JPH11271020A - 干渉顕微鏡装置 - Google Patents
干渉顕微鏡装置Info
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- JPH11271020A JPH11271020A JP7760898A JP7760898A JPH11271020A JP H11271020 A JPH11271020 A JP H11271020A JP 7760898 A JP7760898 A JP 7760898A JP 7760898 A JP7760898 A JP 7760898A JP H11271020 A JPH11271020 A JP H11271020A
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- 238000010408 sweeping Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 19
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
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- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基準ミラーを機械的に移動させることなく、
観察物体面の凹凸画像を得る。 【解決手段】 レーザ光源1として波長掃引が可能な半
導体レーザを用いる。フリンジスキャン制御部16が物
体光と参照光との間に位相変化を与えるフリンジスキャ
ン出力信号をレーザ制御部17に出力し、レーザ制御部
17がレーザ光源1を制御する。干渉光34を位相変化
させることができるため、基準ミラーを移動させる必要
なく、観察物体面4の凹凸を観察することができる。
観察物体面の凹凸画像を得る。 【解決手段】 レーザ光源1として波長掃引が可能な半
導体レーザを用いる。フリンジスキャン制御部16が物
体光と参照光との間に位相変化を与えるフリンジスキャ
ン出力信号をレーザ制御部17に出力し、レーザ制御部
17がレーザ光源1を制御する。干渉光34を位相変化
させることができるため、基準ミラーを移動させる必要
なく、観察物体面4の凹凸を観察することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光を用いて観察物
体面の凹凸を画像化する干渉顕微鏡装置に関する。
体面の凹凸を画像化する干渉顕微鏡装置に関する。
【0002】
【従来の技術】物体光と参照光を干渉させ、その光の位
相を利用して観察物体面の凹凸を観察する従来の装置と
しては、V.R.Tychinsky,I.N.Mas
alov,V.L.Pankov and D.V.U
blinsky:OPTICSComm.,Vol.7
4,(1989),pp.37−40.に記載された位
相干渉顕微鏡装置が知られている。
相を利用して観察物体面の凹凸を観察する従来の装置と
しては、V.R.Tychinsky,I.N.Mas
alov,V.L.Pankov and D.V.U
blinsky:OPTICSComm.,Vol.7
4,(1989),pp.37−40.に記載された位
相干渉顕微鏡装置が知られている。
【0003】図4は、この位相干渉顕微鏡装置を示し、
コヒーレントな一定の波長の平面波を発生するレーザ発
振器221と、レーザ発振器221から発生したレーザ
光を物体光240と参照光250とに分割するハーフミ
ラー222とが設けられている。ハーフミラー222で
反射された物体光240の光路内には第1のレンズ22
3が配置され、物体光240は第1のレンズ223を通
って観察物体224に入射する。観察物体224に入射
した物体光240が観察物体224の表面で反射し、再
び第1のレンズ223を通った反射光260の光路内に
は、第3のレンズ230を介して反射光が入射する例え
ばCCDのような光検出器225が設けられている。
コヒーレントな一定の波長の平面波を発生するレーザ発
振器221と、レーザ発振器221から発生したレーザ
光を物体光240と参照光250とに分割するハーフミ
ラー222とが設けられている。ハーフミラー222で
反射された物体光240の光路内には第1のレンズ22
3が配置され、物体光240は第1のレンズ223を通
って観察物体224に入射する。観察物体224に入射
した物体光240が観察物体224の表面で反射し、再
び第1のレンズ223を通った反射光260の光路内に
は、第3のレンズ230を介して反射光が入射する例え
ばCCDのような光検出器225が設けられている。
【0004】一方、ハーフミラー222を透過した参照
光250の光路内には第2のレンズ226が配置され、
参照光250は第2のレンズ226を通って基準平面ミ
ラー227に入射する。そして、基準平面ミラー227
で反射した参照光は、再び第2のレンズ226を通って
ハーフミラー222で反射され、光検出器225に入射
する。
光250の光路内には第2のレンズ226が配置され、
参照光250は第2のレンズ226を通って基準平面ミ
ラー227に入射する。そして、基準平面ミラー227
で反射した参照光は、再び第2のレンズ226を通って
ハーフミラー222で反射され、光検出器225に入射
する。
【0005】光検出器225は観察物体224の反射光
である物体光と基準平面ミラー227の反射光である参
照光が干渉した信号を検出する。この光検出器225に
は光検出器225で検出した結果を記憶するメモリ22
8が接続され、このメモリ228にはコンピュータ22
9が接続されている。コンピュータ229はメモリ22
8の干渉強度から位相像を算出する。
である物体光と基準平面ミラー227の反射光である参
照光が干渉した信号を検出する。この光検出器225に
は光検出器225で検出した結果を記憶するメモリ22
8が接続され、このメモリ228にはコンピュータ22
9が接続されている。コンピュータ229はメモリ22
8の干渉強度から位相像を算出する。
【0006】このとき、レーザー発振器221が発生さ
せるレーザ光の波長をλ、位相の分解能をmとすると、
観察物体224の表面の凹凸の分解能Dは以下の式で求
められる。 D=m・λ/4π
せるレーザ光の波長をλ、位相の分解能をmとすると、
観察物体224の表面の凹凸の分解能Dは以下の式で求
められる。 D=m・λ/4π
【0007】上式において、波長λ=633nm、位相
の分解能m=5°のときの凹凸の分解能は、D=4nm
となり、凹凸の分解能は非常に高くなる。観察物体22
4の表面に垂直な方向をZ軸、観察物体224の表面に
対して平行な2方向をX,Y軸とした場合、この方法で
はZ軸方向の分解能は非常に高くなるが、X,Y方向の
分解能は通常の光学顕微鏡と同じレーザ光の波長λ程度
の分解能となる。
の分解能m=5°のときの凹凸の分解能は、D=4nm
となり、凹凸の分解能は非常に高くなる。観察物体22
4の表面に垂直な方向をZ軸、観察物体224の表面に
対して平行な2方向をX,Y軸とした場合、この方法で
はZ軸方向の分解能は非常に高くなるが、X,Y方向の
分解能は通常の光学顕微鏡と同じレーザ光の波長λ程度
の分解能となる。
【0008】このようなX,Y方向の分解能を高めるた
め、V.R.Tychinsky:OPTICS Co
mm.,Vol.74,(1989),pp.41−4
5に記載されているような位相を用いる方法が提案され
ている。この方法は、参照光を基準平面ミラー227で
反射させ、その位相を基準として観察物体224の位相
を測定するものである。この位相を得るためには、波長
の1/2の距離内を4〜5分割した距離分だけ基準平面
ミラー227を動かし、複数枚の干渉画像を得て、観察
物体は凹凸を位相像として測定する。次に、この計算の
最も基本的な方法の概略を説明する。
め、V.R.Tychinsky:OPTICS Co
mm.,Vol.74,(1989),pp.41−4
5に記載されているような位相を用いる方法が提案され
ている。この方法は、参照光を基準平面ミラー227で
反射させ、その位相を基準として観察物体224の位相
を測定するものである。この位相を得るためには、波長
の1/2の距離内を4〜5分割した距離分だけ基準平面
ミラー227を動かし、複数枚の干渉画像を得て、観察
物体は凹凸を位相像として測定する。次に、この計算の
最も基本的な方法の概略を説明する。
【0009】光検出器225としてCCDからなる撮像
素子を使用した場合、このCCD上のある1つの画素は
観察物体上のある点(x,y)に対応している。基準平
面ミラー227の移動による参照光の位相変化をαと
し、観察物体224で反射した光の位相をθとする。観
察物体224のCCDの各画素の干渉光の強度Iは、参
照光の強度Ir、物体光の強度Imとして、式1から得
られる。 I=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+α)…式(1) この式において、γは0≦γ≦1の定数である。
素子を使用した場合、このCCD上のある1つの画素は
観察物体上のある点(x,y)に対応している。基準平
面ミラー227の移動による参照光の位相変化をαと
し、観察物体224で反射した光の位相をθとする。観
察物体224のCCDの各画素の干渉光の強度Iは、参
照光の強度Ir、物体光の強度Imとして、式1から得
られる。 I=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+α)…式(1) この式において、γは0≦γ≦1の定数である。
【0010】例えば、基準平面ミラー227を移動させ
て、α=0、90、180、270°の位相変化を与え
た時の各位相変化に対する干渉光の強度I(α)は、そ
れぞれ式(2)〜式(5)となる。 I(0)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+0) =Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(0)…式(2) I(90)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+90) =Ir+Im−γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(3) I(180)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+180) =Ir+Im−γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ)…式(4) I(270)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+270) =Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(5)
て、α=0、90、180、270°の位相変化を与え
た時の各位相変化に対する干渉光の強度I(α)は、そ
れぞれ式(2)〜式(5)となる。 I(0)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+0) =Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(0)…式(2) I(90)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+90) =Ir+Im−γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(3) I(180)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+180) =Ir+Im−γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ)…式(4) I(270)=Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ+270) =Ir+Im+γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(5)
【0011】ここで、cos成分である式(2)−式
(4)及びsin成分である式(5)−式(3)を計算
すると、 cos成分は、2・γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ)…式(6) sin成分は、2・γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(7) となる。従って、 sin成分/cos成分=sin(θ)/cos(θ)
=tan(θ) となる。以上の式を整理すると、式(8)が得られる。 tan(θ)=(I(270)−I(90))/(I(0)−I(180)) …式(8)
(4)及びsin成分である式(5)−式(3)を計算
すると、 cos成分は、2・γ2(Im/Ir)1/2・cos(θ)…式(6) sin成分は、2・γ2(Im/Ir)1/2・sin(θ)…式(7) となる。従って、 sin成分/cos成分=sin(θ)/cos(θ)
=tan(θ) となる。以上の式を整理すると、式(8)が得られる。 tan(θ)=(I(270)−I(90))/(I(0)−I(180)) …式(8)
【0012】式(8)から、観察物体224の凹凸を反
映した各CCD画素ごとの位相がえられる。これは2次
元で考えれば観察物体224の凹凸を反映した位相像が
得られたことにほかならない。
映した各CCD画素ごとの位相がえられる。これは2次
元で考えれば観察物体224の凹凸を反映した位相像が
得られたことにほかならない。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、通常用
いる波長λは0.5μm程度であるところから、1回の
画像ごとの基準平面ミラー227の移動距離は0.05
μmと非常に微小な距離となる。正確に位相像を取るた
めには、この微小距離を正確に移動させる必要がある
が、これを実現するに圧電素子を利用したステージ(ピ
エゾステージ)などの高価なステージを使用する必要が
ある。ところが、位相像の測定中は機械的な振動を極力
避ける必要があり、上述のような高価なステージなどの
移動機構を用いても測定することが困難となっている。
いる波長λは0.5μm程度であるところから、1回の
画像ごとの基準平面ミラー227の移動距離は0.05
μmと非常に微小な距離となる。正確に位相像を取るた
めには、この微小距離を正確に移動させる必要がある
が、これを実現するに圧電素子を利用したステージ(ピ
エゾステージ)などの高価なステージを使用する必要が
ある。ところが、位相像の測定中は機械的な振動を極力
避ける必要があり、上述のような高価なステージなどの
移動機構を用いても測定することが困難となっている。
【0014】本発明は、このような従来の問題点を考慮
してなされたものであり、ステージなどの移動機構を不
要とした構造であっても、観察観察面の凹凸を確実に求
めることができる干渉顕微鏡装置を提供することを目的
とする。
してなされたものであり、ステージなどの移動機構を不
要とした構造であっても、観察観察面の凹凸を確実に求
めることができる干渉顕微鏡装置を提供することを目的
とする。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、波長が掃引可能なレーザ光源
と、このレーザ光源の波長掃引を制御するレーザ制御部
と、前記レーザ光源から射出したレーザ光を物体光と参
照光とに分割する光分割手段と、前記物体光が照射され
る観察物体面と、この観察物体面に前記物体光を照射す
る物体光照射手段と、前記光分割手段との距離が前記観
察物体面と光分割手段との距離と異なる位置に配置さ
れ、前記参照光が照射される基準ミラーと、この基準ミ
ラーに前記参照光を結像する参照光照射手段と、前記観
察物体面で反射した物体光及び前記基準ミラーで反射し
た参照光が前記光分割手段で合成された干渉光を照射さ
せる干渉光結像手段と、この干渉光結像手段の結像位置
に設置される撮像素子と、前記物体光と参照光との間に
所望の位相変化を与えるフリンジスキャン出力信号を前
記レーザ制御部に出力するフリンジスキャン制御部と、
このフリンジスキャン制御部に所望の複数の位相変化を
指令し、その複数の位相変化のそれぞれに対応する画像
を前記撮像素子から取り込む演算制御手段と、この演算
制御手段で得られた複数の画像を記憶する画像メモリ
と、この画像メモリに記憶された複数の画像から前記観
察物体面の凹凸に対応する位相像を演算する位相像演算
手段と、を備えていることを特徴とする。
め、請求項1の発明は、波長が掃引可能なレーザ光源
と、このレーザ光源の波長掃引を制御するレーザ制御部
と、前記レーザ光源から射出したレーザ光を物体光と参
照光とに分割する光分割手段と、前記物体光が照射され
る観察物体面と、この観察物体面に前記物体光を照射す
る物体光照射手段と、前記光分割手段との距離が前記観
察物体面と光分割手段との距離と異なる位置に配置さ
れ、前記参照光が照射される基準ミラーと、この基準ミ
ラーに前記参照光を結像する参照光照射手段と、前記観
察物体面で反射した物体光及び前記基準ミラーで反射し
た参照光が前記光分割手段で合成された干渉光を照射さ
せる干渉光結像手段と、この干渉光結像手段の結像位置
に設置される撮像素子と、前記物体光と参照光との間に
所望の位相変化を与えるフリンジスキャン出力信号を前
記レーザ制御部に出力するフリンジスキャン制御部と、
このフリンジスキャン制御部に所望の複数の位相変化を
指令し、その複数の位相変化のそれぞれに対応する画像
を前記撮像素子から取り込む演算制御手段と、この演算
制御手段で得られた複数の画像を記憶する画像メモリ
と、この画像メモリに記憶された複数の画像から前記観
察物体面の凹凸に対応する位相像を演算する位相像演算
手段と、を備えていることを特徴とする。
【0016】この発明では、演算制御手段がフリンジス
キャン制御部に対して位相変化を指令することにより、
フリンジスキャン制御部はフリンジスキャン出力信号を
レーザ制御部に出力する。これによりレーザ制御部は、
物体光と干渉光との間に位相変化ができるようにレーザ
光源からのレーザ光の波長を掃引する。従って、基準ミ
ラーをXY方向に移動させることなく、位相像を測定す
ることができる。このため、ステージなどの移動機構が
不要であっても、観察物体面の凹凸を画像化することが
できる。
キャン制御部に対して位相変化を指令することにより、
フリンジスキャン制御部はフリンジスキャン出力信号を
レーザ制御部に出力する。これによりレーザ制御部は、
物体光と干渉光との間に位相変化ができるようにレーザ
光源からのレーザ光の波長を掃引する。従って、基準ミ
ラーをXY方向に移動させることなく、位相像を測定す
ることができる。このため、ステージなどの移動機構が
不要であっても、観察物体面の凹凸を画像化することが
できる。
【0017】請求項2の発明は、請求項1記載の発明で
あって、前記干渉光を分割する干渉光分割手段が前記光
分割手段と前記干渉光結像手段との間に配置され、この
干渉光分割手段で分割された分割干渉光の光路内に、当
該分割干渉光を検出する光検出器及びこの光検出器で検
出される分割干渉光の位相変化と前記フリンジスキャン
出力信号との間の比例係数を予め検出し記憶して前記フ
リンジスキャン制御部に出力する比例係数検出部が配置
されていることを特徴とする。
あって、前記干渉光を分割する干渉光分割手段が前記光
分割手段と前記干渉光結像手段との間に配置され、この
干渉光分割手段で分割された分割干渉光の光路内に、当
該分割干渉光を検出する光検出器及びこの光検出器で検
出される分割干渉光の位相変化と前記フリンジスキャン
出力信号との間の比例係数を予め検出し記憶して前記フ
リンジスキャン制御部に出力する比例係数検出部が配置
されていることを特徴とする。
【0018】この発明では、フリンジスキャン出力信号
と光検出器で検出された分割干渉光との間の比例係数を
比例係数検出部が検出して記憶する。記憶した比例係数
はフリンジスキャン制御部に出力され、これ以降、フリ
ンジスキャン制御部は比例係数に基づいて補正されたフ
リンジスキャン出力信号をレーザ制御部に出力する。従
って、レーザ光源の波長掃引をリアルタイムで正確に制
御することができる。
と光検出器で検出された分割干渉光との間の比例係数を
比例係数検出部が検出して記憶する。記憶した比例係数
はフリンジスキャン制御部に出力され、これ以降、フリ
ンジスキャン制御部は比例係数に基づいて補正されたフ
リンジスキャン出力信号をレーザ制御部に出力する。従
って、レーザ光源の波長掃引をリアルタイムで正確に制
御することができる。
【0019】請求項3の発明は、請求項1又は2記載の
発明であって、前記レーザ光源は半導体レーザであり、
前記レーザ制御部は前記フリンジスキャン出力信号に基
づいて半導体レーザの温度制御を行うことを特徴とす
る。
発明であって、前記レーザ光源は半導体レーザであり、
前記レーザ制御部は前記フリンジスキャン出力信号に基
づいて半導体レーザの温度制御を行うことを特徴とす
る。
【0020】この発明では、半導体レーザの温度を制御
することにより、半導体レーザからのレーザ光の波長掃
引を行うため、波長掃引が正確に、しかも簡単となる。
することにより、半導体レーザからのレーザ光の波長掃
引を行うため、波長掃引が正確に、しかも簡単となる。
【0021】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)図1は、本発明
の実施の形態1の干渉顕微鏡装置を示す。この干渉顕微
鏡装置は、波長が掃引可能なレーザ光源1と、レーザ光
源1の波長掃引を制御するレーザ制御部17と、レーザ
光源1から射出したレーザ光31を物体光32と参照光
33とに分割する光分割手段としてのハーフミラー2
と、物体光32が照射される観察物体面4と、観察物体
面4に物体光32を照射する物体光照射手段としての対
物レンズ3と、ハーフミラー2との距離が観察物体面4
とハーフミラー2との距離と異なる位置となるように配
置され、参照光33が照射される基準ミラー6と、基準
ミラー6に参照光33を照射する参照光照射手段として
の対物レンズ5と、観察物体面4で反射した物体光及び
基準ミラー6で反射した参照光がハーフミラー2で合成
された干渉光34を結像させる干渉光結像手段としての
結像レンズ10と、結像レンズ10の結像位置に設置さ
れた撮像素子11と、物体光32と参照光33との間に
所望の位相変化を与えるフリンジスキャン出力信号をレ
ーザ制御部17に出力するフリンジスキャン制御部16
と、フリンジスキャン制御部16に所望の複数の位相変
化を指令し、その複数の位相変化のそれぞれに対応する
画像を撮像素子11から取り込む演算制御手段としての
コンピュータ12と、コンピュータ12で得られた複数
の画像を記憶する画像メモリ13と、画像メモリ13に
記憶された複数の画像から観察物体面4の凹凸に対応す
る位相像を演算する位相像演算手段14とを備えてい
る。なお、位相像演算手段14には、位相像を表示する
表示部15が接続されている。
の実施の形態1の干渉顕微鏡装置を示す。この干渉顕微
鏡装置は、波長が掃引可能なレーザ光源1と、レーザ光
源1の波長掃引を制御するレーザ制御部17と、レーザ
光源1から射出したレーザ光31を物体光32と参照光
33とに分割する光分割手段としてのハーフミラー2
と、物体光32が照射される観察物体面4と、観察物体
面4に物体光32を照射する物体光照射手段としての対
物レンズ3と、ハーフミラー2との距離が観察物体面4
とハーフミラー2との距離と異なる位置となるように配
置され、参照光33が照射される基準ミラー6と、基準
ミラー6に参照光33を照射する参照光照射手段として
の対物レンズ5と、観察物体面4で反射した物体光及び
基準ミラー6で反射した参照光がハーフミラー2で合成
された干渉光34を結像させる干渉光結像手段としての
結像レンズ10と、結像レンズ10の結像位置に設置さ
れた撮像素子11と、物体光32と参照光33との間に
所望の位相変化を与えるフリンジスキャン出力信号をレ
ーザ制御部17に出力するフリンジスキャン制御部16
と、フリンジスキャン制御部16に所望の複数の位相変
化を指令し、その複数の位相変化のそれぞれに対応する
画像を撮像素子11から取り込む演算制御手段としての
コンピュータ12と、コンピュータ12で得られた複数
の画像を記憶する画像メモリ13と、画像メモリ13に
記憶された複数の画像から観察物体面4の凹凸に対応す
る位相像を演算する位相像演算手段14とを備えてい
る。なお、位相像演算手段14には、位相像を表示する
表示部15が接続されている。
【0022】このような構成において、波長掃引可能な
レーザ光源1から出射したレーザ光31はーフミラー2
によって物体光32と参照光33とに分割される。物体
光32は対物レンズ3により観察物体面4に照射され
る。一方、参照光33は対物レンズ5を介して基準ミラ
ー6に照射される。観察物体面4および基準ミラー6で
それぞれ反射した物体光と参照光はハーフミラー2に戻
り、再び合成された干渉光が生成される。この干渉光3
4は結像レンズ10を介して撮像素子11に入射する。
撮像素子11は観察物体面4と共役な位置関係に設けら
れる。この撮像素子11としては、例えば2次元CCD
などを使用することができる。又、基準ミラー6は平面
ミラーであるため、撮像素子11では観察物体面4の凹
凸を反映した干渉像が得られる。
レーザ光源1から出射したレーザ光31はーフミラー2
によって物体光32と参照光33とに分割される。物体
光32は対物レンズ3により観察物体面4に照射され
る。一方、参照光33は対物レンズ5を介して基準ミラ
ー6に照射される。観察物体面4および基準ミラー6で
それぞれ反射した物体光と参照光はハーフミラー2に戻
り、再び合成された干渉光が生成される。この干渉光3
4は結像レンズ10を介して撮像素子11に入射する。
撮像素子11は観察物体面4と共役な位置関係に設けら
れる。この撮像素子11としては、例えば2次元CCD
などを使用することができる。又、基準ミラー6は平面
ミラーであるため、撮像素子11では観察物体面4の凹
凸を反映した干渉像が得られる。
【0023】このような実施の形態では、ハーフミラー
2と観察物体面4までの光路長は、ハーフミラー2と基
準ミラー6までの光路長とnLだけ異なっている。nは
空気の屈折率である。図1において、基準ミラー6とn
Lだけ光路長が異なる位置に点線位置Aが観察物体面4
と等価な位置である。
2と観察物体面4までの光路長は、ハーフミラー2と基
準ミラー6までの光路長とnLだけ異なっている。nは
空気の屈折率である。図1において、基準ミラー6とn
Lだけ光路長が異なる位置に点線位置Aが観察物体面4
と等価な位置である。
【0024】従って、撮像素子11に入射する物体光と
参照光の位相差Φは、レーザ光源1の波長λとして、式
(9)によって得ることができる。 Φ=2π・2nL/λ=4πnL/λ …式(9)
参照光の位相差Φは、レーザ光源1の波長λとして、式
(9)によって得ることができる。 Φ=2π・2nL/λ=4πnL/λ …式(9)
【0025】この式(9)におけるnLの前の係数2は
光が往復することにより光路長差が2倍になっているこ
とを示している。ここで、式(9)においてnLを定
数、すなわち基準ミラー6は移動しないとして、λを変
数として微分すると、Φの微分dΦと式(1)のαは等
価と見ることができ、 α=dΦ=−(4πnL/λ2)dλ …式(10) となる。この式(10)において、波長λが僅かに変化
した場合、波長の変化量dλと物体光32と参照光33
の位相変化α(dΦ)が比例関係にあると見なすことが
できる。本実施の形態ではこの関係を利用するものであ
り、従って、物体光32と参照光33の光路長差2nL
が存在するために、レーザ光源1の波長を掃引すると、
基準ミラー6を機械的に移動させなくても干渉光34の
位相αを変化させることができる。
光が往復することにより光路長差が2倍になっているこ
とを示している。ここで、式(9)においてnLを定
数、すなわち基準ミラー6は移動しないとして、λを変
数として微分すると、Φの微分dΦと式(1)のαは等
価と見ることができ、 α=dΦ=−(4πnL/λ2)dλ …式(10) となる。この式(10)において、波長λが僅かに変化
した場合、波長の変化量dλと物体光32と参照光33
の位相変化α(dΦ)が比例関係にあると見なすことが
できる。本実施の形態ではこの関係を利用するものであ
り、従って、物体光32と参照光33の光路長差2nL
が存在するために、レーザ光源1の波長を掃引すると、
基準ミラー6を機械的に移動させなくても干渉光34の
位相αを変化させることができる。
【0026】次に、この実施の形態における式(10)
を具体的な数値により説明する。波長が掃引できるレー
ザ光源1としては半導体レーザが使用することができ
る。半導体レーザは温度や注入電流によって波長を変化
させることができる性質を有しているためである。この
実施の形態では、半導体レーザとして可視レーザ(赤
色、λ=680nm程度)を用いて説明する。
を具体的な数値により説明する。波長が掃引できるレー
ザ光源1としては半導体レーザが使用することができ
る。半導体レーザは温度や注入電流によって波長を変化
させることができる性質を有しているためである。この
実施の形態では、半導体レーザとして可視レーザ(赤
色、λ=680nm程度)を用いて説明する。
【0027】上述した式(1)〜(8)を適用して観察
物体面4の凹凸に対応した位相像を求めるため、位相変
化αは0〜2πの変化が必要である。半導体レーザの波
長掃引を温度変化で行う場合、波長680nmの半導体
レーザが1℃の温度変化で発生する波長変化(波長温度
特性)dλ/dTは、dλ/dT=0.068nm/℃
程度である。ここで、L=3.4mm、n=1、温度変
化△Tとした場合、式(10)は、 α=−(4πnL/λ2)dλ =−(4πnL/λ2)・(dλ/dT)・△T =−(4π・3.4mm/(680nm)2)・0.068nm/℃・△T =−2π・△T …式(11) となる。すなわち、L=3.4mmの条件下で半導体レ
ーザの温度を△T=1℃変化させることにより、位相変
化αを2π程度変化させることができる。
物体面4の凹凸に対応した位相像を求めるため、位相変
化αは0〜2πの変化が必要である。半導体レーザの波
長掃引を温度変化で行う場合、波長680nmの半導体
レーザが1℃の温度変化で発生する波長変化(波長温度
特性)dλ/dTは、dλ/dT=0.068nm/℃
程度である。ここで、L=3.4mm、n=1、温度変
化△Tとした場合、式(10)は、 α=−(4πnL/λ2)dλ =−(4πnL/λ2)・(dλ/dT)・△T =−(4π・3.4mm/(680nm)2)・0.068nm/℃・△T =−2π・△T …式(11) となる。すなわち、L=3.4mmの条件下で半導体レ
ーザの温度を△T=1℃変化させることにより、位相変
化αを2π程度変化させることができる。
【0028】なお、実際には半導体レーザの波長温度特
性dλ/dTはばらつきがあり、また対物レンズ3の交
換によりLが数mm変化する場合もあるため、式(1
1)の比例係数は必ずしも−2πとは限らず変化する。
これに対しての処置は後述する実施の形態2で説明し、
この実施の形態では、以下、比例係数を−2πとして説
明する。
性dλ/dTはばらつきがあり、また対物レンズ3の交
換によりLが数mm変化する場合もあるため、式(1
1)の比例係数は必ずしも−2πとは限らず変化する。
これに対しての処置は後述する実施の形態2で説明し、
この実施の形態では、以下、比例係数を−2πとして説
明する。
【0029】コンピュータ12からフリンジスキャン制
御部16に式(11)の位相変化αの指示値、例えばα
=0°、90°、180°、270°が送信される。フ
リンジスキャン制御部は式(11)に基づいて、位相変
化αの指示値に対応するフリンジスキャン出力信号、即
ち半導体レーザの設定温度をレーザ制御部17に送信す
る。
御部16に式(11)の位相変化αの指示値、例えばα
=0°、90°、180°、270°が送信される。フ
リンジスキャン制御部は式(11)に基づいて、位相変
化αの指示値に対応するフリンジスキャン出力信号、即
ち半導体レーザの設定温度をレーザ制御部17に送信す
る。
【0030】レーザ制御部17はこの設定温度になるよ
うにレーザ光源1としての半導体レーザの温度を制御す
る。この半導体レーザの温度の制御は、半導体レーザ近
傍に設置された温度センサが設定温度になるようにペル
チェ素子などの加熱冷却素子により行うことができる。
半導体レーザが設定温度に安定化すると、レーザ制御部
17からフリンジスキャン制御部16を介してコンピュ
ータ12にトリガー信号が入力され、撮像素子11の干
渉像がコンピュータ12に取り込まれると共に、画像メ
モリ13に記憶される。この処理を各々の位相変化αに
対して実行することにより、画像メモリ13が複数の干
渉像を記憶する。
うにレーザ光源1としての半導体レーザの温度を制御す
る。この半導体レーザの温度の制御は、半導体レーザ近
傍に設置された温度センサが設定温度になるようにペル
チェ素子などの加熱冷却素子により行うことができる。
半導体レーザが設定温度に安定化すると、レーザ制御部
17からフリンジスキャン制御部16を介してコンピュ
ータ12にトリガー信号が入力され、撮像素子11の干
渉像がコンピュータ12に取り込まれると共に、画像メ
モリ13に記憶される。この処理を各々の位相変化αに
対して実行することにより、画像メモリ13が複数の干
渉像を記憶する。
【0031】位相像演算装置14は、上述した式(2)
〜式(8)の演算を行い、観察物体面4の凹凸を反映し
た位相像を得る。そして、表示部15はこの位相像を表
示する一方、図示を省略した外部記憶装置が位相像を記
憶する。
〜式(8)の演算を行い、観察物体面4の凹凸を反映し
た位相像を得る。そして、表示部15はこの位相像を表
示する一方、図示を省略した外部記憶装置が位相像を記
憶する。
【0032】このような実施の形態では、フリンジスキ
ャン制御部16が位相変化αの指示値に対応するフリン
ジスキャン出力信号(半導体レーザの設定温度)をレー
ザ制御部17に出力して、レーザ光源1の波長掃引を行
うため、基準ミラー6を移動させることなく観察物体4
の位相像を得ることができる。
ャン制御部16が位相変化αの指示値に対応するフリン
ジスキャン出力信号(半導体レーザの設定温度)をレー
ザ制御部17に出力して、レーザ光源1の波長掃引を行
うため、基準ミラー6を移動させることなく観察物体4
の位相像を得ることができる。
【0033】(実施の形態2)この実施の形態2では、
実施の形態1における式(11)のαと△Tの比例係数
がばらついた場合の対処を行うものである。図2はこの
実施の形態の構成を示し、実施の形態1と同一の要素は
同一の符号により対応させてある。
実施の形態1における式(11)のαと△Tの比例係数
がばらついた場合の対処を行うものである。図2はこの
実施の形態の構成を示し、実施の形態1と同一の要素は
同一の符号により対応させてある。
【0034】この実施の形態では、光分割手段としての
ハーフミラー2と干渉光結像手段としての結像レンズ1
0との間に干渉光を分割する干渉光分割手段としてのハ
ーフミラー7が配置されている。又、このハーフミラー
7で分割された分割干渉光35の光路内に、分割干渉光
35を検出する光検出器9及び光検出器9で検出される
分割干渉光の位相変化とフリンジスキャン出力信号との
間の比例係数を予め検出し、記憶してフリンジスキャン
制御部16に出力する比例係数検出部18が配置されて
いる。8は分割干渉光35を光検出器9に結像させる分
割干渉光結像手段としての結像レンズ、21はピンホー
ルである。
ハーフミラー2と干渉光結像手段としての結像レンズ1
0との間に干渉光を分割する干渉光分割手段としてのハ
ーフミラー7が配置されている。又、このハーフミラー
7で分割された分割干渉光35の光路内に、分割干渉光
35を検出する光検出器9及び光検出器9で検出される
分割干渉光の位相変化とフリンジスキャン出力信号との
間の比例係数を予め検出し、記憶してフリンジスキャン
制御部16に出力する比例係数検出部18が配置されて
いる。8は分割干渉光35を光検出器9に結像させる分
割干渉光結像手段としての結像レンズ、21はピンホー
ルである。
【0035】式(11)における比例係数のばらつきの
原因は、Lとdλ/dTである。この内、Lは対物レン
ズ3を交換した場合にばらつきが発生し、dλ/dTは
半導体レーザの個々の特性のばらつきである。これに対
し、この実施の形態では、式(11)の比例係数を位相
像の測定前に直接求めることによって対処するものであ
る。
原因は、Lとdλ/dTである。この内、Lは対物レン
ズ3を交換した場合にばらつきが発生し、dλ/dTは
半導体レーザの個々の特性のばらつきである。これに対
し、この実施の形態では、式(11)の比例係数を位相
像の測定前に直接求めることによって対処するものであ
る。
【0036】この実施の形態1では、コンピュータ12
から比例係数の測定指示がフリンジスキャン制御部16
に送信される。これにより、フリンジスキャン制御部1
6からレーザ制御部17にフリンジスキャン出力信号
(設定温度)が出力され、リアルタイムで半導体レーザ
の温度情報がフリンジスキャン制御部16を介して比例
係数出力部18に入力される。同時に比例係数検出部1
8は光検出器9で受光される干渉信号の取り込みを行
う。この時、Lとdλ/dTのばらつきを考慮しても1
周期以上の干渉信号が光検出器9で受光できる程度の波
長掃引を行う。
から比例係数の測定指示がフリンジスキャン制御部16
に送信される。これにより、フリンジスキャン制御部1
6からレーザ制御部17にフリンジスキャン出力信号
(設定温度)が出力され、リアルタイムで半導体レーザ
の温度情報がフリンジスキャン制御部16を介して比例
係数出力部18に入力される。同時に比例係数検出部1
8は光検出器9で受光される干渉信号の取り込みを行
う。この時、Lとdλ/dTのばらつきを考慮しても1
周期以上の干渉信号が光検出器9で受光できる程度の波
長掃引を行う。
【0037】このとき比例係数検出部18で得られるデ
ータは図3に示すように、温度と干渉信号のグラフとし
て表わされる。干渉信号の振幅の最大値Imaxと最小
値Iminの平均値から干渉信号のオフセットが得られ
る。このオフセットとクロスする温度変化△T1(α=
π)を求めて、温度変化△Tとの間の比例係数を求める
ことができる。
ータは図3に示すように、温度と干渉信号のグラフとし
て表わされる。干渉信号の振幅の最大値Imaxと最小
値Iminの平均値から干渉信号のオフセットが得られ
る。このオフセットとクロスする温度変化△T1(α=
π)を求めて、温度変化△Tとの間の比例係数を求める
ことができる。
【0038】なお、オフセットとのクロス点が3個所あ
る場合は△T2(α=2π)も求めることができ、△T
1と△T2の比例係数の平均値を求めることもできる。
ここで求められた比例係数を比例係数検出部18が記憶
し、以後フリンジスキャン制御部16は記憶された比例
係数に基づいてレーザ制御部17に出力するフリンジス
キャン出力信号を補正する。
る場合は△T2(α=2π)も求めることができ、△T
1と△T2の比例係数の平均値を求めることもできる。
ここで求められた比例係数を比例係数検出部18が記憶
し、以後フリンジスキャン制御部16は記憶された比例
係数に基づいてレーザ制御部17に出力するフリンジス
キャン出力信号を補正する。
【0039】このような実施の形態では、式(11)の
比例係数を位相像の測定前に直接求めるため、Lとdλ
/dTとがばらつくことにより比例係数がばらついても
リアルタイムでの対処ができ、観察物体面4の凹凸を確
実に求めることができる。
比例係数を位相像の測定前に直接求めるため、Lとdλ
/dTとがばらつくことにより比例係数がばらついても
リアルタイムでの対処ができ、観察物体面4の凹凸を確
実に求めることができる。
【0040】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、演算制御手段の指令によってフリンジスキャン
制御部がフリンジスキャン出力信号をレーザ制御部に出
力し、レーザ制御部は物体光と干渉光との間に位相変化
ができるようにレーザ光源からのレーザ光の波長を掃引
するため、観察物体面の凹凸を画像化することができ
る。このため、基準ミラーを機械的に移動させることな
くフリンジスキャンを行うことができる。
よれば、演算制御手段の指令によってフリンジスキャン
制御部がフリンジスキャン出力信号をレーザ制御部に出
力し、レーザ制御部は物体光と干渉光との間に位相変化
ができるようにレーザ光源からのレーザ光の波長を掃引
するため、観察物体面の凹凸を画像化することができ
る。このため、基準ミラーを機械的に移動させることな
くフリンジスキャンを行うことができる。
【0041】請求項2の発明によれば、比例係数検出部
がフリンジスキャン出力信号と光検出器で検出された分
割干渉光との間の比例係数を検出して記憶し、フリンジ
スキャン制御部に出力するため、比例係数に基づいたレ
ーザ光の波長掃引をリアルタイムで正確に制御すること
ができる。
がフリンジスキャン出力信号と光検出器で検出された分
割干渉光との間の比例係数を検出して記憶し、フリンジ
スキャン制御部に出力するため、比例係数に基づいたレ
ーザ光の波長掃引をリアルタイムで正確に制御すること
ができる。
【0042】請求項3の発明によれば、半導体レーザの
温度を制御することにより、半導体レーザからのレーザ
光の波長掃引を行うため、波長掃引が正確に、しかも簡
単となる。
温度を制御することにより、半導体レーザからのレーザ
光の波長掃引を行うため、波長掃引が正確に、しかも簡
単となる。
【図1】本発明の実施の形態1の構成を示すブロック図
である。
である。
【図2】実施の形態2の構成を示すブロック図である。
【図3】実施の形態2で得られる温度及び干渉信号の特
性図である。
性図である。
【図4】従来装置の構成を示すブロック図である。
1 レーザ光源 2 7 ハーフミラー 3 5 対物レンズ 4 観察物体面 6 基準ミラー 9 光検出器 10 結像レンズ 11 撮像素子 12 コンピュータ 13 画像メモリ 16 フリンジスキャン制御部 17 レーザ制御部 18 比例係数検出部
Claims (3)
- 【請求項1】 波長が掃引可能なレーザ光源と、このレ
ーザ光源の波長掃引を制御するレーザ制御部と、前記レ
ーザ光源から射出したレーザ光を物体光と参照光とに分
割する光分割手段と、前記物体光が照射される観察物体
面と、この観察物体面に前記物体光を照射する物体光照
射手段と、前記光分割手段との距離が前記観察物体面と
光分割手段との距離と異なる位置に配置され、前記参照
光が照射される基準ミラーと、この基準ミラーに前記参
照光を照射する参照光照射手段と、前記観察物体面で反
射した物体光及び前記基準ミラーで反射した参照光が前
記光分割手段で合成された干渉光を結像させる干渉光結
像手段と、この干渉光結像手段の結像位置に設置される
撮像素子と、前記物体光と参照光との間に所望の位相変
化を与えるフリンジスキャン出力信号を前記レーザ制御
部に出力するフリンジスキャン制御部と、このフリンジ
スキャン制御部に所望の複数の位相変化を指令し、その
複数の位相変化のそれぞれに対応する画像を前記撮像素
子から取り込む演算制御手段と、この演算制御手段で得
られた複数の画像を記憶する画像メモリと、この画像メ
モリに記憶された複数の画像から前記観察物体面の凹凸
に対応する位相像を演算する位相像演算手段と、を備え
ていることを特徴とする干渉顕微鏡装置。 - 【請求項2】 前記干渉光を分割する干渉光分割手段が
前記光分割手段と前記干渉光結像手段の間に配置され、
この干渉光分割手段で分割された分割干渉光の光路内
に、当該分割干渉光を検出する光検出器及びこの光検出
器で検出される分割干渉光の位相変化と前記フリンジス
キャン出力信号との間の比例係数を予め検出し、記憶し
て前記フリンジスキャン制御部に出力する比例係数検出
部が配置されていることを特徴とする請求項1記載の干
渉顕微鏡装置。 - 【請求項3】 前記レーザ光源は半導体レーザであり、
前記レーザ制御部は前記フリンジスキャン出力信号に基
づいて半導体レーザの温度制御を行うことを特徴とする
請求項1又は2記載の干渉顕微鏡装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760898A JPH11271020A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 干渉顕微鏡装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7760898A JPH11271020A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 干渉顕微鏡装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271020A true JPH11271020A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13638644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7760898A Withdrawn JPH11271020A (ja) | 1998-03-25 | 1998-03-25 | 干渉顕微鏡装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271020A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323660A (ja) * | 2001-04-07 | 2002-11-08 | Carl Zeiss Jena Gmbh | 試料の光学的深部分解による光学的把握のための方法および装置 |
| JP2009030996A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 干渉縞安定化装置およびそれを用いた非破壊検査装置 |
-
1998
- 1998-03-25 JP JP7760898A patent/JPH11271020A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002323660A (ja) * | 2001-04-07 | 2002-11-08 | Carl Zeiss Jena Gmbh | 試料の光学的深部分解による光学的把握のための方法および装置 |
| JP2009030996A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 干渉縞安定化装置およびそれを用いた非破壊検査装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050607 |