜２０Ｂのラビング方向１０５の角度はΦ_LC、一方
の偏光板２１Ａの偏光透過軸方向１２１の角度はΦ_P、
他方の偏光板２１Ｂの偏光透過軸方向はΦ_Pと直交して
いる。また、Φ_LC＝Φ_Pとなっている。

【００６３】また、液晶層を構成する液晶組成物は、誘
電率異方性Δεが正で、その値が７．３（１ｋＨｚ）、
屈折率異方性Δｎが０．０７３（５８９ｎｍ、２０°
Ｃ）のネマチック液晶を用いている。

【００６４】このような関係からなる配向膜２０Ａと２
０Ｂ、および偏光板２１Ａと２１Ｂ等の構成は、所謂ノ
ーマリブラックモードと称されるもので、液晶層ＬＣ内
に透明基板１Ａと平行な電界Ｅ（図５参照）を発生せし
めることによって当該液晶層ＬＣに光を透過するように
なっている。しかし、本発明は、上記のようなノーマリ
ブラックモードの横電界方式の液晶表示装置に限られる
ものではなく、無電界時に液晶層を透過する光が最大と
なるノーマリホワイトモードや、縦電界方式の液晶表示
装置にも同様に適用できるものであることは言うまでも
ない。

【００６５】図９は本発明による液晶表示装置の一実施
例を適用した表示領域に位置するスペーサ部分の説明図
であって、（ａ）は要部平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−
Ａ’線に沿った断面図、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ’線に
沿った断面図を示す。

【００６６】透明基板１Ｂには、ブラックマトリクス２
２、カラーフィルタ２３がそれぞれパターン形成されて
おり、それらを覆って平坦化膜２４、さらに配向膜２１
Ｂの有機膜が形成されている。

【００６７】また、ブラックマトリクス部分の一部にス
ペーサ３０が形成されている。ここでは、スペーサ３０
は平坦化膜２４と同一材料で形成されているが、有機膜
であるカラーフィルタ２３、または配向膜２１Ｂと同一
材料でも良いし、別の有機材料であっても問題ない。ま
た、従来スペーサとして用いられている球状のビーズを
本実施例で示す位置に固定してもよい。

【００６８】さらに、表示領域では、スペーサ３０がブ
ラックマトリクス２２と重なる位置に形成されているこ
とから、スペーサ周辺での液晶の配向乱れに起因する光
漏れ現象が表示品質に影響することがなく、品質の良好
な画像表示を得ることができる。

【００６９】なお、上記では、スペーサ３０を透明基板
１Ｂ側に形成したが、これに限らず、透明基板１Ａ側に
形成される保護膜１９あるいは配向膜２０Ａ側に形成す
ることもできる。

【００７０】このように、上記した本発明の実施例によ
れば、一対の絶縁基板間に介在されるスペーサが移動す
ることがなく、また、表示領域では、スペーサがブラッ
クマトリクス部分に形成されていることからスペーサ周
辺で液晶の配向乱れの発生が無く、光漏れが抑制され、
高画質の液晶表示装置が得られる。

【００７１】上記のように、突起状のスペーサを形成し
た絶縁基板における配向膜の配向処理は、従来から多用
されているラビング処理ではなく、偏光紫外線を照射す
る光配向処理が適している。この光配向処理は既知であ
るので、ここでは説明を省略する。

【００７２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
絶縁基板間に介在されるスペーサが移動することによる
表示むらやスペーサ周辺からの光漏れによる表示不良、
スペーサがシール塗布領域外に存在することによる液晶
組成物の残留に起因する電極の損傷を回避できると共
に、表示領域とシール部周辺の絶縁基板間の間隙を均一
なものとし、かつ液晶パネルの温度上昇に起因する液晶
パネル内部の歪みによる間隙むらを低減でき、表示むら
の無い高画質の液晶表示装置が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による液晶表示装置の一実施例を説明す
る液晶パネルの平面模式図である。

【図２】図１のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

【図３】本発明による液晶表示装置の等価回路の説明図
である。

【図４】図３における単位画素の周辺構造を説明する平
面図である。

【図５】図４のIV−IV線に沿った断面図である。

【図６】図４のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。

【図７】図４のVI−VI線に沿った断面図である。

【図８】一方の透明基板側に形成された配向膜と偏光板
および他方の透明基板側に形成された配向膜と偏光板の
光学軸の関係の説明図である。

【図９】本発明による液晶表示装置の一実施例を適用し
た表示領域に位置するスペーサ部分の説明図である。

【符号の説明】

２２遮光膜（遮光手段：ブラックマトリクス）３０（３０Ａ，３０Ｂ，３０ｈ）スペーサ１０１表示領域（表示部）１０２額縁部分１０３シール塗布領域１Ｂ絶縁基板（カラーフィルタ基板）。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一方に遮光手段を有する一対の
対向する絶縁基板と、前記一対の絶縁基板の対向面のそ
れぞれに形成される一対の配向膜と、前記一対の配向膜
間に挟持されて前記一対の絶縁基板の対向間隙を一定に
保持するスペーサおよび液晶組成物と、前記液晶組成物
に電界を印加するための画素電極と基準電極と、前記液
晶組成物の周辺を囲んで前記一対の絶縁基板間を接着す
るシール材とを具備した液晶表示装置において、前記スペーサは前記一対の絶縁基板の少なくとも一方の
前記遮光手段で遮光される部分に固定されており、当該
スペーサが前記シール材が有る部分およびその内側であ
る表示部内にのみ存在することを特徴とする液晶表示装
置。
【請求項２】前記表示部内の周辺部における前記一対の
絶縁基板間の間隙が前記表示部の中央部における間隙と
略等しくなるように、前記シール材の有る部分に位置す
るスペーサの高さがそれより内側に位置するスペーサの
高さより高いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表
示装置。
【請求項３】前記表示部内に位置するスペーサのうち、
一部のスペーサの高さがその他のスペーサの高さより高
いことを特徴とする請求項１乃至２の何れかに記載の液
晶表示装置。
【請求項４】前記画素電極および基準電極が前記一方の
基板上に形成され、他方の基板上に少なくとも１種の有
機膜が形成されており、前記有機膜で前記スペーサが形
成されていることを特徴とする請求項１乃至３の何れか
に記載の液晶表示装置。
【請求項５】前記有機膜がカラーフィルタあるいはカラ
ーフィルタの上層に成膜された保護膜の少なくとも一方
を含んでいることを特徴とする請求項４に記載の液晶表
示装置。
【請求項６】前記液晶組成物を一定方向に配向させる前
記配向膜の液晶配向制御能が、光照射により付与された
ことを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の液晶
表示装置。