JPH1126541A

JPH1126541A - 処理装置

Info

Publication number: JPH1126541A
Application number: JP9176892A
Authority: JP
Inventors: Kiyohisa Tateyama; 清久立山
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1997-07-02
Filing date: 1997-07-02
Publication date: 1999-01-29

Abstract

(57)【要約】【課題】クリーンルーム内に設置した場合にデッドス
ペースを生じさせることなくクリーンルームを効率良く
利用できる処理装置を提供する。【解決手段】カセットキャリア１０の長手方向と直交
する方向に、互いに平行に配置された２本の搬送路２５
及び２７が配設されている。搬送路２５の両側には処理
部２１ａと２１ｂ、及び２２ａ〜２２ｃが搬送路２５に
沿ってそれぞれ配置されており、搬送路２７の両側には
処理部２３ａと２３ｂ、及び処理部２４ａ〜２４ｃが搬
送路２７に沿って配置されている。これらの処理部２１
ａと２１ｂ、２２ａ〜２２ｃ、２３ａと２３ｂ、及び２
４ａ〜２４ｃはそれぞれ一組の処理ユニットを形成し、
処理ステーション１０には合計４組の処理ユニット２１
〜２４が一端をカセットキャリア１０に接しながら互い
に平行に配設されている。処理ユニットの数を増やして
処理ステーション２０の幅を大きくし、カセットキャリ
ア１０の長手方向の寸法と一致させて処理装置全体が長
方形となるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばガラス基板
などの被処理体上にフォトリソグラフィー技術により、
塗布・現像処理を施す塗布・現像装置などの処理装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、処理装置のレイアウトとして
は、カセットステーションと搬送路とをＴ字を描くよう
に直交させて配設し、その搬送路の両側に複数の処理部
を一列ずつ配置した、いわゆるＴ型レイアウトが採用さ
れている。

【０００３】図６は典型的なＴ型レイアウトの処理装置
の平面図である。

【０００４】この処理装置では、カセットステーション
１００に収容カセットＣを複数個、例えば４個をＹ方向
に一列にセットし、各収容カセットＣ内には２５枚のガ
ラス基板Ｇが互いに間隔を空けながら水平に保持されて
いる。各収容カセットＣに対して搬出入機構１０１がア
クセスし、中のガラス基板Ｇを引き出して搬送路１０２
を移動し、搬送機構２０１に引き渡す。ガラス基板Ｇを
受け取った搬送機構２０１は搬送路２０２上を直線状に
移動し、搬送路２０２の両側にそれぞれ一列ずつ配設さ
れた処理ユニット２１０、２１１の各処理部２１２〜２
１６へ引き渡す。各処理部に引き渡されたガラス基板Ｇ
はそこででレジスト塗布や加熱乾燥などの処理を受け
る。

【０００５】各工程の装置間で、基板の収まったカセッ
トの運搬を行うＡＧＶ（オートガイデッドヴィークル）
がある。今回例に挙げる様な処理装置において、処理ユ
ニットの種類が多く、また同一ユニットを複数個使用す
る様な並列処理のケースでは、カセット内の基板が各ユ
ニットに搬出されてしまったり、搬出中だったり、収納
中だったりと、ＡＧＶがアクセス可能なカセットが存在
しない状態が発生し、ＡＧＶの回避サイクル時間を処理
装置が律速するようなことになるが、従来までのように
１個に２５枚程度のガラス基板Ｇを収容できる収容カセ
ットＣの場合には、カセットステーション１００に４個
程度セットできれば十分な処理速度を維持できる。つま
り、処理ユニット数とカセット数×収納枚数と処理装
置、ＡＧＶのタクトバランスがとれていた。

【０００６】しかも、４個程度の収容カセットＣと５台
程度の処理部からなる処理ステーション２００の組み合
わせは丁度バランスがよく、処理装置全体がほぼ長方形
になり、クリーンルームに配設したときにデッドスペー
スができないため、クリーンルームのスペースを効率良
く利用できる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
基板Ｇが大型化して収容カセットＣ１個当たりの収容枚
数が減ったり、処理ユニットの数が増えると、ＡＧＶと
のタクトバランスを維持するためにカセットステーショ
ン１００にセットする収容カセットＣの個数を多くする
必要が生じた。そのため、カセットステーション１００
の長さを図６中点線で描いた１０３の位置まで延ばす
と、処理ステーション２００のＹ方向の長さより大きく
なり従来長方形であった処理装置全体の形がＬ字型にな
って図中斜線で描いたようなデッドスペースＤが生じ、
クリーンルームのスペースコストが上昇するという問題
がある。

【０００８】本発明は、このような課題を解決するため
になされたもので、カセットステーションにセットする
収容カセットの数が増大してもカセットステーションと
処理ステーションとのバランスがよく、デッドスペース
を生じさせることなくクリーンルームを効率良く利用で
きる処理装置を提供することを目的とする。

【０００９】本発明は、熱的影響を受け易い非加熱型処
理部が加熱型処理部から発生する熱により悪影響を受け
るのを防止することができる処理装置を提供することを
他の目的とする。

【００１０】本発明は、塗布部や現像部など、高頻度の
保守管理を必要とする処理部について、保守管理を容易
に行うことのできる処理装置を提供することを他のもう
一つの目的とする。

【００１１】本発明は、搬出入手段と処理部との間の被
処理体の搬送を効率よく行うことのできる処理装置を提
供することを更に他の目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明の処理装置は、互いにほぼ平
行に配置された２以上の搬送路と、前記各搬送路に沿っ
て配置された処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出
入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を
各処理部及び前記搬出入手段に対し搬送する搬送機構と
を具備する。

【００１３】請求項２記載の本発明の処理装置は、請求
項１に記載の処理装置であって、処理部は各搬送路の両
側に配置されていることを特徴とする。

【００１４】請求項３記載の本発明の処理装置は、請求
項１に記載の処理装置であって、搬出入手段は、複数の
収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に載置する載
置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前記収容カセ
ットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構とを具備す
る。

【００１５】請求項４記載の本発明の処理装置は、互い
にほぼ平行に配置された２つの搬送路と、前記２つの搬
送路に沿ってその間に配置された加熱型処理部と、前記
２つの搬送路に沿ってその外側に配置された非加熱型処
理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手
段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前
記搬出入手段に対し搬送する搬送機構とを具備する。

【００１６】請求項５記載の本発明の処理装置は、請求
項４に記載の処理装置であって、２つの搬送路の間に配
置された処理部と処理部との間に保守管理用の通路を具
備する。

【００１７】請求項６記載の本発明の処理装置は、請求
項４又は５に記載の処理装置であって、２つの搬送路に
沿ってその間に配置された加熱型処理部がその上部に空
気の流れを規制するカーテンを具備する。

【００１８】請求項７記載の本発明の処理装置は、請求
項４〜６のいずれか１項に記載の処理装置であって、搬
出入手段は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを具備する。

【００１９】請求項８記載の本発明の処理装置は、互い
にほぼ平行に配置された２つの搬送路と、前記２つの搬
送路に沿ってその間に配置された加熱型処理部と、前記
２つの搬送路に沿ってその外側に配置された塗布部及び
／又は現像部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する
搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理
部及び前記搬出入手段に対し搬送する搬送機構とを具備
する。

【００２０】請求項９記載の本発明の処理装置は、請求
項８に記載の処理装置であって、２つの搬送路に沿って
その間に配置された塗布部及び現像部処理部以外の処理
部がその上部に空気の流れを規制するカーテンを具備す
る。

【００２１】請求項１０記載の本発明の処理装置は、請
求項８又は９に記載の処理装置であって、搬出入手段
は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを具備する。

【００２２】請求項１１記載の本発明の処理装置は、互
いにほぼ平行に配置された２つの搬送路と、前記２つの
搬送路に沿って、前記２つの搬送路の外側と、前記２つ
の搬送路の間にそれぞれ一列ずつ配置された処理部と、
各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前
記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出入
手段に対し搬送する搬送機構とを具備する。

【００２３】請求項１２記載の本発明の処理装置は、請
求項１１に記載の処理装置であって、２つの搬送路の間
に配置された処理部は、前記２つの搬送路の両方との間
で被処理体の搬送を行うことができる処理部であること
を特徴とする。

【００２４】請求項１３記載の本発明の処理装置は、請
求項１１又は１２に記載の処理装置であって、２つの搬
送路の間に配置された処理部は、加熱型処理部であるこ
とを特徴とする請求項１４記載の本発明の処理装置は、
請求項１３に記載の処理装置であって、２つの搬送路の
間に配置された処理部が、その上部に空気の流れを規制
するカーテンを具備する。

【００２５】請求項１５記載の本発明の処理装置は、請
求項１１〜１４のいずれか１項に記載の処理装置であっ
て、搬出入手段は、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬送機構とを具備する。

【００２６】請求項１の処理装置では、搬送路をほぼ平
行に２つ以上配設し、この搬送路に沿って処理部を配置
したので、カセットステーションのＹ方向の長さと処理
ステーションのＹ方向の長さとが一致して処理装置全体
の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合
のデッドスペースを無くすることができる。

【００２７】請求項２の処理装置では、処理部を各搬送
路の両側に配置したので、処理部の配置数が増え、クリ
ーンルームを効率良く利用することができる。

【００２８】請求項３の処理装置では、搬出入手段とし
て、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被処
理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを効
率良く利用することができる。

【００２９】請求項４の搬送装置では、搬送路をほぼ平
行に２つ配設し、この搬送路に沿って処理部を配置した
ので、カセットステーションのＹ方向の長さと処理ステ
ーションのＹ方向の長さとが一致して処理装置全体の外
形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合のデ
ッドスペースを無くすることができる。

【００３０】請求項５の搬送装置では、２の搬送路の間
に配置された処理部と処理部との間に保守管理用の通路
を設けたので、２の搬送路の間に２列の処理部を配置し
た場合であっても、この通路を介してこれらの処理部を
容易に保守管理することができる。

【００３１】請求項６の搬送装置では、２の搬送路の間
に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れを規制す
るカーテンを設けたので、加熱型処理部から発生した熱
が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡散するのを
有効に防止することができる。また、クリーンルーム内
の発熱を集中して効果的に排熱することができ、維持費
のムダを抑えることができる。

【００３２】請求項７の搬送装置では、搬出入手段とし
て、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に
載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前
記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機構
とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被処
理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを効
率良く利用することができる。

【００３３】請求項８の搬送装置では、塗布部や現像部
といった、保守管理を高頻度に行う必要のある処理部を
搬送路の外側に配置したので、これら塗布部や現像部の
保守管理を容易に行うことができる。

【００３４】請求項９の処理装置では、２の搬送路の間
に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れを規制す
るカーテンを設けたので、加熱型処理部から発生した熱
が、搬送路の外側に配置した塗布部や現像部といった熱
的影響を受け易い処理部付近に拡散するのを有効に防止
することができる。また、クリーンルーム内の発熱を集
中して効果的に排熱することができ、維持費のムダを抑
えることができる。

【００３５】請求項１０の処理装置では、搬出入手段と
して、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列
に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して
前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機
構とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被
処理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを
効率良く利用することができる。

【００３６】請求項１１の処理装置では、搬送路をほぼ
平行に２つ配設し、この２つの搬送路に沿って、搬送路
の外側と、２つの搬送路の間とに処理部を３列配置した
ので、カセットステーションのＹ方向の長さと処理ステ
ーションのＹ方向の長さとが一致して処理装置全体の外
形が長方形となり、クリーンルームに設置した場合のデ
ッドスペースを無くすることができる。

【００３７】請求項１２の搬送装置では、２つの搬送路
の間にこれら２つの搬送路の両方との間で被処理体の搬
送を行うことができる処理部を配置したので、被処理体
の搬送のしかたに融通性を持たせることができ、効率よ
く被処理体の搬送を行うことができる。

【００３８】請求項１３の搬送装置では、２つの搬送路
の間に加熱型処理部を配置したので、加熱型処理部から
発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡
散するのを有効に防止することができる。

【００３９】請求項１４の搬送装置では、２の搬送路の
間に配置された処理部の上部に空気の流れを規制するカ
ーテンを設けたので、２の搬送路の間に配置した処理部
から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近
に拡散するのを有効に防止することができる。また、ク
リーンルーム内の発熱を集中して効果的に排熱すること
ができ、維持費のムダを抑えることができる。

【００４０】請求項１５の搬送装置では、搬出入手段と
して、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列
に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して
前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬送機
構とを採用したので、限られたスペース内で効率よく被
処理体を収容・搬送することができ、クリーンルームを
効率良く利用することができる。

【００４１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の詳細を
図面に基づいて説明する。

【００４２】図１は本発明の一実施形態に係るＬＣＤ用
ガラス基板の塗布・現像装置の平面図である。

【００４３】この塗布・現像装置では、被処理体の搬入
出ポートをなすカセットステーション１０、処理ステー
ション２０、待機部３０、処理ステーション４０及びイ
ンタフェース部５０がこの順でＸ方向に配置されてい
る。インタフェース部５０の更に隣には例えば露光装置
６０が配置され、このインタフェース部５０を介して処
理ステーション４０と露光装置６０との間でガラス基板
Ｇのやりとりが行われる。搬出入手段としてのカセッ
トステーション１０には収容カセットＣを載置するため
の載置台１１、搬出入機構１２、及び搬出入機構１２の
移動路となる搬出入路１３とが設けられている。載置台
１１は複数個、例えば８個の収容カセットＣを図中上下
方向（Ｙ方向）に一列にセットできるようにＹ方向に伸
びた長方形の形状を備えている。

【００４４】収容カセットＣは例えば立方体の前面に開
口部を設けた箱型の容器であり、内部には被処理体とし
てのガラス基板Ｇが複数枚、例えば１２枚を所定の間隔
ごとに水平に収容される。また各ガラス基板Ｇは水平方
向に移動可能に収容されており、収容カセットＣの前面
からスライドさせて出し入れされる。

【００４５】搬出入機構１２は搬出入路１３に沿ってＹ
方向に可動かつＺ方向に昇降可能であり、θ方向にも回
転自在である。また搬出入機構１２はその最上部の前面
にＸ方向に進退可能なピンセット１２ａを備えている。

【００４６】処理ステーション２０には、互いに平行に
配置された２本の搬送路２５及び２７がＸ方向に配設さ
れている。搬送路２５の両側には処理部２１ａと２１
ｂ、及び２２ａ〜２２ｃが搬送路２５に沿ってそれぞれ
配置されている。片側に一列に配置された処理部２１ａ
と２１ｂは一組の処理ユニット２１を構成し、処理部２
２ａ〜２２ｃは一組の処理ユニット２２を構成してい
る。

【００４７】同様に、搬送路２７の両側には処理部２３
ａと２３ｂ、及び処理部２４ａ〜２４ｃが搬送路２７に
沿って配置されており、処理部２３ａと２３ｂは一組の
処理ユニット２３ａを、処理部２４ａ〜２４ｃは一組の
処理ユニット２４をそれぞれ構成している。

【００４８】処理ユニット２２と処理ユニット２３との
間には空間２９が設けられており、この空間２９は処理
ユニット２２と処理ユニット２３とを構成する各処理部
２２ａ〜２２ｃ及び２３ａ〜２３ｃを保守管理するため
の通路を構成している。

【００４９】一方、処理ユニット２１及び２４を構成す
る処理部２１ａ、２１ｂ、２４ａ及び２４ｂについて
は、塗布・現像装置の外側から保守管理するようになっ
ている。そのため、塗布装置や現像装置など、保守点検
を高頻度で行う必要のある処理部は処理ユニット２１や
２４内に配設するのが便利である。

【００５０】処理ステーション２０のＹ方向両外側にそ
れぞれ位置する処理ユニット２１と２４とはその外縁部
がカセットステーション１０のＹ方向の両端部とそれぞ
れ一致するように配設され、処理装置全体の外形が長方
形をなしている。

【００５１】各処理ユニットを構成する各処理部２１ａ
〜２４ｂの例としては、スピンコーターなどの塗布装
置、現像装置、ホットプレートや乾燥機に代表される加
熱装置、更に乾燥機で加熱したガラス基板Ｇを冷却する
ための冷却装置などが挙げられる。これらの各処理部
２１ａ〜２４ｂは、ホットプレートや乾燥機などの加熱
型処理部と、塗布装置など外部からの熱の影響を受けや
すい非加熱型処理部とに分け、それぞれ別の処理ユニッ
トに組み込み、加熱型処理部を含む処理ユニットから発
生した熱が非加熱型処理部を含む処理ユニットの付近ま
で拡散して非加熱型処理部に影響を及ぼさないような位
置に配置される。

【００５２】例えば、処理部２２ａ〜２２ｃ、２３ａ〜
２３ｃには加熱部や乾燥部が配置され、処理部２１ａ〜
２１ｂ、２４ａ〜２４ｂの位置には塗布部や現像部が配
置される。

【００５３】また、処理ユニット２２、２３の上部には
カーテン７０が設けられている。

【００５４】図２は本実施形態の塗布・現像装置をＸ方
向真横から見た状態を示した図であり、図３は本実施形
態の塗布・現像装置をＹ方向真横から見た状態を示した
図である。

【００５５】カーテン７０は例えば長方形の透明樹脂製
シートで作られており、処理ユニット２２、２３、及び
保守管理用の通路２９で占められる領域の外縁に沿っ
て、この領域を外側から覆うように前記シートの一辺を
クリーンルームの天井に固定することにより取り付けら
れている。

【００５６】搬送機構２６および２８はそれぞれ搬送路
２５及び２７に沿ってＸ方向に可動かつ、Ｚ方向に昇降
可能であり、θ方向にも回転自在である。搬送機構２６
および２８は、その最上部の前面にＹ方向に進退可能な
ピンセット２６ａ、２８ａをそれぞれ備えている。

【００５７】次に、このように構成された塗布・現像装
置の動作を説明する。

【００５８】本実施形態の塗布・現像装置の載置台１１
上に１２枚のガラス基板Ｇを収容した収容カセットＣを
セットして塗布・現像装置を起動すると、まず搬出入機
構１２が収容カセットＣにアクセスして中に収容された
ガラス基板Ｇを取り出し、ガラス基板Ｇを保持した状態
で搬出入路１３上を移動して搬送路２５の図面左端と対
向する位置で停止し、θ方向に回転してピンセット１２
ａを図中右側に向ける。一方、処理ステーション２０
側では、搬送機構１２と同期して搬送機構２６を搬送路
２５上左端まで移動させる。

【００５９】この搬送路２５の図中左端で搬送機構２６
は搬出入機構１２からガラス基板Ｇを受け取り、搬送路
２５上を図中右方向に移動して所定の処理部、例えば処
理部２１ａの前で停止し、θ方向に回転してピンセット
２６ａを図中上方に向け、図中上方に移動させてガラス
基板Ｇを処理部２１ａ内にセットする。

【００６０】この処理部２１ａでの工程が終了すると、
処理部２１ａからガラス基板Ｇを取り出し、上記と同様
にして後続の処理部へと順次ガラス基板Ｇを搬送する。

【００６１】なお、搬送機構２８も搬送機構２６と同様
に、搬送路２７に沿ってＸ方向に移動し、搬出入機構１
２、待機部３０、処理部２３ａ〜２３ｃ、２４ａ及び２
４ｂとの間でガラス基板Ｇを搬送する。

【００６２】処理ステーション２０での処理が終わる
と、待機部３０を経て処理ステーション４０に搬送さ
れ、ここでの処理が終わると、インタフェース部５０を
介して隣接する露光装置６０へ搬送される。露光終了
後、ガラス基板Ｇは再びインタフェース部５０、処理ユ
ニット４０、待機部３０、処理ユニット２０へ搬送さ
れ、処理ユニット２０からは搬送機構２６又は２８を介
して搬出入機構１２に引き渡され、搬出用収容カセット
Ｃ内に収容される。

【００６３】本実施形態では、収容カセットＣを８個載
置台１１にセットできるようにカセットステーション１
０の長さを長くしたのに対応して、処理ステーション２
０に合計４列の処理ユニット２１〜２４を配置して処理
ステーション２０のＹ方向の長さとカセットステーショ
ン１０のＹ方向の長さとが一致するようにしたので、塗
布・現像装置全体の外形が長方形となり、クリーンルー
ムに設置した場合にデッドスペースができるのを防止す
ることができる。

【００６４】また、本実施形態ではホットプレートや乾
燥機など加熱型処理部を内側の処理ユニット２２、２３
として配置する一方、塗布部など熱の影響を受け易い非
加熱型処理部を外側の処理ユニット２１、２４内の処理
部として配置して加熱型処理部と塗布部とを別個の処理
ユニットに配置したので、塗布部がホットプレートから
の熱を受けて塗布工程に支障を来すことが防止できる。

【００６５】更に、本実施形態では、処理ユニット２
２、２３の上部にカーテン７０を設けたので、処理ユニ
ット２２、２３から発せられる熱が処理ユニット２１、
２４まで拡散して塗布部に悪影響に及ぶのをより確実に
防止できる。

【００６６】特に、塗布部や現像部は熱による影響を受
け易く、外部からの熱が塗布工程や現像工程に悪影響を
及ぼすことが原因で不良品が生じることが多い。

【００６７】そのため、加熱型処理部を、塗布部や現像
部が配置された処理ユニット２１、２４から離れた処理
ユニット２２、２３内に配置したり、更にこの処理ユニ
ット２２、２３の上部にカーテン７０を設けることによ
り加熱型処理部からの熱が塗布部や現像部に拡散するの
を確実に防止できるので、この塗布部や現像部での不良
品の発生率を低下することができ、ひいては製品の歩留
まりを向上させることができるので、極めて多大な効果
がもたらされる。

【００６８】また、本実施形態では、処理ユニット２２
と２３との間に保守管理用の通路を設けたので、内側に
配置した処理ユニット２２、２３を構成する処理部２２
ａ〜２２ｃ及び２３ａ〜２３ｃについての保守管理を容
易に行うことができる。

【００６９】次に、本発明の第二の実施形態を説明す
る。

【００７０】図４は第二の実施形態に係る塗布・現像装
置の平面図である。

【００７１】本実施形態の塗布・現像装置では、処理ス
テーション２０内の２つの搬送路８５、８７に沿って、
これら２つの搬送路８５、８７の外側にそれぞれ一列ず
つ処理部８１ａと８１ｂ、８３ａと８３ｂが配置されて
おり、一方、これらの搬送路８５と８７との間には共通
の処理部８２ａ〜８２ｃが配置されている。これらの各
処理部８２ａ〜８２ｃはそれぞれ搬送機構８６、８８の
双方との間でガラス基板Ｇを出し入れできる構造を備え
ている。

【００７２】図５は処理ユニット８２を処理部８２ａの
部分で切断した断面の概略を示した図である。

【００７３】処理部８２ａのハウジング９０には図中左
右両側に開口部９１、９２がそれぞれ設けられ、内部に
は加熱装置９３と保持台９４とが配設されている。

【００７４】本実施形態の塗布・現像装置では、処理ユ
ニット８２に対して搬送機構８６及び８８のいずれもが
アクセスできるようになっているので、処理基板Ｇの搬
送経路として搬送機構８６、８８を選択して使用するこ
とができ、効率よく搬送することができる。

【００７５】なお、本発明は上述した実施形態には限定
されない。

【００７６】例えば、カセットステーション１０のＹ方
向の長さを収容カセットＣが９個以上セットできるよう
な大きさとし、処理ステーション２０を構成する処理ユ
ニットの数をカセットステーション１０のＹ方向の長さ
に対応して５列以上にすることもできる。

【００７７】また、上記実施形態では、処理ステーショ
ンの内側の処理ユニットに加熱型処理部を配置し、外側
の処理ユニットに熱的影響を受け易い非加熱型処理部を
配置したが、これとは反対に、処理ステーションの内側
の処理ユニット非加熱型処理部を配置し、外側の処理ユ
ニットに加熱型処理部を配置することもできる。

【００７８】更に、上記実施の形態では、ＬＣＤ用ガラ
ス基板の塗布・現像装置を例にして説明したが、本発明
は、ＬＣＤ用ガラス基板やそれ以外の被処理体、例え
ば、シリコンウエハの熱処理装置、プラズマ装置、エッ
チング装置、アッシング装置、スパッタリング装置、イ
オン注入装置、プラズマＣＶＤ装置、枚葉式ＣＶＤ装
置、検査装置、洗浄装置、露光装置、その他の装置につ
いても同様に適用することができる。

【００７９】

【発明の効果】以上詳述したように、請求項１記載の本
発明によれば、搬送路をほぼ平行に２つ以上配設し、こ
の搬送路に沿って処理部を配置したので、カセットステ
ーションのＹ方向の長さと処理ステーションのＹ方向の
長さとが一致して処理装置全体の外形が長方形となり、
クリーンルームに設置した場合のデッドスペースを無く
することができる。

【００８０】請求項２記載の本発明によれば、処理部を
各搬送路の両側に配置したので、処理部の配置数が増
え、クリーンルームを効率良く利用することができる。

【００８１】請求項３記載の本発明によれば、搬出入手
段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向
一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動
して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬
送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率よ
く被処理体を収容・搬送することができ、クリーンルー
ムを効率良く利用することができる。

【００８２】請求項４記載の本発明によれば、搬送路を
ほぼ平行に２つ配設し、この搬送路に沿って処理部を配
置したので、カセットステーションのＹ方向の長さと処
理ステーションのＹ方向の長さとが一致して処理装置全
体の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場
合のデッドスペースを無くすることができる。

【００８３】請求項５記載の本発明によれば、２の搬送
路の間に配置された処理部と処理部との間に保守管理用
の通路を設けたので、２の搬送路の間に２列の処理部を
配置した場合であっても、この通路を介してこれらの処
理部を容易に保守管理することができる。

【００８４】請求項６記載の本発明によれば、２つの搬
送路の間に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れ
を規制するカーテンを設けたので、加熱型処理部から発
生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付近に拡散
するのを有効に防止することができる。また、クリーン
ルーム内の発熱を集中して効果的に排熱することがで
き、維持費のムダを抑えることができる。

【００８５】請求項７記載の本発明によれば、搬出入手
段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方向
一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移動
して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する搬
送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率よ
く被処理体を収容・搬送することができ、クリーンルー
ムを効率良く利用することができる。

【００８６】請求項８記載の本発明によれば、塗布部や
現像部といった、保守管理を高頻度に行う必要のある処
理部を搬送路の外側に配置したので、これら塗布部や現
像部の保守管理を容易に行うことができる。

【００８７】請求項９記載の本発明によれば、２つの搬
送路の間に配置された加熱型処理部の上部に空気の流れ
を規制するカーテンを設けたので、加熱型処理部から発
生した熱が、搬送路の外側に配置した塗布部や現像部と
いった熱的影響を受け易い処理部付近に拡散するのを有
効に防止することができる。また、クリーンルーム内の
発熱を集中して効果的に排熱することができ、維持費の
ムダを抑えることができる。

【００８８】請求項１０記載の本発明によれば、搬出入
手段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率
よく被処理体を収容・搬送することができ、クリーンル
ームを効率良く利用することができる。

【００８９】請求項１１記載の本発明によれば、搬送路
をほぼ平行に２つ配設し、この２つの搬送路に沿って、
搬送路の外側と、２つの搬送路の間とに処理部を３列配
置したので、カセットステーションのＹ方向の長さと処
理ステーションのＹ方向の長さとが一致して処理装置全
体の外形が長方形となり、クリーンルームに設置した場
合のデッドスペースを無くすることができる。

【００９０】請求項１２記載の本発明によれば、２つの
搬送路の間にこれら２つの搬送路の両方との間で被処理
体の搬送を行うことができる処理部を配置したので、被
処理体の搬送のしかたに融通性を持たせることができ、
効率よく被処理体の搬送を行うことができる。

【００９１】請求項１３記載の本発明によれば、２つの
搬送路の間に加熱型処理部を配置したので、加熱型処理
部から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理部付
近に拡散するのを有効に防止することができる。

【００９２】請求項１４記載の本発明によれば、２の搬
送路の間に配置された処理部の上部に空気の流れを規制
するカーテンを設けたので、２の搬送路の間に配置した
処理部から発生した熱が、搬送路の外側に配置した処理
部付近に拡散するのを有効に防止することができる。ま
た、クリーンルーム内の発熱を集中して効果的に排熱す
ることができ、維持費のムダを抑えることができる。

【００９３】請求項１５記載の本発明によれば、搬出入
手段として、複数の収容カセットを搬送路とほぼ直交方
向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方向に移
動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出入する
搬送機構とを採用したので、限られたスペース内で効率
よく被処理体を収容・搬送することができ、クリーンル
ームを効率良く利用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
の全体構成を示す平面図である。

【図２】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
の処理ステーションをＸ方向から見た状態を示した図で
ある。

【図３】本発明の第一の実施形態に係る塗布・現像装置
をＹ方向から見た状態を示した図である。

【図４】本発明の第二の実施形態に係る塗布・現像装置
の全体構成を示す平面図である。

【図５】本発明の第二の実施形態に係る塗布・現像装置
の処理ステーションの断面の部分拡大図である。

【図６】従来のＴ型レイアウトの塗布・現像装置の全体
構成を示す平面図である。

【符号の説明】

Ｇガラス基板（被処理体）２５、２７搬送路２１ａ〜２４ｂ処理部Ｃ収容カセット（搬出入手段）１１載置台（搬出入手段）１２搬出入機構（搬出入手段）１３搬出入路（搬出入手段）２６、２８搬送機構２９保守管理用の通路７０カーテン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】互いにほぼ平行に配置された２つ以上の
搬送路と、前記各搬送路に沿って配置された処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対して搬送する搬送機構とを具備することを特
徴とする処理装置。
【請求項２】請求項１に記載の処理装置であって、前記処理部が、前記各搬送路の両側に配置されているこ
とを特徴とする処理装置。
【請求項３】請求項１に記載の処理装置であって、前記搬出入手段が、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。
【請求項４】互いにほぼ平行に配置された２つの搬送
路と、前記２つの搬送路に沿ってその間に配置された加熱型処
理部と、前記２つの搬送路に沿ってその外側に配置された非加熱
型処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴
とする処理装置。
【請求項５】請求項４に記載の処理装置であって、２つの搬送路の間に配置された処理部と処理部との間に
保守管理用の通路を具備することを特徴とする処理装
置。
【請求項６】請求項４又は５に記載の処理装置であっ
て、前記加熱型処理部が、その上部に空気の流れを規制する
カーテンを具備することを特徴とする処理装置。
【請求項７】請求項４〜６のいずれか１項に記載の処
理装置であって、前記搬出入手段が、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。
【請求項８】互いにほぼ平行に配置された２つの搬送
路と、前記２つの搬送路に沿ってその間に配置された加熱型処
理部と、前記２つの搬送路に沿ってその外側に配置された塗布部
及び／又は現像部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び搬出入手
段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴とす
る処理装置。
【請求項９】請求項８に記載の処理装置であって、２の搬送路に沿ってその間に配置された加熱型処理部が
その上部に空気の流れを規制するカーテンを具備するこ
とを特徴とする処理装置。
【請求項１０】請求項８又は９に記載の処理装置であ
って、前記搬出入手段が、複数の収容カセットを搬送路とほぼ
直交方向一列に載置する載置台と、搬送路とほぼ直交方
向に移動して前記収容カセットとの間で被処理体を搬出
入する搬出入機構とを具備することを特徴とする処理装
置。
【請求項１１】互いにほぼ平行に配置された２の搬送
路と、前記２つの搬送路に沿って、前記２つの搬送路の外側
と、前記２つの搬送路の間にそれぞれ一列ずつ配置され
た処理部と、各搬送路に対し被処理体を搬出入する搬出入手段と、前記各搬送路を介して被処理体を各処理部及び前記搬出
入手段に対し搬送する搬送機構とを具備することを特徴
とする処理装置。
【請求項１２】請求項１１に記載の処理装置であっ
て、２つの搬送路の間に配置された処理部が、前記２つの搬
送路の両方との間で被処理体の搬送を行うことができる
処理部であることを特徴とする処理装置。
【請求項１３】請求項１１又は１２に記載の処理装置
であって、２つの搬送路の間に配置された処理部が、加熱型処理部
であることを特徴とする処理装置。
【請求項１４】請求項１３に記載の処理装置であっ
て、２つの搬送路の間に配置された処理部が、その上部に空
気の流れを規制するカーテンを具備することを特徴とす
る処理装置。
【請求項１５】請求項１１〜１４のいずれか１項に記
載の処理装置であって、前記搬出入手段が、複数の収
容カセットを搬送路とほぼ直交方向一列に載置する載置
台と、搬送路とほぼ直交方向に移動して前記収容カセッ
トとの間で被処理体を搬出入する搬出入機構とを具備す
ることを特徴とする処理装置。