JPH11272043A - 半導電性ゴムロールおよび画像形成装置 - Google Patents

半導電性ゴムロールおよび画像形成装置

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JPH11272043A
JPH11272043A JP9090198A JP9090198A JPH11272043A JP H11272043 A JPH11272043 A JP H11272043A JP 9090198 A JP9090198 A JP 9090198A JP 9090198 A JP9090198 A JP 9090198A JP H11272043 A JPH11272043 A JP H11272043A
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剛史 大石
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 感光体汚染がなく、環境依存性が小さく、耐
久性および耐圧縮永久歪み性に優れた低硬度の半導電性
ゴムロールを提供することにある。 【解決手段】 中心から順に(A)軸体、(B)(a)
エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分
(エピクロルヒドリン系ゴム含量50重量%以上)、
(b)ηsp/Cが0.01〜0.5の低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体(エピクロルヒドリン系ゴム100
重量部に対して10〜150重量部)および(c)架橋
剤(ゴム成分100重量部に対して0.1〜10重量
部)を含有するエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋
して成る中間弾性層、ならびに(C)表面層の少なくと
も三層を設けて多層半導電性ゴムロールを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真複写機など
に用いられる半導電性ゴムロールおよびそれを有する画
像形成装置に関し、さらに詳しくはロール硬度が低く安
定であり、耐圧縮永久歪み性や耐久性などに優れる半導
電性ゴムロールおよびそれを有する画像形成装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】電子写真複写機または電子写真印刷機は
感光体ドラム外周面を一様に帯電させ、次いで感光体の
外周面に印刷パターンまたは複写パターンを露光するこ
とにより静電潜像を形成し、この静電潜像にトナーを付
着させてトナー像を形成して、このトナー像を印刷用紙
または複写用紙に転写することにより印刷または複写す
る機構を有するものである。
【0003】従来、感光体の帯電工程では一般にコロナ
放電によって帯電が行われていた。しかし、コスト高や
オゾンなどの有害物質が発生するという問題がある。そ
こで、帯電ロールを用いた帯電方式が提案されている。
この帯電方式では、感光体と互いに接触させて配置され
る帯電ロールに電圧を印加し、感光体に直接電荷を与え
て感光体表面上を帯電させている。転写工程においても
コロナ放電を利用せずに、転写ロールを用い電圧を印加
して電界を発生させトナーを感光体から印刷用紙などに
移動させて転写を行う方式が提案されている。一方、非
磁性一成分トナーを使用する方式においては感光体と現
像ロールが互いに接触するように配置されており、現像
ロールによって搬送されてきたトナーが現像ロールと現
像ブレードとの間で摩擦により帯電させられる。帯電し
たトナーが現像ロールと感光体との間に生じた電界に従
って現像ロール上から感光体上に移動して、潜像が現像
される。
【0004】このような感光体とロールが互いに接触し
た構造を用いる画像形成装置ではロールとして軸体の表
面にゴム層が形成された構造のゴムロールが使用されて
いる。これらのゴムロールと感光体との間には電圧を印
加させ、電界を発生させなければならない。そこでゴム
ロールの電気抵抗が半導電性であることが要求される。
【0005】このような半導電性ゴムロールとしては一
般に樹脂またはゴムにカーボンブラック、カーボン繊
維、金属粉などの導電性付与剤を分散させて半導電性に
調整したものが挙げられる。しかし、このようなロール
では、導電性付与剤の分散が均一性に欠け、部位により
電気抵抗の大きさにばらつきが発生し、体積固有抵抗値
を106〜1012Ω・cmの半導電性領域に調整するこ
とが非常に困難である。そこで、それ自体の体積固有抵
抗値が107〜1011Ω・cmであって、導電性付与剤
を配合する必要のないエピクロルヒドリンゴムを用いる
ことが提案されている。しかし、エピクロルヒドリンゴ
ムは表面の離型性が悪いため、トナーが付着し、汚れや
すいという問題がある。
【0006】導電化したフッ素樹脂などからなる非粘着
性被覆層をエピクロルヒドリンゴム層の外に形成してト
ナー付着を防止したものも提案されている(特開平6−
266206号公報など)。しかし、硬度が十分に低く
なく、感光体削れやトナー劣化など連続印字における耐
久性が十分でないという問題があった。
【0007】また、半導電性ゴムロールの硬度を低下さ
せるために、液状アクリロニトリル−ブタジエンゴム、
液状ポリブタジエン、液状クロロプレンなどの液状不飽
和ゴムを添加する方法が提案されている(特開平9−1
60354号公報など)。しかし、エピクロルヒドリン
ゴムと液状不飽和ゴムとの相溶性は十分ではなく、耐圧
縮永久歪み性が悪い。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、感光
体汚染がなく、環境依存性が小さく、耐久性および耐圧
縮永久歪み性に優れた低硬度の半導電性ゴムロールを提
供することにある。より具体的に、本発明の目的は、感
光体上の静電潜像をトナーにより可視像に現像する画像
形成装置において、感光体と互いに接触して配置される
現像ロール、帯電ロール、転写ロールなどとして好適に
使用できる半導電性ゴムロールを提供することにある。
【0009】本発明者らは、鋭意研究した結果、軸体、
中間弾性層、表面層の少なくとも三層構造を有してお
り、中間弾性層の材質として、エピクロルヒドリン系ゴ
ムと低分子量エピクロルヒドリン系重合体とを含有する
組成物の架橋物を用いた半導電性ゴムロールは、導電性
付与剤を配合しなくても適度なロール電気抵抗を示し、
表面層に実用に耐えうる厚さの樹脂層などを設けても低
硬度で耐圧縮歪み性に優れていることを見出した。この
半導電性ゴムロールは感光体を摩耗させることなく、汚
染することもない。さらに、トナーを劣化させることも
少なく耐久性に優れる。本発明はこれらの知見に基づい
て完成するに至ったものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】かくして、本発明によれ
ば、中心軸から順に(A)軸体、(B)(a)エピクロ
ルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分、(b)低
分子量エピクロルヒドリン系重合体および(c)架橋剤
を含有するエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して
成る中間弾性層、ならびに(C)表面層の少なくとも三
層を有する多層半導電性ゴムロールが提供され、さら
に、該半導電性ゴムロールを有する画像形成装置が提供
される。
【0011】
【発明の実施の形態】(軸体)本発明の半導電性ゴムロ
ールは、中心部が軸体である。本発明に用いられる軸体
は、半導電性ゴムロールの軸体として用いられるもので
あれば、特に限定されないが、通常、導電性剛性体から
なる。導電性剛性体としては、ステンレス鋼、銅などの
金属が挙げられる。
【0012】軸体は中実体からなるものであってもよい
し、中空体からなるものであってもよい。大きさや形状
も使用目的に応じて決めればよい。軸体は、図1、図2
に示す軸体のように真円柱状であることが好ましい。軸
体に積層される層、一般には中間弾性層と接触する軸体
外周面と積層される層との接着性やロールを感光体と接
触させた場合のニップ圧力が均一になるからである。し
かし、接着性やニップ圧力が許容範囲内であれば、軸体
形状は特に限定されない。例えば、軸方向中央部の外径
が最も大きく、両端部の外径が小さい円柱状の軸体を用
いることにより、軸体の撓みを小さくし、軸方向中央部
の押圧力が両端部に比べて小さくしたものなども用いる
ことができる。軸体の外周面は、外周面上に積層される
層との接着を良好にするために研磨などにより表面粗さ
を大きくしておくことが好ましい。
【0013】(内層の材料)半導電性ゴムロールは、一
般には軸体の外周面と中間弾性層の内周面とが接する構
造になるが、両者の間に導電性材料から成る内層を設け
てもよい。内層を設けた場合、内層の厚さを変えること
によって、ロール電気抵抗の調整が可能である。
【0014】内層の材料となる導電性材料は特に限定さ
れず、導電性の樹脂またはゴム、あるいは、樹脂または
ゴムにカーボンブラック、カーボン繊維、金属粉などの
導電性付与剤を分散させて半導電性に調製した組成物な
どであってもよい。
【0015】(中間弾性層の材料)本発明の半導電性ゴ
ムロールは、軸体より外側に中間弾性層が形成されてお
り、この中間弾性層は(a)エピクロルヒドリン系ゴム
を必須成分とするゴム成分、(b)低分子量エピクロル
ヒドリン系重合体および(c)架橋剤を含有するエピク
ロルヒドリン系ゴム組成物の架橋物によって構成されて
いる。
【0016】(ゴム成分)本発明において用いられる
(a)ゴム成分は、エピクロルヒドリン系ゴムを必須成
分とし、他のゴムと併用することも可能である。
【0017】エピクロルヒドリン系ゴムは、エピクロル
ヒドリンの単独重合体ゴム、またはエピクロルヒドリン
とアルキレンオキサイドおよび/または不飽和エポキシ
ドを共重合して得られる共重合体ゴムである。
【0018】アルキレンオキサイドとしては、例えば、
エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレン
オキサイド、イソブチレンオキサイドなどの飽和アルキ
レンオキサイド類; エピフロロヒドリン、エピブロモ
ヒドリン、トリフロロメチルエチレンオキサイドなどの
置換飽和アルキレンオキサイド類; が挙げられ、それ
ぞれ単独で、あるいは2種以上を組み合わせて使用する
ことができる。これらの中でも、入手の容易さなどから
みて、エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドが好
ましい。エチレンオキサイドとプロピレンオキサイドを
併用する場合、両者の比(エチレンオキサイド/プロピ
レンオキサイド)はモル比で、好ましくは10/90〜
90/10、より好ましくは15/85〜85/15、
特に好ましくは20/80〜80/20である。
【0019】不飽和エポキシドとしては、例えば、ブタ
ジエンモノオキサイド、1,2−エポキシ−5−ヘキセ
ン、1,2−エポキシ−7−オクテンなどの不飽和アル
キレンオキサイド類; アリルグリシジルエーテルなど
のグリシジルエーテル類;グリシジルメタクリレート、
グリシジルアクリレートなどのグリシジルエステル類;
などが挙げられる。これらのうちアリルグリシジルエ
ーテルが好適である。不飽和エポキシドを共重合するこ
とにより、硫黄系架橋剤(硫黄または硫黄供与体)また
は過酸化物による架橋が可能になり、耐汚染性や耐金属
腐食性が良好となる。
【0020】エピクロルヒドリン系ゴム中のアルキレン
オキサイド単位の量は、好ましくは0〜70モル%、よ
り好ましくは10〜65モル%、特に好ましくは20〜
60モル%である。エピクロルヒドリン系ゴム中のアル
キレンオキサイド単位の量が多すぎると吸湿性が高くな
ったり、あるいは体積固有抵抗値の環境依存性が大きく
なるため、環境によっては使用できない場合がある。
【0021】エピクロルヒドリン系ゴム中のエピクロル
ヒドリン単位の量は、好ましくは30〜100モル%、
より好ましくは35〜90モル%、さらに好ましくは4
0〜80モル%である。エピクロルヒドリン系ゴム中の
エピクロルヒドリン単位の量が多すぎると体積固有抵抗
値が高くなり、少なすぎると吸湿性が高くなる。
【0022】エピクロルヒドリン系ゴム中の不飽和エポ
キシド単位の量は好ましくは0〜15モル%、より好ま
しくは1〜12モル%、特に好ましくは2〜10モル%
である。エピクロルヒドリン系ゴム中の不飽和エポキシ
ド単位の量が多すぎると、低硬度の架橋物を得ることが
困難である。不飽和エポキシド単位の量が少なすぎると
硫黄系架橋剤または過酸化物による架橋が不十分になる
ことがある。
【0023】エピクロルヒドリン系ゴムとしては、加工
における混練が容易であることから100℃におけるム
ーニー粘度が好ましくは20〜200、より好ましくは
40〜150、特に好ましくは50〜100のものが用
いられる。
【0024】エピクロルヒドリン系ゴムの製造方法は、
特に限定されず、例えば特公昭56−51171号公報
に記載される有機アルミニウム化合物系触媒を用いて公
知の溶液重合法により製造できる。
【0025】中間弾性層の製造に用いられる(a)ゴム
成分の任意成分として、使用できるゴムとしては、例え
ば、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム、アク
リロニトリル−イソプレン共重合体ゴム、アクリロニト
リル−ブタジエン−イソプレン共重合体ゴム、スチレン
−ブタジエン共重合体ゴムおよびこれらの水素添加物、
エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム、クロロプレ
ンゴム、アクリルゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴムなど
が挙げられる。
【0026】エピクロルヒドリン系ゴムと他のゴムとの
ブレンド比率は、一般に、エピクロルヒドリン系ゴム5
0〜100重量%、好ましくは60〜90重量%、特に
好ましくは70〜85重量%、任意成分のゴム0〜50
重量%、好ましくは10〜40重量%、特に好ましくは
15〜30重量%の範囲である。任意成分のゴムが多す
ぎると低分子量エピクロルヒドリン系重合体との相溶性
が悪くなり、少なすぎると任意成分のゴムを加えた効果
が出にくい。
【0027】エピクロルヒドリン系ゴムと任意成分であ
るゴムとのブレンドは、ロールやバンバリーミキサーな
どのような通常の混練機を用いて混合すればよい。
【0028】(低分子量エピクロルヒドリン系重合体)
本発明に用いられる低分子量エピクロルヒドリン系重合
体は、エピクロルヒドリン単位を必須とする重合体であ
る。低分子量エピクロルヒドリン系重合体は、エピクロ
ルヒドリンと共重合可能な単量体単位を含有していても
よく、そのような単位となる単量体としては、アルキレ
ンオキサイドおよび不飽和エポキシドが例示される。ア
ルキレンオキサイドおよび不飽和エポキシドとしてはエ
ピクロルヒドリン系ゴムの単量体として説明したものが
用いられる。
【0029】(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合
体中のエピクロルヒドリン単位の量は好ましくは30〜
100モル%、より好ましくは35〜100モル%、特
に好ましくは40〜100モル%である。エピクロルヒ
ドリン単位量が多くなるほど中間弾性層の体積固有抵抗
値は大きくなり、少なくなるほど低分子量エピクロルヒ
ドリン系重合体の製造が困難になる。アルキレンオキサ
イド単位量は好ましくは0〜70モル%、より好ましく
は0〜65モル%、特に好ましくは0〜60モル%であ
る。アルキレンオキサイド単位量は少ないほど体積固有
抵抗値は大きくなり、多いほど製造が困難になる。不飽
和エポキシド単位の量は好ましくは0〜20モル%、よ
り好ましくは0〜15モル%、特に好ましくは0〜10
モル%である。不飽和エポキシド単位量が少なすぎる
と、架橋剤として硫黄系架橋剤または過酸化物を用いた
場合には、低分子量エピクロルヒドリン系重合体がエピ
クロルヒドリン系ゴムから溶出しやすくなる。一方、不
飽和エポキシド単位が多すぎると低分子量エピクロルヒ
ドリン系重合体の製造が困難である。
【0030】低分子量エピクロルヒドリン系重合体は常
温(20〜30℃)において液体状態のものであり、そ
の分子量が好ましくは1000〜10000、より好ま
しくは1500〜8000、特に好ましくは2000〜
6000のものである。また、低分子量エピクロルヒド
リン系重合体のムーニー粘度は通常1以下であり、小さ
すぎるために測定不可の場合も多い。低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体のトルエン溶液での還元粘度(ηsp
/C)は好ましくは0.01〜0.5、より好ましくは
0.02〜0.4、特に好ましくは0.03〜0.3で
ある。ηsp/Cが大きすぎるとゴムの硬度を低下させる
効果が小さく、ηsp/Cが小さすぎるとブリードを生じ
ることがある。
【0031】低分子量エピクロルヒドリン系重合体の製
造方法は特に限定されず、例えば、塩化第二錫、有機ア
ルミニウム/水錯体、フッ化ホウ素・エーテル錯体など
の触媒を用いて公知の溶液重合法により製造できる。
【0032】(架橋剤) (c)架橋剤としては硫黄または硫黄供与体、有機過酸
化物、メルカプトトリアジン類、チオウレア類などを挙
げることができる。硫黄供与体としては、例えば、モル
ホリンジスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィ
ドなどのチウラム類を挙げることができる。有機過酸化
物としてはケトンパーオキシド類、パーオキシエステル
類、ジアシルパーオキシド類、アルキルパーオキシド類
が挙げられ、これらの有機過酸化物を使用したときは耐
圧縮永久歪みが良好な架橋物が得られる。チオウレア類
としては、チオウレア、ジブチルチオウレア、トリエチ
ルチオウレアなどを挙げることができる。
【0033】(エピクロルヒドリン系ゴム組成物)本発
明で用いるエピクロルヒドリン系ゴム組成物は、(a)
エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分、
(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体および
(c)架橋剤を含有する。
【0034】(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合
体の量は、エピクロルヒドリン系ゴム100重量部に対
し、好ましくは10〜150重量部、より好ましくは2
0〜120重量部、特に好ましくは30〜100重量部
である。(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体が
少なすぎると、エピクロリン系ゴム組成物の架橋後の硬
度が高くなりすぎる。多すぎると(b)低分子量エピク
ロルヒドリン系重合体がブリードしたり、粘度が高くな
り、混練などのゴム組成物の調製作業が困難になる。
【0035】(c)架橋剤の量は、(a)ゴム成分10
0重量部に対して、好ましくは0.1〜10重量部、よ
り好ましくは0.2〜7重量部、特に好ましくは0.3
〜5重量部である。
【0036】エピクロルヒドリン系ゴム組成物には、必
要に応じて架橋促進剤、補強剤、充填剤、老化防止剤な
どの通常のゴム配合剤を適宜混合することができる。
【0037】エピクロルヒドリン系ゴム組成物は、前記
各成分をロールやバンバリーミキサーなどのような通常
の混練機を用い混合することにより得ることができる。
【0038】エピクロルヒドリン系ゴム組成物の架橋
は、プレス、蒸気釜、射出成型機などのような通常のゴ
ム加工成形機を用いて100〜250℃に加熱すること
によって行なうことができる。
【0039】このエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架
橋すると、低分子量エピクロルヒドリン系重合体がブリ
ードアウトしなくなり、硬度(Duro−A)が好まし
くは40以下、より好ましくは35以下、特に好ましく
は30以下の中間弾性層に用いる架橋物が容易に得られ
る。
【0040】本発明で使用されるエピクロルヒドリン系
ゴム組成物は粘度が低く、寸法安定性があるので押出成
形や射出成形にも適している。
【0041】中間弾性層の層厚は特に限定されず、層厚
を変えることでロール電気抵抗を変えることができる。
層厚は、好ましくは50μm以上、より好ましくは10
0μm以上、特に好ましくは200μm以上である。層
厚が薄すぎるとロール電気抵抗が小さくなりすぎるほ
か、中間弾性層の耐久性が問題となる。また、層厚は好
ましくは30mm以下、より好ましくは20mm以下、
特に好ましくは15mm以下である。層厚が厚すぎる
と、ロール電気抵抗が高くなりすぎる。
【0042】本発明で中間弾性層を形成するエピクロル
ヒドリン系ゴム組成物の架橋物は半導電性を持つ。通
常、架橋物の体積固有抵抗値が105〜1012Ω・c
m、好ましくは106〜1011Ω・cm、より好ましく
は107〜1010Ω・cmである。
【0043】(表面層の材料)中間弾性層の表面に、樹
脂層またはゴム層を形成する。樹脂層またはゴム層とし
ては、半導電性を有する樹脂層またはゴム層が好まし
い。また、必要に応じて架橋樹脂層または架橋ゴム層と
してもよい。
【0044】表面層を構成する樹脂としては、特に限定
されず、一般の半導電性ゴムロールにおいて表面層とし
て用いられる樹脂、例えば、ポリウレタン樹脂、シリコ
ーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイ
ミド樹脂、フッ素樹脂などが挙げられる。
【0045】表面層を構成する樹脂として用いられるポ
リウレタン樹脂は、多官能イソシアネート化合物とポリ
エーテルポリオールまたはポリエステルポリオールとの
反応物である。このポリウレタン樹脂は、分子鎖中に親
水性官能基を有していてもよい。ポリウレタン樹脂の被
覆は、環境汚染が小さく、ゴム層を膨潤させることな
く、ゴム層から配合剤が溶出しないことから、自己乳化
型または強制乳化型のポリウレタン樹脂水分散液を用い
て行うことが好ましい。
【0046】樹脂層を構成する樹脂として用いることの
できるシリコーン樹脂としては、メチル基、フェニル基
を側鎖に有するもの、アクリル基、エポキシ基、エステ
ル基などで変性したものなどが例示できる。
【0047】樹脂層を構成する樹脂として用いることの
できるナイロン樹脂の中ではN−メトキシメチル化ナイ
ロンが好ましい。N−メトキシメチル化ナイロンは、6
−ナイロンのアミド基をメトキシメチル化することによ
って得られるものであり、そのメトキシ化率を高くする
ことによりアルコールに対する溶解性が向上する。
【0048】樹脂層を用いた場合の表面層の層厚は、好
ましくは5〜300μm、より好ましくは7〜200μ
m、さらに好ましくは10〜150μmの範囲である。
層厚が小さすぎると摩耗に対する耐久性が低下し、大き
すぎると被膜にクラックが入りやすくなる。
【0049】表面層をゴム層とする場合、ゴム層を形成
するゴムは特に限定されるものではく、一般の半導電性
ゴムロールにおいて表面層を構成するのに用いられるゴ
ムが用いられ、例えば、アクリロニトリルブタジエン共
重合体ゴム、エチレンプロピレンジエン共重合体ゴム、
エピクロルヒドリン系ゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム
などの合成ゴムが単独で、またはブレンドして用いられ
る。
【0050】表面層としてゴム層を用いた場合、表面層
の層厚は樹脂の場合と比べクラックが入る問題がないた
め特に限定されない。
【0051】表面層の体積固有抵抗値は電気抵抗のバラ
ツキを小さくするために好ましくは105〜1012Ω・
cm、より好ましくは105.5〜1011Ω・cm、さら
に好ましくは106〜1010Ω・cmである。表面層を
構成する樹脂やゴムの種類によっては、アセチレンブラ
ックなどのカーボンブラック; 酸化スズ、酸化亜鉛な
どの導電性酸化物; 界面活性剤などの導電性付与剤;
などを添加して、体積固有抵抗値を調整する。
【0052】なお、感光体汚染、ブリード性の点から表
面層を構成する樹脂やゴムには、可塑剤や軟化剤は使用
しないことが好ましい。
【0053】(半導電性ゴムロール)本発明の半導電性
ゴムロールは、中心軸から順に(A)軸体、(B)
(a)エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム
成分、(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体、お
よび(c)架橋剤を含有するエピクロルヒドリン系ゴム
組成物を架橋して成る中間弾性層、および(C)表面層
の少なくとも三層を有する多層のものである。
【0054】具体例として、図1、図2に示す半導電性
ゴムロールについて説明する。図1は本発明の半導電性
ゴムロールの一例を示す軸に垂直な断面図、図2は同じ
く一例を示す軸方向の断面図である。この一例において
は、半導電性ゴムロールの中心部分に存在する軸体14
は、真円柱状であり、その外周と接して半導電性の中間
弾性層15が形成されている。さらにその中間弾性層の
外周に表面層16が形成されている。
【0055】また前述のように、軸体と中間弾性体の間
に内層を形成してもよい。
【0056】本発明の半導電性ゴムロールを製造する方
法も特に限定されない。例として、図1、図2に示す半
導電性ゴムロールのように3層構造の場合について説明
する。
【0057】軸体をロール金型内に固定し、軸体の外周
を覆うようにエピクロルヒドリン系ゴム組成物を入れて
ロール状に賦形し、次いで加熱して架橋させ、中間弾性
層を形成する。形成後、寸法精度や密着性の向上などの
必要に応じてこの中間弾性層の表面を研磨した後、その
上に表面層を形成する。
【0058】表面層の成型方法も特に限定されない。通
常、表面層を構成する樹脂またはゴムを有機溶剤や水な
どに溶解または分散させ、この溶液または分散液を前記
中間弾性層の表面に塗布し、乾燥して形成される。必要
に応じて、架橋剤などを配合した架橋性樹脂、または架
橋性ゴムを調製し、その溶液または分散液を前記中間弾
性層の表面に塗布し、乾燥し、架橋して形成してもよ
い。塗布方法は、刷毛塗り、スプレー塗り、浸漬(ディ
ップ)などの方法が挙げられるが、生産効率の点からデ
ィップ方式が好ましい。乾燥方法は、自然乾燥、加熱乾
燥などの方法が挙げられるが、中でも表面層の膜厚の均
一性を高めるために加熱乾燥が好ましい。架橋方法は、
特に限定されず、用いる樹脂またはゴム、架橋剤などの
特性に応じた架橋方法を取ればよい。
【0059】あるいは、表面層がゴム層の場合、中間弾
性層の原料であるエピクロルヒドリン系ゴム組成物と表
面層の原料である架橋性ゴム組成物との積層体を軸体の
周囲に押出機から押出成形し、積層体のまま加熱架橋す
ることにより、中間弾性層と表面層を同時に成型、架橋
し、必要に応じて表面を研磨するなどの処理を行う。中
間弾性層と表面層の同時成型、同時架橋は、中間弾性層
と表面層の接着が容易であることから好ましい方法であ
る。
【0060】表面層をゴム層とした場合、表面層の摩擦
係数を低減するために表面処理を行なうことが好まし
い。表面処理を行なうには、先ず研磨材を用いて表面を
適度に研磨することが好ましい。表面処理方法としては
紫外線照射、オゾン暴露、反応性シリコーン化合物の塗
布、または反応性フッ素化合物の塗布などが挙げられ
る。このような表面処理を行なうことによりゴムロール
表面の粘着による弊害を防止できる。
【0061】本発明の半導電性ゴムロールは感光体上の
静電潜像をトナーにより可視像に現像する画像形成装置
において、感光体と接触して配置される現像ロール、帯
電ロールまたは転写ロールなどとしてとして好適であ
る。
【0062】(画像形成装置)本発明の画像形成装置
は、帯電ロール、現像ロール、転写ロールなどのロール
の内、少なくとも一つとして本発明の半導電性ゴムロー
ルを有する。
【0063】本発明の画像形成装置の構造、機能は、特
に限定されず、例えば、(1)帯電ロールが感光体に当
接して感光体表面を帯電させ、(2)露光手段により露
光することにより帯電した感光体表面に静電潜像を形成
させ、(3)トナーが塗布された現像ロールが感光体に
当接して、静電潜像がトナーにより可視像に現像され、
(4)転写ロールを用い電圧を印加してトナーを印刷用
紙に転写するように構成され、機能するものである。
【0064】このような画像形成装置としては、例え
ば、図3に示されるものが挙げられる。図3に示す画像
形成装置では静電潜像を形成する感光体1と帯電ロール
10とが接触するように配置され、電源から帯電ロール
の軸体を通じて電圧が印加されるようになっており、こ
れによって、感光体の表面を帯電させる。レーザー光源
などを用いた露光装置9により露光し、帯電した感光体
1の表面に静電潜像を形成させる。感光体1は、現像ロ
ール2とも接触するように配置されている。現像工程で
は、トナー4が供給ロール6により隣接する現像ロール
2の表面に塗布される。現像ブレード3により、現像ロ
ール表面に塗布されたトナーの厚みを均一に制御する。
現像ロールの表面に一様かつ均一に塗布されたトナー
は、感光体ドラム表面に形成された静電潜像を可視化す
る。
【0065】感光体上のトナー像は、電源により転写ロ
ール11に軸体を介してトナーと逆極性の電圧を印加し
て電界を発生させ、該電界の静電気力によって感光体ド
ラム上のトナーを転写材13に転写する。
【0066】転写工程の後、感光体表面に残留するトナ
ーは、クリーニングブレードなどのクリーニング装置に
よって除去してもよいが、図3には、このようなクリー
ニング装置のない、いわゆるクリーナーレス方式の画像
形成装置が示されている。したがって、感光体ドラム表
面に残留するトナーは、帯電ロールと接触することにな
る。クリーナーレス方式では、帯電工程を通過した後、
帯電された感光体の表面電位と現像バイアスの差異によ
って、トナーを静電気力で現像装置に吸引して回収す
る。すなわち、帯電工程終了後であって、転写工程が開
始される前の、例えば、現像工程において発生した静電
気力によって残留トナーを回収する。なお、現像ロール
2の軸体は、通常、バイアス電圧が印加できるように構
成されている。転写材は、例えば、紙やOHPシートな
どである。
【0067】
【実施例】以下に実施例、比較例を挙げて本発明をより
具体的に説明する。使用した溶媒、単量体などは、全て
脱気脱水処理を行って用いた。なお、本実施例で採用し
た中間弾性層ゴム特性評価方法およびロール特性評価方
法を下記に示す。
【0068】[還元粘度(ηsp/C)]還元粘度は、重
合体1gをトルエン100mlに溶解したものを30℃
の恒温水槽において、オストワルド粘度計タイプ0Aを
用いて測定した。
【0069】[硬度]硬度はJIS K 6253に従
って測定した。
【0070】[体積固有抵抗値]体積固有抵抗値(Ω・
cm)は、それぞれの材料で厚さ2mmのシートを作製
し、それをガイドリング付き電極に挟んで、直流500
Vの電圧で23℃、50%RHにて測定した。
【0071】[ロール電気抵抗]ロール電気抵抗(Ω)
は、ステンレス鋼製の軸体を用いてゴム面長200m
m、ゴム厚さ3mm、ロール外径18mmの半導電性ゴ
ムロールを作製し、ゴム面長と同じ長さで1000gの
黄銅製の電極を乗せて、半導電性ゴムロールの軸体と電
極間に500Vの直流電圧をかけて測定した。
【0072】[感光体汚染]感光体汚染は、市販の感光
体(沖データ社製、OL600e用)を固定し、半導電
性ゴムロールを荷重500gとなるように感光体と接触
させ45℃、80%RHの環境下に4週間放置して評価
した。なお、評価は3段階であり、表1、2中では、○
は4週間経過時に汚染は認められないことを表し、△は
2週間経過時に汚染は認められないが、その後感光体上
にスジが認められることを表し、×は2週間経過前に汚
染が認められることを表す。
【0073】[耐久性、L/L印字濃度]作製した半伝
導性ゴムロールを現像ロールとして、電子写真プリンタ
ー(画像形成装置)に取り付けて23℃、50%RHの
環境下にて5%印字のパターンで連続印字を行ない、印
字濃度や印字のムラなどの印字品質について評価した。
印字品質が悪化した場合には使用した感光体やトナーを
正常品と交換して実験を行い、原因を確認した。印字品
質の悪化の原因としては感光体の削れやトナー劣化など
が挙げられる。さらに、感光体削れについては顕微鏡に
よる表面観察によっても確認を行った。印字品質、感光
体削れは共に3段階評価であり、表1中で印字品質は、
○は3万字印字しても印字品質が安定であることを表
し、△は3万枚印字では印字品質に悪化が認められた
が、2万枚印字しても印字品質が安定であることを表
し、×は2万枚印字して2万枚目には印字品質に悪化が
認められることを表す。表1中で感光体削れは、○は3
万枚印字しても感光体の削れによる影響がないことを表
し、△は3万枚印字すると感光体の削れによる影響が認
められるが、2万枚印字しても2万枚目に感光体の削れ
による影響がないことを表し、×は2万枚印字して2万
枚目に感光体削れが原因の印字品質の悪化が見られるこ
とを示す。
【0074】また、低温低湿度のL/L環境下(10
℃、20%RH)についての印字濃度についても評価し
た。L/L印字濃度の評価はマクベス反射濃度計を用
い、「黒ベタ部」を測定することにより行った。○は印
字濃度が1.3以上であることを、×は印字濃度が1.
3未満であることを示す。
【0075】参考例1 密栓した内容積800ミリリットルの耐圧ガラスボトル
を窒素置換して、トルエン180g及びトリイソブチル
アルミニウム60gを仕込んだ。ガラスボトルを氷水に
浸漬して冷却後 、ジエチルエーテル224.2gを添
加し撹拌した。次に氷水で冷却しながら正リン酸8.8
9gを添加し、さらに撹拌した。この時、有機アルミニ
ウムと正リン酸の反応によりボトル内圧が上昇するので
適時脱圧を実施した。次に1,8−ジアザ−ビシクロ
(5,4,0)ウンデセン−7のギ酸塩8.98gを添
加した。得られた反応混合物を60℃の温水浴内で1時
間熟成反応して、触媒溶液を得た。
【0076】参考例2 5リットルのオートクレーブにエピクロルヒドリン25
1.4g、アリルグリシジルエーテル31g、エチレン
オキサイド22.11g、トルエン2907.12gを
入れ、窒素雰囲気下で撹拌しながら内容液を70℃に昇
温し、参考例1で得た触媒溶液を13ミリリットル添加
して反応を開始した。
【0077】次に、触媒添加から5時間かけて等速度
で、エチレンオキサイド145.49gをトルエン33
9.48gに溶解した溶液を連続添加した。同時に、5
時間に渡り、30分毎に触媒溶液を7ミリリットルづつ
添加した。触媒添加から5時間で反応を完結させた。
【0078】反応終了後、水を15g添加して撹拌し、
さらに4,4’−チオビス−(6−tert−ブチル−
3−メチルフェノール)5重量%トルエン溶液を45g
添加し撹拌した。溶媒を除去する為に、スチームストリ
ッピングを実施し上澄み水を除去後60℃にて真空乾燥
し、ムーニー粘度85のエピクロルヒドリンゴムAを4
36.5gを得た。エピクロルヒドリンゴムAが、エピ
クロルヒドリン単位/アリルグリシジルエーテル単位/
エチレンオキサイド単位がモル比で40/4/56であ
る3元共重合体であることをNMR分析で確認した。
【0079】参考例3 エピクロルヒドリン量を339.7gに、アリルグリシ
ジルエーテル量を49.95gに、エチレンオキサイド
量を8.53gに、トルエン量を3125.69gに、
窒素雰囲気下での昇温を60℃に、参考例1で得た触媒
溶液量を10ミリリットルに、エチレンオキサイドのト
ルエン溶液をエチレンオキサイド51.82gをトルエ
ン120.91gに溶解した溶液に変える以外は参考例
1と同様に処理して、ムーニー粘度80、エピクロルヒ
ドリン単位/アリルグリシジルエーテル単位/エチレン
オキサイド単位がモル比で67/8/25であるエピク
ロルヒドリンゴムBを434.2g得た。
【0080】参考例4 5リットルのオートクレーブにエピクロルヒドリン20
00gおよびトルエン857gを入れ、窒素雰囲気下に
て撹拌しながら内溶液を50℃に昇温し、四塩化スズ3
0重量%トルエン溶液を3ミリリットル添加して重合を
開始した。さらに30分毎に同じ四塩化スズ溶液を3ミ
リリットルづつ10時間にわたり添加し、重合反応を行
った。ガスクロマトグラフ分析による未反応エピクロル
ヒドリンの定量分析によれば重合反応率は81%であっ
た。得られた反応物混合液に水酸化ナトリウム20重量
%水溶液61.5gを添加し、さらに4,4’−チオビ
ス−(6−tert−ブチル−3−メチルフェノール)
5重量%トルエン溶液を162g添加し撹拌した。溶媒
および未反応単量体を除去するために、スチームストリ
ッピングを実施し、上澄み水を除去後、60℃にて真空
乾燥して、還元粘度が0.09を示す粘稠な低分子量エ
ピクロルヒドリン重合体a1600gを得た。
【0081】参考例5 エピクロルヒドリン量を1930gに変え、さらにエピ
クロルヒドリンとトルエンと同時にエチレンオキサイド
70gをオートクレーブに入れる以外は、参考例4と同
様に処理し、低分子量エピクロルヒドリン重合体b66
0gを得た。ガスクロマトグラフィーによる未反応エピ
クロルヒドリンと未反応エチレンオキサイドの定量分析
によれば重合反応率は34%、還元粘度が0.06、N
MR分析によれば、エピクロルヒドリン単位/エチレン
オキサイド単位のモル比が80/20の共重合体であっ
た。
【0082】実施例1〜7、比較例1〜6 表1に示す配合で、ロールで混練し、中間弾性層材料で
あるゴム組成物を調製した。なお、配合材料で、上記で
説明されていないものは以下のようなものである。 アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム: 日本ゼオ
ン製、Nipol 1052J、日本ゼオン製 エチレン−プロピレン−ジエンゴム: 三井石油化学工
業製、EPT3042E、 液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム: 日本
ゼオン製、Nipol1312、 パラフィン・オイル: 出光興産製、ダイアナプロセス
PW−90、 カーボンブラック: ケッチェンブラック製、ケッチェ
ンブラックEC
【0083】この中間弾性層用材料のゴム組成物をシー
ト状に成形して155℃で30分間架橋し、厚さ2mm
の架橋ゴムシートを得た。得られた各架橋ゴムシートを
用いて中間弾性層ゴム特性として、硬度、体積固有抵抗
値を測定した結果を表1に示す。
【0084】半導電性ロールは、以下のように軸体に中
間弾性層を積層し、さらに表面層を積層して製造した。
【0085】中間弾性層の形成は、ステンレス鋼製で全
体の長さが263mm、中間弾性層被覆部の長さ227
mm、外径10mmの円柱状中実体を軸体としてロール
金型内に入れ、そこにゴム組成物を入れて、軸体の周囲
にロール状に賦形し、次いで加熱して架橋する方法によ
って行った。架橋成形後、得られたゴムロールは、その
表面を研磨材で研磨して、JIS B0601に記載さ
れている10点平均粗さで10μm以下になるまで砥石
の目を変えて研磨した。
【0086】表面層の形成は、下記(1)〜(4)の方
法で行った。
【0087】(1)架橋性ポリウレタン樹脂組成物(ス
ーパーフレックス126、第一工業製薬社製)水分散液
(固形分20重量%)80重量部と酸化スズ20重量部
をボールミルポットに入れ、良く分散させ、この分散液
に中間弾性層を形成したロールを浸漬し、乾燥後150
℃×10分間熱処理して、厚さ50μの架橋ポリウレタ
ン樹脂の表面層を形成した。なお、表1、表2中で表面
層材料の欄に「ウレタン」と書かれているのは、このウ
レタン樹脂の表面層を設けたことを示している。
【0088】(2)架橋性ポリウレタン樹脂組成物水分
散液の代わりにN−メトキシメチル化ナイロン(トレジ
ンEF−30T、帝国化学産業製)メタノール溶液(固
形分20重量%)を用いた以外は(1)と同様に処理し
て、厚さ50μmの表面層を形成した。なお、表1中で
表面層材料の欄に「ナイロン」と書かれているのは、こ
のナイロン樹脂の表面層を設けたことを示している。
【0089】(3)架橋性ポリウレタン樹脂組成物水分
散液の代わりにフッ素樹脂(ルミフロンLF−601
C、旭硝子製)トルエン/キシレン(50/50重量%
比)溶液(固形分20重量%)を用いた以外は(1)と
同様に処理して、厚さ50μmの表面層を形成した。な
お、表1中で表面層材料の欄に「フッ素」と書かれてい
るのは、このフッ素樹脂の表面層を設けたことを示して
いる。
【0090】(4)アクリロニトリル−ブタジエン共重
合体ゴム(Nipol 1052J)100重量部に対
し酸化亜鉛5重量部、ステアリン酸0.5重量部、酸化
スズ50重量部、硫黄0.5重量部、テトラエチルチウ
ラムジスルフィド1.5重量部を加えてロールで混練
し、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴム組成物
を得た。このアクリロニトリル−ブタジエン共重合体ゴ
ム組成物を押出機を用いて、中間弾性層を形成したロー
ルの中間弾性層外周面にゴム組成物の層を設けた。16
0℃、30分の加熱により架橋させた後、研磨を行ない
表面層を厚さ500μmとした。さらに、粘着を防止す
るために紫外線照射による表面処理を施した。紫外線照
射はランプ出力80W/cm、定格電力4000Wの紫
外線ランプの廻りに処理するロールを回転させ、3分間
照射した。なお、表1中で表面層材料の欄に「NBR」
と書かれているのは、この架橋アクリロニトリル−ブタ
ジエン共重合体ゴムの表面層を設けたことを示してい
る。
【0091】なお、この表面層と同じ材料、同じ架橋条
件で厚さ2mmのシートを作製し、表面層材料特性とし
て体積固有抵抗値(Ω・cm)を、さらに製造した半導
電性ロールについて、ロール特性として、中間弾性層
厚、表面層厚、ロール硬度、ロール電気抵抗、L/L印
字濃度、感光体汚染、耐久性(感光体削れ)、耐久性
(印字品質)、ロール変化を測定または評価した結果を
表1に示す。
【0092】
【表1】
【0093】表1に示されるように、実施例1〜7では
いずれも中間弾性層は硬度で30以下であり表面層を設
けたロール硬度でも40以下、ロール電気抵抗も適度な
抵抗値を示す。現像ロールとしての耐久性試験において
は感光体汚染はなく、連続印字試験における耐久性も優
れる。また、低温低湿(L/L)下での印字試験におい
ても良好な画像が得られた。
【0094】比較例1では中間弾性層に可塑剤などを使
用していないが紫外線照射の効果が少なく感光体汚染が
生じる。さらに、ロール硬度が高いため感光体削れやト
ナー劣化が生じ、耐久性が劣る。
【0095】比較例2では、中間弾性層に液状アクリロ
ニトリル−ブタジエン共重合ゴムを用いることにより、
ロール硬度が下がり、感光体削れは認められないが、表
面層を設けていないため、感光体汚染やトナー付着によ
り耐久性が劣る。また、ロール電気抵抗が高くなりL/
L印字濃度が低下する。
【0096】比較例3では表面層を設けているので感光
体汚染はないが、ロール硬度が高いため感光体削れやト
ナー劣化が生じ耐久性が劣る。
【0097】比較例4では中間弾性層に液状アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合ゴムを使用しているためロー
ル硬度は低く感光体削れはないが、エピクロルヒドリン
ゴムと液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムの
相溶性が悪く、感光体汚染はないものの中間弾性層から
液状アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴムが遊離し
ロール電気抵抗が連続印字において上昇し、印字品質が
悪くなる。また、圧縮永久歪みも悪く、画像にムラを生
じる。
【0098】比較例5では中間弾性層に用いているアク
リロニトリル−ブタジエン共重合ゴムと液状アクリロニ
トリル−ブタジエン共重合ゴムの相溶性が良いので感光
体削れやトナー劣化はない。しかし、アクリロニトリル
−ブタジエン共重合ゴムを用いているためロール電気抵
抗が高く、印字濃度が低く耐久性評価での印字品質がや
や劣る。また、L/L印字濃度も低くなってしまう。
【0099】比較例6では硬度は低く感光体削れやトナ
ー劣化はないが、中間弾性層に多量のパラフィンオイル
を用いているためオイルが連続印字によって遊離し、ロ
ール電気抵抗が上昇し、表面層の剥離によって印字品質
が悪化する。また、感光体汚染も長期間放置によって生
じてくる。
【0100】実施例8、9 実施例8、9では軸体と中間弾性層の間に表2に示す導
電性材料を内層として設けるほかは他の実施例と同様に
半導電性ロールを製造し、実施例1〜7などと同様に各
特性を測定、評価した。結果を表2に示す。
【0101】実施例8、9の比較から、内層を変えるこ
とにより、この半導電性ロールは、ロール特性が調整で
きることがわかる。また、ロール硬度も低く、長時間の
使用でも感光体汚染はなく、印字品質も低下せず、耐久
性に優れる。なお、実施例9で用いたアクリロニトリル
−ブタジエン共重合体ゴムは、日本ゼオン製、Nipo
l DN223である。
【0102】
【表2】
【0103】
【発明の効果】本発明の半導電性ゴムロールは、感光体
汚染がなく、環境依存性が小さく、硬度が低く、耐圧縮
歪みや耐久性に優れ、画像形成装置の現像ロール、帯電
ロール、転写ロールなどとして有用である。
【0104】また、この半導電性ゴムロールを部品とし
て用いた画像形成装置は、半導電性ゴムロールが原因の
故障、トラブルなどが少なく、安定した画像形成が可能
である。
【0105】(態様)本発明の態様としては、(1)
中心軸から順に(A)軸体、(B)(a)エピクロルヒ
ドリン系ゴムを必須成分とするゴム成分、(b)低分子
量エピクロルヒドリン系重合体および(c)架橋剤を含
有するエピクロルヒドリン系ゴム組成物を架橋して成る
中間弾性層、ならびに(C)表面層の少なくとも三層を
有する多層半導電性ゴムロール、(2) エピクロルヒ
ドリン系ゴムが、アルキレンオキサイド、エピクロルヒ
ドリン、および不飽和エポキシドを共重合して得られる
共重合ゴムである(1)記載のロール、(3) アルキ
レンオキサイドが、エチレンオキサイドとプロピレンオ
キサイドをモル比で10/90〜90/10、好ましく
は15/85〜85/15、より好ましくは20/80
〜80/20で併用したものである(2)記載のロー
ル、(4) エピクロルヒドリン系ゴム中のエピクロル
ヒドリン単位の量が、30〜100モル%、好ましくは
35〜90モル%、より好ましくは40〜80モル%で
ある(1)〜(3)のいずれかに記載のロール、(5)
エピクロルヒドリン系ゴム中の不飽和エポキシド単位
の量が、1〜15モル%、好ましくは2〜12モル%、
より好ましくは2.5〜10モル%である(1)〜
(4)のいずれかに記載のロール、(6) エピクロル
ヒドリン系ゴムが、100℃におけるムーニー粘度が2
0〜200、好ましくは40〜150、より好ましくは
50〜100のものである(1)〜(5)のいずれかに
記載のロール、(7) (a)ゴム成分が、エピクロル
ヒドリン系ゴム50〜100重量%、好ましくは60〜
90重量%、より好ましくは70〜85重量%、他のゴ
ム0〜50重量%、好ましくは10〜40重量%、より
好ましくは15〜30重量%からなるものである(1)
〜(6)のいずれかに記載のロール、(8) (b)低
分子量エピクロルヒドリン系重合体が、アルキレンオキ
サイド、エピクロルヒドリン、および不飽和エポキシド
を共重合して得られる共重合体である(1)〜(7)の
いずれかに記載のロール、(9) (b)低分子量エピ
クロルヒドリン系重合体が、アルキレンオキサイド単位
量が0〜70モル%、好ましくは5〜65モル%、より
好ましくは10〜60モル%、エピクロルヒドリン単位
量が30〜100モル%、好ましくは35〜95モル
%、より好ましくは40〜90モル%、不飽和エポキシ
ド単位量が、0〜20モル%、好ましくは1〜15モル
%、より好ましくは2.5〜10モル%である(8)記
載のロール、(10) (b)低分子量エピクロルヒド
リン系重合体が常温(20〜30℃)において液体状態
のものである(8)または(9)記載のロール、(1
1)(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体が、分
子量1000〜10000、好ましくは1500〜80
00、より好ましくは2000〜6000のものである
(8)〜(10)のいずれかに記載のロール、(12)
(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体が、ムー
ニー粘度1以下のものである(8)〜(11)のいずれ
かに記載のロール、(13) (b)低分子量エピクロ
ルヒドリン系重合体のトルエン溶液での還元粘度(ηsp
/C)が0.01〜0.5、好ましくは0.02〜0.
4、より好ましくは0.03〜0.3のものである
(8)〜(12)のいずれかに記載のロール (14) エピクロルヒドリン系ゴム組成物が、エピク
ロルヒドリン系ゴム100重量部に対し、(b)低分子
量エピクロルヒドリン系重合体を10〜150重量部、
好ましくは20〜120重量部、より好ましくは30〜
100重量部、(a)ゴム成分100重量部に対して
(c)架橋剤を0.1〜10重量部、好ましくは0.2
〜7重量部、より好ましくは0.3〜5重量部を配合し
たものである(1)〜(13)のいずれかに記載のロー
ル、(15) ロール硬度(Duro−A)が40以
下、好ましくは35以下、より好ましくは30以下であ
る(1)〜(14)のいずれかに記載のロール、(1
6) 中間弾性層の厚さが50μm以上、好ましくは1
00μm以上、より好ましくは200μm以上、30m
m以下、好ましくは20mm以下、より好ましくは15
mm以下である(1)〜(15)のいずれかに記載のロ
ール、(17) 中間弾性層の体積固有抵抗値が105
〜1012Ω・cm、好ましくは106〜1011Ω・c
m、より好ましくは107〜1011Ω・cmである
(1)〜(16)のいずれかに記載のロール、(18)
(1)〜(17)のいずれかに記載のロールを部品と
して含有している画像形成装置、などが例示される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導電性ゴムロールの一例を示す断面
図である。
【図2】本発明の半導電性ゴムロールの一例を示す軸方
向の断面図である。
【図3】本発明の画像形成装置の一例を示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1 感光体 2 現像ロール 3 現像ブレード 4 トナー 5 現像容器 6 供給ロール 7 定着ロール 8 加圧ロール 9 露光装置 10 帯電ロール 11 転写ロール 12 撹拌棒 13 転写材 14 軸体 15 中間弾性層 16 表面層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI F16C 13/00 F16C 13/00 E G03G 15/08 501 G03G 15/08 501D 15/16 103 15/16 103 // B29K 19:00

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心軸から順に(A)軸体、(B)
    (a)エピクロルヒドリン系ゴムを必須成分とするゴム
    成分、(b)低分子量エピクロルヒドリン系重合体およ
    び(c)架橋剤を含有するエピクロルヒドリン系ゴム組
    成物を架橋して成る中間弾性層、ならびに(C)表面層
    の少なくとも三層を有する多層半導電性ゴムロール。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導電性ゴムロールを有
    する画像形成装置。
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