JPH112695A - 廃液供給タンクの流量制御方法 - Google Patents
廃液供給タンクの流量制御方法Info
- Publication number
- JPH112695A JPH112695A JP15367297A JP15367297A JPH112695A JP H112695 A JPH112695 A JP H112695A JP 15367297 A JP15367297 A JP 15367297A JP 15367297 A JP15367297 A JP 15367297A JP H112695 A JPH112695 A JP H112695A
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- Japan
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- flow rate
- waste liquid
- supply tank
- lift pump
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- Pending
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- Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Flow Control (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 攪拌機による液位の外乱を受けても、液位の
変動量を正確に演算して適切な定量供給制御を行うこと
ができる廃液供給タンクの流量制御方法の提供。 【解決手段】 高レベル放射性廃液をガラス溶融炉に供
給する廃液供給タンク１にエアーパージ式液位計２とそ
の廃液を払い出すエアーリフトポンプ３とを備え、上記
廃液の流量を一定時間に区切って繰り返しサンプリング
してその一定時間毎の流量平均を算出し最新に算出され
た流量平均とこれより前回に算出された一次遅れの流量
平均とをそれぞれ設定流量値と比較して差を求め、それ
らの差の値が同一符号となる場合にのみ上記エアーリフ
トポンプ３の駆動量を調節する。
変動量を正確に演算して適切な定量供給制御を行うこと
ができる廃液供給タンクの流量制御方法の提供。 【解決手段】 高レベル放射性廃液をガラス溶融炉に供
給する廃液供給タンク１にエアーパージ式液位計２とそ
の廃液を払い出すエアーリフトポンプ３とを備え、上記
廃液の流量を一定時間に区切って繰り返しサンプリング
してその一定時間毎の流量平均を算出し最新に算出され
た流量平均とこれより前回に算出された一次遅れの流量
平均とをそれぞれ設定流量値と比較して差を求め、それ
らの差の値が同一符号となる場合にのみ上記エアーリフ
トポンプ３の駆動量を調節する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、核燃料再処理施設
等で発生した高レベル放射性廃液を貯蔵する廃液供給タ
ンクに係り、特に高レベル放射性廃液をガラス溶融炉側
に定量供給するための流量制御方法に関するものであ
る。
等で発生した高レベル放射性廃液を貯蔵する廃液供給タ
ンクに係り、特に高レベル放射性廃液をガラス溶融炉側
に定量供給するための流量制御方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、核燃料再処理施設等で発生した
高レベル放射性廃液は液体のままでは、取り扱いが困難
であることから、ガラス原料と共にガラス溶融炉に送ら
れ、ここで高温で混ぜ合わされてガラス固化体として安
定した形に処理された後、長期に亘って地中深く埋設処
分されることが計画されている。
高レベル放射性廃液は液体のままでは、取り扱いが困難
であることから、ガラス原料と共にガラス溶融炉に送ら
れ、ここで高温で混ぜ合わされてガラス固化体として安
定した形に処理された後、長期に亘って地中深く埋設処
分されることが計画されている。
【０００３】そして、この高レベル放射性廃液をガラス
固化処理するに際しては、ガラス原料に対して決まった
割合で混合する必要があるため、廃液供給タンクからガ
ラス溶融炉側に供給される高レベル放射性廃液の流量は
常に一定にする必要がある。
固化処理するに際しては、ガラス原料に対して決まった
割合で混合する必要があるため、廃液供給タンクからガ
ラス溶融炉側に供給される高レベル放射性廃液の流量は
常に一定にする必要がある。
【０００４】そのため、従来では、高レベル放射性廃液
をガラス溶融炉側に供給する廃液供給タンクに、その液
位を検出するエアーパージ式液位計と、高レベル放射性
廃液を払い出すエアーリフトポンプとを備え、上記エア
ーパージ式液位計で検出された、例えば、１０分前の液
位と現在の液位の差からガラス溶融炉に供給される廃液
の１分当たりの平均流量を算出し、その平均流量に応じ
て上記エアーリフトポンプの駆動量を調節することで、
廃液の流量が予め設定した流量から外れないようにＰＩ
（比例積分）制御されていた。
をガラス溶融炉側に供給する廃液供給タンクに、その液
位を検出するエアーパージ式液位計と、高レベル放射性
廃液を払い出すエアーリフトポンプとを備え、上記エア
ーパージ式液位計で検出された、例えば、１０分前の液
位と現在の液位の差からガラス溶融炉に供給される廃液
の１分当たりの平均流量を算出し、その平均流量に応じ
て上記エアーリフトポンプの駆動量を調節することで、
廃液の流量が予め設定した流量から外れないようにＰＩ
（比例積分）制御されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した高
レベル放射性廃液中には比重の異なる成分が混ざり合っ
ているため、その性状を均一にすべくこの高レベル放射
性廃液を貯蔵する廃液供給タンクに攪拌機を備えて、常
に高レベル放射性廃液を攪拌する必要がある。
レベル放射性廃液中には比重の異なる成分が混ざり合っ
ているため、その性状を均一にすべくこの高レベル放射
性廃液を貯蔵する廃液供給タンクに攪拌機を備えて、常
に高レベル放射性廃液を攪拌する必要がある。
【０００６】しかしながら、ガラス溶融炉側への廃液の
定量供給量を、例えば１Ｌ／ｍｉｎと仮定すると、現在
の廃液供給タンクの大きさではその液位変化が−１ｍｍ
／ｍｉｎ程度であるのに対し、攪拌機を備えることによ
りエアーパージ式の液位信号が約±１０ｍｍ液位相当の
外乱を受けるといった不都合がある。その結果、この液
位信号を入力としてＰＩ制御を行うとエアリフト駆動の
制御信号がハンチングし、場合により発散し不具合を生
じ、適切な定量供給制御を行うことが困難であるといっ
た欠点がある。
定量供給量を、例えば１Ｌ／ｍｉｎと仮定すると、現在
の廃液供給タンクの大きさではその液位変化が−１ｍｍ
／ｍｉｎ程度であるのに対し、攪拌機を備えることによ
りエアーパージ式の液位信号が約±１０ｍｍ液位相当の
外乱を受けるといった不都合がある。その結果、この液
位信号を入力としてＰＩ制御を行うとエアリフト駆動の
制御信号がハンチングし、場合により発散し不具合を生
じ、適切な定量供給制御を行うことが困難であるといっ
た欠点がある。
【０００７】そこで、本発明はこのような課題を有効に
解決するために案出されたものであり、その目的は、攪
拌機による液位の外乱を受けても、液位の変動量を正確
に演算して適切な定量供給制御を行うことができる新規
な廃液供給タンクの流量制御方法を提供するものであ
る。
解決するために案出されたものであり、その目的は、攪
拌機による液位の外乱を受けても、液位の変動量を正確
に演算して適切な定量供給制御を行うことができる新規
な廃液供給タンクの流量制御方法を提供するものであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、高レベル放射性廃液をガラス溶融炉に供給
する廃液供給タンクに、その液位を検出するエアーパー
ジ式液位計と、高レベル放射性廃液を払い出すエアーリ
フトポンプとを備え、上記エアーパージ式液位計で検出
された液位の減少量からガラス溶融炉に供給される廃液
の流量を算出し、その流量が予め設定した流量になるよ
うに上記エアーリフトポンプの駆動量を調節するように
した廃液供給タンクの流量制御方法において、上記廃液
の流量を一定時間に区切って繰り返しサンプリングして
その一定時間毎の流量平均を算出し、最新に算出された
流量平均と、これより前回に算出された一次遅れの流量
平均とをそれぞれ設定流量値と比較してそれぞれの差を
求め、それらの値が同一符号となる場合にのみ上記エア
ーリフトポンプの駆動量を調節するようにしたものであ
る。
に本発明は、高レベル放射性廃液をガラス溶融炉に供給
する廃液供給タンクに、その液位を検出するエアーパー
ジ式液位計と、高レベル放射性廃液を払い出すエアーリ
フトポンプとを備え、上記エアーパージ式液位計で検出
された液位の減少量からガラス溶融炉に供給される廃液
の流量を算出し、その流量が予め設定した流量になるよ
うに上記エアーリフトポンプの駆動量を調節するように
した廃液供給タンクの流量制御方法において、上記廃液
の流量を一定時間に区切って繰り返しサンプリングして
その一定時間毎の流量平均を算出し、最新に算出された
流量平均と、これより前回に算出された一次遅れの流量
平均とをそれぞれ設定流量値と比較してそれぞれの差を
求め、それらの値が同一符号となる場合にのみ上記エア
ーリフトポンプの駆動量を調節するようにしたものであ
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明を実施する好適一形
態を添付図面を参照しながら説明する。
態を添付図面を参照しながら説明する。
【００１０】図１は本発明方法に係る廃液供給タンク１
及びその廃液の流量制御チャートの実施の一形態を示し
たものであり、図中２は廃液供給タンク１内の液相と気
相との圧力の差から液位を検出するエアーパージ式液位
計、３は廃液供給タンク１の液を払い出すエアーリフト
ポンプ、４はこのエアーリフトポンプ３に空気を供給す
るエアーポンプ、５はエアーリフトポンプ３の駆動量を
調節するエアーリフトポンプ駆動弁、６は廃液供給タン
ク１内の液を攪拌する攪拌羽根とこれを駆動するモータ
からなる攪拌機である。
及びその廃液の流量制御チャートの実施の一形態を示し
たものであり、図中２は廃液供給タンク１内の液相と気
相との圧力の差から液位を検出するエアーパージ式液位
計、３は廃液供給タンク１の液を払い出すエアーリフト
ポンプ、４はこのエアーリフトポンプ３に空気を供給す
るエアーポンプ、５はエアーリフトポンプ３の駆動量を
調節するエアーリフトポンプ駆動弁、６は廃液供給タン
ク１内の液を攪拌する攪拌羽根とこれを駆動するモータ
からなる攪拌機である。
【００１１】図示するように、この廃液供給タンク１内
にはガラス固化処分される高レベル放射性廃液が貯留さ
れており、エアーリフトポンプ３によってガラス溶融炉
（図示せず）側に定量供給できるようになっている。
尚、この廃液供給タンク１内の高レベル放射性廃液は、
その量が一定レベルを下回った場合には必要に応じて廃
液供給ライン７からバッチ式に供給されるようになって
いる。
にはガラス固化処分される高レベル放射性廃液が貯留さ
れており、エアーリフトポンプ３によってガラス溶融炉
（図示せず）側に定量供給できるようになっている。
尚、この廃液供給タンク１内の高レベル放射性廃液は、
その量が一定レベルを下回った場合には必要に応じて廃
液供給ライン７からバッチ式に供給されるようになって
いる。
【００１２】また、エアーパージ式液位計２とエアーリ
フトポンプ３には流量制御ロジックが組み込まれた流量
制御手段８が設けられており、エアーパージ式液位計２
で検出された値を入力して流量を演算し、その演算値に
応じてエアーリフトポンプ３を駆動するエアーポンプ４
及びエアーリフトポンプ駆動弁５を制御するようになっ
ている。
フトポンプ３には流量制御ロジックが組み込まれた流量
制御手段８が設けられており、エアーパージ式液位計２
で検出された値を入力して流量を演算し、その演算値に
応じてエアーリフトポンプ３を駆動するエアーポンプ４
及びエアーリフトポンプ駆動弁５を制御するようになっ
ている。
【００１３】次に、このように構成した廃液供給タンク
１の流量制御方法を説明する。
１の流量制御方法を説明する。
【００１４】先ず、攪拌機６を駆動させた状態でエアー
リフトポンプ３を駆動し、予め定められた駆動量で廃液
供給タンク１内の高レベル放射性廃液を払い出してガラ
ス溶融炉側に一定量（１Ｌ／ｍｉｎ）で供給しておく。
リフトポンプ３を駆動し、予め定められた駆動量で廃液
供給タンク１内の高レベル放射性廃液を払い出してガラ
ス溶融炉側に一定量（１Ｌ／ｍｉｎ）で供給しておく。
【００１５】すると、この廃液の供給に伴って液位が徐
々に減少（−１ｍｍ／ｍｉｎ）することになるため、そ
の液位の変動量をエアーパージ式液位計２によって一定
の時間（１０分間）繰り返して検出し、その変動量をサ
ンプリングとして抽出して流量制御手段８に入力する。
々に減少（−１ｍｍ／ｍｉｎ）することになるため、そ
の液位の変動量をエアーパージ式液位計２によって一定
の時間（１０分間）繰り返して検出し、その変動量をサ
ンプリングとして抽出して流量制御手段８に入力する。
【００１６】流量制御手段８では先ず最初に入力された
サンプリング（Ｆ）から液位を平均化すると共に流量算
出部（Ｅ）によって流量を算出した後、１０分間当たり
の流量平均を求め、その値を一次遅れ（Ａ）として一時
的に記憶しておく。次に、同様にその直後に入力された
最新のサンプリング（Ｆ）からその液位を平均化すると
共に流量を算出した後、１０分間の流量平均（Ｂ）を求
める。
サンプリング（Ｆ）から液位を平均化すると共に流量算
出部（Ｅ）によって流量を算出した後、１０分間当たり
の流量平均を求め、その値を一次遅れ（Ａ）として一時
的に記憶しておく。次に、同様にその直後に入力された
最新のサンプリング（Ｆ）からその液位を平均化すると
共に流量を算出した後、１０分間の流量平均（Ｂ）を求
める。
【００１７】次に、このようにして算出された最新の流
量平均（Ｂ）と、前回算出した一次遅れの流量平均
（Ａ）とをそれぞれ予め設定された設定流量と比較し、
それぞれの差をｅ１，ｅ２として求めた後、これらｅ
１，ｅ２を比較演算（Ｃ）する。
量平均（Ｂ）と、前回算出した一次遅れの流量平均
（Ａ）とをそれぞれ予め設定された設定流量と比較し、
それぞれの差をｅ１，ｅ２として求めた後、これらｅ
１，ｅ２を比較演算（Ｃ）する。
【００１８】そして、このｅ１，ｅ２が同一符号であれ
ば、その平均値を２位置制御部（Ｄ）及び積分器（Ｇ）
に入力してエアーリフトポンプ駆動方向を定め、ＩＮＣ
Ｖ量エアリフトポンプの駆動量を変える信号を出力す
る。一方、ｅ１，ｅ２の符号が異なっている場合には、
いずれも流量算出部（Ｅ）で算出された流量値が不確実
なものと判断して採用せず、再びサンプリング（Ｆ）を
行うことになる。
ば、その平均値を２位置制御部（Ｄ）及び積分器（Ｇ）
に入力してエアーリフトポンプ駆動方向を定め、ＩＮＣ
Ｖ量エアリフトポンプの駆動量を変える信号を出力す
る。一方、ｅ１，ｅ２の符号が異なっている場合には、
いずれも流量算出部（Ｅ）で算出された流量値が不確実
なものと判断して採用せず、再びサンプリング（Ｆ）を
行うことになる。
【００１９】すなわち、本発明は時間をずらしてサンプ
リングを繰り返し、流量算出部（Ｅ）で算出された最新
１０分間の流量算出値と前回の流量算出値から設定流量
との差ｅ１，ｅ２を求め、これらｅ１，ｅ２が同一符号
であれば、正確な制御が行えると判断し、制御を実施す
るものである。
リングを繰り返し、流量算出部（Ｅ）で算出された最新
１０分間の流量算出値と前回の流量算出値から設定流量
との差ｅ１，ｅ２を求め、これらｅ１，ｅ２が同一符号
であれば、正確な制御が行えると判断し、制御を実施す
るものである。
【００２０】従って、正確な制御情報により、エアーリ
フトポンプ３を駆動するエアーリフトポンプ駆動弁５が
無駄な動きをすることがなくなって適切な動作、すなわ
ち、適切な定量供給制御を行うことが可能となる。
フトポンプ３を駆動するエアーリフトポンプ駆動弁５が
無駄な動きをすることがなくなって適切な動作、すなわ
ち、適切な定量供給制御を行うことが可能となる。
【００２１】尚、本実施の形態で示した各種数値は、例
えば、エアリフトポンプ３の流量、廃液供給タンク１の
液位の変動量、攪拌機６による液位の変動量、サンプリ
ング時間等はあくまでも一例であって適宜変動するもの
であり、本発明の技術範囲を何ら限定するものでないこ
とはいうまでもない。
えば、エアリフトポンプ３の流量、廃液供給タンク１の
液位の変動量、攪拌機６による液位の変動量、サンプリ
ング時間等はあくまでも一例であって適宜変動するもの
であり、本発明の技術範囲を何ら限定するものでないこ
とはいうまでもない。
【００２２】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、従来のよ
うな１度のサンプリングを基に行うＰＩ制御ではなく、
時間をずらして２度のサンプリングを行いその演算符号
が一致する場合にのみエアーリフトポンプの制御を行う
ようにしたことから、攪拌機による液位の外乱を受けて
も液位の変動量を正確に演算して適切な定量供給制御を
行うことができる等といった優れた効果を発揮すること
ができる。
うな１度のサンプリングを基に行うＰＩ制御ではなく、
時間をずらして２度のサンプリングを行いその演算符号
が一致する場合にのみエアーリフトポンプの制御を行う
ようにしたことから、攪拌機による液位の外乱を受けて
も液位の変動量を正確に演算して適切な定量供給制御を
行うことができる等といった優れた効果を発揮すること
ができる。
【図１】本発明の実施の一形態を示す説明図である。
１ 廃液供給タンク ２ エアーパージ式液位計 ３ エアーリフトポンプ ４ エアーポンプ ５ エアーリフトポンプ駆動弁 ６ 攪拌機 ７ 廃液供給ライン ８ 流量制御部
Claims (1)
- 【請求項１】 高レベル放射性廃液をガラス溶融炉に供
給する廃液供給タンクに、その液位を検出するエアーパ
ージ式液位計と、高レベル放射性廃液を払い出すエアー
リフトポンプとを備え、上記エアーパージ式液位計で検
出された液位の減少量からガラス溶融炉に供給される廃
液の流量を算出し、その流量が予め設定した流量になる
ように上記エアーリフトポンプの駆動量を調節するよう
にした廃液供給タンクの流量制御方法において、上記廃
液の流量を一定時間に区切って繰り返しサンプリングし
てその一定時間毎の流量平均を算出し、最新に算出され
た流量平均と、これより前回に算出された一次遅れの流
量平均とをそれぞれ設定流量値と比較してそれぞれの差
を求め、それらの差の値が同一符号となる場合にのみ上
記エアーリフトポンプの駆動量を調節するようにしたこ
とを特徴とする廃液供給タンクの流量制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15367297A JPH112695A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 廃液供給タンクの流量制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15367297A JPH112695A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 廃液供給タンクの流量制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH112695A true JPH112695A (ja) | 1999-01-06 |
Family
ID=15567658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15367297A Pending JPH112695A (ja) | 1997-06-11 | 1997-06-11 | 廃液供給タンクの流量制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH112695A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109243658A (zh) * | 2018-09-18 | 2019-01-18 | 北京清核朝华科技有限公司 | 一种二次放射性洗消废液的处理系统及处理方法 |
| KR20240114148A (ko) * | 2023-01-16 | 2024-07-23 | 한국수력원자력 주식회사 | 액체 방사성 폐기물 투입시스템 |
-
1997
- 1997-06-11 JP JP15367297A patent/JPH112695A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109243658A (zh) * | 2018-09-18 | 2019-01-18 | 北京清核朝华科技有限公司 | 一种二次放射性洗消废液的处理系统及处理方法 |
| KR20240114148A (ko) * | 2023-01-16 | 2024-07-23 | 한국수력원자력 주식회사 | 액체 방사성 폐기물 투입시스템 |
| WO2024154899A1 (ko) * | 2023-01-16 | 2024-07-25 | 한국수력원자력 주식회사 | 액체 방사성 폐기물 투입시스템 |
| JP2025508295A (ja) * | 2023-01-16 | 2025-03-26 | コリア ハイドロ アンド ニュークリアー パワー カンパニー リミテッド | 液体放射性廃棄物投入システム |
| US20260179801A1 (en) * | 2023-01-16 | 2026-06-25 | Korea Hydro & Nuclear Power Co., Ltd | Liquid radioactive waste input system |
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