JPH112715A

JPH112715A - カラーフィルタ製造方法およびカラーフィルタ

Info

Publication number: JPH112715A
Application number: JP15692997A
Authority: JP
Inventors: Hiroki Takahashi; 弘樹高橋
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-06-13
Filing date: 1997-06-13
Publication date: 1999-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】カラーフィルタの製造において、異物の発生や
付着等を抑制しつつ、顔料分散レジストの膜厚を均一に
し、省液化を実現する。【解決手段】ロッド５４ａにステンレス細線５４ｂを螺
旋状に巻装してワイヤーバー５４を形成する。ワイヤー
バー５４を回転させて、隣接する細線５４ｂ間に形成さ
れた凹部５６に顔料分散レジストを蓄えて上側基板１１
に塗布し、露光、現像等の処理を行い有色層を形成す
る。細線５４ｂが巻装されている領域の幅を広いものと
し、ワイヤーバーを回転させて凹部５６に蓄えられた保
護剤を、有色層が形成された上側基板１１に塗布して、
有色層よりも広く保護層を形成する。顔料分散レジスト
等の省液化を図ることができる。上側基板１１の周辺部
に顔料分散レジストが残っても、レジスト残りが保護層
で覆われるので、顔料分散レジストの残渣に起因するゴ
ミや異物の発生、あるいは液が垂れたようなムラの発生
を抑制できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、カラーフィルタ
の製造方法およびカラーフィルタに関する。詳しくは、
丸い棒状体に細線を巻装して形成されたワイヤーバー
の、隣接する細線間に形成された凹部に顔料分散レジス
トあるいは保護剤を蓄えるものとし、ワイヤーバーを回
転させて、凹部に蓄えられた顔料分散レジストを基板に
付着させて塗布を行い有色層を形成し、次にワイヤーバ
ーの細線が巻装されている領域の幅を広いものとしてワ
イヤーバーを回転させ、凹部に蓄えられた保護剤を有色
層上に付着させて塗布を行い有色層よりも広く保護層を
形成することにより、異物の発生や付着等を抑制しつ
つ、顔料分散レジストの膜厚を均一にし、かつ、省液化
を実現してカラーフィルタを製造するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、パーソナルコンピュータやカラー
テレビジョン等では薄型の画像表示装置として、液晶画
像表示装置が使用されている。この液晶画像表示装置で
は、ＳＴＮ(Super Twisted Nematic)方式やＴＦＴ(Thin
Film Transistor)方式あるいは放電プラズマを利用し
て液晶を駆動するプラズマアドレス方式の表示装置等が
知られている。

【０００３】このプラズマアドレス液晶表示装置は、図
８および図９に示すように、表示セル１０と、プラズマ
セル２０と、それら両者の間に介在する誘電シート３０
とを積層したフラットパネル構造とされる。誘電シート
３０は、ガラスや雲母あるいはプラスチック等で構成さ
れる。この誘電シート３０は表示セル１０を駆動するた
めにできるだけ薄くする必要があり、例えば５０μｍ程
度の板厚を有するように形成される。

【０００４】表示セル１０はガラス基板（上側基板）１
１を用いて構成される。上側基板１１の内側面には、カ
ラー表示を行うためのカラーフィルタ１２が形成され
る。また、カラーフィルタ１２上には透明導電材料から
なり行方向に延びる複数本のデータ電極１３が所定の間
隔を保持して列方向に並列的に形成される。この上側基
板１１はスペーサ１４によって所定の間隙を保持した状
態で誘電シート３０に接合される。上側基板１１および
誘電シート３０の間隙には、電気光学材料としてのネマ
チック液晶が充填されて液晶層１５が形成される。ここ
で、上側基板１１および誘電シート３０の間隙の寸法は
例えば４〜１０μｍとされ、表示面全体に亘って均一に
保たれる。なお、電気光学材料としては液晶以外のもの
を使用することもできる。

【０００５】一方、プラズマセル２０はガラス基板（下
側基板）２１を用いて構成される。下側基板２１の内側
面には、プラズマ電極を構成する列方向に延びる複数の
アノード電極２２Ａとカソード電極２２Ｋが交互に所定
の間隔を保持して行方向に並列的に形成される。また、
アノード電極２２Ａおよびカソード電極２２Ｋの各上面
のほぼ中央部には、それぞれ電極に沿って延在するよう
に所定幅の隔壁２３が形成される。そして、各隔壁２３
の頂部は誘電シート３０の下面に当接され、下側基板２
１および誘電シート３０の間隙の寸法が一定に保持され
る。

【０００６】下側基板２１の周辺部には、その周辺部に
沿って低融点ガラス等を使用したフリットシール材２４
が配設され、下側基板２１と誘電シート３０とが気密的
に接合される。下側基板２１および誘電シート３０の間
隙は放電チャネル２５とされて、イオン化可能なガスが
封入される。封入されるガスとしては、例えばヘリウ
ム、ネオン、アルゴンあるいはこれらの混合気体等が使
用される。

【０００７】この放電チャネル２５は行方向に並列的
に、すなわちデータ電極１３と直交するように形成され
る。各データ電極１３は列駆動単位となると共に、放電
チャネル２５は行駆動単位となり、両者の交差部が図１
０に示すように画素４１とされる。

【０００８】また、カラーフィルタ１２は、赤（Ｒ）緑
（Ｇ）青（Ｂ）の有色層１２ａ，１２ｂ，１２ｃが画素
に対応してストライプ状あるいはモザイク状等に配列さ
れて、更にこれらの各有色層１２ａ，１２ｂ，１２ｃ
が、隔壁２３に重なるように形成されたブラックマスク
１２ｄによって仕切られている。なお、ブラックマスク
１２ｄは、遮光と画素間の漏れ光によるコントラスト及
び色純度の低下を防止する目的で設置されている。

【０００９】ここで、カラーフィルタ１２の形成方法と
しては、フォトリソグラフィー法、印刷法、電着法等、
幾つかの方法があるが、カラーフィルタ１２に高い加工
精度が要求されるときにはフォトリソグラフィー法が一
般に採用されている。このフォトリソグラフィー法は、
例えば感光性樹脂に所定色の顔料、例えば黒色、赤色、
緑色、青色の顔料を分散した顔料分散レジストを上側基
板１１に塗布し、露光、現像を行っていき、順次、黒
色、赤色、緑色、青色のパターンを形成する方法であ
る。

【００１０】このように構成されたフラスマアドレス液
晶表示装置では、所定の放電チャネル２５に対応するア
ノード電極２２Ａとカソード電極２２Ｋとの間に所定電
圧が印加されると、その放電チャネル２５の内部のガス
が選択的にイオン化されてプラズマ放電が発生し、その
内部は略アノード電位に維持される。この状態で、デー
タ電極１３にデータ電圧が印加されると、その放電チャ
ネル２５に対応して列方向に並ぶ複数の画素４１の液晶
層１５に誘電シート３０を介してデータ電圧が書き込ま
れる。プラズマ放電が終了すると、放電チャネル２５は
浮遊電位となり、各画素４１の液晶層１５に書き込まれ
たデータ電圧は、次の書き込み期間（例えば１フィール
ド後あるいは１フレーム後）まで保持される。この場
合、放電チャネル２５はサンプリングスイッチとして機
能すると共に、各画素４１の液晶層１５はサンプリング
キャパシタとして機能する。

【００１１】この各画素４１の液晶層１５に書き込まれ
たデータ電圧によって液晶が動作されることにより画素
単位での色表示が行なわれる。したがって、列方向に並
ぶ複数の画素４１の液晶層１５にデータ電圧を書き込む
放電チャネル２５を行方向に順次プラズマ放電させるこ
とにより、二次元カラー画像の表示を行うことができ
る。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】ところで、フォトリソ
グラフィー法によるカラーフィルタの製造では、例えば
スピンコート方法を用いて上側基板１１に顔料分散レジ
ストが均一に塗布される。次にプリベークにより、溶剤
を揮発させた後、所定のストライプパターンあるいはモ
ザイクパターンを有するフォトマスクを介して露光し、
現像してからボストベークを行うことで顔料分散レジス
トを固着させてカラーフィルタが形成されていた。

【００１３】このスピンコート法は、塗布された顔料分
散レジストの厚さのばらつきを例えば５％以内にするこ
とができるという長所があるが、回転により顔料分散レ
ジストを振り切るようにして広げていくため、上側基板
１１上に滴下したレジストの９０％以上が捨てられてし
まい、省液化が困難であった。また、振り切った顔料分
散レジストが回転により巻き上げられ、異物として上側
基板１１に付着し、歩留りが低下したり、不要な部分に
顔料分散レジストが塗布されてしまい上側基板１１の周
辺や裏面が汚れること等といったような欠点があった。

【００１４】このため、顔料分散レジストの省液化、異
物の付着の防止を図るようなレジスト塗布方法が望まれ
ていたが、顔料分散レジストを塗布する対象がガラス基
板であり、その耐剛性、厚さのばらつき等の要求度が高
いことから、他に有効な方法がなかった。

【００１５】そこで、この発明は、上記の実情に鑑みて
なされたものであり、異物の発生、付着等を抑制しつ
つ、顔料分散レジストの膜厚を均一にし、かつ、省液化
を実現できるカラーフィルタの製造方法およびカラーフ
ィルタを提供するものである。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この発明に係るカラーフ
ィルタ製造方法は、丸い棒状体に細線を巻装して形成さ
れたワイヤーバーの、隣接する細線間に形成された凹部
に顔料分散レジストあるいは保護剤を蓄えるものとし、
ワイヤーバーを回転させて、凹部に蓄えられた上記顔料
分散レジストあるいは保護剤を上記基板に付着させて塗
布を行うものとし、有色層上に保護剤を塗布して保護層
を形成する際には顔料分散レジストを塗布して有色層を
形成する際よりもワイヤーバーの細線が巻装されている
領域の幅を広いものとし、有色層よりも保護層を広く形
成するものである。

【００１７】また、この発明に係るカラーフィルタは、
透明で平坦な基板上に、感光性樹脂に所定色の顔料を分
散してなる顔料分散レジストを塗布し、露光、現像を行
って所定のパターンとされた有色層と、この有色層上に
有色層よりも広く保護剤を塗布して形成された保護層を
有するものである。

【００１８】この発明においては、丸い棒状体に細線を
例えば螺旋状に巻装して形成されたワイヤーバーを用
い、このワイヤーバーが回転されて、ワイヤーバーの隣
接する細線間に形成された凹部に蓄えられた顔料分散レ
ジストが透明で平坦な基板上に塗布される。この顔料分
散レジストは、感光性樹脂に所定色の顔料を分散して生
成されたものであり、露光、現像を行うことにより所定
のパターンの有色層が形成される。次に、ワイヤーバー
の細線が巻装されている領域の幅が広いものとされ、こ
のワイヤーバーが回転されることにより、ワイヤーバー
の凹部に蓄えられた保護剤が、有色層が形成された基板
上に付着されて、有色層よりも広く保護層が形成され
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】次に、この発明の実施の一形態に
ついて図を用いて詳細に説明する。カラーフィルタはフ
ォトリソグラフィー法を用いて形成され、例えば感光性
樹脂に所定色の顔料、例えば黒色、赤色、緑色、青色の
顔料を分散した顔料分散レジストが、図１に示す塗布装
置を用いて上側基板１１に塗布される。

【００２０】ここで、顔料分散レジストは、アクリル
系、ボリイミド系、エボキシ系、ポリビニールアルコー
ル系等、比較的耐熱性の高い高分子樹脂に感光特性を持
たせ、顔料を分散させたものである。なお、顔料は、有
機顔料あるいは無機顔料のいずれでも良く、例えば有機
顔料としては、赤色顔料としてジアンスラキノン、緑色
顔料としてハロゲン化銅フタロシアニン、青色顔料とし
て銅フタロシアニン等が用いられる。

【００２１】図１において、上側基板１１は塗布装置の
搬送部５１ａ，５１ｂによって矢印Ａ方向に搬送され
る。搬送部５１ａと搬送部５１ｂの間には塗布部５２が
設けられており、上側基板１１が搬送部５１ａから搬送
部５１ｂに搬送中に塗布部５２によって上側基板１１に
顔料分散レジストが塗布される。

【００２２】塗布部５２は、図２に示すように顔料分散
レジストを蓄えるための塗布液槽５３、塗布液槽５３に
蓄えられた顔料分散レジストを上側基板１１に塗布する
ためのワイヤーバー５４、上側基板１１をワイヤーバー
５４に接触させるためのローラ５５から構成される。

【００２３】このワイヤーバー５４は図３に示すよう
に、例えば直径が１２ｍｍの棒状体であるのロッド５４
ａに直径１００μｍ程度のステンレス細線５４ｂが間隙
を生ずることなく螺旋状に巻装されて形成される。この
ワイヤーバー５４は塗布液槽５３内で回転自在に保持さ
れており、ワイヤーバー５４の一部は図２に示すように
顔料分散レジストに浸漬される。

【００２４】このため、ワイヤーバー５４が図２に示す
矢印Ｂ方向に回転されたときには、隣接するステンレス
細線５４ｂ間に形成された凹部５６に顔料分散レジスト
が所定量だけ蓄えられる。また、ワイヤーバー５４とロ
ーラ５５は平行に対峙されており、ワイヤーバー５４と
ローラ５５の間に上側基板１１が挟み込まれる。ここ
で、ローラ５５も矢印Ｃ方向に回転されて、上側基板１
１がワイヤーバー５４とローラ５５で挟まれながら塗布
部５２を矢印Ａ方向に通過すると、ワイヤーバー５４の
ステンレス細線５４ｂ間の凹部５６に蓄えられた顔料分
散レジストが上側基板１１に付着されて、顔料分散レジ
ストの塗布が行われる。その後、上側基板１１は顔料分
散レジストの塗布面１１ａが上に向けられて顔料分散レ
ジストの平坦化が図られる。

【００２５】このように、ワイヤーバーを用いた塗布装
置では、ワイヤーバーを介して塗布液槽から上側基板に
顔料分散レジストが必要とされる量だけ供給されるの
で、回転によりレジストを振り切るスピンコート法に比
べて顔料分散レジストの使用量が少ないものとされて省
液化を図ることができる。また、顔料分散レジストが異
物として上側基板１１に付着したり、不要な部分に顔料
分散しジストが塗布されて上側基板１１の周辺や裏面が
汚れることもない。

【００２６】次に、カラーフィルタの形成工程について
図４〜図７を使用して説明する。図４および図５は有色
層の形成工程を示しており、図４のフローチャートのス
テップＳＴ１では、ワイヤーバーを用いた塗布装置を使
用して、図５Ａに示すように上側基板１１に顔料分散レ
ジストが所定の厚さ（例えば１〜３μｍ）で塗布されて
顔料分散レジスト層６１が形成される。なお、このカラ
ーフィルタの製造に用いられる顔料分散レジストは、液
晶パネルの特性を決定する大きな要因となるため、透明
性、耐熱性、密着性等に優れていることが必要である。
次にステップＳＴ２では、溶媒を揮発させるためにプリ
ベーク（例えば８５〜１１０°Ｃ、２〜５分）が行われ
る。ステップＳＴ３では、図５Ｂに示すように所定のパ
ターンを有するフォトマスク６２を介して紫外線が照射
され（例えば１０００〜２０００ｍｊ／ｃｍ²）露光が
行われる。ステップＳＴ４では、現像（例えばアルカリ
溶液１％に６０秒浸漬、揺動）が行われて、例えば図５
Ｃに示すように紫外線が照射された部分の顔料分散レジ
スト層が除かれ、ステップＳＴ５でリンス（水洗い）処
理が行われた後、ステップＳＴ６でポストベーク（例え
ば２００〜３００°Ｃ、５〜３０分）が行われてブラッ
クマスク１２ｄが形成される。

【００２７】また、赤色や緑色および青色の各色フィル
タもブラックマスクと同様な工程を繰り返すことで順次
形成される。この場合、ステップＳＴ１では、顔料分散
レジストの厚さは例えば１〜２μｍに設定される。この
膜厚の変更は、ロッドに巻装されるステンレス細線の径
と顔料分散レジストの固形分濃度により容易に制御する
ことができる。またステップＳＴ３の露光工程では、図
６に示すようなフォトマスク６２が使用される。

【００２８】図６において、領域ＬＣの斜線部は有色層
の形成部であり、領域ＬＢはブラックマスク１２ｄの形
成部である。また、領域ＳＰの斜線部はスペーサ１４の
形成部を示している。このフォトマスクを各有色層の形
成工程で１ピッチずつ順次ずしてアライメントすること
により、各有色層を同じ寸法でストライプ状に形成する
ことができ、図５Ｄに示すようにブラックマスク１２ｄ
や有色層１２ａ，１２ｂ，１２ｄが形成される。また、
フォトマスクの領域ＳＰによって、顔料分散レジストが
順次積層されてスペーサ１４が形成される。

【００２９】このようにして有色層の形成が完了する
と、アクリル樹脂等を用いて保護層の形成が行われる。
この保護層の形成では、塗布装置の塗布液槽５３に保護
剤が蓄えられて、有色層の形成と同様にワイヤーバーを
用いて保護剤が有色層の形成された基板上に塗布され
る。

【００３０】ここで、有色層の形成工程では、図７Ａに
示すようにロッド５４ａにステンレス細線５４ｂが「Ｗ
１」の幅で巻装されたワイヤーバーを用いて、図７Ｂに
示すように顔料分散レジストが塗布されて有色層の形成
が行われるが、保護層の形成工程では、図７Ｃに示すよ
うにロッド５４ａにステンレス細線５４ｂが「Ｗ１」よ
りも広い幅の「Ｗ２」で巻装されたワイヤーバーが用い
られて、図７Ｄに示すように顔料分散レジストよりも広
く保護剤が塗布されて保護層の形成が行われる。

【００３１】このため、ワイヤーバーコート法で顔料分
散レジストを塗布した際に、上側基板１１の周辺部に顔
料分散レジストが厚く塗布されてしまい、現像時に取り
きれないで残った場合であっても、このレジスト残りを
十分に保護層で覆うことができるので、その後にエッチ
ング処理してストライプ状のデータ電極１３を形成する
際に、レジスト残りが剥離して異物となったり、あるい
は上側基板１１のレジスト残りが溶け出して上側基板１
１に液が垂れたようなムラを生ずることを防止すること
ができる。

【００３２】このように、上述の実施の形態によればワ
イヤーバーコート法で顔料分散レジストの塗布が行われ
るので省液化を図ることができると共に、保護層の形成
時には、顔料分散レジストの塗布時よりも広い幅でステ
ンレス細線が巻装されたワイヤーバーを用いて保護剤の
塗布が行われるので、上側基板の周辺部に顔料分散レジ
ストが取りきれないで残った場合であっても、このレジ
スト残りを保護層で覆うことができるため、歩留まりを
向上させることができる。

【００３３】なお、上述の実施の形態では、ストライプ
状のフォトマスクを用いてカラーフィルタを形成するも
のとしたが、モザイク状のフォトマスクを用いてカラー
フィルタを形成するものとしてもよい。また、プラズマ
アドレス表示装置のカラーフィルタに限らず、他の表示
装置等で用いるカラーフィルタに対しても本願の発明を
容易に適用することができることは勿論である。

【００３４】

【発明の効果】この発明によれば、丸い棒状体に細線を
巻装して形成されたワイヤーバーを用いて顔料分散レジ
ストが透明で平坦な基板上に塗布され、露光、現像を行
うことにより所定のパターンの有色層が形成される。次
に、ワイヤーバーの細線が巻装されている領域の幅が広
いものとされて、有色層が形成された基板上に保護剤が
塗布されて有色層よりも広く保護層が形成される。この
ため、カラーフィルタの形成に用いられる顔料分散レジ
ストの省液化と共に、顔料分散レジストの残渣に起因す
るゴミや異物の発生、あるいは液が垂れたようなムラの
発生を抑えて、歩留りが向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係るカラーフィルタ製造方法で用い
られる塗布装置の構成を示す斜視図である。

【図２】上側基板の搬送方向に対して横方向から見た塗
布部の構成を示すである。

【図３】上側基板の搬送方向から見たときのワイヤーバ
ーの構成を示す図である。

【図４】有色層の形成工程を示すフローチャートであ
る。

【図５】有色層の形成工程での状態を示す図である。

【図６】フォトマスクを示す図である。

【図７】有色層と保護層の形成を示す図である。

【図８】プラズマアドレス表示装置の構成を示す斜視図
である。

【図９】プラズマアドレス表示装置の構成を示す図であ
る。

【図１０】データ電極、プラズマ電極、放電チャネルの
配列を示す図である。

【符号の説明】

１０・・・電気光学表示セル、３０・・・誘電シート、
１１・・・ガラス基板（上側基板）、１１ａ・・・塗布
面、１２・・・カラーフィルタ、１２ａ，１２ｂ，１２
ｃ・・・有色層、１２ｄ・・・ブラックマスク、１３・
・・データ電極、１４・・・スペーサ、１５・・・液晶
層、２０・・・プラズマセル、２１・・・ガラス基板
（下側基板）、２２Ａ・・・アノード電極、２２Ｋ・・
・カソード電極、２３・・・隔壁、２４・・・フリット
シール材、２５・・・放電チャネル、４１・・・画素、
５１ａ，５１ｂ・・・搬送部、５２・・・塗布部、５３
・・・塗布液槽、５４・・・ワイヤーバー、５４ａ・・
・ロッド、５４ｂ・・・ステンレス細線、５５・・・ロ
ーラ、５６・・・凹部、６２・・・フォトマスク

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年８月１４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２６

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２６】次に、カラーフィルタの形成工程について
図４〜図７を使用して説明する。図４および図５は有色
層の形成工程を示しており、図４のフローチャートのス
テップＳＴ１では、ワイヤーバーを用いた塗布装置を使
用して、図５Ａに示すように上側基板１１に顔料分散レ
ジストが所定の厚さ（例えば１〜３μｍ）で塗布されて
顔料分散レジスト層６１が形成される。なお、このカラ
ーフィルタの製造に用いられる顔料分散レジストは、液
晶パネルの特性を決定する大きな要因となるため、透明
性、耐熱性、密着性等に優れていることが必要である。
次にステップＳＴ２では、溶媒を揮発させるためにプリ
ベーク（例えば８５〜１１０°Ｃ、２〜５分）が行われ
る。ステップＳＴ３では、図５Ｂに示すように所定のパ
ターンを有するフォトマスク６２を介して紫外線が照射
され（例えば１０００〜２０００ｍｊ／ｃｍ²）露光が
行われる。ステップＳＴ４では、現像（例えばアルカリ
溶液１％に６０秒浸漬、揺動）が行われて、例えば図５
Ｃに示すように紫外線が照射されていない部分の顔料分
散レジスト層が除かれ、ステップＳＴ５でリンス（水洗
い）処理が行われた後、ステップＳＴ６でポストベーク
（例えば２００〜３００°Ｃ、５〜３０分）が行われて
ブラックマスク１２ｄが形成される。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２８

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２８】図６において、領域ＬＣの斜線部は有色層
の形成部であり、領域ＬＢはブラックマスク１２ｄの形
成部である。このようなフォトマスクを各有色層の形成
工程で１ピッチずつ順次ずしてアライメントすることに
より、各有色層を同じ寸法でストライプ状に形成するこ
とができ、図５Ｄに示すようにブラックマスク１２ｄや
有色層１２ａ，１２ｂ，１２ｄが形成される。

【手続補正３】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図５

【補正方法】変更

【補正内容】

【図５】

【手続補正４】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図６

【補正方法】変更

【補正内容】

【図６】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光性樹脂に所定色の顔料を分散してな
る顔料分散レジストを透明で平坦な基板上に塗布し、露
光、現像を行って所定のパターンの有色層を形成し、こ
の有色層上に保護層を形成してカラーフィルタを生成す
るカラーフィルタの製造方法において、丸い棒状体に細線を巻装して形成されたワイヤーバー
の、隣接する細線間に形成された凹部に上記顔料分散レ
ジストあるいは上記保護剤を蓄えるものとし、上記ワイ
ヤーバーを回転させて、上記凹部に蓄えられた上記顔料
分散レジストあるいは上記保護剤を上記基板に付着させ
て塗布を行うものとし、上記有色層上に上記保護剤を塗
布して保護層を形成する際には、上記顔料分散レジスト
を塗布して有色層を形成する際よりも上記ワイヤーバー
の細線が巻装されている領域の幅を広いものとし、上記
有色層よりも上記保護層を広く形成することを特徴とし
たカラーフィルタ製造方法。
【請求項２】透明で平坦な基板上に、感光性樹脂に所
定色の顔料を分散してなる顔料分散レジストを塗布し、
露光、現像を行って所定のパターンとされた有色層と、
この有色層上に有色層よりも広く保護剤を塗布して形成
された保護層を有することを特徴としたカラーフィル
タ。
【請求項３】上記有色層と上記保護層は、丸い棒状体
に細線を巻装して形成されたワイヤーバーを用い、この
ワイヤーバーを回転させて、ワイヤーバーの隣接する細
線間に形成された凹部に蓄えられた上記顔料分散レジス
トあるいは上記保護剤を上記基板に付着させて形成され
たものであり、上記保護層は、上記ワイヤーバーの細線が巻装されてい
る領域の幅を可変することにより上記有色層よりも広く
形成されたものであることを特徴とした請求項２記載の
カラーフィルタ。