JPH11269624A - コーティングメタルストリップ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 金属ストリップ連続溶融鍍金装置。 【解決手段】第１被覆金属浴を維持する第１鍍金槽１１
と、その内の溶融金属浴を加熱する第１金属加熱手段と
を有し、第１鍍金槽１１よりも底浅であって第１鍍金槽
１１上部に着脱可能にして、かつ第２被覆金属溶融浴を
維持する第２鍍金槽２１と、その内の溶融金属浴を加熱
し得る第２金属加熱手段とを有し、第２鍍金槽２１が第
１鍍金槽１１から取り出されている場合は、第１被覆金
属溶融浴内にストリップを浸漬させるために、第１鍍金
槽１１上部に対してストリップを送入れ及び送出し、第
２鍍金槽２１が第１鍍金槽１１上部に取り付けられてい
る場合は、第２被覆金属溶融浴内にストリップを浸漬さ
せるために、第２鍍金槽２１上部に対してストリップを
送入れ及び送出し得るストリップ送り手段を有する、金
属ストリップ連続溶融鍍金装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、溶融鍍金法により
金属ストリップに保護被覆を形成することに関する。本
発明は、亜鉛又はアルミニウム−亜鉛合金からなる金属
製保護被覆をストリップ鋼へ連続溶融鍍金することに関
して特に好適であるが、この用途に限定されるものでは
ない。

【０００２】

【従来の技術】一般に溶融亜鉛鍍金法においては、スト
リップ鋼は焼鈍炉で処理され、鍍金槽内に維持された被
覆用金属浴へ浸漬されるまで炉内の還元性雰囲気下で保
護される。被覆用金属は通常、誘導加熱装置により鍍金
槽内で溶融状態に維持される。ストリップは、浴内へ下
降する細長い炉出口シュート又はスノート（筒口）内を
通過する。浴内において、ストリップは、一又は複数の
シンクロールの周囲を通過した後、浴から引き上げられ
る。被覆浴から引き上げられた後、ストリップはガスナ
イフ又はガスワイピングステーションを通過するが、こ
のとき、被覆表面がワイピングガス噴流に晒されて該被
覆厚が調整される。通常の亜鉛鍍金法においては、被覆
材料は亜鉛又は約０．２重量％のアルミニウムを含有す
る亜鉛である。この方法に依れば、適度の耐食性を有
し、適度の製造費で製造することのできる標準的な亜鉛
鍍金鋼を得ることができる。また、アルミニウム含有量
が例えば２５乃至７０％であるような、よりアルミニウ
ム含有量の高い亜鉛−アルミニウム合金を使用すること
により優れた被覆を得ることができる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】現在、アルミニウム含
有量の高い亜鉛−アルミニウム合金で被覆された高耐食
性ストリップの製造と、汎用性亜鉛被覆を形成してなる
標準的な亜鉛鍍金ストリップの製造とを同一装置内で実
施するために、切り替え運転が可能であるような溶融鍍
金装置の提供が望まれている。特に、依然として標準的
な亜鉛鍍金ストリップが必要とされる場合においても、
亜鉛−アルミニウム合金により被覆された高耐食性スト
リップを製造する装置が、世界中に多く存在することか
ら、これらの装置において、両種のストリップ加工を実
施しうるように切り替え運転を可能とすることが望まれ
ている。両種の被覆用金属を維持するために同一の鍍金
槽を使用することは、商業的にも技術的にも好ましいこ
とではない。なぜなら、一方の被覆仕様から他方の被覆
仕様へ変更する際に、鍍金槽を完全に汲出するか、空に
することが必要であり、この作業により必然的に、被覆
用金属誘導加熱装置及び槽内耐火材料が損傷を被る結果
となる。また、この作業は非常に時間のかかる作業であ
り、再生が必要な金属を発生させるものでもある。更
に、アルミニウム含有量の大きい金属を内包していた槽
内でほぼ純粋な亜鉛浴を調製することは非常に困難であ
る。

【０００４】二つの固定式鍍金槽を並列に配置し、スト
リップ供給ライン及び炉を可動に設計し、両槽に対して
選択的に位置決め可能とした装置が知られている。しか
しながら、このような装置は非常に高価であり、且つ、
可動部の設計において工学的に困難な問題も有してい
る。

【０００５】また、鍍金槽を移動し、類似の置換槽と置
き換える装置も知られているが、この装置も同様に非常
に高価なものである。この種の装置における一具体例
が、Ｋｉｌｌｅｎらによる米国特許第３６４３６２７号
に開示されている。該米国特許に開示される装置及び方
法は、二つの鍍金槽を支持しうる回転台を使用すること
により、被覆用金属の変更が必要な場合は、生産ライン
上の鍍金槽を回転させて、生産ラインから外すと同時
に、他方の鍍金槽を生産ライン上へ回転させるものであ
る。また、この種の装置における別例がＷｈｉｔｌｅｙ
による米国特許第３１３００６８号に開示されている。
該米国特許は、一方の鍍金槽を他方の鍍金槽と交換する
方法を開示しており、該方法は、第１の鍍金槽から溶融
被覆用金属を全て取出し、空になった鍍金槽を被覆ステ
ーションから取出し、該被覆ステーションに第２の鍍金
槽を載置し、該第２の鍍金槽内に第２の被覆用金属をポ
ンプ注入し、被覆工程を再開するものである。

【０００６】また、第１の鍍金槽内に第２の鍍金槽を設
置する装置も知られている。特に、Ｇｅｒａｒｄによる
米国特許第４６４５６９５号においては、第１の金属を
内包する底深の第１鍍金槽に比して、第２の金属を内包
する第２の鍍金槽を底浅とし、この第２鍍金槽を前記第
１鍍金槽内の第１被覆用金属内へ浸漬することにより、
被覆加工ラインを調整するための実質的変更を伴わず
に、第１の被覆用金属に代わって第２の被覆用金属を金
属ストリップ上に被覆することのできる装置が開示され
ている。この米国特許においては、第１被覆用金属内へ
第２鍍金槽を浸漬することにより、第１被覆用金属の熱
を利用して第２被覆用金属の温度を維持している。この
入れ子式浸漬装置においては、多数の問題点がある。例
えば、被覆作業後に第２鍍金槽を取り出す際に、該第２
鍍金槽外表面からの第１被覆用金属の滴下を防ぐことは
困難である。加えて、第１被覆用金属と第２鍍金槽外表
面とが接触することにより、第２鍍金槽の経時腐食が加
速される。更に、第１鍍金手段に第２鍍金槽を浸漬する
ことにより、第２鍍金槽外表面上の不純物が第１被覆金
属内へ混入する可能性がある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、主鍍金槽を使
用して第１被覆金属によるストリップの被覆加工を行な
い、主鍍金槽内の溶融金属浴面を誘導加熱装置より高位
に維持したまま、第２の底浅鍍金槽を主鍍金槽内上部に
設置して第２被覆金属による被覆加工を行なうことによ
り、上記の公知装置における問題点を解消するものであ
る。

【０００８】本発明によれば、ストリップへ鍍着される
被覆種を変更しうる溶融鍍金装置内におけるストリップ
の被覆方法が提供され、該方法は、第１鍍金槽内に維持
された第１被覆金属からなる溶融浴を、該浴と連通する
金属流路を具備する誘導加熱装置の操作により溶融状態
に維持した状態で、該溶融浴中にストリップを通過させ
て第１被覆金属で被覆された鍍金加工ストリップを製造
する工程と、ストリップに対する被覆作業を停止する工
程と、第１鍍金槽内の前記第１被覆金属からなる溶融浴
の液面を降下させて、誘導加熱装置と溶融浴との連通を
遮断しない程度に第１鍍金槽上部に空間を形成する工程
と、空間が形成された第１鍍金槽上部に、第１鍍金槽に
比して底浅の第２鍍金槽を、第１被覆金属からなる溶融
浴の降下された液面上方で該液面と非接触に支持される
ように配置する工程と、第２鍍金槽内に第２被覆金属か
らなる溶融浴を形成する工程と、第２鍍金槽内の第２被
覆金属からなる溶融浴中にストリップを通過させて、第
２被覆金属で被覆された鍍金加工ストリップを製造する
工程とからなる。

【０００９】好ましくは、誘導加熱装置の金属流路を、
第１鍍金槽内溶融浴の降下された液面又は該液面より下
方で、第１鍍金槽内部と連通させることにより、第１及
び第２被覆金属によるストリップ被覆全工程を通じて、
該金属流路を第１溶融金属により満たされた状態に維持
する。

【００１０】好ましくは、第２被覆金属を予め溶融し、
予め溶融した該金属を第２鍍金槽内へ注入することによ
り、第２鍍金槽内に第２被覆金属からなる溶融浴を形成
する。

【００１１】好ましくは、第２鍍金槽に付設された抵抗
加熱手段を操作して溶融浴を加熱することにより、第２
鍍金槽内部でストリップの浸漬被覆が実施されている
間、第２被覆金属からなる溶融浴を溶融状態に維持す
る。

【００１２】好ましくは、抵抗加熱手段は、第２被覆金
属からなる溶融浴内に浸漬されるハウジング内に設置さ
れた一又は複数の抵抗加熱要素として構成され、該一又
は複数の抵抗加熱要素は該ハウジングにより溶融金属と
の接触を遮断される。

【００１３】代替的に、抵抗加熱手段は、第２鍍金槽外
部に位置する電気加熱装置として構成されてもよい。好
ましくは、第２鍍金槽内においてストリップの溶融鍍金
が実施されている間、誘導加熱手段を操作することによ
り、液面が降下された状態にある第１被覆金属からなる
溶融浴を溶融状態に維持する。

【００１４】ストリップは、第１被覆金属による被覆作
業の間、第１鍍金槽内において一又は複数の第１群シン
クロールに従い送られ、第２被覆金属による被覆作業の
間、第２鍍金槽において一又は複数の第２群シンクロー
ルに従い送られる。

【００１５】この場合、第２鍍金槽が第１鍍金槽内上部
に設置する前に、第１鍍金槽から一又は複数の第１群シ
ンクロールを取出する。より詳しくは、第１被覆金属か
らなる溶融浴の液面を降下させる工程の前に、第１鍍金
槽から一又は複数の第１群シンクロールを取出する。

【００１６】また本発明は、金属ストリップの連続溶融
鍍金装置を提供するものであり、該装置は、第１被覆金
属からなる溶融浴を維持する第１鍍金槽と、第１鍍金槽
内の溶融金属浴を加熱する第１金属加熱手段と、第１鍍
金槽に比して底浅であって第１鍍金槽内上部に着脱可能
な、第２被覆金属からなる溶融浴を維持する第２鍍金槽
と、第２鍍金槽内の金属溶融浴を加熱しうる第２金属加
熱手段と、第２鍍金槽が第１鍍金槽から取出されている
間、第１被覆金属からなる溶融浴にストリップを浸漬さ
せるために、第１鍍金槽上部に対してストリップを送入
及び送出させ、第２鍍金槽が第１鍍金槽上部に取着され
ている間、第２被覆金属からならる浴にストリップを浸
漬させるために、第２鍍金槽内の溶融浴に対してストリ
ップを送入及び送出するストリップ送り手段とからな
る。

【００１７】好ましくは、該装置は、溶融鍍金工程に先
立ってストリップを加熱する炉を更に含んでなる。更に
好ましくは、該炉は、ストリップ送り手段によりストリ
ップが第１被覆金属溶融浴又は第２被覆金属溶融浴内へ
送入される際に、ストリップを空気に晒すことなく包囲
する細長い出口シュート又はスノートを有してなる。

【００１８】更に好ましくは、該装置は、第１被覆金属
溶融浴又は第２被覆金属溶融浴から取出された鍍金加工
ストリップの表面を払拭して被膜の厚さを調整するガス
ワイピング手段を含んでなる。

【００１９】更に、当該装置は、被覆浴内でストリップ
を誘導するシンクロール手段を含むものであってもよ
い。シンクロール手段は、第２鍍金槽が取出されている
間、第１鍍金槽内の溶融浴にストリップを誘導するため
の、第１鍍金槽内に設置可能な一もしくは複数のシンク
ロール又は一対のシンクロールを有してなり、更に、第
２鍍金槽が第１鍍金槽上部に取着されている間、第２鍍
金槽内の溶融浴にストリップを誘導するための、第２鍍
金槽内に設置可能な一又は複数の更なるシンクロールを
有してなる。

【００２０】一又は複数の更なるシンクロールは、第１
鍍金槽内に設置可能な一又は複数のシンクロールよりも
小径であって良い。好ましくは、第２鍍金槽内に設置さ
れる第２群シンクロールは一対のロールである。

【００２１】更に好ましくは、該シンクロール対は、一
又は複数の第１群シンクロールにより第１鍍金槽内の溶
融浴内でストリップを送る方向と実質同一方向に、第２
鍍金槽内の溶融浴に対してストリップを送入及び送出す
るように設置可能なものである。

【００２２】第１金属加熱手段は、第１鍍金槽周囲に配
置された誘導加熱装置を包含してなる。第２金属加熱手
段は、抵抗加熱手段を包含してなる。

【００２３】抵抗加熱手段は、第２鍍金槽を包囲する抵
抗加熱装置として構成することができる。第２鍍金槽は
鋼壁を有してなり、該鋼壁の外表面上に抵抗加熱装置が
取着される。

【００２４】代替的に、抵抗加熱手段は、第２被覆金属
からなる溶融浴内に浸漬されて使用されるハウジング内
に配置される一又は複数の抵抗加熱要素として構成する
ことも可能であり、該一又は複数の加熱要素は該ハウジ
ングにより、溶融金属との接触を遮断される。

【００２５】当該装置においては、抵抗加熱手段は多数
の加熱要素を包含してなることが好ましい。ハウジング
は、多数の管として構成されることが好ましい。

【００２６】各管内には一つの加熱要素が配置されるこ
とが好ましい。各管は、側壁における開口部を介して延
出することが好ましい。該開口部と、該開口部内に位置
する管部位との間は、鍍金槽からの溶融金属の漏出を防
止すべく摩擦嵌めにより効果的に密封されることが好ま
しい。

【００２７】好ましくは、該開口部は槽内部へ向かって
内向きにテーパー加工されてなり、該開口部内に位置す
る管部位も対応するテーパー形状を有してなる。各管
は、側壁外表面に溶接されたフランジを包含してなるこ
とが好ましい。

【００２８】抵抗加熱手段は、電源と接続された端子箱
を包含してなることが好ましい。抵抗加熱手段は、加熱
要素を端子箱に接続する電気的接続手段を包含してなる
ことが好ましい。

【００２９】各管は槽側壁から槽内に延出してなるが、
管の熱膨張を考慮して槽内対向側壁までは延出しないこ
とが好ましい。一又は複数の管に構造的欠陥が存在する
場合、及び、溶融材料が管内部へ浸透する場合を考慮し
て、加熱要素の酸化防止、及び、溶融材料流入に対する
障壁形成に好適な材料からなる粒子、顆粒又はビーズに
より、管が少なくとも部分的に充填されることが好まし
い。

【００３０】上記充填材料はセラミック材料であること
が好ましい。更に好ましくは、該セラミック材料はＭｇ
Ｏである。管は槽底壁近傍に設置されることが好まし
い。

【００３１】更に好ましくは、管と接合する一又は複数
の槽側壁と直交し、互いに対向する槽側壁近傍に管が配
置される。管は平行配置されることが好ましい。

【００３２】好ましくは、管は二つの群からなり、一方
の群は、第１の前記側壁から第２の前記側壁へ向かって
延出し、他方の群は、第２の前記側壁から第１の前記側
壁へ向かって延出してなる。

【００３３】

【発明の実施の形態】本発明をより詳細に説明するため
に、以下、一具体例を図面参照しつつ詳細に説明する。

【００３４】ストリップ鋼１５に被膜を形成する図示の
溶融鍍金装置は、総括的に符号１１で示される主鍍金槽
を構成要素とし、該主鍍金槽は、２５乃至７５％のアル
ミニウムを含有する亜鉛−アルミニウム合金からなる溶
融鍍金浴１２を維持している。鍍金槽１１は、耐火性の
裏張りが施された大型誘導加熱炉として構成され、その
周囲に金属流路１３及び溶融金属浴１２を液状に維持す
るための誘導加熱装置１４を具有している。誘導加熱装
置は、概ねＵ字型の金属流路２０を具備しており、該流
路２０は電圧印加コイルが装着された強磁性環により包
囲されている。この構成により、操作時において通路１
３からの溶融金属流が誘導装置内包囲流路２０内を回流
する結果、該金属が誘導加熱され、通路１３を介して再
び浴内へ噴流される。鍍金槽１１と並んで誘導加熱型前
溶融炉（非図示）が配置されており、前溶融炉内におい
て予め溶融された被覆金属を鍍金槽へポンプ注入するこ
とにより形成された浴１２は、以後、誘導加熱装置１４
の操作により溶融状態に維持される。

【００３５】ストリップ鋼１５は、鍍金槽内で溶融鍍金
加工される前に焼鈍されることにより、柔軟性が増し成
形性が向上する。ストリップは、鍍金槽内溶融金属浴に
その先端を浸漬させてなる炉出口シュート又はスノート
１６を介して焼鈍炉から供給されるため、炉内高温ガス
からなる還元性雰囲気の下で、空気に晒されることな
く、被覆浴１２内に送入される。

【００３６】図１は、鍍金槽１１内の亜鉛−アルミニウ
ム合金からなる浴１２内でストリップ１５を溶融鍍金加
工する状態にある装置を示している。この操作方法に関
して、鍍金槽１１には大直径のシンクロール１７が設置
されており、このとき浴１２の液位は、鍍金槽をほぼ満
たす程度に維持されているので、シンクロール１７は該
浴内に浸漬している。ストリップ１５はシンクロール１
７に従って浴内を通過し、冷却スプレー（非図示）を受
けながら上部反転ロール（非図示）に従い浴から上方に
引き上げられる。この上部反転ロールは、ストリップが
該ロールと接触する以前に、金属被膜が十分に固化しう
る程度の高さに取着されている。

【００３７】浴１２から引き上げられる際、被覆された
ストリップは一対のガスナイフ１８の間を通過する。該
ガスナイフ１８は、ストリップの被覆表面にワイピング
ガスを吹き付けて被膜厚を調整するものである。ガスナ
イフ１８は支持フレーム１９に取着されており、以下に
記載する方法で装置を亜鉛鍍金用に切り替える際は、容
易に格納又はその位置を変更することができるものであ
る。ガスナイフ１８は従来の構成であって良い。また、
ガスナイフは、豪国特許第６３０２８１号に記載の方法
のように、ガスナイフを具備するフローターパッドとし
て構成されても良い。

【００３８】これまで説明され且つ図１において図示さ
れた溶融鍍金装置は、従来技術によるものである。しか
しながら、本発明によれば、該装置を、異なる組成の金
属被覆によるストリップの溶融鍍金を可能にする装置に
転換することができる。この転換は、相対的に底浅の第
２鍍金槽２１を、主鍍金槽１１の上部に取着し、相対的
に大径のシンクロール１７を一対の小径シンクロ−ル２
２と交換することにより達成され、この様子が図２及び
３に示されている。

【００３９】第２鍍金槽２１は、主鍍金槽１１の上部リ
ム上に支持される上部外枠２３、及び、主鍍金槽１１内
上部を占める主浴槽部２４とを備えて構成される。浴槽
部２４は、主鍍金槽１１内の液位が下部通路１３及び誘
導加熱装置１４を溶融金属で浸漬するに十分な高さに維
持されている溶融金属浴の上に設置しうる程度に、十分
底浅な構成となっている。小径シンクロール２２は、装
置主枠から懸垂する二つの支持アーム２８の間で回転可
能なものであり、第２鍍金槽内に維持された亜鉛浴２５
内に完全に浸漬されるものである。溶融亜鉛浴はまず、
主鍍金槽１１とは独立に並設された前溶融炉（非図示）
からポンプにより注入される。通常、亜鉛前溶融炉は、
亜鉛−アルミニウム合金用の前溶融炉とは独立に設けら
れる。

【００４０】小径シンクロール２２は、小型鍍金槽浴槽
部２４の底面を横切るように配置され、このことによ
り、主鍍金槽内浴における溶融鍍金の際のストリップ進
行方向と同一の方向で、ストリップ１５を第２鍍金槽２
１内浴に対して送入出することが可能となる。このよう
に、炉スノート１６を介して、同様のストリップ送り手
段により容易に、ストリップが浴内へ送入され、次い
で、反転ロール（非図示）として具現化されるストリッ
プ送り手段により、ストリップはガスナイフ１８間を鉛
直に引き上げられる。

【００４１】亜鉛浴２５を溶融状態に維持するために、
第２鍍金槽２１には抵抗加熱手段が設けられている。図
４乃至６に示される態様において、抵抗加熱手段は、当
該槽浴槽部２４鋼壁の外面に取着された抵抗加熱装置３
１として具現化されている。図５及び６に示されるよう
に、加熱装置３１は、浴槽部２４外周に水平に張り巡ら
され、且つ、供給側及び戻り側ソケット３２、３３と接
続された抵抗加熱装置として構成することができる。代
表的構成において、第２鍍金槽２１の容積は約３．５ｍ
³であり、この容積は約２１メートルトンの亜鉛に相当
し、熱損失平衡を考慮し、且つ、亜鉛浴を溶融状態に維
持するには３００ｋＷａｔｔに達する加熱能力を必要と
する。

【００４２】図７乃至１３に示される態様において、抵
抗加熱手段は、平行に整列した加熱要素６１（図８）を
構成要素とし、該加熱要素６１は、浴２５内に沈設さ
れ、且つ、浴２５内におけるストリップ進行方向に直交
する方向に延びる管６３に内包されている。管６３は主
に、加熱要素６１と浴２５内溶融亜鉛との接触を防ぐ目
的で採用されるものである。

【００４３】抵抗加熱手段は、更に、管６３及び内包加
熱要素６１を、例えば第２鍍金槽２１内においてストリ
ップの動きが制御不能となった場合に引き起こされる衝
撃から、保護するプレート８１を構成要素とする。

【００４４】図９、１２及び１３から理解されるよう
に、加熱手段は、更に、電源（非図示）に接続する端子
箱６７、及び、加熱要素６１を端子箱６７に接続する一
連の電気ケーブル／コネクター８７を構成要素とする。

【００４５】管６３は、第２鍍金槽２１の底壁６５及び
傾斜側壁８３近傍に配置される。管６３は二つの群から
なり、第１群は鍍金槽２１の操作者側側壁７１に設けら
れた開口部６９を貫通して延び、第２群は鍍金槽２１の
駆動側側壁７３に設けられた開口部６９を貫通して延び
るものである。各管６３は、側壁７１、７３において鍍
金槽２１を実質横断する如く接合されて、対向側壁７
１、７３から若干離れた位置まで各々延びるものであ
る。この場合のクリアランスＣ（図７）は、浴２５内に
おける管６３の軸方向への熱膨張を考慮したものであ
る。

【００４６】各管６３は、側壁開口部６９において摩擦
嵌めにより確実に固定されており、その結果、管６３と
側壁７１、７３との間が好適に密封されるものである。
加えて、側壁開口部６９はテーパー形状に構成され、且
つ、管６３において開口部６９内に位置する部分７５
（図１１）も開口部に対応してテーパー形状に構成され
ており、このような構成が密封性を向上させるものであ
る。更に、各管６３は、側壁７１、７３外面と接触する
フランジ７７（図１１）を有しており、このフランジ７
７が適所に溶接されることにより密封性が更に向上す
る。

【００４７】管６３は、加熱要素６１の酸化を防止する
ＭｇＯ（非図示）顆粒により充填されている。また、こ
の顆粒は溶融金属と接触することにより互いに融合する
ものであるので、浴２５内の亜鉛が管６３内部に浸透し
てきた場合に、溶融金属流に対して障壁を形成するもの
である。

【００４８】鍍金槽２１は、側壁７１、７３を覆う側壁
カバー８５（図９、１０）を有している。カバー８５
は、第１鍍金槽１１内における亜鉛−アルミニウム合金
との接触、並びに、被覆作業位置への鍍金槽２５の取着
及び取出の際における装置構成他部材との突発的な接触
による損傷から、管６３の露出端部を保護するものであ
る。

【００４９】代表的構成において、第２鍍金槽の容積は
約３．５ｍ³であり、この容積は約２１メートルトンの
亜鉛に相当し、熱損失平衡を考慮し、亜鉛浴を溶融状態
に維持するためには３００ｋＷａｔｔに達する加熱能力
を必要とする。

【００５０】亜鉛−アルミニウム合金によるストリップ
被覆が行われる図１に示される状態から、亜鉛によるス
トリップ鍍金を可能とする図２に示される状態へ装置を
転換するためには、以下の作業を実施することが必要で
ある。 １． 主鍍金槽１１内における亜鉛−アルミニウム合金
によるストリップ１５の浸漬被覆作業を停止する。スト
リップを切断し、切断されたストリップの両端を鍍金槽
から引き上げる。 ２． シンクロール１７及びガスナイフ１８等の主鍍金
槽１１上部口近傍にある装置を取出する。 ３． 亜鉛−アルミニウム合金を鍍金槽１１からポンプ
吸引又は排出して、主鍍金槽内の浴面を図２に示す位置
まで降下させ、炉スノート１６を取出する。 ４． 第２鍍金槽２１を主鍍金槽１１内上部へ配置し固
定する。このとき、第２鍍金槽の底部は、主鍍金槽内に
残存する亜鉛−アルミニウム浴と接触しない程度に近接
する。 ５． 小径シンクロール２２を第２鍍金槽内に設置す
る。 ６． 炉スノート１６及びガスワイピングナイフ１８を
その動作位置に再設置する。 ７． 亜鉛前溶融炉から第２鍍金槽２１内へ溶融亜鉛を
ポンプ注入する。 ８． ストリップ１５を浴内送りロールに装着し、亜鉛
による溶融鍍金作業を実施する。 ９． 溶融鍍金作業の間、浴２５内の亜鉛を溶融状態に
維持するために、必要に応じて鍍金槽２１の抵抗加熱手
段を操作する。 １０． 全工程中、鍍金槽１１内の亜鉛−アルミニウム
合金を液状に維持するに十分な程度にその強度を低下さ
せて誘導加熱装置１４を操作する。

【図面の簡単な説明】

【図1】 亜鉛−アルミニウム合金によるストリップ鋼
溶融鍍金加工に使用される主鍍金槽を具有する溶融鍍金
装置の一部を示す縦断面図。

【図２】 本質的に亜鉛鍍金によるストリップ鋼の浸漬
鍍金加工のために、第２の底浅鍍金槽が取着された点が
図１と異なる装置を示す縦断面図。

【図３】 図２における線分３−３に従う断面図。

【図４】 底浅第２鍍金槽の一態様を示す平面図。

【図５】 図４に示される第２鍍金槽の側面図。

【図６】 図４及び５に示される第２鍍金槽の正面図。

【図７】 底浅第２鍍金槽の別態様を示す平面図。

【図８】 図７における８−８線における第２鍍金槽の
断面図。

【図９】 操作者側から見た第２鍍金槽の側面図。

【図１０】 図９における１０−１０線における断面
図。

【図１１】 抵抗加熱要素を収容する一つの管構成及び
第２鍍金槽側壁における開口部への該管の取付けを示
す、図１０の底部の拡大図。

【図１２】 図７乃至１１に示される第２鍍金槽におい
て、抵抗加熱要素を端子箱へ接続する電気ケーブル配線
を示すために側壁カバーを槽から外した駆動側から見た
側面図。

【図１３】 図１２に係る第２鍍金槽を操作者側から見
た側面図。

【手続補正書】

【提出日】平成１１年１月２２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の名称

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の名称】 コーティングメタルストリッ
プ ─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１１年３月３日

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】全図

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図１１】

【図５】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１２】

【図１３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 レズリー ジョージ ゴア オーストラリア国 2137 ニューサウスウ ェールズ州 コンコード バーウッド ロ ード ９／164イー (72)発明者 ロバート ジョン ヘンソン オーストラリア国 2530 ニューサウスウ ェールズ州 カナフッカ バーロウズ ア ヴェニュー ５ (72)発明者 パラニサミ カルナカラン オーストラリア国 2518 ニューサウスウ ェールズ州 タラワナ ペンデルトン ク ロース 28

Claims (18)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項1】 第１鍍金槽内に維持された第１被覆金属
   からなる溶融浴を、該浴と連通する金属流路を具備する
   誘導加熱装置の操作により溶融状態に維持した状態で、
   該溶融浴中にストリップを通過させて第１被覆金属で被
   覆された鍍金加工ストリップを製造する工程と、 ストリップに対する被覆作業を停止する工程と、 第１鍍金槽内の前記第１被覆金属からなる溶融浴の液面
   を降下させて、誘導加熱装置と溶融浴との連通を遮断し
   ない程度に第１鍍金槽上部に空間を形成する工程と、 空間が形成された第１鍍金槽上部に、第１鍍金槽に比し
   て底浅の第２鍍金槽を、第１被覆金属からなる溶融浴の
   降下された液面上方で該液面と非接触に支持されるよう
   に配置する工程と、 第２鍍金槽内に第２被覆金属からなる溶融浴を形成する
   工程と、 第２鍍金槽内の第２被覆金属からなる溶融浴中にストリ
   ップを通過させて、第２被覆金属で被覆された鍍金加工
   ストリップを製造する工程とからなるストリップに鍍着
   される被覆種を変化させうる溶融鍍金装置におけるスト
   リップ被覆方法。
2. 【請求項２】 誘導加熱装置の金属流路が、第１鍍金槽
   内溶融浴の降下された液面又は該液面より下方で、第１
   鍍金槽内部と連通することにより、第１及び第２被覆金
   属によるストリップ被覆全工程を通じて、該金属流路が
   第１溶融金属により満たされた状態を維持してなる請求
   項１に記載の方法。
3. 【請求項３】 第２被覆金属を予め溶融し、予め溶融さ
   れた該金属を第２鍍金槽内へ注入することにより、第２
   鍍金槽内に第２被覆金属からなる溶融浴を形成する請求
   項１又は２に記載の方法。
4. 【請求項４】 第２鍍金槽に付設された抵抗加熱手段を
   操作して溶融浴を加熱することにより、第２鍍金槽内部
   でストリップの浸漬被覆が実施されている間、第２被覆
   金属からなる溶融浴を溶融状態に維持する請求項１乃至
   ３のいずれか１項に記載の方法。
5. 【請求項５】 抵抗加熱手段が、第２被覆金属からなる
   溶融浴内に浸漬されたハウジング内に設置された一又は
   複数の抵抗加熱要素からなり、該一又は複数の抵抗加熱
   要素が該ハウジングにより溶融金属との接触を遮断され
   てなる請求項４に記載の方法。
6. 【請求項６】 抵抗加熱手段が第２鍍金槽外部に位置す
   る電気加熱装置である請求項４に記載の方法。
7. 【請求項７】 第２鍍金槽内においてストリップの溶融
   鍍金が実施されている間、誘導加熱手段を操作すること
   により、液面が降下された状態にある第１被覆金属から
   なる溶融浴を溶融状態に維持する請求項１乃至６のいず
   れか１項に記載の方法。
8. 【請求項８】 第１被覆金属による被覆作業の間、第１
   鍍金槽内において一又は複数の第１群シンクロールに従
   いストリップを送り、第２被覆金属による被覆作業の
   間、第２鍍金槽において一又は複数の第２群シンクロー
   ルに従いストリップを送る請求項１乃至７のいずれか１
   項に記載の方法。
9. 【請求項９】 第２鍍金槽が第１鍍金槽内上部に設置さ
   れる前に、第１鍍金槽から一又は複数の第１群シンクロ
   ールを取出する請求項８に記載の方法。
10. 【請求項１０】 第１被覆金属からなる溶融浴の液面を
    降下させる工程の前に、第１鍍金槽から一又は複数の第
    １群シンクロールを取出する請求項９に記載の方法。
11. 【請求項１１】 第１被覆金属からなる溶融浴を維持す
    る第１鍍金槽と、第１鍍金槽内の溶融金属浴を加熱する
    第１金属加熱手段と、 第１鍍金槽に比して底浅であって第１鍍金槽内上部に着
    脱可能な、第２被覆金属からなる溶融浴を維持する第２
    鍍金槽と、 第２鍍金槽内の金属溶融浴を加熱しうる第２金属加熱手
    段と、 第２鍍金槽が第１鍍金槽から取出されている間、第１被
    覆金属からなる溶融浴にストリップを浸漬させるため
    に、第１鍍金槽上部に対してストリップを送入及び送出
    させ、第２鍍金槽が第１鍍金槽上部に取着されている
    間、第２被覆金属からなる浴にストリップを浸漬させる
    ために、第２鍍金槽内の溶融浴に対してストリップを送
    入及び送出するストリップ送り手段とからなる金属スト
    リップ連続溶融鍍金装置。
12. 【請求項１２】 被覆浴内でストリップを誘導するシン
    クロール手段を更に有してなる請求項１１に記載の装
    置。
13. 【請求項１３】 シンクロール手段が、第２鍍金槽が取
    出されている間、第１鍍金槽内の溶融浴にストリップを
    誘導するための、第１鍍金槽内に設置可能な一もしくは
    複数のシンクロール又は一対のシンクロールを有してな
    り、更に、第２鍍金槽が第１鍍金槽上部に取着されてい
    る間、第２鍍金槽内の溶融浴にストリップを誘導するた
    めの、第２鍍金槽内に設置可能な一又は複数の更なるシ
    ンクロールを有してなる請求項１２に記載の装置。
14. 【請求項１４】 第２鍍金槽内に設置可能な一又は複数
    の更なるシンクロールが、第１鍍金槽内に設置可能な一
    又は複数のシンクロールよりも小径である請求項１３に
    記載の装置。
15. 【請求項１５】 第１金属加熱手段が、第１鍍金槽周囲
    に配置された誘導加熱装置からなる請求項１１乃至１４
    のいずれか１項に記載の装置。
16. 【請求項１６】 第２金属加熱手段が、抵抗加熱手段か
    らなる請求項１１乃至１５のいずれか１項に記載の装
    置。
17. 【請求項１７】 抵抗加熱手段が、第２被覆金属からな
    る溶融浴内に浸漬されて使用されるハウジング内に配置
    された一又は複数の抵抗加熱要素からなり、該一又は複
    数の加熱要素が該ハウジングにより、溶融金属との接触
    を遮断される請求項１６に記載の装置。
18. 【請求項１８】 第２金属加熱手段が、第２鍍金槽を包
    囲する抵抗加熱装置からなる請求項１６に記載の装置。