JPH11268240A - 紫外線硬化型材料の硬化装置 - Google Patents
紫外線硬化型材料の硬化装置Info
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- JPH11268240A JPH11268240A JP7179998A JP7179998A JPH11268240A JP H11268240 A JPH11268240 A JP H11268240A JP 7179998 A JP7179998 A JP 7179998A JP 7179998 A JP7179998 A JP 7179998A JP H11268240 A JPH11268240 A JP H11268240A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不活性ガス消費量を低減しながら硬度むらの
ない均一な表面硬度を得ることができる紫外線硬化型材
料の硬化装置を提供する。 【解決手段】 不活性ガスが充填された硬化反応室２に
帯状材（紫外線硬化型材料）８を連続供給しながら紫外
線照射して硬化させる硬化装置であり、硬化反応室２が
紫外線照射器１に対向する位置に紫外線透過性透明板３
を取り付けた構成にして該硬化反応室内部２を紫外線照
射器１から隔離し、かつ該硬化反応室２に対する帯状材
８の搬入部と搬出部にシール機構１０Ａ，１０Ｂ，１１
Ａ，１１Ｂを設けた構成からなる。
ない均一な表面硬度を得ることができる紫外線硬化型材
料の硬化装置を提供する。 【解決手段】 不活性ガスが充填された硬化反応室２に
帯状材（紫外線硬化型材料）８を連続供給しながら紫外
線照射して硬化させる硬化装置であり、硬化反応室２が
紫外線照射器１に対向する位置に紫外線透過性透明板３
を取り付けた構成にして該硬化反応室内部２を紫外線照
射器１から隔離し、かつ該硬化反応室２に対する帯状材
８の搬入部と搬出部にシール機構１０Ａ，１０Ｂ，１１
Ａ，１１Ｂを設けた構成からなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、紫外線硬化型材料
の硬化装置に関し、さらに詳しくは、不活性ガス消費量
を低減しながら硬度むらのない均一な表面硬度が得られ
るようにする紫外線硬化型材料の硬化装置に関する。
の硬化装置に関し、さらに詳しくは、不活性ガス消費量
を低減しながら硬度むらのない均一な表面硬度が得られ
るようにする紫外線硬化型材料の硬化装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】紫外線硬化型樹脂の塗膜、印刷インキ、
接着レジン等をシート基材に塗布した材料を紫外線照射
して硬化させる反応プロセスでは、その硬化反応雰囲気
中に大気（酸素）が存在すると、紫外線による光重合反
応が阻害されやすいという問題がある。従来、このよう
な問題の対策として、紫外線照射器（紫外線ランプ）と
紫外線硬化反応工程とを同一のチャンバー内に設け、そ
のチャンバーに不活性ガスを連続供給することにより紫
外線硬化型材料の塗膜界面における酸素濃度を下げて、
高硬度の硬化膜を得るようにする技術が知られている
（例えば、特開平４−３０１４５６号公報参照）。
接着レジン等をシート基材に塗布した材料を紫外線照射
して硬化させる反応プロセスでは、その硬化反応雰囲気
中に大気（酸素）が存在すると、紫外線による光重合反
応が阻害されやすいという問題がある。従来、このよう
な問題の対策として、紫外線照射器（紫外線ランプ）と
紫外線硬化反応工程とを同一のチャンバー内に設け、そ
のチャンバーに不活性ガスを連続供給することにより紫
外線硬化型材料の塗膜界面における酸素濃度を下げて、
高硬度の硬化膜を得るようにする技術が知られている
（例えば、特開平４−３０１４５６号公報参照）。
【０００３】しかし、上記従来装置では、紫外線硬化型
材料をチャンバーに連続供給するとき、その紫外線硬化
型材料自身がチャンバー内に随伴空気を持ち込む現象を
生じ、また紫外線硬化型材料の搬入口や搬出口からチャ
ンバー内の不活性ガスが漏出するため、チャンバー内の
酸素濃度が上昇しやすくなるいという問題があった。ま
た、低酸素濃度を維持するために絶えず多量の不活性ガ
スを供給しなければならないため、不活性ガスの消費量
が必然的に多くなり、コストアップの原因にもなってい
た。
材料をチャンバーに連続供給するとき、その紫外線硬化
型材料自身がチャンバー内に随伴空気を持ち込む現象を
生じ、また紫外線硬化型材料の搬入口や搬出口からチャ
ンバー内の不活性ガスが漏出するため、チャンバー内の
酸素濃度が上昇しやすくなるいという問題があった。ま
た、低酸素濃度を維持するために絶えず多量の不活性ガ
スを供給しなければならないため、不活性ガスの消費量
が必然的に多くなり、コストアップの原因にもなってい
た。
【０００４】また、上記硬化反応に使用される紫外線ラ
ンプには、特開平５−２３７９９２号公報や特開平５−
４３２６号公報に開示されるように、紫外線ランプの過
熱防止のため冷却空気を送風したり、また紫外線ランプ
周辺に発生するオゾンを排気するため排気筒を設けたり
している。そのため冷却用空気がチャンバー内に流入
し、内部の不活性ガスを不規則に流動させるため酸素濃
度むらを発生し、紫外線硬化型材料を硬化反応を不安定
にする結果、均一な表面硬度が得られなくなるという欠
点があった。
ンプには、特開平５−２３７９９２号公報や特開平５−
４３２６号公報に開示されるように、紫外線ランプの過
熱防止のため冷却空気を送風したり、また紫外線ランプ
周辺に発生するオゾンを排気するため排気筒を設けたり
している。そのため冷却用空気がチャンバー内に流入
し、内部の不活性ガスを不規則に流動させるため酸素濃
度むらを発生し、紫外線硬化型材料を硬化反応を不安定
にする結果、均一な表面硬度が得られなくなるという欠
点があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
した従来技術の問題を解消し、不活性ガス消費量を低減
しながら硬度むらのない均一な表面硬度が得られるよう
にする紫外線硬化型材料の硬化装置を提供することにあ
る。
した従来技術の問題を解消し、不活性ガス消費量を低減
しながら硬度むらのない均一な表面硬度が得られるよう
にする紫外線硬化型材料の硬化装置を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、不活性ガスが充填された硬化反応室に紫外線硬化
型材料を連続供給しながら該紫外線硬化型材料に紫外線
照射器から紫外線を照射して硬化させる硬化装置におい
て、前記硬化反応室の前記紫外線照射器に対向する位置
に紫外線透過性透明板を取り付けて該硬化反応室内部を
前記紫外線照射器から隔離した構成にすると共に、該硬
化反応室に対する前記紫外線硬化型材料の搬入部と搬出
部にシール機構を設けたことを特徴とするものである。
明は、不活性ガスが充填された硬化反応室に紫外線硬化
型材料を連続供給しながら該紫外線硬化型材料に紫外線
照射器から紫外線を照射して硬化させる硬化装置におい
て、前記硬化反応室の前記紫外線照射器に対向する位置
に紫外線透過性透明板を取り付けて該硬化反応室内部を
前記紫外線照射器から隔離した構成にすると共に、該硬
化反応室に対する前記紫外線硬化型材料の搬入部と搬出
部にシール機構を設けたことを特徴とするものである。
【０００７】このように硬化反応室に対する紫外線硬化
型材料の搬入部と搬出部とにシール機構を設けたため、
硬化反応室内部の不活性ガスがいたずらに流出すること
がなく、不活性ガスを多量に供給しなくても硬化反応室
内部を低酸素濃度を維持することができる。また、硬化
反応室内部を紫外線透過性透明板を介して紫外線照射器
から隔離するようにしたため、紫外線照射器の冷却用空
気が硬化反応室内に流入して酸素濃度むらを発生するこ
とがなく、硬化反応を安定させることができるので、硬
度むらのない均一な表面硬度を得ることができる。
型材料の搬入部と搬出部とにシール機構を設けたため、
硬化反応室内部の不活性ガスがいたずらに流出すること
がなく、不活性ガスを多量に供給しなくても硬化反応室
内部を低酸素濃度を維持することができる。また、硬化
反応室内部を紫外線透過性透明板を介して紫外線照射器
から隔離するようにしたため、紫外線照射器の冷却用空
気が硬化反応室内に流入して酸素濃度むらを発生するこ
とがなく、硬化反応を安定させることができるので、硬
度むらのない均一な表面硬度を得ることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明の硬化装置の実施形
態を示す概略縦断面図、図２は同装置の要部を示す拡大
縦断面図、図３は図２のＡ−Ａ矢視図である。図におい
て、１は高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外線
ランプからなる紫外線照射器、２は硬化反応室である。
紫外線照射器１は光源１ａの正面の照射面を除く背面側
を囲むように反射鏡１ｂを有し、その内部に導入口１ｃ
から冷却用空気を供給するように構成されている。硬化
反応室２は紫外線照射器１と対面する位置に石英ガラス
等の紫外線透過率の高い材料の透明板３を設け、硬化反
応室内部を紫外線照射器１から隔離するように構成され
ている。
態を示す概略縦断面図、図２は同装置の要部を示す拡大
縦断面図、図３は図２のＡ−Ａ矢視図である。図におい
て、１は高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の紫外線
ランプからなる紫外線照射器、２は硬化反応室である。
紫外線照射器１は光源１ａの正面の照射面を除く背面側
を囲むように反射鏡１ｂを有し、その内部に導入口１ｃ
から冷却用空気を供給するように構成されている。硬化
反応室２は紫外線照射器１と対面する位置に石英ガラス
等の紫外線透過率の高い材料の透明板３を設け、硬化反
応室内部を紫外線照射器１から隔離するように構成され
ている。
【０００９】紫外線硬化型材料７は樹脂フイルム等のシ
ート基材８ａの表面に塗布又は積層された帯状材８とし
て形成され、この形態で硬化反応室２に搬入・搬出され
るようになっている。このように搬入・搬出するため、
硬化反応室２の両端部外側の一方に巻出原反４と塗布手
段５が設置され、また他方に巻取機６が設置されてい
る。
ート基材８ａの表面に塗布又は積層された帯状材８とし
て形成され、この形態で硬化反応室２に搬入・搬出され
るようになっている。このように搬入・搬出するため、
硬化反応室２の両端部外側の一方に巻出原反４と塗布手
段５が設置され、また他方に巻取機６が設置されてい
る。
【００１０】巻出原反４からシート基材８ａが巻き出さ
れ、その表面に塗布手段５により紫外線硬化型材料７が
塗布されることにより帯状材８が形成され、硬化反応室
２に搬入される。帯状材８は硬化反応室２の内部で紫外
線硬化型材料７に紫外線照射器１から放射された紫外線
を照射して硬化反応させたのち硬化反応室２の外へ搬出
され、巻取機６に巻き取られる。
れ、その表面に塗布手段５により紫外線硬化型材料７が
塗布されることにより帯状材８が形成され、硬化反応室
２に搬入される。帯状材８は硬化反応室２の内部で紫外
線硬化型材料７に紫外線照射器１から放射された紫外線
を照射して硬化反応させたのち硬化反応室２の外へ搬出
され、巻取機６に巻き取られる。
【００１１】上記硬化反応室２には、紫外線硬化型材料
７が塗布された帯状材８の搬入部の外側と内側に、シー
ル機構１０Ａと１１Ａとが２段階に設けられている。ま
た、搬出部の内側と外側にも、シール機構１１Ｂと１０
Ｂとが同じく２段階に設けられている。これらシール機
構１０Ａ、１１Ａ、１１Ｂ、１０Ｂは硬化反応室２の内
部を三つに区分し、搬入予備室１３、反応処理室１４、
搬出予備室１５を順に形成している。
７が塗布された帯状材８の搬入部の外側と内側に、シー
ル機構１０Ａと１１Ａとが２段階に設けられている。ま
た、搬出部の内側と外側にも、シール機構１１Ｂと１０
Ｂとが同じく２段階に設けられている。これらシール機
構１０Ａ、１１Ａ、１１Ｂ、１０Ｂは硬化反応室２の内
部を三つに区分し、搬入予備室１３、反応処理室１４、
搬出予備室１５を順に形成している。
【００１２】上記三つの搬入予備室１３、反応処理室１
４、搬出予備室１５の各室には、それぞれ底面にガス導
入口１６が設けられ、不活性ガスが連続的又は間欠的に
供給されるようになっている。不活性ガスとしては特に
限定されないが、好ましくは窒素が使用される。さらに
反応処理室１４の上面には、シール機構１１Ａ、１１Ｂ
に近い位置にガスノズル１７が設けられ、このガスノズ
ル１７から不活性ガスが帯状材８の紫外線硬化型材料７
の表面に直接吹き付けられるようになっている。また、
反応処理室１４には酸素濃度測定口１９も設けられてい
る。
４、搬出予備室１５の各室には、それぞれ底面にガス導
入口１６が設けられ、不活性ガスが連続的又は間欠的に
供給されるようになっている。不活性ガスとしては特に
限定されないが、好ましくは窒素が使用される。さらに
反応処理室１４の上面には、シール機構１１Ａ、１１Ｂ
に近い位置にガスノズル１７が設けられ、このガスノズ
ル１７から不活性ガスが帯状材８の紫外線硬化型材料７
の表面に直接吹き付けられるようになっている。また、
反応処理室１４には酸素濃度測定口１９も設けられてい
る。
【００１３】また、硬化反応室２は、上記シール機構１
０Ａ、１１Ａ、１１Ｂ、１０Ｂにおいて、帯状材８の搬
送路を境に上部反応室２ａと下部反応室２ｂとに２分割
され（図４参照）、その上部反応室２ａがエアシリンダ
ー２６の伸縮により開閉するように構成されている。こ
のように硬化反応室２が開閉自在であることにより、帯
状材８をセットする時の作業や、装置のメンテナンス時
の作業が容易になる。この分割数は二つに限定されず、
３以上であってもよく、また少なくとも一つが開閉可能
になっていればよい。
０Ａ、１１Ａ、１１Ｂ、１０Ｂにおいて、帯状材８の搬
送路を境に上部反応室２ａと下部反応室２ｂとに２分割
され（図４参照）、その上部反応室２ａがエアシリンダ
ー２６の伸縮により開閉するように構成されている。こ
のように硬化反応室２が開閉自在であることにより、帯
状材８をセットする時の作業や、装置のメンテナンス時
の作業が容易になる。この分割数は二つに限定されず、
３以上であってもよく、また少なくとも一つが開閉可能
になっていればよい。
【００１４】両外側に設けたシール機構１０Ａ、１０Ｂ
は、それぞれ硬化反応室２の外側面から外方に延長する
偏平な筒状部１２、１２から構成されている。各筒状部
１２の内部空間は帯状材８の搬送方向と幅方向に狭隘な
隙間を形成し、この狭隘な隙間によって帯状材８の随伴
空気を防止し、また内部の不活性ガスの流出を防止して
いる。この偏平な筒状部１２の内部空間の隙間として
は、紫外線硬化型材料７を含む帯状材８の厚さよりも大
きい範囲で極力狭い方がよく、上限を１５ｍｍ以下にす
ることが好ましい。また、筒状部１２の突出長さは長く
するほどシール性を向上することができ、好ましくは１
０〜１００ｍｍにするとよい。
は、それぞれ硬化反応室２の外側面から外方に延長する
偏平な筒状部１２、１２から構成されている。各筒状部
１２の内部空間は帯状材８の搬送方向と幅方向に狭隘な
隙間を形成し、この狭隘な隙間によって帯状材８の随伴
空気を防止し、また内部の不活性ガスの流出を防止して
いる。この偏平な筒状部１２の内部空間の隙間として
は、紫外線硬化型材料７を含む帯状材８の厚さよりも大
きい範囲で極力狭い方がよく、上限を１５ｍｍ以下にす
ることが好ましい。また、筒状部１２の突出長さは長く
するほどシール性を向上することができ、好ましくは１
０〜１００ｍｍにするとよい。
【００１５】シール機構１０Ａ、１０Ｂの内側に設けた
シール機構１１Ａ、１１Ｂは、それぞれ搬送ロール２０
ａ、２０ｂと、それぞれの上部と下部とにシール部材２
１ａ、２２ａ；２１ｂ、２２ｂを組み合わせた構成から
なる。下部に設けたシール部材２２ａ；２２ｂは、搬送
ロール２０ａ、２０ｂとの間に狭隘な隙間を形成する円
筒凹面に形成され、他方、上部に設けたシール部材２１
ａ、２１ｂは、表面が帯状材８の搬送面に沿ってほぼ平
面に形成され、かつその平面に搬送ロール２０ａ、２０
ｂに対して斜め外側に向けて噴射する不活性ガス吹出し
口２３ａ、２３ｂを設け、また必要により、図示のよう
にラビリンス２４ａ、２４ｂを設けている。
シール機構１１Ａ、１１Ｂは、それぞれ搬送ロール２０
ａ、２０ｂと、それぞれの上部と下部とにシール部材２
１ａ、２２ａ；２１ｂ、２２ｂを組み合わせた構成から
なる。下部に設けたシール部材２２ａ；２２ｂは、搬送
ロール２０ａ、２０ｂとの間に狭隘な隙間を形成する円
筒凹面に形成され、他方、上部に設けたシール部材２１
ａ、２１ｂは、表面が帯状材８の搬送面に沿ってほぼ平
面に形成され、かつその平面に搬送ロール２０ａ、２０
ｂに対して斜め外側に向けて噴射する不活性ガス吹出し
口２３ａ、２３ｂを設け、また必要により、図示のよう
にラビリンス２４ａ、２４ｂを設けている。
【００１６】また、搬送ロール２０ａの両軸端には、図
３に示すように、それぞれシール部材２５ａ、２５ａが
設けられ、搬入予備室１３と反応処理室１４との間をシ
ールするようにしている。図示していないが、搬送ロー
ル２０ｂの両軸端にも同様のシール部材２５ｂ、２５ｂ
が設けられ、反応処理室１４と搬出予備室１５との間を
シールするようにしている。
３に示すように、それぞれシール部材２５ａ、２５ａが
設けられ、搬入予備室１３と反応処理室１４との間をシ
ールするようにしている。図示していないが、搬送ロー
ル２０ｂの両軸端にも同様のシール部材２５ｂ、２５ｂ
が設けられ、反応処理室１４と搬出予備室１５との間を
シールするようにしている。
【００１７】上述したシール機構１１Ａ、１１Ｂは、そ
れぞれシール機構１１Ａ側は、帯状材８を搬送ロール２
０ａに巻き付けシール部材２１ａとの間を通って搬入予
備室１３から反応処理室１４へ搬入するようにし、また
シール機構１１Ｂ側は、搬送ロール２０ｂとシール部材
２１ｂとの間に挟んで反応処理室１４から搬出予備室１
５へ搬出するようになっている。このとき不活性ガス吹
出し口２３ａ、２３ｂから不活性ガスが斜め外側に向け
て噴射され、搬入予備室１３や搬出予備室１５から反応
処理室１４側へ侵入しようとする空気をカットし、特に
シール機構１１Ａ側では帯状材８の随伴空気をカットす
る。不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂの帯状材８に対
する傾斜角度θとしては、随伴空気を効率よくカットで
きれば特に限定されないが、好ましくは１５°〜５０°
の範囲にするのがよい。
れぞれシール機構１１Ａ側は、帯状材８を搬送ロール２
０ａに巻き付けシール部材２１ａとの間を通って搬入予
備室１３から反応処理室１４へ搬入するようにし、また
シール機構１１Ｂ側は、搬送ロール２０ｂとシール部材
２１ｂとの間に挟んで反応処理室１４から搬出予備室１
５へ搬出するようになっている。このとき不活性ガス吹
出し口２３ａ、２３ｂから不活性ガスが斜め外側に向け
て噴射され、搬入予備室１３や搬出予備室１５から反応
処理室１４側へ侵入しようとする空気をカットし、特に
シール機構１１Ａ側では帯状材８の随伴空気をカットす
る。不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂの帯状材８に対
する傾斜角度θとしては、随伴空気を効率よくカットで
きれば特に限定されないが、好ましくは１５°〜５０°
の範囲にするのがよい。
【００１８】上記シール機構１１Ａ、１１Ｂの搬送ロー
ル２０ａ、２０ｂは、モータ等の外部動力で積極駆動す
るようにしてもよいが、帯状材８との摩擦力で帯状材８
に追従回転するようにしてもよい。搬送ロール２０ａ、
２０ｂの表面と不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂとの
間の隙間（或いはシール部材２１ａ、２１ｂの下面との
隙間）は、紫外線硬化型材料７を含む帯状材８の厚さよ
りも大きい範囲で極力狭くすることが好ましく、上限を
１５ｍｍ以下にするのがよい。
ル２０ａ、２０ｂは、モータ等の外部動力で積極駆動す
るようにしてもよいが、帯状材８との摩擦力で帯状材８
に追従回転するようにしてもよい。搬送ロール２０ａ、
２０ｂの表面と不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂとの
間の隙間（或いはシール部材２１ａ、２１ｂの下面との
隙間）は、紫外線硬化型材料７を含む帯状材８の厚さよ
りも大きい範囲で極力狭くすることが好ましく、上限を
１５ｍｍ以下にするのがよい。
【００１９】ここでシール機構１１Ａと１１Ｂについて
は、帯状材８の随伴空気の反応処理室１４への侵入はシ
ール機構１１Ａ側で発生し、シール機構１１Ｂ側では発
生しないので、シール機構１１Ｂの方は設置を省略する
ようにしてもよい。しかし、シール機構１１Ｂを設けれ
ば、反応処理室１４内の不活性ガスが帯状材８により随
伴して持ち出されるのを防止し、また搬出予備室１５側
からの空気の侵入を防止することができる。
は、帯状材８の随伴空気の反応処理室１４への侵入はシ
ール機構１１Ａ側で発生し、シール機構１１Ｂ側では発
生しないので、シール機構１１Ｂの方は設置を省略する
ようにしてもよい。しかし、シール機構１１Ｂを設けれ
ば、反応処理室１４内の不活性ガスが帯状材８により随
伴して持ち出されるのを防止し、また搬出予備室１５側
からの空気の侵入を防止することができる。
【００２０】
【実施例】紫外線硬化型材料７としてアクリル系樹脂を
用い、これを樹脂フィルムのシート基材８ａに塗布して
厚さ１０μｍの帯状材８に形成しつつ、下記の部品及び
寸法にした図１の硬化装置を使用して硬化反応処理をし
た。その結果、帯状材８が反応処理室１４に持ち込む随
伴空気がカットされ、シール性が向上したため、窒素ガ
スの消費量を低減しながら、３００ｐｐｍ程度の酸素濃
度を安定して維持することができた。そのため均一な硬
度むらのない硬化膜を形成することができた。
用い、これを樹脂フィルムのシート基材８ａに塗布して
厚さ１０μｍの帯状材８に形成しつつ、下記の部品及び
寸法にした図１の硬化装置を使用して硬化反応処理をし
た。その結果、帯状材８が反応処理室１４に持ち込む随
伴空気がカットされ、シール性が向上したため、窒素ガ
スの消費量を低減しながら、３００ｐｐｍ程度の酸素濃
度を安定して維持することができた。そのため均一な硬
度むらのない硬化膜を形成することができた。
【００２１】 紫外線照射器１：メタルハライドランプ 透明板３：石英ガラス 紫外線照射器１と透明板３との距離：１０ｍｍ 筒状部１２の内部隙間：５ｍｍ、同突出長さ：５５ｍｍ 搬送ロール２０ａ、２０ｂとシール部材２２ａ、２２ｂ
との隙間：０．５ｍｍ 搬送ロール２０ａ、２０ｂとシール部材２５ａ、２５ｂ
との隙間：０．５ｍｍ 不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂ（又はシール部材２
１ａ、２１ｂ下面）と帯状材８との隙間：１ｍｍ 不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂの傾斜角θ：４５°
との隙間：０．５ｍｍ 搬送ロール２０ａ、２０ｂとシール部材２５ａ、２５ｂ
との隙間：０．５ｍｍ 不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂ（又はシール部材２
１ａ、２１ｂ下面）と帯状材８との隙間：１ｍｍ 不活性ガス吹出し口２３ａ、２３ｂの傾斜角θ：４５°
【００２２】
【発明の効果】上述したように本発明によると、硬化反
応室における紫外線硬化型材料の搬入部と搬出部にシー
ル機構を設けたため、硬化反応室内の不活性ガスが徒に
流出することがなくなり、多量に不活性ガスを供給しな
くても低い酸素濃度に維持することができる。また、硬
化反応室内部を紫外線透過性透明板を介して紫外線照射
器から隔離したため、紫外線照射器冷却用の空気が硬化
反応室内に流入して酸素濃度むらを発生することがなく
硬化反応を安定させるため、均一な表面硬度を得ること
ができる。
応室における紫外線硬化型材料の搬入部と搬出部にシー
ル機構を設けたため、硬化反応室内の不活性ガスが徒に
流出することがなくなり、多量に不活性ガスを供給しな
くても低い酸素濃度に維持することができる。また、硬
化反応室内部を紫外線透過性透明板を介して紫外線照射
器から隔離したため、紫外線照射器冷却用の空気が硬化
反応室内に流入して酸素濃度むらを発生することがなく
硬化反応を安定させるため、均一な表面硬度を得ること
ができる。
【図１】本発明の硬化装置の実施形態を示す概略断面図
である。
である。
【図２】図１の硬化装置の要部を示す拡大縦断面図であ
る。
る。
【図３】図２におけるＡ−Ａ矢視図である。
【図４】図１の硬化装置の上部反応室を上昇させたとき
の説明図である。
の説明図である。
１ 紫外線照射器 ２ 硬化反応室 ２ａ 上部反応室 ２ｂ 下部反応室 ３（紫外線透過性の）透明板 ７ 紫外線硬化型材料 ８ａ シート基材 ８ 帯状材 １０Ａ、１０Ｂ、１１Ａ、１１Ｂ シール機構 １２ 筒状部 １３ 搬入予備室 １４ 反応処理室 １５ 搬出予備室 ２０ａ、２０ｂ 搬送ロール ２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂ シール部材 ２３ａ、２３ｂ 不活性ガス吹出し口 ２６ エアシリンダー
Claims (11)
- 【請求項１】 不活性ガスが充填された硬化反応室に紫
外線硬化型材料を連続供給しながら該紫外線硬化型材料
に紫外線照射器から紫外線を照射して硬化させる硬化装
置において、前記硬化反応室の前記紫外線照射器に対向
する位置に紫外線透過性透明板を取り付けて該硬化反応
室内部を前記紫外線照射器から隔離した構成にすると共
に、該硬化反応室に対する前記紫外線硬化型材料の搬入
部と搬出部にシール機構を設けた紫外線硬化型材料の硬
化装置。 - 【請求項２】 前記シール機構を前記硬化反応室の外側
面から外側へ突出させると共に、前記紫外線硬化型材料
を狭隘な隙間を介して挿通させる偏平な筒状部から構成
した請求項１に記載の紫外線硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項３】 前記偏平な筒状部の内部隙間を前記紫外
線硬化型材料の厚みより大きく、かつ１５ｍｍ以下にし
た請求項２に記載の紫外線硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項４】 少なくとも前記搬入部側のシール機構と
して、前記紫外線硬化型材料の搬送ロールと該搬送ロー
ルに斜め外側に向けて対設した不活性ガス吹出し口とを
有し、該シール機構により前記搬入部側に搬入予備室を
区分形成した請求項１、２又は３に記載の紫外線硬化型
材料の硬化装置。 - 【請求項５】 前記搬送ロールと不活性ガス吹出し口か
らなるシール機構を前記搬出部側にも設け、該シール機
構により前記搬出部側に搬出予備室を区分形成した請求
項４に記載の紫外線硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項６】 前記搬送ロールと不活性ガス吹出し口と
間の隙間を、前記紫外線硬化型材料の厚みより大きく、
かつ１５ｍｍ以下にした請求項４又は５に記載の紫外線
硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項７】 前記不活性ガス吹出し口が、不活性ガス
を前記紫外線硬化型材料表面に直接吹き付けるように設
けられている請求項４〜６のいずれかに記載の紫外線硬
化型材料の硬化装置。 - 【請求項８】 前記紫外線透過性透明板が石英ガラスか
らなる請求項１〜７のいずれかに記載の紫外線硬化型材
料の硬化装置。 - 【請求項９】 前記硬化反応室が前記紫外線硬化型材料
の搬送路を境に少なくとも２分割され、分割された少な
くとも一方を開閉可能にした請求項１〜８のいずれかに
記載の紫外線硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項１０】 前記紫外線硬化型材料をシート基材に
積層させた帯状材に形成した請求項１〜９のいずれかに
記載の紫外線硬化型材料の硬化装置。 - 【請求項１１】 前記不活性ガスが窒素である請求項１
〜１０のいずれかに記載の紫外線硬化型材料の硬化装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7179998A JPH11268240A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 紫外線硬化型材料の硬化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7179998A JPH11268240A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 紫外線硬化型材料の硬化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11268240A true JPH11268240A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13470980
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7179998A Pending JPH11268240A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 紫外線硬化型材料の硬化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11268240A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005093464A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| WO2006095885A1 (en) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, method of manufucturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same |
| JP2006255661A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗膜硬化方法及び装置 |
| US7846511B2 (en) | 2005-01-18 | 2010-12-07 | Fujifilm Corporation | Transparent film and method for manufacturing the same, polarized plate and image display device |
| US8936837B2 (en) | 2011-03-04 | 2015-01-20 | Fujifilm Corporation | Anti-glare film manufacturing method |
| CN105216446A (zh) * | 2015-10-28 | 2016-01-06 | 苏州平流层信息科技有限公司 | 用于轮转印刷机的紫外线固化装置 |
| CN108361561A (zh) * | 2017-01-26 | 2018-08-03 | 深圳市优固科技有限公司 | 紫外光led光源装置 |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP7179998A patent/JPH11268240A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005093464A1 (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置 |
| US7846511B2 (en) | 2005-01-18 | 2010-12-07 | Fujifilm Corporation | Transparent film and method for manufacturing the same, polarized plate and image display device |
| WO2006095885A1 (en) * | 2005-03-07 | 2006-09-14 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, method of manufucturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same |
| US8241740B2 (en) | 2005-03-07 | 2012-08-14 | Fujifilm Corporation | Antireflective film, method of manufacturing antireflective film, polarizing plate and image display device using the same |
| JP2006255661A (ja) * | 2005-03-18 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗膜硬化方法及び装置 |
| US8007874B2 (en) | 2005-03-18 | 2011-08-30 | Fujifilm Corporation | Method and apparatus for curing coated film |
| US8936837B2 (en) | 2011-03-04 | 2015-01-20 | Fujifilm Corporation | Anti-glare film manufacturing method |
| CN105216446A (zh) * | 2015-10-28 | 2016-01-06 | 苏州平流层信息科技有限公司 | 用于轮转印刷机的紫外线固化装置 |
| CN108361561A (zh) * | 2017-01-26 | 2018-08-03 | 深圳市优固科技有限公司 | 紫外光led光源装置 |
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