JPH11272202A - 立体表示方法及び装置 - Google Patents

立体表示方法及び装置

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JPH11272202A
JPH11272202A JP10070592A JP7059298A JPH11272202A JP H11272202 A JPH11272202 A JP H11272202A JP 10070592 A JP10070592 A JP 10070592A JP 7059298 A JP7059298 A JP 7059298A JP H11272202 A JPH11272202 A JP H11272202A
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英明 ▲高▼田
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Shiro Suyama
史朗 陶山
Kazutake Kamihira
員丈 上平
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 立体表示方法及び装置において、観察者から
見て前後の表示画像のファントム現象を回避し、動画再
生が可能で、より自然に近い立体視を可能にする。 【解決手段】 2次元表示装置の表示像を観察する際
に、焦点可変手段により焦点位置を変化させて結像位置
を変化させ、3次元立体像を奥行き標本化した2次元像
のうち前記結像位置に該当する2次元像を前記2次元表
示装置に表示させ、人間の眼の残像時間以内に高速に繰
り返すことにより3次元立体像を表示する立体表示方法
において、2次元像をその結像位置に応じて別々の2次
元表示装置に表示させる第一のステップと、当該2次元
像が観察者から見て最前面の2次元像でない場合は、観
察者から見て当該2次元像より手前にある2次元像中の
物体像で当該2次元像が隠される部分をマスクで覆って
当該2次元像の該部分を表示させない第二のステップと
を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、立体表示方法及び
装置に関し、特に、可変焦点型立体表示装置を有する奥
行き標本化型立体表示装置において、観察者から見て隠
れるべき画像部分を覆い隠すことによって、立体視にお
ける実際の像と奥行き標本化型立体表示装置による画像
との矛盾を解決することが可能な立体表示技術に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来、2次元画像表示装置の2次元像を
奥行き方向に展開して3次元像を再現する立体表示装置
としては、可変焦点型立体表示装置(特開平9−258
271号公報)、あるいは奥行き標本化型立体表示装置
(「三次元映像」稲田修一編著、(株)昭晃堂、199
1.7.5、p13−24)が良く知られている。
【0003】図10に前記可変焦点型立体表示装置の一
例として、可変焦点レンズ型装置の表示原理を説明する
ための図を示す。ここで、可変焦点レンズとは、フレネ
ルレンズと液晶の層を透明電極によって挟み、それに電
界をかけることによって液晶の屈折率が変化する作用に
より、焦点距離が変化するレンズである。
【0004】まず、図12に示すように、3次元物体1
206を観察者からの距離が等価な位置で平行な面で奥
行き標本化して、2次元像である奥行き標本化像の集合
1207に分解する。
【0005】次に、図10に示すように、この奥行き標
本化像1207を時分割で2次元表示装置1001に表
示し、これを表示するべき位置に同期させて可変焦点レ
ンズ1002の焦点距離を変化させる。これによりレン
ズの原理から、可変焦点レンズ1002の焦点距離に対
応して、2次元表示装置1001に表示した奥行き標本
化像1207の像位置が奥行き方向に変化する。
【0006】したがって、これを人の眼の残像時間以内
に高速に行えば、残像効果により3次元画像(立体像)
1003として観察できる。図10(a)に3次元像が
虚像の場合(2次元表示装置1001を可変焦点レンズ
1002の焦点距離以内に配置)を、図10(b)に3
次元像が実像の場合(2次元表示装置1001を可変焦
点レンズ1002の焦点距離より外に配置)を示す。
【0007】図11に前記奥行き標本化型立体表示装置
の一例として、振動スクリーン型装置の表示原理を説明
するための図を示す。
【0008】奥行き標本化とは物体を奥行き方向に平行
な面でかき割に分割したものを空間上に配置したもので
ある。図12に示すように、3次元物体1206を奥行
き標本化して、2次元像である奥行き標本化像の集合1
207に分解する。次に、図11に示すように、この奥
行き標本化像1207を時分割で画像の位置に応じて同
期させて2次元表示装置1101に表示し、この表示に
同期させて2次元表示装置1101を駆動装置1102
で奥行き方向の標本化位置に応じた位置に高速に移動さ
せる。これを人の眼の残像時間以内に高速に行えば、残
像効果により3次元像(立体像)1103として観察で
きる。
【0009】前記した従来の立体表示装置では、実際に
表示像が奥行き方向に変化して表示されるため、人の立
体視の生理的要因(両眼視差、輻輳、ピント調節、動的
視差など)をほぼ満足できる利点を有している。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、奥行き
方向を時分割で表示し、残像現象により3次元像に統合
するため、本来ならば観察者(例えば、図10の100
4,図11の1104)の位置からでは隠されている、
物体の裏側や内部(例えば、図10の1005,図11
の1105)、あるいは後方の物体などが透けて見える
ファントム現象を回避することが困難であるという問題
点を有していた。これは、自然な像を再現する上で大き
な障害となり、これらの立体表示装置が実質的にワイヤ
ーフレーム状の像の再現にしか使えない大きな原因とな
っていた。
【0011】一方、立体視の生理的要因をほとんど満た
し、かつ、ファントム現象を回避できる立体表示方式と
して、ホログラフィがよく知られている。しかし、ホロ
グラフィは、撮像にコヒーレント光が必要である他、必
要な情報量が膨大であるため、電気的な書き換えが困難
であり、動的表示に適さないなどの問題点を有してい
る。
【0012】このように、従来の立体表示装置では、立
体視の生理的要因をほぼ満足し、かつ、ファントム現象
を回避して自然な3次元像を動画再生することは困難で
あった。
【0013】本発明の目的は、立体表示方法及び装置に
おいて、観察者から見て前後の表示画像のファントム現
象を回避し、動画再生が可能で、より自然に近い立体視
が可能な技術を提供することにある。
【0014】本発明の前記ならびにその他の目的及び新
規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明ら
かにする。
【0015】
【発明を解決するための手段】本願において開示する発
明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下
のとおりである。
【0016】(1)焦点可変手段を通して2次元表示装
置の表示像を観察する際に、前記焦点可変手段により焦
点位置を変化させて結像位置を変化させるステップと、
3次元立体像を奥行き標本化した2次元像のうち前記結
像位置に該当する2次元像を前記2次元表示装置に表示
させるステップとを、人間の眼の残像時間以内に高速に
繰り返すことにより3次元立体像を表示する立体表示方
法において、2次元像をその結像位置に応じて別々の2
次元表示装置に表示させる第一のステップと、当該2次
元像が観察者から見て最前面の2次元像でない場合は、
観察者から見て当該2次元像より手前にある2次元像中
の物体像で当該2次元像が隠される部分をマスクで覆っ
て当該2次元像の該部分を表示させない第二のステップ
とを有する。
【0017】(2)前記第二のステップが、観察者から
見て前記2次元表示装置の表示する2次元像より手前に
ある2次元像の数と同数のマスクを用い、各々のマスク
のパターンを当該2次元像より手前にある各2次元像の
中の物体像がそれぞれ当該2次元像を隠す部分のパター
ンとし、各々のマスクを重ねることで、観察者から見て
当該2次元像より手前にある2次元像中の物体像で当該
2次元像が隠される部分を表示させないステップであ
る。
【0018】(3)観察者の位置の移動に応じ、前記マ
スクに対し平行移動または拡大または縮小のいずれかま
たは複数の処理を行う。
【0019】(4)半透明な立体像を表示する場合は、
前記マスクの透過率を変化させ、手前の2次元像で当該
2次元像の隠される部分を所望の透過率で表示させる。
【0020】(5)表示像の結像位置を変化させる焦点
可変手段と、3次元立体像を奥行き標本化した2次元像
を表示する複数の2次元表示装置と、該複数の2次元表
示装置のうち最前面の2次元像を表示する2次元表示装
置を除く複数の2次元表示装置の各前面にそれぞれ一つ
または複数個配置したマスク装置と、前記焦点可変手段
の焦点位置の変化に同期して前記複数の2次元表示装置
の表示像のうち該当する表示像を選択するシャッター装
置と、前記2次元表示装置の各表示像を前記焦点可変手
段を通して観察できる位置に表示する表示手段とを具備
する立体表示装置である。
【0021】(6)前記表示手段が、投影用スクリーン
と、前記2次元表示装置の表示像を当該投影用スクリー
ンに投射するために前記2次元表示装置の各々に設けた
投影光学系とからなる。
【0022】(7)前記表示手段が、投影用スクリーン
と、同一光軸上に並べた、前記2次元表示装置から投射
される像を前面に反射し、後面の像はそのまま透過する
複数の反射装置と、前記2次元表示装置の表示像を前記
反射装置に反射させて前記投影用スクリーンに投射する
ために前記2次元表示装置の各々に設けた投影光学系と
からなる。
【0023】(8)前記表示手段が、同一光軸上に並べ
た前記2次元表示装置から投射される像を前面に反射
し、後面の像はそのまま透過する複数の反射装置からな
る。
【0024】(9)前記2次元表示装置が透過形の場合
は、前記マスク装置の各々を前記2次元表示装置の各背
面に配置する。
【0025】(10)表示像の結像位置を変化させる焦
点可変手段と、該焦点可変手段と同一光軸上に、前方や
側方からの光源の光を観察者の方向へ反射させ、かつ、
背面からの光は透過する手段を有する反射装置を、3次
元立体像を奥行き標本化した2次元像を表示する透過形
の2次元表示装置の背面に配置して組にしたものを複数
組配置し、最背面の2次元像を表示する前記反射装置と
2次元表示装置の組を除く、前記反射装置と2次元表示
装置の組の各背面に各々マスク装置を配置した立体表示
装置である。
【0026】(11)前記反射装置がホログラフィック
・オプティカル・エレメントからなる。
【0027】(12)表示像の結像位置を変化させる焦
点可変手段と、該焦点可変手段と同一光軸上に、前方や
側方からの光源の光を観察者の方向へ反射させ、かつ、
背面からの光は任意の画素を透過または遮断する手段を
有するマスク装置を、3次元立体像を奥行き標本化した
2次元像を表示する透過形の2次元表示装置の背面に配
置して組にしたものを複数組配置した立体表示装置であ
る。
【0028】(13)前記マスク装置がホログラフィッ
ク高分子分散液晶素子からなる。
【0029】(14)前記マスク装置が、ツイスト・ネ
マティック型液晶、またはゲスト−ホスト型液晶、また
はホログラフィック高分子分散型液晶を用いた、縦横に
画素を配置して任意の画素の状態の制御が可能な装置か
らなる。
【0030】(15)前記マスク装置が、マスクを機械
的に平行移動する手段、またはマスク表示の画素の相対
位置を保ちつつ表示を平行移動する手段、または光の屈
折あるいは回折を利用した光学素子によりマスク像の光
束を平行移動する手段のいずれかを有する。
【0031】(16)観察者の移動を検出する手段と、
検出した移動量に応じてマスクを移動・変形させる機能
とを有する。
【0032】(17)前記焦点可変手段が、可変焦点レ
ンズである。
【0033】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態(実施
例)を図面を参照して詳細に説明する。
【0034】(実施例1)図1は本発明の実施例1の立
体表示装置の構成を説明するための概略図であり、図1
(a)はスクリーンに対して前面から投影する形態を示
す図、図1(b)は背面から投影する形態を示す図であ
る。
【0035】本実施例1の立体表示装置は、図1に示す
ように、例えば、2次元表示装置101、102、投影
用スクリーン103、可変焦点レンズ104、シャッタ
ー装置105、106からなる従来の可変焦点レンズ型
立体表示装置と、マスクを移動する手段を具備するマス
ク装置107から構成される。2次元表示装置101、
102には、CRT、プロジェクター、液晶ディスプレ
イ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等を用い
ることができる。
【0036】なお、2次元表示装置101、102が液
晶ディスプレイのように透過型の場合は、図13
(a)、(b)に示すように、マスク装置1302を2
次元表示装置1301の前面あるいは後面のどちらに配
置しても良い。
【0037】シャッター装置105、106は、可変焦
点レンズの焦点位置の変化、すなわち、結像位置の変化
と同期して奥行き画像を順番に時分割でスクリーンに表
示させるための装置であり、機械的なメカニカルシャッ
ターや液晶を用いたシャッターや強誘電体の電気光学効
果やドメイン・スイッチングを利用した強誘電体シャッ
ターなどを用いることができる。
【0038】他の時分割の方法として、図14の(b)
に示すように、2次元表示装置1401が透過型あるい
は反射型の場合に限り、光源1404自体を画像の位置
に同期して点滅させる方法、あるいは図14の(a)に
示すように、光源1403の光を透過/遮断させるシャ
ッター装置を光源の前面に配置し、時分割を行うことが
できる。
【0039】ここで、1つの2次元表示装置から前後の
奥行き画像を表示する場合に、高速で画像の描画/消去
をする必要(例えば、前後3枚の奥行き画像の場合、1
枚あたり30フレーム/秒の時には2次元表示装置では
90フレーム/秒の表示が要求される)があり、マスク
装置も同様に高速で描画/消去を繰り返す必要がある。
ここでは、複数台の2次元表示装置と複数台のマスク装
置を用いることにより、この問題を解決することができ
る。
【0040】前記可変焦点レンズ104は、焦点位置す
なわち結像位置を周期的に変化させるものであり、高周
波と低周波の切り替えにて駆動する二周波液晶を用いて
いるので、この周波数は毎秒60Hz以上と高速であ
る。
【0041】2次元表示装置101と102には、それ
ぞれ所望の標本化2次元像を表示させておき、シャッタ
ー装置105と106は初めは閉じておく。可変焦点レ
ンズ104の焦点位置を周期的に変化させたとき、結像
位置が108の位置になるタイミングと同期してシャッ
ター装置105を開け、2次元表示装置101より投影
用スクリーン103に像を投射して像108を表示し、
直ちにシャッター装置105を閉じる。次に、結像位置
が109の位置になるタイミングと同期してシャッター
装置106を開け、2次元表示装置102よりマスク装
置107を通して投影用スクリーン103に像を投射し
てして像109を表示し、直ちにシャッター装置106
を閉じる。
【0042】前記可変焦点レンズ104の周期的な焦点
位置の変化に同期して前記の手順を繰り返す。このと
き、可変焦点レンズ104の1周期の速度は60Hz以
上であるので、人間の眼の残像時間以内であり、観察者
には結像位置の異なる像108と109がほぼ同時に観
察され、空間上にある立体として認識される。なお、マ
スク装置107には像108に本来隠れて見えない部分
を隠すためのマスク像を表示し、像の重なり合う部分の
光を遮る役割をしている。このままでは観察者から像1
08の陰になって見えるはずのない像109の一部分が
透けて見えてしまう。
【0043】そこで、表示装置の前面または後面あるい
はそれと光学的に等価な位置に像108に隠れて見えな
い部分を覆い隠すマスク装置107を配置することによ
り、2次元表示装置101から表示される像108に隠
れていなければならない部分は、マスク装置107に遮
断され投影されないことにより、後の像109が透けて
見えることが無くなる。
【0044】ここで、投影像に台形歪みができることが
予想されるが、これが問題にならないくらい2次元表示
装置101と投影用スクリーン103の距離を大きくと
り、投影する角度は小さいものとすればよい。あるいは
2次元表示装置101の表示画像を台形歪みを考慮して
変形したものを表示すればよいし、あるいはレンズ系に
よって表示画像を変形させてもよい。
【0045】マスク装置107の概念図を図5に示す。
このマスク装置501のマスクには、縦横にマスク表示
画素502を配置した液晶パネル(ゲスト−ホスト型液
晶、ツイスト・ネマティック型液晶、高分子分散型液
晶、ホログラフィック高分子分散型液晶等)を使用し、
任意の画素について透過/遮断、または透過/反射、ま
たは透過/吸収の切り替えをすることができるものであ
る。そして半透明な物質を3次元の立体で表示するため
に、マスク装置のマスク表示503に、透過率の変化が
可能な液晶パネル(階調表現の可能なもの)を用いるこ
とにより、表現する物質に合わせた透過率で透過させ、
半透明物質でも表現可能なマスク装置である。
【0046】このマスク装置501のマスク表示部分の
概念を図7に示す。
【0047】(a)例えば表示画像701は最前面に表
示されるので、前面に画像がないためマスク無しでその
まま投影像710として投影される。
【0048】(b)次の表示画像702は、その前面に
ある表示画像701に隠れる部分を隠すためにマスク画
像707を通過させることにより、マスクに隠されない
部分のみの投影像711が投影される。
【0049】(c)同様に次の表示画像703は、すぐ
前面の表示画像を隠すマスク画像708を通過し、か
つ、最前面の表示画像を覆い隠すマスク画像707を通
過することにより、投影像712が投影される。
【0050】(d)同様に次の表示画像704は、すぐ
前面の表示画像を隠すマスク画像709を通過し、か
つ、もう1つ前面の表示画像を覆い隠すマスク画像70
8を透過し、かつ、最前面の表示画像を覆い隠すマスク
画像707を通過することにより、投影像713が投影
される。従来の立体表示装置で4枚の奥行きをもった立
体表示画像を表示したものは表示画像705のように後
ろが透けて見えるが、本方法で表示したものは、投影像
714のように後ろが透けることなく表示することが可
能となる。
【0051】さらに、観察者が移動したときには、その
動きに追従してマスク移動手段によりマスクを移動させ
ることによって、観察者からは前面の画像によって隠さ
れていなければならない後方の画像の一部分を観察者の
位置に応じて隠す。
【0052】マスクの移動の概念を表したものを図8に
示す。正面からの像805から各方向へ動かしたときの
像を像801から像809に示す。例えば、左右方向の
場合、観察者が立体表示装置に向かって正面から右に移
動したときには、マスクを正面805から右806のよ
うに左方向へ移動することにより、観察者の位置から見
える必要のある部分は見ることができ、隠れていなけれ
ばならない部分は、マスクによって隠されている。
【0053】上下方向の場合は正面805から上802
ヘ、あるいは下808へ移動させる。上下左右方向を同
時に動かすことにより、右上803や右下809などに
も移動することができる。
【0054】移動量は観察者の上下左右の移動量に比例
した量を移動し、前後方向に対しても、観察者の前後位
置の移動量に比例して、表示するマスクの大きさを拡
大、縮小する。
【0055】本発明の構成は、従来の立体表示装置の構
成にマスク移動手段を有するマスク装置を追加するのみ
であり、かつ、画像の複雑な加工が必要ないという利点
を有している。このため、動画のような表示の高速性を
要求するものに対しても適用が可能である。
【0056】マスク装置の有するマスク移動手段の概念
図を図6に示す。前記移動機能を実現するには、図6
(a)に示すような、画素の表示をシフトレジスタ等を
用いて回路的に縦横にシフトさせるか、あるいは入力信
号をあらかじめソフトウェアなどでシフトしたものを入
力する方法、図6(b)に示すような、機械的にマスク
装置自体を縦横に平行移動させる方法、図6(c)に示
すような、プリズムや平行平板などの光学素子のマスク
装置に対する角度を変えることによってマスク装置に入
射する光の位置を平行移動させるような光の屈折や回折
を用いて曲げる、あるいは平行移動させる方法のいずれ
かを用いればよい。
【0057】移動する観察者の位置を検出する手段とし
て、センサ類によって移動位置を検出する手段を図9に
示す。
【0058】図9(a)に示すような、複数の赤外線セ
ンサをある角度毎に観察者を検出できるように並べ、観
察者の前方あるいは後方からどのセンサの範囲に観察者
がいるのかを検知する赤外線センサ方式、図9(b)に
示すような、観察者の側方あるいは前方、あるいは後
方、あるいはその両方を組み合わせ、センサから観察者
までの距離を計測し観察者の位置を検知する超音波セン
サ方式、図9(c)に示すような、レーザー光の反射を
利用し距離を測定することにより観察者の位置を検出す
るレーザー距離計測方式、光センサを床面、あるいは前
後、左右に配し、観察者によって光が遮られた場所を検
知する光センサ方式、図9(d)に示すような、固定さ
れたカメラからの画像から画像処理により観察者の位置
を計算する、あるいはマーカーを付けた観察者のマーカ
ーの位置を画像から検出するカメラ方式、のいずれかを
用いることができる。
【0059】(実施例2)図2は本発明の実施例2の立
体表示装置の構成を説明するための概略構成図であり、
図2(a)はスクリーンに対して前面から投影する事例
を示す図、図2(b)は背面から投影する事例を示す図
である。
【0060】前記実施例1では、2台の2次元表示装置
からの画像から、奥行き方向に2枚の立体表示を行って
いるが、本実施例2の立体表示装置は、複数台の2次元
表示装置からの画像から、奥行き方向に複数枚の立体表
示を行うものである。
【0061】本実施例2の立体表示装置は、図2に示す
ように、各像より前に結像される像を覆い隠すために、
各表示装置の前あるいは光学的に等価な位置に、観察者
から見てその像より前面に表示される画像と重なる部分
を隠すためのマスクを表示するマスク装置を、その表示
画像より前面にある画像の数だけ配置することにより、
複数枚の奥行きが有る場合でも透けて見えるという問題
を解決できる。
【0062】例えば、2次元表示装置201から投影用
スクリーン205に投影された画像を可変焦点レンズ2
06によって像217に結像する。次の2次元表示装置
202からの像は2次元表示装置201からの像217
を覆い隠すためのマスク装置211を透過し像218に
結像する。この次の2次元表示装置203からの像21
7は2次元表示装置201と202からの像218,2
19を覆い隠すためのマスク装置212と213を透過
し像220に結像する。このように表示したい2次元表
示装置の前面に、観察者から見て前面に表示される画像
を隠すマスク装置を必要な数だけ透過させる構成であ
る。
【0063】2次元表示装置201、202が透過型あ
るいは反射型(液晶ディスプレイなどでバックライトを
必要とするものや反射を利用したもの)の場合に限り、
バックライトなどの照明(EL,LED,蛍光管,放電
管,電球を含む)の前面にシャッター装置を配置し、バ
ックライトの光源からの光を透過/遮断する、あるいは
シャッター装置の代わりにバックライトの光源を直接点
滅させることによって時分割を行うことができる。
【0064】(実施例3)図3は本発明の実施例3の立
体表示装置の構成を説明するための概念図であり、図3
(a)、(b)はそれぞれ異なる結像方式を説明するた
めの概念図である。
【0065】前記実施例1、2では、奥行き方向の数に
よって各々の2次元表示装置の前面にマスク装置のマス
クの数が数多く必要であり、同じ動作をするマスクが各
表示装置ごとに存在している。
【0066】本発明の実施例3の立体表示装置は、図3
に示すように、全ての投影あるいは透過する画像の光束
の中心を同じにし、各々の2次元表示装置からの画像が
必要なマスクだけを通過するように構成したものであ
る。
【0067】例えば、2次元表示装置301に表示した
画像は、シャッター装置307と投影光学系321を通
過し、反射装置314によって投影用スクリーン305
に投射される。その投射された像を可変焦点レンズ30
6によって像317に結像させる。2次元表示装置30
2に表示した画像は、シャッター装置308と投影光学
系322を通過し、反射装置315によって観察者から
見て、その像より前面に結像される像を覆い隠すための
マスク装置311を透過し、投影用スクリーン305に
投射される。その投射された像を可変焦点レンズ306
によって像318に結像させる。
【0068】2次元表示装置303に表示した画像は、
像319に結像される過程で、観察者から見てその像よ
り前面に結像される像を覆い隠すためのマスク装置31
1と312を通過する。このマスク装置のマスクによっ
て2次元表示装置から表示された像317と318の陰
になる部分をマスクしている。このように観察者から見
て後方の像は、その像よりも前面の像を隠す共通したマ
スク装置を通過することにより、この方式では(奥行き
方向の像の数−1)枚のマスクだけ用意することによっ
て構成できる利点がある。
【0069】ここで、各2次元表示装置からの像の光軸
を一致させるために、ハーフミラー、HOE(ホログラ
フィック・オプティカル・エレメント:ある一方向から
の光だけを反射させ、それ以外の方向の光は透過させる
もの)などを用いて、背面からの光は透過し前面からの
光を反射する反射装置314、315、316を構成す
る。
【0070】この反射装置にHPDLCホログラフィッ
ク高分子分散型液晶(高速で反射/透過あるいは遮断/
透過の動作を駆動できる液晶)を利用することにより、
反射装置とシャッター装置の機能を1つの反射装置で共
用化でき、しかもHPDLCに画素を配することによ
り、反射装置とシャッター装置とマスク装置の3つの機
能を1つの反射装置で共用化することができる。
【0071】(実施例4)図4は本発明の実施例4の立
体表示装置の構成を説明するための概略構成図であり、
2次元表示装置として、透過性のある装置(液晶ディス
プレイ等)を用いて、複数の表示装置を積層させた構成
を示す。
【0072】本発明の実施例4の立体表示装置は、図4
(a)に示すように、HOEを有する反射装置を配置
し、前方や側方からの光源の光を観察者の方向へ反射さ
せ表示装置のバックライトと同様の機能を持たせ、か
つ、背面からの光は透過させる。反射装置のすぐ後ろに
マスク装置を配置することによって、前の2次元表示装
置の画像に隠れていなければならない、後側になる2次
元表示装置の画像の一部分を隠すことができる構成であ
る。
【0073】例えば、2次元表示装置403に表示され
る像415は、マスク装置410によって像416すな
わち2次元表示装置402の陰になる部分をマスクし、
マスク装置409によって像417、すなわち2次元表
示装置401の陰になる部分をマスクし、像415とし
て結像される。
【0074】また、図4(b)に示すように、画素を縦
横に配置することにより任意の画素を透過/遮断あるい
は透過/反射させ、かつ後方以外からの任意の方向から
の光源の光を観察者の方向へ反射させることにより、マ
スクされていない背面からの光は透過させ、マスクした
部分は光を観察者の方向へは通過させない、HPDLC
を含むマスク装置を配置する構成である。
【0075】2次元表示装置のすぐ後にマスク装置を配
置することによって、前の2次元表示装置の画像に隠れ
ていなければならない、後側になる2次元表示装置の画
像の一部分を隠すことができる構成である。例えば、2
次元表示装置403に表示される像415は、マスク装
置419によって像416、すなわち2次元表示装置4
02の陰になる部分をマスクし、マスク装置418によ
って像417、すなわち2次元表示装置401の陰にな
る部分をマスクし、像415として結像される。この構
成の場合、2次元表示装置の画像位置とレンズの焦点距
離が一致したときに合わせて、2次元表示装置401、
402、403、404の順番に2次元像を表示してい
くことにより、像414、415、416、417を投
影する構成である。
【0076】以上、本発明を実施例に基づき具体的に説
明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではな
く、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更し得る
ことはいうまでもない。
【0077】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。
【0078】可変焦点型立体表示装置あるいは奥行き標
本化型立体表示装置を含む立体表示装置と、光の透過/
遮断、透過/散乱、透過/反射に切り替わり、かつ、移
動することができるマスクを有するマスク装置により、
観察者から見て本来隠されていなければならない部分を
隠し、かつ、観察者の移動にともなってマスク装置を移
動させる移動装置によって、観察者の位置を特定せず、
自然な3次元像を動画再生できる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1の立体表示装置の構成を
説明するための概略構成図である。
【図2】本発明の実施の形態2の立体表示装置の構成を
説明するための概略構成図である。
【図3】本発明の実施の形態3の立体表示装置の構成を
説明するための概略構成図である。
【図4】本発明の実施の形態4の立体表示装置の構成を
説明するための概略構成図である。
【図5】マスク装置の構成を説明するための概略図であ
る。
【図6】移動装置の構成を説明するための概略図であ
る。
【図7】マスク装置のマスクの表示を説明するための概
略図である。
【図8】マスク装置マスクの移動を説明するための概略
図である。
【図9】視点移動検出方法を説明するための概略図であ
る。
【図10】従来の可変焦点レンズを用いた立体表示装置
の構成を説明するための概略構成図である。
【図11】従来の奥行き標本化型立体表示装置の構成を
説明するための概略構成図である。
【図12】奥行き標本化の原理を説明するための図であ
る。
【図13】可変焦点レンズを用いた立体表示装置の構成
を説明するための概略構成図である。
【図14】可変焦点レンズを用いた立体表示装置の構成
を説明するための概略構成図である。
【符号の説明】
101、102…2次元表示装置、103…投影用スク
リーン、104…可変焦点レンズ、105、106…シ
ャッター装置、107…マスク装置、201〜204…
2次元表示装置、205…投影用スクリーン、206…
可変焦点レンズ、211〜216…マスク装置、221
〜224…投影光学系、301〜304…2次元表示装
置、305…投影用スクリーン、306…可変焦点レン
ズ、307〜310…シャッター装置、311〜313
…マスク装置、314〜316…反射装置、321〜3
24…投影光学系、401〜404…2次元表示装置、
405〜408…反射装置、409〜411…マスク装
置、412…可変焦点レンズ、413…光源、501…
マスク装置、601〜603…マスク装置、610、6
11…平行平板・プリズム、901…立体表示装置、9
02…赤外線センサ、903…超音波距離センサ・レー
ザ距離センサ、904…光センサ、905…カメラ。

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 焦点可変手段を通して2次元表示装置の
    表示像を観察する際に、前記焦点可変手段により焦点位
    置を変化させて結像位置を変化させるステップと、3次
    元立体像を奥行き標本化した2次元像のうち前記結像位
    置に該当する2次元像を前記2次元表示装置に表示させ
    るステップとを、人間の眼の残像時間以内に高速に繰り
    返すことにより3次元立体像を表示する立体表示方法に
    おいて、 前記2次元像をその結像位置に応じて別々の2次元表示
    装置に表示させる第一のステップと、当該2次元像が観
    察者から見て最前面の2次元像でない場合は、観察者か
    ら見て当該2次元像より手前にある2次元像中の物体像
    で当該2次元像が隠される部分をマスクで覆って当該2
    次元像の該部分を表示させない第二のステップとを有す
    ることを特徴とする立体表示方法。
  2. 【請求項2】 前記第二のステップが、観察者から見て
    前記2次元表示装置の表示する2次元像より手前にある
    2次元像の数と同数のマスクを用い、各々のマスクのパ
    ターンを当該2次元像より手前にある各2次元像の中の
    物体像がそれぞれ当該2次元像を隠す部分のパターンと
    し、各々のマスクを重ねることで、観察者から見て当該
    2次元像より手前にある2次元像中の物体像で当該2次
    元像が隠される部分を表示させないステップであること
    を特徴とする請求項1に記載の立体表示方法。
  3. 【請求項3】 観察者の位置の移動に応じ、前記マスク
    に対し平行移動、拡大、縮小のうちいずれかまたは複数
    の処理を行うことを特徴とする請求項1または2に記載
    の立体表示方法。
  4. 【請求項4】 半透明な立体像を表示する場合は、前記
    マスクの透過率を変化させ、手前の2次元像で当該2次
    元像の隠される部分を所望の透過率で表示させることを
    特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の
    立体表示方法。
  5. 【請求項5】 表示像の結像位置を変化させる焦点可変
    手段と、3次元立体像を奥行き標本化した2次元像を表
    示する複数の2次元表示装置と、該複数の2次元表示装
    置のうち最前面の2次元像を表示する2次元表示装置を
    除く複数の2次元表示装置の各前面にそれぞれ一つまた
    は複数個配置したマスク装置と、前記焦点可変手段の焦
    点位置の変化に同期して前記複数の2次元表示装置の表
    示像のうち該当する表示像を選択するシャッター装置
    と、前記2次元表示装置の各表示像を前記焦点可変手段
    を通して観察できる位置に表示する表示手段とを具備す
    ることを特徴とする立体表示装置。
  6. 【請求項6】 前記表示手段が、投影用スクリーンと、
    前記2次元表示装置の表示像を当該投影用スクリーンに
    投射するために前記2次元表示装置の各々に設けた投影
    光学系とからなることを特徴とする請求項5に記載の立
    体表示装置。
  7. 【請求項7】 前記表示手段が、投影用スクリーンと、
    同一光軸上に並べた、前記2次元表示装置から投射され
    る像を前面に反射し、後面の像はそのまま透過する複数
    の反射装置と、前記2次元表示装置の表示像を前記反射
    装置に反射させて前記投影用スクリーンに投射するため
    に前記2次元表示装置の各々に設けた投影光学系とから
    なることを特徴とする請求項5記載の立体表示装置。
  8. 【請求項8】 前記表示手段が、同一光軸上に並べた前
    記2次元表示装置から投射される像を前面に反射し、後
    面の像はそのまま透過する複数の反射装置からなること
    を特徴とする請求項5に記載の立体表示装置。
  9. 【請求項9】 前記2次元表示装置が透過形の場合は、
    前記マスク装置の各々を前記2次元表示装置の各背面に
    配置することを特徴とする請求項5乃至8のうちいずれ
    か1項に記載の立体表示装置。
  10. 【請求項10】 表示像の結像位置を変化させる焦点可
    変手段と、該焦点可変手段と同一光軸上に、前方や側方
    からの光源の光を観察者の方向へ反射させ、かつ、背面
    からの光は透過する手段を有する反射装置を、3次元立
    体像を奥行き標本化した2次元像を表示する透過形の2
    次元表示装置の背面に配置して組にしたものを複数組配
    置し、最背面の2次元像を表示する前記反射装置と2次
    元表示装置の組を除く、前記反射装置と2次元表示装置
    の組の各背面に各々マスク装置を配置したことを特徴と
    する立体表示装置。
  11. 【請求項11】 前記反射装置がホログラフィック・オ
    プティカル・エレメントからなることを特徴とする請求
    項10に記載の立体表示装置。
  12. 【請求項12】 表示像の結像位置を変化させる焦点可
    変手段と、該焦点可変手段と同一光軸上に、前方や側方
    からの光源の光を観察者の方向へ反射させ、かつ、背面
    からの光は任意の画素を透過または遮断する手段を有す
    るマスク装置を、3次元立体像を奥行き標本化した2次
    元像を表示する透過形の2次元表示装置の背面に配置し
    て組にしたものを複数組配置したことを特徴とする立体
    表示装置。
  13. 【請求項13】 前記マスク装置がホログラフィック高
    分子分散液晶素子からなることを特徴とする請求項12
    に記載の立体表示装置。
  14. 【請求項14】 前記マスク装置が、ツイスト・ネマテ
    ィック型液晶、またはゲスト−ホスト型液晶、またはホ
    ログラフィック高分子分散型液晶を用いた、縦横に画素
    を配置して任意の画素の状態の制御が可能な装置からな
    ることを特徴とする請求項5乃至11のうちいずれか1
    項に記載の立体表示装置。
  15. 【請求項15】 前記マスク装置が、マスクを機械的に
    平行移動する手段、またはマスク表示の画素の相対位置
    を保ちつつ表示を平行移動する手段、または光の屈折あ
    るいは回折を利用した光学素子によりマスク像の光束を
    平行移動する手段のいずれかを有することを特徴とする
    請求項5乃至14のうちいずれか1項に記載の立体表示
    装置。
  16. 【請求項16】 観察者の移動を検出する手段と、検出
    した移動量に応じてマスクを移動・変形させる機能とを
    有することを特徴とする請求項5から15に記載の立体
    表示装置。
  17. 【請求項17】 前記焦点可変手段が、可変焦点レンズ
    であることを特徴とする請求項5乃至16のうちいずれ
    か1項に記載の立体表示装置。
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