JPH11267187A - 低圧プラズマにより容器を殺菌するための装置 - Google Patents
低圧プラズマにより容器を殺菌するための装置Info
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- JPH11267187A JPH11267187A JP11036619A JP3661999A JPH11267187A JP H11267187 A JPH11267187 A JP H11267187A JP 11036619 A JP11036619 A JP 11036619A JP 3661999 A JP3661999 A JP 3661999A JP H11267187 A JPH11267187 A JP H11267187A
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- electrode
- chamber
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L2/00—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor
- A61L2/02—Disinfection or sterilisation of materials or objects, in general; Accessories therefor using physical processes
- A61L2/14—Plasma, i.e. ionised gases
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65B—MACHINES, APPARATUS OR DEVICES FOR, OR METHODS OF, PACKAGING ARTICLES OR MATERIALS; UNPACKING
- B65B55/00—Preserving, protecting or purifying packages or package contents in association with packaging
- B65B55/02—Sterilising, e.g. of complete packages
- B65B55/04—Sterilising wrappers or receptacles prior to, or during, packaging
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/906—Plasma or ion generation means
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 圧力過敏性の非電導性容器の内表面及び充填
開口の部域に位置する外表面を低圧プラズマにより殺菌
する装置であって、機械的設計を単純化しかつ電力消費
を減らした装置を提供する。 【解決手段】 この目的は、排気可能な室を設け、その
室を本質的に容器を取り囲む二つの電極で形成すること
により達成された。
開口の部域に位置する外表面を低圧プラズマにより殺菌
する装置であって、機械的設計を単純化しかつ電力消費
を減らした装置を提供する。 【解決手段】 この目的は、排気可能な室を設け、その
室を本質的に容器を取り囲む二つの電極で形成すること
により達成された。
Description
【０００１】発明の背景及び概要 本発明は圧力過敏性の、非電導性容器の内表面並びに充
填開口に位置する外表面部域を低圧プラズマにより殺菌
するための装置に関し、この装置は容器を収容するため
の排気可能な室を含み、またこの室を排気するための真
空ポンプを含み、またイオン化されるガスを供給するた
めの供給管（この供給管は前記室に連結されている）を
含み、また容器をシェル状部域で取り囲む二つの電極
（この電極はプラズマを発生し、充填開口の部域に凹所
を有し、この凹所は容器に関してクリアランスを有す
る）を含み、またこの電極の一方（その他方は接地され
ている）に交流電圧を付与するための高周波発生器を含
む。
填開口に位置する外表面部域を低圧プラズマにより殺菌
するための装置に関し、この装置は容器を収容するため
の排気可能な室を含み、またこの室を排気するための真
空ポンプを含み、またイオン化されるガスを供給するた
めの供給管（この供給管は前記室に連結されている）を
含み、また容器をシェル状部域で取り囲む二つの電極
（この電極はプラズマを発生し、充填開口の部域に凹所
を有し、この凹所は容器に関してクリアランスを有す
る）を含み、またこの電極の一方（その他方は接地され
ている）に交流電圧を付与するための高周波発生器を含
む。
【０００２】この形式の装置（米国特許５８０１３５
４）の場合において、電極は室の内側に配置されてお
り、従って電極の外側部域もまた排気されねばならな
い。これは一方では顕著な機械的複雑化に、他方では増
大した電力消費に導く。しかし公知の装置は容器を密接
的に取り囲む電極のために、プラズマが本質的に容器の
内側でのみ発生し、従って殺菌されることのない容器の
外表面はプラズマにより攻撃されないという利点があ
る。減圧が容器の内側並びに容器の外側にも存在してい
るので、容器は寸法的にしっかりしている必要はない。
４）の場合において、電極は室の内側に配置されてお
り、従って電極の外側部域もまた排気されねばならな
い。これは一方では顕著な機械的複雑化に、他方では増
大した電力消費に導く。しかし公知の装置は容器を密接
的に取り囲む電極のために、プラズマが本質的に容器の
内側でのみ発生し、従って殺菌されることのない容器の
外表面はプラズマにより攻撃されないという利点があ
る。減圧が容器の内側並びに容器の外側にも存在してい
るので、容器は寸法的にしっかりしている必要はない。
【０００３】本発明の目的は上述の利点を維持しなが
ら、機械的設計を単純化しかつ電力消費を減らすことに
ある。
ら、機械的設計を単純化しかつ電力消費を減らすことに
ある。
【０００４】この目的は電極が排気可能な室を形成する
という本発明により達成された。
という本発明により達成された。
【０００５】上述の従来技術における如く、電極が隙間
を残して容器を取り囲み、この隙間が容器の外側にも減
圧を形成することを可能とするが、この隙間がその他方
側でプラズマをこの隙間中に発生させることができない
ほど狭い。従ってプラズマは本質的に容器の内側でのみ
発生し、従って容器の内表面のみが充填開口の部域の外
表面と一緒に殺菌される。これは高度な効率をもたら
す。電極自体が排気可能な室を形成し、排気可能なリア
クター中に配置されていない結果として、排気されるべ
き容積が顕著に減少する。排気されるべき空間は従って
本質的に殺菌される容器の内側にのみ相当するが、これ
らの容器自体はリアクターを形成しない。
を残して容器を取り囲み、この隙間が容器の外側にも減
圧を形成することを可能とするが、この隙間がその他方
側でプラズマをこの隙間中に発生させることができない
ほど狭い。従ってプラズマは本質的に容器の内側でのみ
発生し、従って容器の内表面のみが充填開口の部域の外
表面と一緒に殺菌される。これは高度な効率をもたら
す。電極自体が排気可能な室を形成し、排気可能なリア
クター中に配置されていない結果として、排気されるべ
き容積が顕著に減少する。排気されるべき空間は従って
本質的に殺菌される容器の内側にのみ相当するが、これ
らの容器自体はリアクターを形成しない。
【０００６】本発明の一実施例において両電極は介在絶
縁体の助けにより、電極間の分割面で密封態様で互いに
突き合わせられる。
縁体の助けにより、電極間の分割面で密封態様で互いに
突き合わせられる。
【０００７】電極はシェル状部域でそれぞれの容器を取
り囲み、このシェル状部域は室中に容器を挿入するため
に離れるように移動させられることができる。更に、電
極は容器の底に配置され互いに絶縁された延長部を備え
ており、この延長部は非電導性支持板上に配置されてお
り、この延長部上に容器は殺菌工程中立っている。延長
部はまた電極のシェル状部域から分離されることができ
る。
り囲み、このシェル状部域は室中に容器を挿入するため
に離れるように移動させられることができる。更に、電
極は容器の底に配置され互いに絶縁された延長部を備え
ており、この延長部は非電導性支持板上に配置されてお
り、この延長部上に容器は殺菌工程中立っている。延長
部はまた電極のシェル状部域から分離されることができ
る。
【０００８】本発明のこれらの及び更なる目的、特徴及
び利点は添付図面に関連した以下の本発明のより詳細な
説明から容易に明らかとなるであろう。
び利点は添付図面に関連した以下の本発明のより詳細な
説明から容易に明らかとなるであろう。
【０００９】図面の説明 この装置は低圧プラズマにより容器１を殺菌するのに役
立つ。圧力過敏性で非電導性であるこれらの容器１の場
合において、細菌が存在しない必要があるのは特に内表
面２である。対照的に、外表面３のうち、殺菌される必
要があるのは充填開口６の部域に位置するところ、すな
わち輸送カラー４及びねじ螺条５だけである。図には唯
一つの容器１が画かれているが、この装置は複数の容器
１のために設計されることができる。
立つ。圧力過敏性で非電導性であるこれらの容器１の場
合において、細菌が存在しない必要があるのは特に内表
面２である。対照的に、外表面３のうち、殺菌される必
要があるのは充填開口６の部域に位置するところ、すな
わち輸送カラー４及びねじ螺条５だけである。図には唯
一つの容器１が画かれているが、この装置は複数の容器
１のために設計されることができる。
【００１０】殺菌工程のために、容器１は排気される室
７内に収容され、この室７は真空ポンプ８に連結されて
いる。減圧容器９により、真空ポンプ８は二つの吸引管
１０と１１により室７に連結されている。減圧容器９は
二つの吸引管１０と１１のための減圧分配器としての役
目をする。吸引管１０に配置された調整弁１２が室７内
の従ってまた容器１内の圧力を調整する役目をする。吸
引管１１に配置された弁１３は以下に説明する他の機能
を持つが、それは室７の実際の排気のためには必要では
ない。
７内に収容され、この室７は真空ポンプ８に連結されて
いる。減圧容器９により、真空ポンプ８は二つの吸引管
１０と１１により室７に連結されている。減圧容器９は
二つの吸引管１０と１１のための減圧分配器としての役
目をする。吸引管１０に配置された調整弁１２が室７内
の従ってまた容器１内の圧力を調整する役目をする。吸
引管１１に配置された弁１３は以下に説明する他の機能
を持つが、それは室７の実際の排気のためには必要では
ない。
【００１１】減圧容器９は加速排気並びに小電力を用い
る真空ポンプ８の使用を可能とする。真空ポンプ８は殺
菌工程中及び新容器１の供給中に減圧容器９を排気する
ことができ、この減圧容器９の方はそれから弁１２が開
かれた後急速に室７を排気する。
る真空ポンプ８の使用を可能とする。真空ポンプ８は殺
菌工程中及び新容器１の供給中に減圧容器９を排気する
ことができ、この減圧容器９の方はそれから弁１２が開
かれた後急速に室７を排気する。
【００１２】プラズマを発生するために、二つの電極１
４と１５が設けられており、そのうち電極１４は交流電
圧を付与され、電極１５は接地される。二つの電極１４
と１５はそれらの電極が容器１を収容する室７を操作中
に形成するように形成されている。これは容器１の内側
並びに容器１の外側に減圧を可能とし、従って前記容器
は圧力過敏性であることができる。電極は電極が複数の
隣接的に配置された容器１に対して配置されるように設
計することができる。
４と１５が設けられており、そのうち電極１４は交流電
圧を付与され、電極１５は接地される。二つの電極１４
と１５はそれらの電極が容器１を収容する室７を操作中
に形成するように形成されている。これは容器１の内側
並びに容器１の外側に減圧を可能とし、従って前記容器
は圧力過敏性であることができる。電極は電極が複数の
隣接的に配置された容器１に対して配置されるように設
計することができる。
【００１３】高周波発生器１６は交流電圧を発生し、こ
の交流電圧は許容される産業周波数、例えば１３．５６
または２７．１２ＭＨｚでパワーを送出する。このパワ
ーは電極１４によりいわゆる整合箱１７により容量的に
発生させられる。高周波発生器１６を除き、他の全ての
装置は他方の接地電極１５に適用される。
の交流電圧は許容される産業周波数、例えば１３．５６
または２７．１２ＭＨｚでパワーを送出する。このパワ
ーは電極１４によりいわゆる整合箱１７により容量的に
発生させられる。高周波発生器１６を除き、他の全ての
装置は他方の接地電極１５に適用される。
【００１４】二つの電極１４と１５はシェル状部域１８
と１９を有し、このシェル状部域で電極は容器１を取り
囲み、それぞれのシェル状部域の一つが周囲の半分を覆
っている。これは容器１の外側輪郭に沿って隙間２０を
もたらす。隙間２０はプラズマがそこに発生しないほど
狭くあるべきである。この要求は隙間２０がほんの数ミ
リメートルであるとき満たされる。
と１９を有し、このシェル状部域で電極は容器１を取り
囲み、それぞれのシェル状部域の一つが周囲の半分を覆
っている。これは容器１の外側輪郭に沿って隙間２０を
もたらす。隙間２０はプラズマがそこに発生しないほど
狭くあるべきである。この要求は隙間２０がほんの数ミ
リメートルであるとき満たされる。
【００１５】両電極１４と１５が容器１の外側に配置さ
れているが、この配置はプラズマが本質的に容器１の内
側でのみ発生させられること、従って本質的に容器１の
内表面２のみが殺菌される結果をもたらす。
れているが、この配置はプラズマが本質的に容器１の内
側でのみ発生させられること、従って本質的に容器１の
内表面２のみが殺菌される結果をもたらす。
【００１６】内表面２に加えて、また充填開口６の部域
の外表面３の一部が殺菌されるように、電極１４と１５
はこの部域に外表面３に関してクリアランスを可能とす
る凹所２１を有する。かくして発生したプラズマはまた
輸送カラー４及びねじ螺条５に達することができる。
の外表面３の一部が殺菌されるように、電極１４と１５
はこの部域に外表面３に関してクリアランスを可能とす
る凹所２１を有する。かくして発生したプラズマはまた
輸送カラー４及びねじ螺条５に達することができる。
【００１７】イオン化されるガスを供給するための供給
管２２が室７に入っている。プラズマガスはチョーク弁
２３により、室７中にかくして容器１中に入れられる。
殺菌工程中に、ガス供給及び調整弁１２経由での同時ポ
ンプ輸送により、圧力は流れの動的釣合により維持する
ことができる。またある量のプロセスガスがポンプ輸送
が起こった後に単純に供給され、これが希望の圧力を正
確にもたらす。圧力は圧力計（図示せず）により調整す
ることができる。
管２２が室７に入っている。プラズマガスはチョーク弁
２３により、室７中にかくして容器１中に入れられる。
殺菌工程中に、ガス供給及び調整弁１２経由での同時ポ
ンプ輸送により、圧力は流れの動的釣合により維持する
ことができる。またある量のプロセスガスがポンプ輸送
が起こった後に単純に供給され、これが希望の圧力を正
確にもたらす。圧力は圧力計（図示せず）により調整す
ることができる。
【００１８】最適の排出圧はガスの種類に依存し、０．
１Ｐａから数１００Ｐａの範囲にあることができる。特
に適したプラズマガスは、例えば、過酸化水素である
が、また他のガスも一般的に用いることができる。
１Ｐａから数１００Ｐａの範囲にあることができる。特
に適したプラズマガスは、例えば、過酸化水素である
が、また他のガスも一般的に用いることができる。
【００１９】容器１を取り囲む、二つの電極１４と１５
はそれら電極間の分割面２５で互いに突き合わされる。
室７が閉鎖されるとき、両電極１４と１５が互いに電気
的に絶縁されるために、電極１５は絶縁体２４を備えて
おり、この絶縁体は二つの電極１４と１５間の全接触面
を覆っている。二つの電極１４と１５間の減圧をシール
するために、シール３２が他方の電極１４に設けられて
いる。
はそれら電極間の分割面２５で互いに突き合わされる。
室７が閉鎖されるとき、両電極１４と１５が互いに電気
的に絶縁されるために、電極１５は絶縁体２４を備えて
おり、この絶縁体は二つの電極１４と１５間の全接触面
を覆っている。二つの電極１４と１５間の減圧をシール
するために、シール３２が他方の電極１４に設けられて
いる。
【００２０】室７が閉鎖されるとき、容器１はリアクタ
ーの底部２７上に容器１の底２６を置いて立ち、このリ
アクターの底部は非電導性支持板３１並びに電極１４と
１５の二つの金属延長部２８と２９を含む。支持板３１
の絶縁延長部が二つの延長部２８と２９の間に位置して
いる。リアクターの底部２７は電極１４と１５のシェル
状部域１８と１９に対してシールリング３０によりシー
ルされる。
ーの底部２７上に容器１の底２６を置いて立ち、このリ
アクターの底部は非電導性支持板３１並びに電極１４と
１５の二つの金属延長部２８と２９を含む。支持板３１
の絶縁延長部が二つの延長部２８と２９の間に位置して
いる。リアクターの底部２７は電極１４と１５のシェル
状部域１８と１９に対してシールリング３０によりシー
ルされる。
【００２１】シェル状部域１８と１９と同様に、リアク
ターの底部２７は容器１の底２６の輪郭に従って形成さ
れている。そこに位置する隙間は排気されるので、容器
１の壁はその結果生じた力により影響されない。
ターの底部２７は容器１の底２６の輪郭に従って形成さ
れている。そこに位置する隙間は排気されるので、容器
１の壁はその結果生じた力により影響されない。
【００２２】殺菌工程は容器の輸送カラー４で容器１を
つかむ供給装置（図示せず）により容器１が接地電極１
５中に挿入されると開始する。室７は三段階で閉鎖され
る：第一段階では、供給された容器１は弁１３により調
整された吸引管１１により電極１５上に吸引される。供
給装置はそれから取り外される。第二段階で電極１４が
電極１５の方に移動させられる。最終段階で、リアクタ
ーの底部２７が下から上昇させられる。その後で弁１３
が閉鎖される。
つかむ供給装置（図示せず）により容器１が接地電極１
５中に挿入されると開始する。室７は三段階で閉鎖され
る：第一段階では、供給された容器１は弁１３により調
整された吸引管１１により電極１５上に吸引される。供
給装置はそれから取り外される。第二段階で電極１４が
電極１５の方に移動させられる。最終段階で、リアクタ
ーの底部２７が下から上昇させられる。その後で弁１３
が閉鎖される。
【００２３】かくして排気が凹所２１の部域の室７中に
入っている上方吸引管１０により起こる。イオン化され
るガスのための供給管２２もまた凹所２１に入ってい
る。
入っている上方吸引管１０により起こる。イオン化され
るガスのための供給管２２もまた凹所２１に入ってい
る。
【００２４】この装置は電極１４と１５自体がリアクタ
ー内に配置される必要がないので、すなわち電極１４と
１５がそれらの外表面で低圧力に露出される必要がない
ので、エネルギー消費が顕著に減少されるという利点を
持つ。更に機械的設計が前述の従来技術ほど複雑でな
い。
ー内に配置される必要がないので、すなわち電極１４と
１５がそれらの外表面で低圧力に露出される必要がない
ので、エネルギー消費が顕著に減少されるという利点を
持つ。更に機械的設計が前述の従来技術ほど複雑でな
い。
【図１】本発明の装置の一例の概要を部分断面図で示
す。
す。
Claims (6)
- 【請求項１】 圧力過敏性の、非電導性容器の内表面並
びに充填開口に位置する外表面部域を低圧プラズマによ
り殺菌するための装置であって、この装置が容器を収容
するための排気可能な室を含み、またこの室を排気する
ための真空ポンプを含み、またイオン化されるガスを供
給するための供給管（この供給管は前記室に連結されて
いる）を含み、また容器をシェル状部域で取り囲む二つ
の電極（この電極はプラズマを発生し、充填開口の部域
に凹所を有し、この凹所は容器に関してクリアランスを
有する）を含み、また電極の一方（電極の他方は接地さ
れている）に交流電圧を付与するための高周波発生器を
含み、更にこの電極（１４，１５）が排気可能な室
（７）を形成することを特徴とする装置。 - 【請求項２】 電極（１４，１５）が介在絶縁体（２
４）の助けにより、電極間の分割面（２５）で密封態様
で互いに突き合わせられていることを特徴とする請求項
１に記載の装置。 - 【請求項３】 電極（１４，１５）が容器（１）の底
（２６）に配置されかつ互いに絶縁された延長部（２
８，２９）を備えていることを特徴とする請求項１また
は２に記載の装置。 - 【請求項４】 延長部（２８，２９）が電極（１４，１
５）のシェル状部域（１８，１９）から分離されること
ができることを特徴とする請求項３に記載の装置。 - 【請求項５】 延長部（２８，２９）が非電導性支持板
（３１）上に配置されていることを特徴とする請求項４
に記載の装置。 - 【請求項６】 電極（１４，１５）のシェル状部域（１
８，１９）が互いに離れるように移動させられることが
できることを特徴とする請求項１から５のいずれか一つ
に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19806519.1 | 1998-02-17 | ||
| DE19806519A DE19806519A1 (de) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | Vorrichtung zum Sterilisieren von Behältern mittels eines Niederdruckplasmas |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267187A true JPH11267187A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=7858008
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11036619A Pending JPH11267187A (ja) | 1998-02-17 | 1999-02-16 | 低圧プラズマにより容器を殺菌するための装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6037562A (ja) |
| JP (1) | JPH11267187A (ja) |
| DE (1) | DE19806519A1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006523934A (ja) * | 2003-04-16 | 2006-10-19 | アプライド サイエンス アンド テクノロジー， インコーポレイテッド | トロイダル低電場反応性気体および誘電真空槽を有するプラズマ源 |
| JP2017527501A (ja) * | 2014-08-01 | 2017-09-21 | ベーセージェーイー インダストリア デ マキナス エ ジェスタン デ アティヴォス インタンジヴェス エスペーエー リミターダＢｃｇｉ Ｉｎｄｕｓｔｒｉａ Ｄｅ Ｍａｑｕｉｎａｓ Ｅ Ｇｅｓｔａｏ Ｄｅ Ａｔｉｖｏｓ Ｉｎｔａｎｇｉｖｅｉｓ Ｓｐｅ Ｌｔｄａ． | 閉じた容器内の内容物を電気分解により殺菌するためのシステムおよび方法、ならびに該内容物を封入するための包装後殺菌用容器 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT3549U1 (de) * | 1998-05-04 | 2000-04-25 | Inocon Technologie Gmbh | Verfahren und einrichtung zum erzeugen von plasma |
| DE19916478A1 (de) * | 1999-04-13 | 2000-10-19 | Ruediger Haaga Gmbh | Verfahren zum Evakuieren eines Plasmasterilisations-Reaktors |
| FR2799994B1 (fr) * | 1999-10-25 | 2002-06-07 | Sidel Sa | Dispositif pour le traitement d'un recipient a l'aide d'un plasma a basse pression comportant un circuit de vide perfectionne |
| DE10045585A1 (de) * | 2000-09-15 | 2002-03-28 | Ruediger Haaga Gmbh | Verfahren zum Sterilisieren und Depyrogenisieren gewaschener Behälter |
| US8053700B2 (en) * | 2003-04-16 | 2011-11-08 | Mks Instruments, Inc. | Applicators and cooling systems for a plasma device |
| FR2872148B1 (fr) * | 2004-06-24 | 2006-09-22 | Sidel Sas | Machine de traitement de bouteilles equipee d'une cartouche de raccordement interchangeable |
| FR2872555B1 (fr) * | 2004-06-30 | 2006-10-06 | Sidel Sas | Circuit de pompage a vide et machine de traitement de recipients equipee de ce circuit |
| US7969096B2 (en) | 2006-12-15 | 2011-06-28 | Mks Instruments, Inc. | Inductively-coupled plasma source |
| JP2011504404A (ja) * | 2007-11-21 | 2011-02-10 | ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション，インク． | プラズマ場を使用する自己滅菌装置 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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