JPH11276848A - ガス処理装置 - Google Patents
ガス処理装置Info
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- JPH11276848A JPH11276848A JP10082230A JP8223098A JPH11276848A JP H11276848 A JPH11276848 A JP H11276848A JP 10082230 A JP10082230 A JP 10082230A JP 8223098 A JP8223098 A JP 8223098A JP H11276848 A JPH11276848 A JP H11276848A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 処理ガスに含まれる窒素酸化物の濃度が低減
しにくいという課題や酸素を含んだ空気ベースの処理ガ
スに含まれている窒素酸化物の処理には、有効でないと
いう課題があった。 【解決手段】 平面状の高電圧電極３２と、高電圧電極
３２から所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電
極３３と、高電圧電極３２と接地電極３３との間に位置
するセラミック板３１と、高電圧電極３２と接地電極３
３とで挟まれた放電空間３８と、放電空間３８に配置さ
れた、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤３９
とを有する放電プラズマ処理部２を備える。
しにくいという課題や酸素を含んだ空気ベースの処理ガ
スに含まれている窒素酸化物の処理には、有効でないと
いう課題があった。 【解決手段】 平面状の高電圧電極３２と、高電圧電極
３２から所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電
極３３と、高電圧電極３２と接地電極３３との間に位置
するセラミック板３１と、高電圧電極３２と接地電極３
３とで挟まれた放電空間３８と、放電空間３８に配置さ
れた、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤３９
とを有する放電プラズマ処理部２を備える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、自動車、発電
所、ボイラー、焼却炉、バイオマス、生物分解活性汚泥
などから排出されるガスに含まれている窒素酸化物の濃
度や、家屋、ビルディング、車庫、地下駐車場、実験室
などの空間に充満しているガスに含まれている窒素酸化
物の濃度を低減するガス処理装置に関するものである。
所、ボイラー、焼却炉、バイオマス、生物分解活性汚泥
などから排出されるガスに含まれている窒素酸化物の濃
度や、家屋、ビルディング、車庫、地下駐車場、実験室
などの空間に充満しているガスに含まれている窒素酸化
物の濃度を低減するガス処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、自動車から排出されるガスなどに
含まれている窒素酸化物の濃度を低減するため、燃焼制
御、触媒分解、吸着回収、水洗い、アンモニア添加、生
物分解、放電プラズマ処理などの技術が研究され、実用
化されてきた。
含まれている窒素酸化物の濃度を低減するため、燃焼制
御、触媒分解、吸着回収、水洗い、アンモニア添加、生
物分解、放電プラズマ処理などの技術が研究され、実用
化されてきた。
【０００３】図２４は、例えば、文献１：「電気学会誌
Ａ，１１７巻，１０号（１９９７），ｐ．１０３４−１
０３９」に開示された、放電プラズマ処理を用いた従来
のガス処理装置における放電電極の構成を示す斜視図で
ある。図２４において、２０１はアクリル製の放電チャ
ンバー（図示せず）内に配置された放電電極、２０２は
平板状の接地電極、２０３は接地電極２０２から所定の
間隔を隔てて配置されたワイヤ状の高電圧電極である。
Ａ，１１７巻，１０号（１９９７），ｐ．１０３４−１
０３９」に開示された、放電プラズマ処理を用いた従来
のガス処理装置における放電電極の構成を示す斜視図で
ある。図２４において、２０１はアクリル製の放電チャ
ンバー（図示せず）内に配置された放電電極、２０２は
平板状の接地電極、２０３は接地電極２０２から所定の
間隔を隔てて配置されたワイヤ状の高電圧電極である。
【０００４】このように従来のガス処理装置では、接地
電極２０２から所定の間隔を隔てて高電圧電極２０３を
配置することにより放電電極２０１を構成している。こ
の従来のガス処理装置では、接地電極２０２と高電圧電
極２０３との間隔を１２．５ｍｍに設定している。
電極２０２から所定の間隔を隔てて高電圧電極２０３を
配置することにより放電電極２０１を構成している。こ
の従来のガス処理装置では、接地電極２０２と高電圧電
極２０３との間隔を１２．５ｍｍに設定している。
【０００５】次に動作について説明する。文献１に開示
された従来のガス処理装置を用いて、放電プラズマ処理
対象としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスに
含まれている窒素酸化物を処理する場合、先ず、高電圧
電極２０３に直流高電圧を印加して接地電極２０２と高
電圧電極２０３との間にコロナ放電を発生させる。その
後、このコロナ放電中に、理ガスを流す。これにより、
処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する。文献１
では、コロナ放電中に、処理ガスとして、例えばＮ2 希
釈ＮＯガスを流している。
された従来のガス処理装置を用いて、放電プラズマ処理
対象としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスに
含まれている窒素酸化物を処理する場合、先ず、高電圧
電極２０３に直流高電圧を印加して接地電極２０２と高
電圧電極２０３との間にコロナ放電を発生させる。その
後、このコロナ放電中に、理ガスを流す。これにより、
処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する。文献１
では、コロナ放電中に、処理ガスとして、例えばＮ2 希
釈ＮＯガスを流している。
【０００６】このような放電プラズマ処理は、コロナ放
電により窒素分子が２つの窒素原子に解離し、窒素原子
が窒素酸化物と反応することにより、窒素酸化物が窒素
分子と酸素分子とに戻ることを動作原理としている。
電により窒素分子が２つの窒素原子に解離し、窒素原子
が窒素酸化物と反応することにより、窒素酸化物が窒素
分子と酸素分子とに戻ることを動作原理としている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従来のガス処理装置は
以上のように構成され、接地電極２０２と高電圧電極２
０３との間隔を１２．５ｍｍに設定しているため、接地
電極２０２と高電圧電極２０３との間の電界強度を高く
することができなかった。従って、コロナ放電が不十分
となり、窒素分子を窒素原子に効率的に解離することが
できなかった。その結果、窒素分子と酸素分子とになる
窒素酸化物の量が減少し、処理ガスに含まれる窒素酸化
物の濃度が低減しにくいという課題があった。
以上のように構成され、接地電極２０２と高電圧電極２
０３との間隔を１２．５ｍｍに設定しているため、接地
電極２０２と高電圧電極２０３との間の電界強度を高く
することができなかった。従って、コロナ放電が不十分
となり、窒素分子を窒素原子に効率的に解離することが
できなかった。その結果、窒素分子と酸素分子とになる
窒素酸化物の量が減少し、処理ガスに含まれる窒素酸化
物の濃度が低減しにくいという課題があった。
【０００８】このような課題を解決するため、従来のガ
ス処理装置において、接地電極２０２と高電圧電極２０
３との間隔を小さくした場合には、新たに、処理ガスの
流量を小さくしなければならないという問題や接地電極
２０２と高電圧電極２０３との間に異常放電が生じる恐
れが高くなるという問題が生じる。
ス処理装置において、接地電極２０２と高電圧電極２０
３との間隔を小さくした場合には、新たに、処理ガスの
流量を小さくしなければならないという問題や接地電極
２０２と高電圧電極２０３との間に異常放電が生じる恐
れが高くなるという問題が生じる。
【０００９】また、従来のガス処理装置は以上のように
構成されているので、酸素を含まない処理ガスに含まれ
ている窒素酸化物の処理には有効であるが、実用的な処
理ガスである、自動車からの排出ガスなどの酸素を含ん
だ空気ベースの処理ガスに含まれている窒素酸化物の処
理には、有効でないという課題があった。これは、処理
ガスに酸素が含まれていると、窒素分子が酸素分子と放
電化学反応を起こして、新たに窒素酸化物を生成し、処
理ガス中に当初から含まれていた窒素酸化物や窒素分子
と酸素分子との放電化学反応により新たに生成した窒素
酸化物が酸素と放電化学反応を起こして、Ｎ2 Ｏ5 のよ
うな質量数の大きい窒素酸化物を生成し、Ｎ2 Ｏ5 が水
と反応して硝酸となるためである。
構成されているので、酸素を含まない処理ガスに含まれ
ている窒素酸化物の処理には有効であるが、実用的な処
理ガスである、自動車からの排出ガスなどの酸素を含ん
だ空気ベースの処理ガスに含まれている窒素酸化物の処
理には、有効でないという課題があった。これは、処理
ガスに酸素が含まれていると、窒素分子が酸素分子と放
電化学反応を起こして、新たに窒素酸化物を生成し、処
理ガス中に当初から含まれていた窒素酸化物や窒素分子
と酸素分子との放電化学反応により新たに生成した窒素
酸化物が酸素と放電化学反応を起こして、Ｎ2 Ｏ5 のよ
うな質量数の大きい窒素酸化物を生成し、Ｎ2 Ｏ5 が水
と反応して硝酸となるためである。
【００１０】この発明は上記のような課題を解決するた
めになされたもので、接地電極と高電圧電極との間の電
界強度を高くすることができるガス処理装置を得ること
を目的とする。
めになされたもので、接地電極と高電圧電極との間の電
界強度を高くすることができるガス処理装置を得ること
を目的とする。
【００１１】また、この発明は、酸素を含んだ処理ガス
に含まれている窒素酸化物の処理にも有効なガス処理装
置を得ることを目的とする。
に含まれている窒素酸化物の処理にも有効なガス処理装
置を得ることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明に係るガス処理
装置は、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所定の
間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電圧電
極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電極と
接地電極とで挟まれた放電空間と、放電空間に配置され
た、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤とを有
する放電プラズマ処理部を備えたものである。
装置は、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所定の
間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電圧電
極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電極と
接地電極とで挟まれた放電空間と、放電空間に配置され
た、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤とを有
する放電プラズマ処理部を備えたものである。
【００１３】この発明に係るガス処理装置は、高電圧電
極と接地電極との間隔が、１ｍｍ以下であるものであ
る。
極と接地電極との間隔が、１ｍｍ以下であるものであ
る。
【００１４】この発明に係るガス処理装置は、誘電体
が、高電圧電極の接地電極側表面に膜状に形成されてい
るものである。
が、高電圧電極の接地電極側表面に膜状に形成されてい
るものである。
【００１５】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理部が、高電圧電極あるいは接地電極と垂直方向
に放電空間を複数備えたものである。
ズマ処理部が、高電圧電極あるいは接地電極と垂直方向
に放電空間を複数備えたものである。
【００１６】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処
理ガスを放電プラズマ処理部に導入するための処理ガス
流路にオゾンを供給するオゾン製造装置を備えたもので
ある。
ズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処
理ガスを放電プラズマ処理部に導入するための処理ガス
流路にオゾンを供給するオゾン製造装置を備えたもので
ある。
【００１７】この発明に係るガス処理装置は、オゾン製
造装置が、吸着剤への窒素酸化物の吸着時に該吸着剤に
吸着されなかった、処理ガスに含まれる酸素を酸素原料
とするものである。
造装置が、吸着剤への窒素酸化物の吸着時に該吸着剤に
吸着されなかった、処理ガスに含まれる酸素を酸素原料
とするものである。
【００１８】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理部に還元性ガスを供給する還元性ガス製造装置
を備えたもである。
ズマ処理部に還元性ガスを供給する還元性ガス製造装置
を備えたもである。
【００１９】この発明に係るガス処理装置は、オゾン製
造装置に酸素を供給しかつ放電プラズマ処理部に酸素製
造時に排出される窒素を供給する窒素製造装置兼用酸素
製造装置を備えたものである。
造装置に酸素を供給しかつ放電プラズマ処理部に酸素製
造時に排出される窒素を供給する窒素製造装置兼用酸素
製造装置を備えたものである。
【００２０】この発明に係るガス処理装置は、第１の放
電プラズマ処理部と第２の放電プラズマ処理部とを備
え、第１の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処
理時に第２の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物
を吸着させ、第２の放電プラズマ処理部における放電プ
ラズマ処理時に第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒
素酸化物を吸着させるものである。
電プラズマ処理部と第２の放電プラズマ処理部とを備
え、第１の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処
理時に第２の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物
を吸着させ、第２の放電プラズマ処理部における放電プ
ラズマ処理時に第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒
素酸化物を吸着させるものである。
【００２１】この発明に係るガス処理装置は、第１の放
電プラズマ処理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時
点あるいは第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着さ
れた窒素酸化物がすべて処理された時点である処理終了
時点を検出する第１のセンサと、第２の放電プラズマ処
理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第
２の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化
物がすべて処理された時点である処理終了時点を検出す
る第２のセンサとを備え、第１の放電プラズマ処理部に
おける放電プラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部
における放電プラズマ処理への切替を、第１のセンサが
処理終了時点を検出したときあるいは第２のセンサが飽
和時点を検出したときに行い、第２の放電プラズマ処理
部における放電プラズマ処理から第１の放電プラズマ処
理部における放電プラズマ処理への切替を、第２のセン
サが処理終了時点を検出したときあるいは第１のセンサ
が飽和時点を検出したときに行うものである。
電プラズマ処理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時
点あるいは第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着さ
れた窒素酸化物がすべて処理された時点である処理終了
時点を検出する第１のセンサと、第２の放電プラズマ処
理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第
２の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化
物がすべて処理された時点である処理終了時点を検出す
る第２のセンサとを備え、第１の放電プラズマ処理部に
おける放電プラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部
における放電プラズマ処理への切替を、第１のセンサが
処理終了時点を検出したときあるいは第２のセンサが飽
和時点を検出したときに行い、第２の放電プラズマ処理
部における放電プラズマ処理から第１の放電プラズマ処
理部における放電プラズマ処理への切替を、第２のセン
サが処理終了時点を検出したときあるいは第１のセンサ
が飽和時点を検出したときに行うものである。
【００２２】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処
理ガスが貯えられている処理ガス貯蔵部と、処理ガスを
各成分に分離する成分分離部と、処理ガス貯蔵部に貯え
られている処理ガスを成分分離部に押し出すキャリアガ
スが貯えられているキャリアガス貯蔵部と、成分分離部
で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処
理する放電プラズマ処理部とを備えたものである。
ズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処
理ガスが貯えられている処理ガス貯蔵部と、処理ガスを
各成分に分離する成分分離部と、処理ガス貯蔵部に貯え
られている処理ガスを成分分離部に押し出すキャリアガ
スが貯えられているキャリアガス貯蔵部と、成分分離部
で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処
理する放電プラズマ処理部とを備えたものである。
【００２３】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理部から排出された窒素酸化物を検出するセンサ
を備え、窒素酸化物の放電プラズマ処理を、センサが窒
素酸化物を検出している間、行うものである。
ズマ処理部から排出された窒素酸化物を検出するセンサ
を備え、窒素酸化物の放電プラズマ処理を、センサが窒
素酸化物を検出している間、行うものである。
【００２４】この発明に係るガス処理装置は、放電プラ
ズマ処理部が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から
所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高
電圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧
電極と接地電極とで挟まれた放電空間とを有するもので
ある。
ズマ処理部が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から
所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高
電圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧
電極と接地電極とで挟まれた放電空間とを有するもので
ある。
【００２５】この発明に係るガス処理装置は、平面状の
高電圧電極と、高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置
された平面状の接地電極と、高電圧電極と接地電極との
間に位置する誘電体と、高電圧電極と接地電極とで挟ま
れた放電空間とを有する放電プラズマ処理部を備え、放
電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスで
ある処理ガスの放電空間の通過時間が１ミリ秒以下であ
るものである。
高電圧電極と、高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置
された平面状の接地電極と、高電圧電極と接地電極との
間に位置する誘電体と、高電圧電極と接地電極とで挟ま
れた放電空間とを有する放電プラズマ処理部を備え、放
電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだガスで
ある処理ガスの放電空間の通過時間が１ミリ秒以下であ
るものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１によるガ
ス処理装置を示す構成図である。また、図２はこの発明
の実施の形態１によるガス処理装置における放電プラズ
マ処理部を示す構成図である。また、図３はこの発明の
実施の形態１によるガス処理装置における放電電極の構
成を示す分解斜視図である。また、図４は放電電極を構
成する接地電極上に吸着剤が配置された状態を示す斜視
図である。図１〜図４において、１はガス処理装置、２
は放電プラズマ処理部、３は処理ガスを放電プラズマ処
理部２に導入するための処理ガス流路、４はガス処理装
置１の外部から処理ガスを吸引するために処理ガス流路
３の途中に設けられた第１のポンプ、５はオゾナイザー
（オゾン製造装置）、６はオゾナイザー５で製造された
オゾンを処理ガス流路４に導入するためのオゾン流路、
７は放電プラズマ処理部２から排出された、酸素及び放
電プラズマ処理後のガスが流れる共通流路、８は放電プ
ラズマ処理部２から排出された酸素を酸素原料としてオ
ゾナイザー５に導入するための酸素流路、９は酸素流路
８を流れる酸素を吸引するために酸素流路８の途中に設
けられた第２のポンプ、１０は放電プラズマ処理部２か
ら排出された放電プラズマ処理後のガスをガス処理装置
１の外部へ排出するための処理済ガス流路、１１は処理
済ガス流路１０を流れる放電プラズマ処理後のガスを吸
引するために処理済ガス流路１０の途中に設けられた第
３のポンプ、１２は共通流路７を酸素流路８あるいは処
理済ガス流路１０に接続するための三方コック、１３は
共通流路７を流れる、窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸
化物を放電プラズマ処理して得られる成分の濃度を検出
するセンサである。
説明する。 実施の形態１．図１はこの発明の実施の形態１によるガ
ス処理装置を示す構成図である。また、図２はこの発明
の実施の形態１によるガス処理装置における放電プラズ
マ処理部を示す構成図である。また、図３はこの発明の
実施の形態１によるガス処理装置における放電電極の構
成を示す分解斜視図である。また、図４は放電電極を構
成する接地電極上に吸着剤が配置された状態を示す斜視
図である。図１〜図４において、１はガス処理装置、２
は放電プラズマ処理部、３は処理ガスを放電プラズマ処
理部２に導入するための処理ガス流路、４はガス処理装
置１の外部から処理ガスを吸引するために処理ガス流路
３の途中に設けられた第１のポンプ、５はオゾナイザー
（オゾン製造装置）、６はオゾナイザー５で製造された
オゾンを処理ガス流路４に導入するためのオゾン流路、
７は放電プラズマ処理部２から排出された、酸素及び放
電プラズマ処理後のガスが流れる共通流路、８は放電プ
ラズマ処理部２から排出された酸素を酸素原料としてオ
ゾナイザー５に導入するための酸素流路、９は酸素流路
８を流れる酸素を吸引するために酸素流路８の途中に設
けられた第２のポンプ、１０は放電プラズマ処理部２か
ら排出された放電プラズマ処理後のガスをガス処理装置
１の外部へ排出するための処理済ガス流路、１１は処理
済ガス流路１０を流れる放電プラズマ処理後のガスを吸
引するために処理済ガス流路１０の途中に設けられた第
３のポンプ、１２は共通流路７を酸素流路８あるいは処
理済ガス流路１０に接続するための三方コック、１３は
共通流路７を流れる、窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸
化物を放電プラズマ処理して得られる成分の濃度を検出
するセンサである。
【００２７】放電プラズマ処理部２において、２１は金
属製の放電チャンバー、２２は放電チャンバー２１内に
配置された放電電極、２３は放電電極２２を支える金属
製の円筒状支柱、２４は交流高電圧電源、２５は高電圧
端子、２６は放電チャンバー２１内に処理ガスを導入す
るために放電チャンバー２１に設けられたガス導入口、
２７は放電チャンバー２１内のガスを放電チャンバー２
１外へ排出するために放電チャンバー２１に設けられた
ガス排出口である。交流高電圧電源２４の一方の端子は
高電圧端子２５を介して高電圧電極に接続され、他方の
端子は放電チャンバー２１に接続され、接地されてい
る。
属製の放電チャンバー、２２は放電チャンバー２１内に
配置された放電電極、２３は放電電極２２を支える金属
製の円筒状支柱、２４は交流高電圧電源、２５は高電圧
端子、２６は放電チャンバー２１内に処理ガスを導入す
るために放電チャンバー２１に設けられたガス導入口、
２７は放電チャンバー２１内のガスを放電チャンバー２
１外へ排出するために放電チャンバー２１に設けられた
ガス排出口である。交流高電圧電源２４の一方の端子は
高電圧端子２５を介して高電圧電極に接続され、他方の
端子は放電チャンバー２１に接続され、接地されてい
る。
【００２８】放電電極２２において、３１は直径２２ｃ
ｍ程度，厚さ１ｍｍ程度の円形状のセラミック板（誘電
体）、３２はセラミック板３１の接地電極と反対側表面
に金を蒸着することにより形成された直径２０ｃｍ程度
の円形薄膜状の高電圧電極、３３は高電圧電極３２から
所定の間隔を隔てて配置された外周直径２０ｃｍ程度，
内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の接地電極、３４は接
地電極３３を高電圧電極３２から所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極３３の外周に接地電極３３と一体
的に形成された外側壁部、３５は接地電極３３を高電圧
電極３２から所定の間隔を隔てて配置するために接地電
極３３の内周に接地電極３３と一体的に形成された内側
壁部、３６はガスの通過が可能な、外側壁部３４に設け
られた第１のガス通過溝、３７はガスの通過が可能な、
内側壁部３５に設けられた第２のガス通過溝、３８はセ
ラミック板３１、接地電極３３、外側壁部３４及び内側
壁部３５により囲まれた放電空間である。
ｍ程度，厚さ１ｍｍ程度の円形状のセラミック板（誘電
体）、３２はセラミック板３１の接地電極と反対側表面
に金を蒸着することにより形成された直径２０ｃｍ程度
の円形薄膜状の高電圧電極、３３は高電圧電極３２から
所定の間隔を隔てて配置された外周直径２０ｃｍ程度，
内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の接地電極、３４は接
地電極３３を高電圧電極３２から所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極３３の外周に接地電極３３と一体
的に形成された外側壁部、３５は接地電極３３を高電圧
電極３２から所定の間隔を隔てて配置するために接地電
極３３の内周に接地電極３３と一体的に形成された内側
壁部、３６はガスの通過が可能な、外側壁部３４に設け
られた第１のガス通過溝、３７はガスの通過が可能な、
内側壁部３５に設けられた第２のガス通過溝、３８はセ
ラミック板３１、接地電極３３、外側壁部３４及び内側
壁部３５により囲まれた放電空間である。
【００２９】また、３９は外側壁部３４と内側壁部３５
とにより区画された接地電極３３上に配置された窒素酸
化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤である。吸着剤３
９として、例えば、モレキュラーシーブ １３Ｘ（商品
名）やシリカゲル、活性炭、多孔質ガラスがある。な
お、図２、図４に示す矢印は、ガスが流れる方向を示
す。
とにより区画された接地電極３３上に配置された窒素酸
化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤である。吸着剤３
９として、例えば、モレキュラーシーブ １３Ｘ（商品
名）やシリカゲル、活性炭、多孔質ガラスがある。な
お、図２、図４に示す矢印は、ガスが流れる方向を示
す。
【００３０】図５は横軸に電界強度Ｅ（放電電圧Ｖを対
向する電極間距離ｄで除算したもの）をガス密度ｎで除
算したものである換算電界強度Ｅ／ｎ（＝Ｖ／ｄｎ）を
とり、縦軸に窒素１リットル当たりの窒素原子生成量Ｎ
をとって示した、換算電界強度と窒素原子生成量との関
係を示す特性図である。図６は横軸にガス密度ｎと対向
する電極間距離ｄとの積をとり、縦軸に放電電圧Ｖをと
って示した、ガス密度と電極間距離との積と、放電電圧
との関係を示す特性図である。
向する電極間距離ｄで除算したもの）をガス密度ｎで除
算したものである換算電界強度Ｅ／ｎ（＝Ｖ／ｄｎ）を
とり、縦軸に窒素１リットル当たりの窒素原子生成量Ｎ
をとって示した、換算電界強度と窒素原子生成量との関
係を示す特性図である。図６は横軸にガス密度ｎと対向
する電極間距離ｄとの積をとり、縦軸に放電電圧Ｖをと
って示した、ガス密度と電極間距離との積と、放電電圧
との関係を示す特性図である。
【００３１】図６に示すように、ｎｄが２×１０18ｃｍ
-2より大きい場合、原点と点ａとを結ぶ直線の傾きで示
されるように、ｎｄが変化しても換算電界強度Ｅ／ｎ
（＝Ｖ／ｎｄ）は一定である。従って、図５から理解で
きるように、窒素原子生成量Ｎは一定である。一方、図
６に示すように、ｎｄが２×１０18ｃｍ-2より小さい場
合、ｎｄが小さくなるにしたがって、原点と点ａ，ｂ，
ｃとを結ぶ直線の傾きで示されるように、換算電界強度
Ｅ／ｎ（＝Ｖ／ｎｄ）は大きくなる。従って、図５から
理解できるように、ｎｄが小さくなるにしたがって、窒
素原子生成量Ｎが増加する。
-2より大きい場合、原点と点ａとを結ぶ直線の傾きで示
されるように、ｎｄが変化しても換算電界強度Ｅ／ｎ
（＝Ｖ／ｎｄ）は一定である。従って、図５から理解で
きるように、窒素原子生成量Ｎは一定である。一方、図
６に示すように、ｎｄが２×１０18ｃｍ-2より小さい場
合、ｎｄが小さくなるにしたがって、原点と点ａ，ｂ，
ｃとを結ぶ直線の傾きで示されるように、換算電界強度
Ｅ／ｎ（＝Ｖ／ｎｄ）は大きくなる。従って、図５から
理解できるように、ｎｄが小さくなるにしたがって、窒
素原子生成量Ｎが増加する。
【００３２】実施の形態１によるガス処理装置１は、一
般に、温度が室温〜数１０℃の範囲、圧力が大気圧の条
件で動作する。この条件で、ｎｄ≦２×１０18ｃｍ-2と
なるのは、ｄ≦１ｍｍのときであるので、実施の形態１
によるガス処理装置１では、高電圧電極３２と接地電極
３３との間隔を１ｍｍ以下にしている。その結果、放電
プラズマ処理時における窒素原子生成量が増加し、窒素
分子と酸素分子になる窒素酸化物の量が増加する。な
お、高電圧電極３２と接地電極３３との間隔を１ｍｍ以
下にしているため、吸着剤３９として、これら電極間に
収まるものを用いる。
般に、温度が室温〜数１０℃の範囲、圧力が大気圧の条
件で動作する。この条件で、ｎｄ≦２×１０18ｃｍ-2と
なるのは、ｄ≦１ｍｍのときであるので、実施の形態１
によるガス処理装置１では、高電圧電極３２と接地電極
３３との間隔を１ｍｍ以下にしている。その結果、放電
プラズマ処理時における窒素原子生成量が増加し、窒素
分子と酸素分子になる窒素酸化物の量が増加する。な
お、高電圧電極３２と接地電極３３との間隔を１ｍｍ以
下にしているため、吸着剤３９として、これら電極間に
収まるものを用いる。
【００３３】次に動作について説明する。ここでは、処
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
【００３４】実施の形態１によるガス処理装置１を用い
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路３を通して放電プラズマ処理部
２に処理ガスを導入する。このとき、酸素流路８を通し
て導入された酸素を酸素原料としてオゾナイザ５により
製造されたオゾンをオゾン流路６を通して処理ガス流路
３に導入する。処理ガス流路３にオゾンを導入すると、
処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含まれている
場合には、一酸化窒素が吸着剤３９に吸着されやすい窒
素酸化物である二酸化窒素に酸化される。放電プラズマ
処理部２に処理ガスを導入すると、処理ガスは第１のガ
ス通過溝３６を通過して放電空間３８に入る。放電空間
３８に入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び窒素が放
電空間３８に配置された吸着剤３９に吸着され、酸素は
吸着剤３９に吸着されずに第２のガス通過溝３７を通過
して放電空間３８から出て行き、円筒状支柱２３の内側
を通って放電プラズマ処理部２から排出される。このよ
うに、処理ガスに含まれている窒素酸化物と酸素とが分
離される。放電プラズマ処理部２から排出された酸素は
共通流路７、三方コック１２により接続された酸素流路
８を流れ、オゾナイザー５の酸素原料として使用され
る。
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路３を通して放電プラズマ処理部
２に処理ガスを導入する。このとき、酸素流路８を通し
て導入された酸素を酸素原料としてオゾナイザ５により
製造されたオゾンをオゾン流路６を通して処理ガス流路
３に導入する。処理ガス流路３にオゾンを導入すると、
処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含まれている
場合には、一酸化窒素が吸着剤３９に吸着されやすい窒
素酸化物である二酸化窒素に酸化される。放電プラズマ
処理部２に処理ガスを導入すると、処理ガスは第１のガ
ス通過溝３６を通過して放電空間３８に入る。放電空間
３８に入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び窒素が放
電空間３８に配置された吸着剤３９に吸着され、酸素は
吸着剤３９に吸着されずに第２のガス通過溝３７を通過
して放電空間３８から出て行き、円筒状支柱２３の内側
を通って放電プラズマ処理部２から排出される。このよ
うに、処理ガスに含まれている窒素酸化物と酸素とが分
離される。放電プラズマ処理部２から排出された酸素は
共通流路７、三方コック１２により接続された酸素流路
８を流れ、オゾナイザー５の酸素原料として使用され
る。
【００３５】その後、吸着剤３９が窒素酸化物で飽和し
た時点である飽和時点で高電圧電極３２に交流高電圧、
例えばゼロ−ピーク値で６ｋＶ以上の交流電圧を印加
し、放電プラズマ処理部２への処理ガスの導入を止め
る。例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物をセン
サ１３により検出した時点を飽和時点とする。センサ１
３が飽和時点を検出すると、センサ１３に設けられてい
るコントローラの指示に従って、三方コック１２により
共通流路７が処理済ガス流路１０に接続され、また、第
１のポンプ４が停止される。高電圧電極３２に交流高電
圧を印加すると、接地電極３３と高電圧電極３２との間
にコロナ放電が発生するとともに、放電熱により吸着剤
３９に吸着していた窒素酸化物及び窒素が脱着し、脱着
した窒素酸化物が窒素雰囲気中で放電プラズマ処理され
る。放電プラズマ処理後のガスは、第２のガス通過溝３
７を通過して放電空間３８から出て行き、円筒状支柱２
３の内側を通って放電プラズマ処理部２から排出され、
共通流路７、三方コック１２により接続された処理済ガ
ス流路１０を流れ、ガス処理装置１の外部に排出され
る。
た時点である飽和時点で高電圧電極３２に交流高電圧、
例えばゼロ−ピーク値で６ｋＶ以上の交流電圧を印加
し、放電プラズマ処理部２への処理ガスの導入を止め
る。例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物をセン
サ１３により検出した時点を飽和時点とする。センサ１
３が飽和時点を検出すると、センサ１３に設けられてい
るコントローラの指示に従って、三方コック１２により
共通流路７が処理済ガス流路１０に接続され、また、第
１のポンプ４が停止される。高電圧電極３２に交流高電
圧を印加すると、接地電極３３と高電圧電極３２との間
にコロナ放電が発生するとともに、放電熱により吸着剤
３９に吸着していた窒素酸化物及び窒素が脱着し、脱着
した窒素酸化物が窒素雰囲気中で放電プラズマ処理され
る。放電プラズマ処理後のガスは、第２のガス通過溝３
７を通過して放電空間３８から出て行き、円筒状支柱２
３の内側を通って放電プラズマ処理部２から排出され、
共通流路７、三方コック１２により接続された処理済ガ
ス流路１０を流れ、ガス処理装置１の外部に排出され
る。
【００３６】その後、吸着剤３９に吸着された窒素酸化
物がすべて処理された時点である処理終了時点で高電圧
電極３２への交流高電圧の印加を止め、処理ガス流路３
を通して放電プラズマ処理部２に処理ガスを導入する。
例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物を放電プラ
ズマ処理して得られる酸素の濃度が低下し始めたことを
センサ１３により検出した時点を処理終了時点とする。
センサ１３が処理終了時点を検出すると、センサ１３に
設けられているコントローラの指示に従って、三方コッ
ク１２により共通流路７が酸素流路８に接続され、ま
た、第１のポンプ４が指導される。
物がすべて処理された時点である処理終了時点で高電圧
電極３２への交流高電圧の印加を止め、処理ガス流路３
を通して放電プラズマ処理部２に処理ガスを導入する。
例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物を放電プラ
ズマ処理して得られる酸素の濃度が低下し始めたことを
センサ１３により検出した時点を処理終了時点とする。
センサ１３が処理終了時点を検出すると、センサ１３に
設けられているコントローラの指示に従って、三方コッ
ク１２により共通流路７が酸素流路８に接続され、ま
た、第１のポンプ４が指導される。
【００３７】以上のように、この実施の形態１によれ
ば、平面状の高電圧電極３２と、高電圧電極３２から所
定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極３３と、
高電圧電極３２と接地電極３３との間に位置するセラミ
ック板３１と、高電圧電極３２と接地電極３３とで挟ま
れた放電空間３８と、放電空間３８に配置された、窒素
酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤３９とを有する
放電プラズマ処理部２を備えているので、処理ガスに含
まれている窒素酸化物が吸着剤３９に吸着されることに
より、窒素酸化物と酸素とが分離され、酸素を含んだ処
理ガスに含まれる窒素酸化物の処理にも有効である効果
が得られる。また、吸着剤３９が窒素酸化物で飽和した
時点で窒素酸化物を放電プラズマ処理し、放電プラズマ
処理が間欠的となり、電力を節約することができる効果
が得られる。
ば、平面状の高電圧電極３２と、高電圧電極３２から所
定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極３３と、
高電圧電極３２と接地電極３３との間に位置するセラミ
ック板３１と、高電圧電極３２と接地電極３３とで挟ま
れた放電空間３８と、放電空間３８に配置された、窒素
酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤３９とを有する
放電プラズマ処理部２を備えているので、処理ガスに含
まれている窒素酸化物が吸着剤３９に吸着されることに
より、窒素酸化物と酸素とが分離され、酸素を含んだ処
理ガスに含まれる窒素酸化物の処理にも有効である効果
が得られる。また、吸着剤３９が窒素酸化物で飽和した
時点で窒素酸化物を放電プラズマ処理し、放電プラズマ
処理が間欠的となり、電力を節約することができる効果
が得られる。
【００３８】また、この実施の形態１によれば、高電圧
電極３２と接地電極３３との間隔を、１ｍｍ以下として
いるので、接地電極３３と高電圧電極３２との間の電界
強度が高くなり、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果が得られる。また、高電圧電極３
２に印加する交流電圧がゼロ−ピーク値で６ｋＶ程度と
なり、電力を節約することができる効果が得られる。
電極３２と接地電極３３との間隔を、１ｍｍ以下として
いるので、接地電極３３と高電圧電極３２との間の電界
強度が高くなり、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果が得られる。また、高電圧電極３
２に印加する交流電圧がゼロ−ピーク値で６ｋＶ程度と
なり、電力を節約することができる効果が得られる。
【００３９】また、この実施の形態１によれば、処理ガ
スを放電プラズマ処理部２に導入するための処理ガス流
路３に、オゾナイザー５で製造されたオゾンを供給して
いるので、処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含
まれている場合に、一酸化窒素が吸着剤３９に吸着され
やすい窒素酸化物である二酸化窒素に酸化され、放電プ
ラズマ処理量が増加する効果が得られる。
スを放電プラズマ処理部２に導入するための処理ガス流
路３に、オゾナイザー５で製造されたオゾンを供給して
いるので、処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含
まれている場合に、一酸化窒素が吸着剤３９に吸着され
やすい窒素酸化物である二酸化窒素に酸化され、放電プ
ラズマ処理量が増加する効果が得られる。
【００４０】また、この実施の形態１によれば、オゾナ
イザー５は、吸着剤３９への窒素酸化物の吸着時に吸着
剤３９に吸着されなかった、処理ガスに含まれている酸
素を酸素原料としているので、処理ガスに含まれている
酸素を有効利用することができる効果が得られる。
イザー５は、吸着剤３９への窒素酸化物の吸着時に吸着
剤３９に吸着されなかった、処理ガスに含まれている酸
素を酸素原料としているので、処理ガスに含まれている
酸素を有効利用することができる効果が得られる。
【００４１】実施の形態２．実施の形態２によるガス処
理装置では、放電電極の構成が実施の形態１によるガス
処理装置と相違している。以下、この実施の形態２によ
るガス処理装置における放電電極の構成について説明す
る。
理装置では、放電電極の構成が実施の形態１によるガス
処理装置と相違している。以下、この実施の形態２によ
るガス処理装置における放電電極の構成について説明す
る。
【００４２】図７はこの発明の実施の形態２によるガス
処理装置を構成する放電プラズマ処理部における放電電
極の構成を示す分解斜視図である。また、図８は放電電
極を構成する高電圧電極の接地電極側表面に誘電体膜が
コーティングされている状態を示す断面図である。図
７，８において、４１は放電電極、４２は直径２０ｃｍ
程度の円板状の高電圧電極、４３は高電圧電極４２の接
地電極３３側表面にアルミナを溶射しあるいはスパッタ
リングすることにより形成された厚さ１００μｍ程度の
誘電体膜（誘電体）である。
処理装置を構成する放電プラズマ処理部における放電電
極の構成を示す分解斜視図である。また、図８は放電電
極を構成する高電圧電極の接地電極側表面に誘電体膜が
コーティングされている状態を示す断面図である。図
７，８において、４１は放電電極、４２は直径２０ｃｍ
程度の円板状の高電圧電極、４３は高電圧電極４２の接
地電極３３側表面にアルミナを溶射しあるいはスパッタ
リングすることにより形成された厚さ１００μｍ程度の
誘電体膜（誘電体）である。
【００４３】以上のように、この実施の形態２によれ
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００４４】また、この実施の形態２によれば、高電圧
電極４２の接地電極３３側表面にアルミナを溶射しある
いはスパッタリングすることにより形成された誘電体膜
４３を誘電体としているので、実施の形態１の場合より
誘電体の厚さが薄く、誘電体による電圧降下が小さくな
り、放電空間３８の電界強度が実施の形態１の場合より
高くなる効果が得られる。
電極４２の接地電極３３側表面にアルミナを溶射しある
いはスパッタリングすることにより形成された誘電体膜
４３を誘電体としているので、実施の形態１の場合より
誘電体の厚さが薄く、誘電体による電圧降下が小さくな
り、放電空間３８の電界強度が実施の形態１の場合より
高くなる効果が得られる。
【００４５】実施の形態３．実施の形態３によるガス処
理装置では、放電プラズマ処理部の構成が実施の形態１
によるガス処理装置と相違している。以下、この実施の
形態３によるガス処理装置における放電プラズマ処理部
の構成について説明する。
理装置では、放電プラズマ処理部の構成が実施の形態１
によるガス処理装置と相違している。以下、この実施の
形態３によるガス処理装置における放電プラズマ処理部
の構成について説明する。
【００４６】図９はこの発明の実施の形態３によるガス
処理装置における放電プラズマ処理部を示す構成図であ
る。また、図１０は放電電極を構成する高電圧電極の両
面に誘電体膜がコーティングされている状態を示す斜視
図である。図９，図１０において、５１は放電プラズマ
処理部、５２は放電電極である。
処理装置における放電プラズマ処理部を示す構成図であ
る。また、図１０は放電電極を構成する高電圧電極の両
面に誘電体膜がコーティングされている状態を示す斜視
図である。図９，図１０において、５１は放電プラズマ
処理部、５２は放電電極である。
【００４７】放電電極５２において、５３は外周直径２
２ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の高電圧
電極、５４ａは高電圧電極５３の上側表面にアルミナを
溶射しあるいはスパッタリングすることにより形成され
た厚さ１００μｍ程度の第１の誘電体膜（誘電体）、５
４ｂは高電圧電極５３の下側表面にアルミナを溶射しあ
るいはスパッタリングすることにより形成された厚さ１
００μｍ程度の第２の誘電体膜（誘電体）、５５ａは高
電圧電極５３の上側に高電圧電極５３から所定の間隔を
隔てて配置された直径２０ｃｍ程度の円板状の第１の接
地電極（接地電極）、５５ｂは高電圧電極５３の下側に
高電圧電極５３から所定の間隔を隔てて配置された外周
直径２０ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の
第２の接地電極（接地電極）、５６ａは第１の接地電極
５５ａを高電圧電極５３から所定の間隔を隔てて配置す
るために第１の接地電極５５ａの外周に第１の接地電極
５５ａと一体的に形成された第１の外側壁部、５７ａは
第１の接地電極５５ａを高電圧電極５３から所定の間隔
を隔てて配置するために第１の接地電極５５ａにおける
第２の接地電極５５ｂの内周と対向する位置に第１の接
地電極５５ａと一体的に形成された第１の内側壁部、５
６ｂは第２の接地電極５５ｂを高電圧電極５３から所定
の間隔を隔てて配置するために第２の接地電極５５ｂの
外周に第２の接地電極５５ｂと一体的に形成された第２
の外側壁部、５７ｂは第２の接地電極５５ｂを高電圧電
極５３から所定の間隔を隔てて配置するために接地電極
５５ｂの内周に第２の接地電極５５ｂと一体的に形成さ
れた第２の内側壁部、５８ａは第１の誘電体膜５４ａ、
第１の接地電極５５ａ、第１の外側壁部５６ａ及び第１
の内側壁部５７ａにより囲まれた第１の放電空間（放電
空間）、５８ｂは第２の誘電体膜５４ｂ、第２の接地電
極５５ｂ、第２の外側壁部５６ｂ及び第２の内側壁部５
７ｂにより囲まれた第２の放電空間（放電空間）であ
る。図示していないが、第１，第２の外側壁部５６ａ，
５６ｂ及び第１，第２の内側壁部５７ａ，５７ｂには、
ガスの通過が可能なガス通過溝が設けられている。
２ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の高電圧
電極、５４ａは高電圧電極５３の上側表面にアルミナを
溶射しあるいはスパッタリングすることにより形成され
た厚さ１００μｍ程度の第１の誘電体膜（誘電体）、５
４ｂは高電圧電極５３の下側表面にアルミナを溶射しあ
るいはスパッタリングすることにより形成された厚さ１
００μｍ程度の第２の誘電体膜（誘電体）、５５ａは高
電圧電極５３の上側に高電圧電極５３から所定の間隔を
隔てて配置された直径２０ｃｍ程度の円板状の第１の接
地電極（接地電極）、５５ｂは高電圧電極５３の下側に
高電圧電極５３から所定の間隔を隔てて配置された外周
直径２０ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の環形平板状の
第２の接地電極（接地電極）、５６ａは第１の接地電極
５５ａを高電圧電極５３から所定の間隔を隔てて配置す
るために第１の接地電極５５ａの外周に第１の接地電極
５５ａと一体的に形成された第１の外側壁部、５７ａは
第１の接地電極５５ａを高電圧電極５３から所定の間隔
を隔てて配置するために第１の接地電極５５ａにおける
第２の接地電極５５ｂの内周と対向する位置に第１の接
地電極５５ａと一体的に形成された第１の内側壁部、５
６ｂは第２の接地電極５５ｂを高電圧電極５３から所定
の間隔を隔てて配置するために第２の接地電極５５ｂの
外周に第２の接地電極５５ｂと一体的に形成された第２
の外側壁部、５７ｂは第２の接地電極５５ｂを高電圧電
極５３から所定の間隔を隔てて配置するために接地電極
５５ｂの内周に第２の接地電極５５ｂと一体的に形成さ
れた第２の内側壁部、５８ａは第１の誘電体膜５４ａ、
第１の接地電極５５ａ、第１の外側壁部５６ａ及び第１
の内側壁部５７ａにより囲まれた第１の放電空間（放電
空間）、５８ｂは第２の誘電体膜５４ｂ、第２の接地電
極５５ｂ、第２の外側壁部５６ｂ及び第２の内側壁部５
７ｂにより囲まれた第２の放電空間（放電空間）であ
る。図示していないが、第１，第２の外側壁部５６ａ，
５６ｂ及び第１，第２の内側壁部５７ａ，５７ｂには、
ガスの通過が可能なガス通過溝が設けられている。
【００４８】また、５９ａは第１の外側壁部５６ａと第
１の内側壁部５７ａとにより区画された第１の誘電体膜
５４ａ上に配置された窒素酸化物を吸着し酸素分子を吸
着しない第１の吸着剤（吸着剤）、５９ｂは第２の外側
壁部５６ｂと第２の内側壁部５７ｂとにより区画された
第２の接地電極５５ｂ上に配置された窒素酸化物を吸着
し酸素を吸着しない第２の吸着剤（吸着剤）である。な
お、図９に示す矢印は、ガスが流れる方向を示す。
１の内側壁部５７ａとにより区画された第１の誘電体膜
５４ａ上に配置された窒素酸化物を吸着し酸素分子を吸
着しない第１の吸着剤（吸着剤）、５９ｂは第２の外側
壁部５６ｂと第２の内側壁部５７ｂとにより区画された
第２の接地電極５５ｂ上に配置された窒素酸化物を吸着
し酸素を吸着しない第２の吸着剤（吸着剤）である。な
お、図９に示す矢印は、ガスが流れる方向を示す。
【００４９】次に動作について説明する。ここでは、処
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
【００５０】実施の形態３によるガス処理装置を用い
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部５
１に処理ガスを導入する。放電プラズマ処理部５１に処
理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部５６
ａに設けられたガス通過溝を通過して第１の放電空間５
８ａに入り、第２の外側壁部５６ｂに設けられたガス通
過溝を通過して第２の放電空間５８ｂに入る。第１の放
電空間５８ａに入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び
窒素が第１の放電空間５８ａに配置された第１の吸着剤
５９ａに吸着され、酸素は第１の吸着剤５９ａに吸着さ
れずに第１の内側壁部５７ａに設けられたガス通過溝を
通過して第１の放電空間５８ａから出て行き、円筒状支
柱２３の内側を通って放電プラズマ処理部５１から排出
される。一方、第２の放電空間５８ｂに入った処理ガス
のうち、窒素酸化物及び窒素が第１の放電空間５８ｂに
配置された第２の吸着剤５９ｂに吸着され、酸素は第２
の吸着剤５９ｂに吸着されずに第２の内側壁部５７ｂに
設けられたガス通過溝を通過して第２の放電空間５８ｂ
から出て行き、円筒状支柱２３の内側を通って放電プラ
ズマ処理部５１から排出される。
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部５
１に処理ガスを導入する。放電プラズマ処理部５１に処
理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部５６
ａに設けられたガス通過溝を通過して第１の放電空間５
８ａに入り、第２の外側壁部５６ｂに設けられたガス通
過溝を通過して第２の放電空間５８ｂに入る。第１の放
電空間５８ａに入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び
窒素が第１の放電空間５８ａに配置された第１の吸着剤
５９ａに吸着され、酸素は第１の吸着剤５９ａに吸着さ
れずに第１の内側壁部５７ａに設けられたガス通過溝を
通過して第１の放電空間５８ａから出て行き、円筒状支
柱２３の内側を通って放電プラズマ処理部５１から排出
される。一方、第２の放電空間５８ｂに入った処理ガス
のうち、窒素酸化物及び窒素が第１の放電空間５８ｂに
配置された第２の吸着剤５９ｂに吸着され、酸素は第２
の吸着剤５９ｂに吸着されずに第２の内側壁部５７ｂに
設けられたガス通過溝を通過して第２の放電空間５８ｂ
から出て行き、円筒状支柱２３の内側を通って放電プラ
ズマ処理部５１から排出される。
【００５１】その後、第１及び第２の吸着剤５９ａ及び
５９ｂが窒素酸化物で飽和した時点である飽和時点で高
電圧電極５３に交流高電圧を印加し、放電プラズマ処理
部５１への処理ガスの導入を止める。
５９ｂが窒素酸化物で飽和した時点である飽和時点で高
電圧電極５３に交流高電圧を印加し、放電プラズマ処理
部５１への処理ガスの導入を止める。
【００５２】その後、第１及び第２の吸着剤５９ａ及び
５９ｂに吸着された窒素酸化物がすべて処理された時点
である処理終了時点で高電圧電極５３への交流高電圧の
印加を止め、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部
５１に処理ガスを導入する。
５９ｂに吸着された窒素酸化物がすべて処理された時点
である処理終了時点で高電圧電極５３への交流高電圧の
印加を止め、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部
５１に処理ガスを導入する。
【００５３】以上のように、この実施の形態３によれ
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００５４】また、この実施の形態３によれば、２つの
放電空間、すなわち高電圧電極５３と第１の接地電極５
５ａとで挟まれた第１の放電空間５８ａと、高電圧電極
５３と第２の接地電極５５ｂとで挟まれた第２の放電空
間５８ｂとを備えているので、放電プラズマ処理時にお
ける放電プラズマ処理量が増加する効果が得られる。
放電空間、すなわち高電圧電極５３と第１の接地電極５
５ａとで挟まれた第１の放電空間５８ａと、高電圧電極
５３と第２の接地電極５５ｂとで挟まれた第２の放電空
間５８ｂとを備えているので、放電プラズマ処理時にお
ける放電プラズマ処理量が増加する効果が得られる。
【００５５】実施の形態４．実施の形態４によるガス処
理装置では、放電プラズマ処理部の構成が実施の形態１
によるガス処理装置と相違している。以下、この実施の
形態４によるガス処理装置における放電プラズマ処理部
の構成について説明する。
理装置では、放電プラズマ処理部の構成が実施の形態１
によるガス処理装置と相違している。以下、この実施の
形態４によるガス処理装置における放電プラズマ処理部
の構成について説明する。
【００５６】図１１はこの発明の実施の形態３によるガ
ス処理装置を構成する放電プラズマ処理部を示す構成図
である。図１１において、６１は放電プラズマ処理部、
６２は金属製の放電チャンバー、６３は放電チャンバー
６２内に配置された放電電極、７２は放電電極６３を支
える絶縁性の円柱状支柱である。
ス処理装置を構成する放電プラズマ処理部を示す構成図
である。図１１において、６１は放電プラズマ処理部、
６２は金属製の放電チャンバー、６３は放電チャンバー
６２内に配置された放電電極、７２は放電電極６３を支
える絶縁性の円柱状支柱である。
【００５７】放電電極６３において、６４は放電チャン
バー６２と一体的に形成された接地電極、６５は接地電
極６４の中央に設けられた直径３ｃｍ程度の開口部、６
６ａは接地電極６４の上側に配置された直径２２ｃｍ程
度，厚さ１ｍｍ程度の円形状の第１のセラミック板（誘
電体）、６７ａは第１のセラミック板６６ａの接地電極
６４と反対側表面に金を蒸着することにより形成された
直径２０ｃｍ程度の円形薄膜状の第１の高電圧電極（高
電圧電極）、６６ｂは接地電極６４の下側に配置された
直径２２ｃｍ程度，厚さ１ｍｍ程度の円形状の第２のセ
ラミック板（セラミック板）、６７ｂは第２のセラミッ
ク板６６ｂの接地電極６４と反対側表面に金を蒸着する
ことにより形成された直径２０ｃｍ程度の円形薄膜状の
第２の高電圧電極（高電圧電極）、６８ａは接地電極６
４を第１の高電圧電極６７ａから所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極６４の上面に直径２０ｃｍ程度の
円を描くように接地電極６４と一体的に形成された第１
の外側壁部、６９は接地電極６４を第１の高電圧電極６
７ａから所定の間隔を隔てて配置するために接地電極６
４の上面に直径３ｃｍ程度の円を描くように接地電極６
４と一体的に形成された内側壁部、６８ｂは接地電極６
４を第２の高電圧電極６７ｂから所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極６４の下面に直径２０ｃｍ程度の
円を描くように接地電極６４と一体的に形成された第２
の外側壁部、７０ａは接地電極６４、第１のセラミック
板６６ａ、第１の外側壁部６８ａ及び内側壁部６９によ
り囲まれた第１の放電空間（放電空間）、７０ｂは接地
電極６４、第２のセラミック板６６ｂ及び第２の外側壁
部６８ｂにより囲まれた第２の放電空間（放電空間）で
ある。図示していないが、第１，第２の外側壁部６８
ａ，６８ｂ、内側壁部６９には、ガスの通過が可能なガ
ス通過溝が設けられている。
バー６２と一体的に形成された接地電極、６５は接地電
極６４の中央に設けられた直径３ｃｍ程度の開口部、６
６ａは接地電極６４の上側に配置された直径２２ｃｍ程
度，厚さ１ｍｍ程度の円形状の第１のセラミック板（誘
電体）、６７ａは第１のセラミック板６６ａの接地電極
６４と反対側表面に金を蒸着することにより形成された
直径２０ｃｍ程度の円形薄膜状の第１の高電圧電極（高
電圧電極）、６６ｂは接地電極６４の下側に配置された
直径２２ｃｍ程度，厚さ１ｍｍ程度の円形状の第２のセ
ラミック板（セラミック板）、６７ｂは第２のセラミッ
ク板６６ｂの接地電極６４と反対側表面に金を蒸着する
ことにより形成された直径２０ｃｍ程度の円形薄膜状の
第２の高電圧電極（高電圧電極）、６８ａは接地電極６
４を第１の高電圧電極６７ａから所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極６４の上面に直径２０ｃｍ程度の
円を描くように接地電極６４と一体的に形成された第１
の外側壁部、６９は接地電極６４を第１の高電圧電極６
７ａから所定の間隔を隔てて配置するために接地電極６
４の上面に直径３ｃｍ程度の円を描くように接地電極６
４と一体的に形成された内側壁部、６８ｂは接地電極６
４を第２の高電圧電極６７ｂから所定の間隔を隔てて配
置するために接地電極６４の下面に直径２０ｃｍ程度の
円を描くように接地電極６４と一体的に形成された第２
の外側壁部、７０ａは接地電極６４、第１のセラミック
板６６ａ、第１の外側壁部６８ａ及び内側壁部６９によ
り囲まれた第１の放電空間（放電空間）、７０ｂは接地
電極６４、第２のセラミック板６６ｂ及び第２の外側壁
部６８ｂにより囲まれた第２の放電空間（放電空間）で
ある。図示していないが、第１，第２の外側壁部６８
ａ，６８ｂ、内側壁部６９には、ガスの通過が可能なガ
ス通過溝が設けられている。
【００５８】また、７１ａは第１の外側壁部６８ａと内
側壁部６９とにより区画された接地電極６４上に配置さ
れた窒素酸化物を吸着し酸素分子を吸着しない第１の吸
着剤（吸着剤）、７１ｂは第２の外側壁部６８ｂにより
区画された第２のセラミック板６６ｂ上に配置された窒
素酸化物を吸着し酸素分子を吸着しない第２の吸着剤
（吸着剤）である。
側壁部６９とにより区画された接地電極６４上に配置さ
れた窒素酸化物を吸着し酸素分子を吸着しない第１の吸
着剤（吸着剤）、７１ｂは第２の外側壁部６８ｂにより
区画された第２のセラミック板６６ｂ上に配置された窒
素酸化物を吸着し酸素分子を吸着しない第２の吸着剤
（吸着剤）である。
【００５９】次に動作について説明する。ここでは、処
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
【００６０】実施の形態４によるガス処理装置を用い
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部６
１に処理ガスを導入する。放電プラズマ処理部６１に処
理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部６８
ａに設けられたガス通過溝を通過して第１の放電空間７
０ａに入る。第１の放電空間７０ａに入った処理ガスの
うち、窒素酸化物及び窒素が第１の放電空間７０ａに配
置された第１の吸着剤７１ａに吸着され、酸素は第１の
吸着剤７１ａに吸着されずに内側壁部６９に設けられた
ガス通過溝を通過して第１の放電空間７０ａから出て行
き、開口部６５及び第２の外側壁部６８ｂを通って放電
プラズマ処理部６１から排出される。第１の吸着剤７１
ａが窒素酸化物で飽和した後に放電プラズマ処理部６１
に処理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部
６８ａに設けられたガス通過溝及び開口部６５を通過し
て第２の放電空間７０ｂに入る。第２の放電空間７０ｂ
に入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び窒素が第２の
放電空間７０ｂに配置された第２の吸着剤７１ｂに吸着
され、酸素は第２の吸着剤７１ｂに吸着されずに第２の
外側壁部６８ｂに設けられたガス通過溝を通過して第２
の放電空間７０ｂから出て行き、放電プラズマ処理部６
１から排出される。
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、処理ガス流路を通して放電プラズマ処理部６
１に処理ガスを導入する。放電プラズマ処理部６１に処
理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部６８
ａに設けられたガス通過溝を通過して第１の放電空間７
０ａに入る。第１の放電空間７０ａに入った処理ガスの
うち、窒素酸化物及び窒素が第１の放電空間７０ａに配
置された第１の吸着剤７１ａに吸着され、酸素は第１の
吸着剤７１ａに吸着されずに内側壁部６９に設けられた
ガス通過溝を通過して第１の放電空間７０ａから出て行
き、開口部６５及び第２の外側壁部６８ｂを通って放電
プラズマ処理部６１から排出される。第１の吸着剤７１
ａが窒素酸化物で飽和した後に放電プラズマ処理部６１
に処理ガスを導入すると、処理ガスは、第１の外側壁部
６８ａに設けられたガス通過溝及び開口部６５を通過し
て第２の放電空間７０ｂに入る。第２の放電空間７０ｂ
に入った処理ガスのうち、窒素酸化物及び窒素が第２の
放電空間７０ｂに配置された第２の吸着剤７１ｂに吸着
され、酸素は第２の吸着剤７１ｂに吸着されずに第２の
外側壁部６８ｂに設けられたガス通過溝を通過して第２
の放電空間７０ｂから出て行き、放電プラズマ処理部６
１から排出される。
【００６１】その後、第１及び第２の吸着剤７１ａ及び
７１ｂが窒素酸化物で飽和した時点である飽和時点で第
１及び第２の高電圧電極６７ａ及び６７ｂに交流高電圧
を印加し、放電プラズマ処理部６１への処理ガスの導入
を止める。
７１ｂが窒素酸化物で飽和した時点である飽和時点で第
１及び第２の高電圧電極６７ａ及び６７ｂに交流高電圧
を印加し、放電プラズマ処理部６１への処理ガスの導入
を止める。
【００６２】その後、第１及び第２の吸着剤７１ａ及び
７１ｂに吸着された窒素酸化物がすべて処理された時点
である処理終了時点で第１及び第２の高電圧電極６７ａ
及び６７ｂへの交流高電圧の印加を止め、処理ガス流路
を通して放電プラズマ処理部６１に処理ガスを導入す
る。
７１ｂに吸着された窒素酸化物がすべて処理された時点
である処理終了時点で第１及び第２の高電圧電極６７ａ
及び６７ｂへの交流高電圧の印加を止め、処理ガス流路
を通して放電プラズマ処理部６１に処理ガスを導入す
る。
【００６３】以上のように、この実施の形態４によれ
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００６４】また、この実施の形態４によれば、２つの
放電空間、すなわち第１の高電圧電極６７ａと接地電極
６４とで挟まれた第１の放電空間７０ａと、第２の高電
圧電極６７ａと接地電極６４とで挟まれた第２の放電空
間７０ｂとを備えているので、放電プラズマ処理時にお
ける放電プラズマ処理量が増加する効果が得られる。
放電空間、すなわち第１の高電圧電極６７ａと接地電極
６４とで挟まれた第１の放電空間７０ａと、第２の高電
圧電極６７ａと接地電極６４とで挟まれた第２の放電空
間７０ｂとを備えているので、放電プラズマ処理時にお
ける放電プラズマ処理量が増加する効果が得られる。
【００６５】実施の形態５．実施の形態５によるガス処
理装置では、ガス処理装置の外部からオゾナイザーの酸
素原料を取り込む点が、実施の形態１によるガス処理装
置と相違している。以下、この実施の形態５によるガス
処理装置について説明する。
理装置では、ガス処理装置の外部からオゾナイザーの酸
素原料を取り込む点が、実施の形態１によるガス処理装
置と相違している。以下、この実施の形態５によるガス
処理装置について説明する。
【００６６】図１２はこの発明の実施の形態５によるガ
ス処理装置を示す構成図である。図１２において、８１
はガス処理装置、８２は空気を酸素原料としてオゾナイ
ザー５に導入するための酸素原料流路、８３はガス処理
装置８１の外部から空気を吸引するために酸素原料流路
８２の途中に設けられた第４のポンプ、８４は放電プラ
ズマ処理部２から排出された酸素をガス処理装置８１の
外部へ排出するための酸素排出流路、８５は酸素排出流
路８４を流れる酸素を吸引するために酸素排出流路８４
の途中に設けられた第５のポンプ、８６は共通流路７を
酸素排出流路８４あるいは処理済ガス流路１０に接続す
るための三方コックである。
ス処理装置を示す構成図である。図１２において、８１
はガス処理装置、８２は空気を酸素原料としてオゾナイ
ザー５に導入するための酸素原料流路、８３はガス処理
装置８１の外部から空気を吸引するために酸素原料流路
８２の途中に設けられた第４のポンプ、８４は放電プラ
ズマ処理部２から排出された酸素をガス処理装置８１の
外部へ排出するための酸素排出流路、８５は酸素排出流
路８４を流れる酸素を吸引するために酸素排出流路８４
の途中に設けられた第５のポンプ、８６は共通流路７を
酸素排出流路８４あるいは処理済ガス流路１０に接続す
るための三方コックである。
【００６７】この実施の形態５によるガス処理装置８１
では、酸素原料流路８２を通して導入された空気を酸素
原料としてオゾナイザー５により製造されたオゾンをオ
ゾン流路６を通して処理ガス流路３に導入する。
では、酸素原料流路８２を通して導入された空気を酸素
原料としてオゾナイザー５により製造されたオゾンをオ
ゾン流路６を通して処理ガス流路３に導入する。
【００６８】また、この実施の形態５によるガス処理装
置８１では、放電プラズマ処理部２から排出された酸素
は共通流路７、三方コック８６により接続された酸素排
出流路８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出され
る。
置８１では、放電プラズマ処理部２から排出された酸素
は共通流路７、三方コック８６により接続された酸素排
出流路８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出され
る。
【００６９】以上のように、この実施の形態５によれ
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
【００７０】実施の形態６．実施の形態６によるガス処
理装置では、酸素製造装置で製造された酸素をオゾナイ
ザーの酸素原料とする点が、実施の形態５によるガス処
理装置と相違している。以下、この実施の形態６による
ガス処理装置について説明する。
理装置では、酸素製造装置で製造された酸素をオゾナイ
ザーの酸素原料とする点が、実施の形態５によるガス処
理装置と相違している。以下、この実施の形態６による
ガス処理装置について説明する。
【００７１】図１３はこの発明の実施の形態６によるガ
ス処理装置を示す構成図である。図１３において、９１
はガス処理装置、９２は酸素製造装置、９３は酸素製造
装置９２で製造された酸素を酸素原料としてオゾナイザ
ー５に導入するための酸素原料流路、９４は空気を酸素
製造装置９２に導入するための空気流路、９５はガス処
理装置９１の外部から空気を吸引するために空気流路９
４の途中に設けられた第６のポンプである。
ス処理装置を示す構成図である。図１３において、９１
はガス処理装置、９２は酸素製造装置、９３は酸素製造
装置９２で製造された酸素を酸素原料としてオゾナイザ
ー５に導入するための酸素原料流路、９４は空気を酸素
製造装置９２に導入するための空気流路、９５はガス処
理装置９１の外部から空気を吸引するために空気流路９
４の途中に設けられた第６のポンプである。
【００７２】この実施の形態６によるガス処理装置９１
では、酸素製造装置９２で製造された酸素を酸素原料と
してオゾナイザー５により製造されたオゾンをオゾン流
路６を通して処理ガス流路３に導入する。
では、酸素製造装置９２で製造された酸素を酸素原料と
してオゾナイザー５により製造されたオゾンをオゾン流
路６を通して処理ガス流路３に導入する。
【００７３】また、この実施の形態６によるガス処理装
置９１では、実施の形態５によるガス処理装置８１と同
様に、放電プラズマ処理部２から排出された酸素は共通
流路７、三方コック８６により接続された酸素排出流路
８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出される。
置９１では、実施の形態５によるガス処理装置８１と同
様に、放電プラズマ処理部２から排出された酸素は共通
流路７、三方コック８６により接続された酸素排出流路
８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出される。
【００７４】以上のように、この実施の形態６によれ
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
【００７５】実施の形態７．実施の形態７によるガス処
理装置では、酸素製造装置から排出された窒素を放電プ
ラズマ処理部に供給する点が、実施の形態６によるガス
処理装置と相違している。以下、この実施の形態７によ
るガス処理装置について説明する。
理装置では、酸素製造装置から排出された窒素を放電プ
ラズマ処理部に供給する点が、実施の形態６によるガス
処理装置と相違している。以下、この実施の形態７によ
るガス処理装置について説明する。
【００７６】図１４はこの発明の実施の形態７によるガ
ス処理装置を示す構成図である。図１４において、１０
１はガス処理装置、１０２は酸素製造時に窒素を排出す
る酸素製造装置（還元性ガス製造装置、還元性ガス製造
装置兼用酸素製造装置）、１０３は酸素製造装置１０２
から排出された窒素を放電プラズマ処理部２に導入する
ための窒素流路である。酸素製造装置１０２として、例
えば、ＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｅｒｅ Ｓｗｉｎｇ Ａｄｓ
ｏｒｐｔｉｏｎ）酸素製造装置がある。
ス処理装置を示す構成図である。図１４において、１０
１はガス処理装置、１０２は酸素製造時に窒素を排出す
る酸素製造装置（還元性ガス製造装置、還元性ガス製造
装置兼用酸素製造装置）、１０３は酸素製造装置１０２
から排出された窒素を放電プラズマ処理部２に導入する
ための窒素流路である。酸素製造装置１０２として、例
えば、ＰＳＡ（Ｐｒｅｓｓｅｒｅ Ｓｗｉｎｇ Ａｄｓ
ｏｒｐｔｉｏｎ）酸素製造装置がある。
【００７７】この実施の形態７によるガス処理装置１０
１では、酸素製造装置１０２で製造された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー５により製造されたオゾンをオゾ
ン流路６を通して処理ガス流路３に導入し、かつ酸素製
造装置１０２から排出された窒素を窒素流路１０３を通
して放電プラズマ処理部２に導入する。
１では、酸素製造装置１０２で製造された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー５により製造されたオゾンをオゾ
ン流路６を通して処理ガス流路３に導入し、かつ酸素製
造装置１０２から排出された窒素を窒素流路１０３を通
して放電プラズマ処理部２に導入する。
【００７８】また、この実施の形態７によるガス処理装
置１０１では、実施の形態５によるガス処理装置８１と
同様に、放電プラズマ処理部２から排出された酸素は共
通流路７、三方コック８６により接続された酸素排出流
路８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出される。
置１０１では、実施の形態５によるガス処理装置８１と
同様に、放電プラズマ処理部２から排出された酸素は共
通流路７、三方コック８６により接続された酸素排出流
路８４を流れ、ガス処理装置８１の外部へ排出される。
【００７９】以上のように、この実施の形態７によれ
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
ば、処理ガスに含まれている酸素を有効利用することが
できるという点を除いて、実施の形態１と同様の効果が
得られる。
【００８０】また、この実施の形態７によれば、放電プ
ラズマ処理部２に、還元性ガスである窒素を供給してい
るので、放電プラズマ処理時における窒素原子生成量が
増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とになる量が
増加する効果が得られる。還元性ガスとして、窒素以外
に水素、メタン、エチレン、アンモニアを用いても同様
の効果が得られる。
ラズマ処理部２に、還元性ガスである窒素を供給してい
るので、放電プラズマ処理時における窒素原子生成量が
増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とになる量が
増加する効果が得られる。還元性ガスとして、窒素以外
に水素、メタン、エチレン、アンモニアを用いても同様
の効果が得られる。
【００８１】さらに、この実施の形態７によれば、放電
プラズマ処理部２に、酸素製造装置１０３による酸素製
造時に排出される窒素を供給しているので、窒素を放電
プラズマ処理部２に供給する設備を簡略化することがで
きる効果が得られる。
プラズマ処理部２に、酸素製造装置１０３による酸素製
造時に排出される窒素を供給しているので、窒素を放電
プラズマ処理部２に供給する設備を簡略化することがで
きる効果が得られる。
【００８２】実施の形態８．実施の形態８によるガス処
理装置では、放電プラズマ処理部を２つ備えている点が
実施の形態１によるガス処理装置と相違している。以
下、この実施の形態８によるガス処理装置について説明
する。
理装置では、放電プラズマ処理部を２つ備えている点が
実施の形態１によるガス処理装置と相違している。以
下、この実施の形態８によるガス処理装置について説明
する。
【００８３】図１５はこの発明の実施の形態８によるガ
ス処理装置を示す構成図である。図１５において、１１
１はガス処理装置、１１２ａは第１の放電プラズマ処理
部、１１２ｂは第２の放電プラズマ処理部である。ま
た、１１３は処理ガスを第１，第２の放電プラズマ処理
部１１２ａ，１１２ｂに導入するための共通処理ガス流
路、１１３ａは処理ガスを第１の放電プラズマ処理部１
１２ａに導入するための第１の処理ガス流路、１１３ｂ
は処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂに導入
するための第２の処理ガス流路、１１４はガス処理装置
１１１の外部から処理ガスを吸引するために共通処理ガ
ス流路１１１の途中に設けられた第１のポンプである。
ス処理装置を示す構成図である。図１５において、１１
１はガス処理装置、１１２ａは第１の放電プラズマ処理
部、１１２ｂは第２の放電プラズマ処理部である。ま
た、１１３は処理ガスを第１，第２の放電プラズマ処理
部１１２ａ，１１２ｂに導入するための共通処理ガス流
路、１１３ａは処理ガスを第１の放電プラズマ処理部１
１２ａに導入するための第１の処理ガス流路、１１３ｂ
は処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂに導入
するための第２の処理ガス流路、１１４はガス処理装置
１１１の外部から処理ガスを吸引するために共通処理ガ
ス流路１１１の途中に設けられた第１のポンプである。
【００８４】また、１１５はオゾナイザー（オゾン製造
装置）、１１６はオゾナイザー１１５で製造されたオゾ
ンを共通処理ガス流路１１３に導入するためのオゾン流
路である。
装置）、１１６はオゾナイザー１１５で製造されたオゾ
ンを共通処理ガス流路１１３に導入するためのオゾン流
路である。
【００８５】また、１１７ａは第１の放電プラズマ処理
部１１２ａから排出された酸素及び放電プラズマ処理後
のガスが流れる第１の共通流路、１１７ｂは第２の放電
プラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素及び放電プ
ラズマ処理後のガスが流れる第２の共通流路である。
部１１２ａから排出された酸素及び放電プラズマ処理後
のガスが流れる第１の共通流路、１１７ｂは第２の放電
プラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素及び放電プ
ラズマ処理後のガスが流れる第２の共通流路である。
【００８６】また、１１８は第１，第２の放電プラズマ
処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー１１５に導入するための共通酸素
流路、１１８ａは第１の放電プラズマ処理部１１２ａか
ら排出された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５
に導入するための第１の酸素流路、１１８ｂは第２の放
電プラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー１１５に導入するための第２の酸
素流路、１１９は共通酸素流路１１８を流れる酸素を吸
引するために共通酸素流路１１８の途中に設けられた第
２のポンプである。
処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー１１５に導入するための共通酸素
流路、１１８ａは第１の放電プラズマ処理部１１２ａか
ら排出された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５
に導入するための第１の酸素流路、１１８ｂは第２の放
電プラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素を酸素原
料としてオゾナイザー１１５に導入するための第２の酸
素流路、１１９は共通酸素流路１１８を流れる酸素を吸
引するために共通酸素流路１１８の途中に設けられた第
２のポンプである。
【００８７】また、１２０は第１，第２の放電プラズマ
処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された放電プラズマ
処理後のガスをガス処理装置１１１の外部へ排出するた
めの共通処理済ガス流路、１２０ａは第１の放電プラズ
マ処理部１１２ａから排出された放電プラズマ処理後の
ガスをガス処理装置１１１の外部へ排出するための第１
の処理済ガス流路、１２０ｂは第２の放電プラズマ処理
部１１２ｂから排出された放電プラズマ処理後のガスを
ガス処理装置１１１の外部へ排出するための第２の処理
済ガス流路、１２１は共通処理済ガス流路１２０を流れ
る放電プラズマ処理後のガスを吸引するために共通処理
済ガス流路１２０の途中に設けられた第３のポンプであ
る。
処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された放電プラズマ
処理後のガスをガス処理装置１１１の外部へ排出するた
めの共通処理済ガス流路、１２０ａは第１の放電プラズ
マ処理部１１２ａから排出された放電プラズマ処理後の
ガスをガス処理装置１１１の外部へ排出するための第１
の処理済ガス流路、１２０ｂは第２の放電プラズマ処理
部１１２ｂから排出された放電プラズマ処理後のガスを
ガス処理装置１１１の外部へ排出するための第２の処理
済ガス流路、１２１は共通処理済ガス流路１２０を流れ
る放電プラズマ処理後のガスを吸引するために共通処理
済ガス流路１２０の途中に設けられた第３のポンプであ
る。
【００８８】また、１２２は共通処理ガス流路１１３を
第１の処理ガス流路１１３ａあるいは第２の処理ガス流
路１１３ｂに接続するための第１の三方コック（切替手
段）、１２３は第１の共通流路１１７ａを第１の酸素流
路１１８ａあるいは第１の処理済ガス流路１２０ａに接
続するための第２の三方コック、１２４は第２の共通流
路１１７ｂを第２の酸素流路１１８ｂあるいは第２の処
理済ガス流路１２０ｂに接続するための第３の三方コッ
ク、１２５は共通酸素流路１１８を第１の酸素流路１１
８ａあるいは第２の酸素流路１１８ｂに接続するための
第４の三方コックである。
第１の処理ガス流路１１３ａあるいは第２の処理ガス流
路１１３ｂに接続するための第１の三方コック（切替手
段）、１２３は第１の共通流路１１７ａを第１の酸素流
路１１８ａあるいは第１の処理済ガス流路１２０ａに接
続するための第２の三方コック、１２４は第２の共通流
路１１７ｂを第２の酸素流路１１８ｂあるいは第２の処
理済ガス流路１２０ｂに接続するための第３の三方コッ
ク、１２５は共通酸素流路１１８を第１の酸素流路１１
８ａあるいは第２の酸素流路１１８ｂに接続するための
第４の三方コックである。
【００８９】また、１２６ａは第１の共通流路１１７ａ
を流れる、窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸化物を放電
プラズマ処理して得られる成分の濃度を検出する第１の
センサ、１２６ｂは第２の共通流路１１７ｂを流れる、
窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸化物を放電プラズマ処
理して得られる成分の濃度を検出する第２のセンサであ
る。第１，第２のセンサ１２６ａ，１２６ｂとして、窒
素酸化物の濃度のみを測定するものには、例えば、ケミ
カルルミネッセンス方式のＮＯX センサがあり、窒素酸
化物の濃度及び窒素酸化物を放電プラズマ処理して得ら
れる成分の濃度を検出するものには、例えば、赤外線吸
光光度計や紫外線吸光光度計がある。
を流れる、窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸化物を放電
プラズマ処理して得られる成分の濃度を検出する第１の
センサ、１２６ｂは第２の共通流路１１７ｂを流れる、
窒素酸化物の濃度あるいは窒素酸化物を放電プラズマ処
理して得られる成分の濃度を検出する第２のセンサであ
る。第１，第２のセンサ１２６ａ，１２６ｂとして、窒
素酸化物の濃度のみを測定するものには、例えば、ケミ
カルルミネッセンス方式のＮＯX センサがあり、窒素酸
化物の濃度及び窒素酸化物を放電プラズマ処理して得ら
れる成分の濃度を検出するものには、例えば、赤外線吸
光光度計や紫外線吸光光度計がある。
【００９０】次に動作について説明する。ここでは、処
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
【００９１】実施の形態８によるガス処理装置を用い
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、共通処理ガス流路１１３及び第１の三方コッ
ク１２２により接続された第１の処理ガス流路１１３ａ
を通して第１の放電プラズマ処理部１１２ａに処理ガス
を導入する。このとき、共通酸素流路１１８を通して導
入された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５によ
り製造されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処
理ガス流路１１３に導入する。第１の放電プラズマ処理
部１１２ａに処理ガスを導入すると、窒素酸化物及び窒
素が吸着剤に吸着され、吸着剤に吸着されずに第１の放
電プラズマ処理部１１２ａから排出された酸素は第１の
共通流路１１７ａ、第２の三方コック１２３により接続
された第１の酸素流路、第４の三方コック１２５により
接続された共通酸素流路１１８を流れ、オゾナイザー１
１５の酸素原料として使用される。
て、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する場
合、先ず、共通処理ガス流路１１３及び第１の三方コッ
ク１２２により接続された第１の処理ガス流路１１３ａ
を通して第１の放電プラズマ処理部１１２ａに処理ガス
を導入する。このとき、共通酸素流路１１８を通して導
入された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５によ
り製造されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処
理ガス流路１１３に導入する。第１の放電プラズマ処理
部１１２ａに処理ガスを導入すると、窒素酸化物及び窒
素が吸着剤に吸着され、吸着剤に吸着されずに第１の放
電プラズマ処理部１１２ａから排出された酸素は第１の
共通流路１１７ａ、第２の三方コック１２３により接続
された第１の酸素流路、第４の三方コック１２５により
接続された共通酸素流路１１８を流れ、オゾナイザー１
１５の酸素原料として使用される。
【００９２】その後、第１の放電プラズマ処理部１１２
ａの吸着剤が飽和した時点である飽和時点で第１の放電
プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理を開
始し、処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂに
導入する。例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物
を第１のセンサ１２６ａにより検出した時点を第１の放
電プラズマ処理部１１２ａの吸着剤の飽和時点とする。
第１のセンサ１２６ａが第１の放電プラズマ処理部１１
２ａの吸着剤の飽和時点を検出すると、第１のセンサ１
２６ａに設けられているコントローラの指示に従って、
第１の三方コック１２２により共通処理ガス流路１１３
が第２の処理ガス流路１１３ｂに接続され、第２の三方
コック１２３により第１の共通流路１１７ａが第１の処
理済ガス流路１２０ａに接続され、第３の三方コック１
２４により第２の共通流路１１７ｂが第２の酸素流路１
１８ｂに接続され、第４の三方コック１２５により共通
酸素流路１１８が第２の酸素流路１１８ｂに接続され
る。第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プ
ラズマ処理後のガスは、第１の共通流路１１７ａ、第２
の三方コック１２３により接続された第１の処理済ガス
流路１２０ａ、共通処理済ガス流路１２０を流れ、ガス
処理装置１１１の外部に排出される。
ａの吸着剤が飽和した時点である飽和時点で第１の放電
プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理を開
始し、処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂに
導入する。例えば、処理ガスに含まれている窒素酸化物
を第１のセンサ１２６ａにより検出した時点を第１の放
電プラズマ処理部１１２ａの吸着剤の飽和時点とする。
第１のセンサ１２６ａが第１の放電プラズマ処理部１１
２ａの吸着剤の飽和時点を検出すると、第１のセンサ１
２６ａに設けられているコントローラの指示に従って、
第１の三方コック１２２により共通処理ガス流路１１３
が第２の処理ガス流路１１３ｂに接続され、第２の三方
コック１２３により第１の共通流路１１７ａが第１の処
理済ガス流路１２０ａに接続され、第３の三方コック１
２４により第２の共通流路１１７ｂが第２の酸素流路１
１８ｂに接続され、第４の三方コック１２５により共通
酸素流路１１８が第２の酸素流路１１８ｂに接続され
る。第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プ
ラズマ処理後のガスは、第１の共通流路１１７ａ、第２
の三方コック１２３により接続された第１の処理済ガス
流路１２０ａ、共通処理済ガス流路１２０を流れ、ガス
処理装置１１１の外部に排出される。
【００９３】その後、第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂの吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第１
の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物
がすべて処理された時点である処理終了時点で、第１の
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
を止め、処理ガスを第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
に導入するとともに、第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂにおける放電プラズマ処理を開始する。例えば、処理
ガスに含まれている窒素酸化物を第２のセンサ１２６ｂ
により検出した時点を第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂの吸着剤の飽和時点とし、処理ガスに含まれている窒
素酸化物を放電プラズマ処理して得られる酸素の濃度が
低下し始めたことを第１のセンサ１２６ａにより検出し
た時点を処理終了時点とする。第２のセンサ１２６ｂが
第２の放電プラズマ処理部１１２ｂの吸着剤の飽和時点
を検出するかあるいは第１のセンサ１２６ａが第１の放
電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物の処
理終了時点を検出すると、第１のセンサ１２６ａに設け
られているコントローラあるいは第２のセンサ１２６ｂ
に設けられてるコントローラの指示に従って、第１の三
方コック１２２により共通処理ガス流路１１３が第１の
処理ガス流路１１３ａに接続され、第２の三方コック１
２３により第１の共通流路１１７ａが第１の酸素流路１
１８ａに接続され、第３の三方コック１２４により第２
の共通流路１１７ｂが第２の処理済ガス流路１２０ｂに
接続され、第４の三方コック１２５により共通酸素流路
１１８が第１の酸素流路１１８ａに接続される。第２の
放電処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理後のガス
は、第２の共通流路１１７ｂ、第２の三方コック１２３
により接続された第２の処理済ガス流路１２０ｂ、共通
処理済ガス流路１２０を流れ、ガス処理装置１１１の外
部に排出される。図１５には、この状態において、ガス
が流れる流路を太線で示している。
ｂの吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第１
の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物
がすべて処理された時点である処理終了時点で、第１の
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
を止め、処理ガスを第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
に導入するとともに、第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂにおける放電プラズマ処理を開始する。例えば、処理
ガスに含まれている窒素酸化物を第２のセンサ１２６ｂ
により検出した時点を第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂの吸着剤の飽和時点とし、処理ガスに含まれている窒
素酸化物を放電プラズマ処理して得られる酸素の濃度が
低下し始めたことを第１のセンサ１２６ａにより検出し
た時点を処理終了時点とする。第２のセンサ１２６ｂが
第２の放電プラズマ処理部１１２ｂの吸着剤の飽和時点
を検出するかあるいは第１のセンサ１２６ａが第１の放
電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物の処
理終了時点を検出すると、第１のセンサ１２６ａに設け
られているコントローラあるいは第２のセンサ１２６ｂ
に設けられてるコントローラの指示に従って、第１の三
方コック１２２により共通処理ガス流路１１３が第１の
処理ガス流路１１３ａに接続され、第２の三方コック１
２３により第１の共通流路１１７ａが第１の酸素流路１
１８ａに接続され、第３の三方コック１２４により第２
の共通流路１１７ｂが第２の処理済ガス流路１２０ｂに
接続され、第４の三方コック１２５により共通酸素流路
１１８が第１の酸素流路１１８ａに接続される。第２の
放電処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理後のガス
は、第２の共通流路１１７ｂ、第２の三方コック１２３
により接続された第２の処理済ガス流路１２０ｂ、共通
処理済ガス流路１２０を流れ、ガス処理装置１１１の外
部に排出される。図１５には、この状態において、ガス
が流れる流路を太線で示している。
【００９４】その後、第１の放電プラズマ処理部１１２
ａの吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第２
の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物
がすべて処理された時点である処理終了時点で、第２の
放電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理
を止め、処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂ
に導入するとともに、第１の放電プラズマ処理部１１２
ａにおける放電プラズマ処理を開始する。
ａの吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第２
の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物
がすべて処理された時点である処理終了時点で、第２の
放電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理
を止め、処理ガスを第２の放電プラズマ処理部１１２ｂ
に導入するとともに、第１の放電プラズマ処理部１１２
ａにおける放電プラズマ処理を開始する。
【００９５】図１６は横軸に時間ｔを取り、縦軸に第１
のセンサ１２６ａにより検出された窒素酸化物の濃度Ｃ
を取って示した、窒素酸化物濃度の時間変化を示す特性
図である。図１６に示すように、時間ｔ１で第１のセン
サ１２６ａにより窒素酸化物が検出され、時間ｔ１が第
１の放電プラズマ処理部１１２ａの吸着剤の飽和時点で
ある。なお、図１６には、第１の放電プラズマ処理部１
１２ａの吸着剤が飽和した後も第１の放電プラズマ処理
部１２６ａに処理ガスを導入し続けた場合を示してお
り、Ｃ０は第１の放電プラズマ処理部１１２ａに導入す
る前の処理ガスに含まれる窒素酸化物の濃度である。
のセンサ１２６ａにより検出された窒素酸化物の濃度Ｃ
を取って示した、窒素酸化物濃度の時間変化を示す特性
図である。図１６に示すように、時間ｔ１で第１のセン
サ１２６ａにより窒素酸化物が検出され、時間ｔ１が第
１の放電プラズマ処理部１１２ａの吸着剤の飽和時点で
ある。なお、図１６には、第１の放電プラズマ処理部１
１２ａの吸着剤が飽和した後も第１の放電プラズマ処理
部１２６ａに処理ガスを導入し続けた場合を示してお
り、Ｃ０は第１の放電プラズマ処理部１１２ａに導入す
る前の処理ガスに含まれる窒素酸化物の濃度である。
【００９６】以上のように、この実施の形態８によれ
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
ば、実施の形態１と同様の効果が得られる。
【００９７】また、この実施の形態８によれば、第１の
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
時に第２の放電プラズマ処理部１１２ｂの吸着剤に窒素
酸化物を吸着させ、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂ
における放電プラズマ処理時に第１の放電プラズマ処理
部１１２ａの吸着剤に窒素酸化物を吸着させているの
で、処理ガスに含まれている窒素酸化物を連続的に処理
できる効果が得られる。
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
時に第２の放電プラズマ処理部１１２ｂの吸着剤に窒素
酸化物を吸着させ、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂ
における放電プラズマ処理時に第１の放電プラズマ処理
部１１２ａの吸着剤に窒素酸化物を吸着させているの
で、処理ガスに含まれている窒素酸化物を連続的に処理
できる効果が得られる。
【００９８】また、この実施の形態８によれば、第１の
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
から第２の放電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プ
ラズマ処理への切替を、第１のセンサ１２６ａが処理終
了時点を検出したときあるいは第２のセンサ１２６ｂが
飽和時点を検出したときに行い、第２の放電プラズマ処
理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理から第１の放電
プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理への
切替を、第２のセンサ１２６が処理終了時点を検出した
ときあるいは第１のセンサが飽和時点を検出したときに
行うので、第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける
放電プラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂにおける放電プラズマ処理への切替あるいは第２の放
電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理か
ら第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラ
ズマ処理への切替を効率的に行うことができる効果が得
られる。
放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理
から第２の放電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プ
ラズマ処理への切替を、第１のセンサ１２６ａが処理終
了時点を検出したときあるいは第２のセンサ１２６ｂが
飽和時点を検出したときに行い、第２の放電プラズマ処
理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理から第１の放電
プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラズマ処理への
切替を、第２のセンサ１２６が処理終了時点を検出した
ときあるいは第１のセンサが飽和時点を検出したときに
行うので、第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける
放電プラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂにおける放電プラズマ処理への切替あるいは第２の放
電プラズマ処理部１１２ｂにおける放電プラズマ処理か
ら第１の放電プラズマ処理部１１２ａにおける放電プラ
ズマ処理への切替を効率的に行うことができる効果が得
られる。
【００９９】なお、放電プラズマ処理部を２つ備えてい
る放電プラズマ装置を、実施の形態５に示すように、ガ
ス処理装置の外部からオゾナイザーの酸素原料を取り込
むように構成（図１７参照）しても同様の効果が得られ
る。図１７において、１３１はガス処理装置、１３２は
空気を酸素原料としオゾナイザー１１５に導入するため
の酸素原料流路、１３３はガス処理装置１３１の外部か
ら空気を吸引するために酸素原料流路１３２の途中に設
けられた第４のポンプ、１２４は第１，第２の放電プラ
ズマ処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された酸素をガ
ス処理装置１３１の外部へ排出するための共通酸素排出
流路、１３４ａは第１の放電プラズマ処理部１１２ａか
ら排出された酸素をガス処理装置１３１の外部へ排出す
るための第１の酸素排出流路、１３４ｂは第２の放電プ
ラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素をガス処理装
置１３１の外部へ排出するための第２の酸素排出流路、
１３５は共通酸素排出流路１３４を流れる酸素を吸引す
るために共通酸素排出流路１３４の途中に設けられた第
５のポンプ、１３６は第１の共通排出流路１１７ａを第
１の酸素排出流路１３４ａあるいは第１の処理済ガス流
路１２０ａに接続するための第２の三方コック、１３７
は第２の共通流路１１７ｂを第２の酸素排出流路１３４
ｂあるいは第２の処理済ガス流路１２０ｂに接続するた
めの第３の三方コック、１３８は共通酸素流路１３４を
第１の酸素排出流路１３４ａあるいは第２の酸素排出流
路１３４ｂに接続するための第４の三方コックである。
る放電プラズマ装置を、実施の形態５に示すように、ガ
ス処理装置の外部からオゾナイザーの酸素原料を取り込
むように構成（図１７参照）しても同様の効果が得られ
る。図１７において、１３１はガス処理装置、１３２は
空気を酸素原料としオゾナイザー１１５に導入するため
の酸素原料流路、１３３はガス処理装置１３１の外部か
ら空気を吸引するために酸素原料流路１３２の途中に設
けられた第４のポンプ、１２４は第１，第２の放電プラ
ズマ処理部１１２ａ，１１２ｂから排出された酸素をガ
ス処理装置１３１の外部へ排出するための共通酸素排出
流路、１３４ａは第１の放電プラズマ処理部１１２ａか
ら排出された酸素をガス処理装置１３１の外部へ排出す
るための第１の酸素排出流路、１３４ｂは第２の放電プ
ラズマ処理部１１２ｂから排出された酸素をガス処理装
置１３１の外部へ排出するための第２の酸素排出流路、
１３５は共通酸素排出流路１３４を流れる酸素を吸引す
るために共通酸素排出流路１３４の途中に設けられた第
５のポンプ、１３６は第１の共通排出流路１１７ａを第
１の酸素排出流路１３４ａあるいは第１の処理済ガス流
路１２０ａに接続するための第２の三方コック、１３７
は第２の共通流路１１７ｂを第２の酸素排出流路１３４
ｂあるいは第２の処理済ガス流路１２０ｂに接続するた
めの第３の三方コック、１３８は共通酸素流路１３４を
第１の酸素排出流路１３４ａあるいは第２の酸素排出流
路１３４ｂに接続するための第４の三方コックである。
【０１００】この場合、酸素原料流路１３２を通して導
入された空気を酸素原料としてオゾナイザー１１５によ
り製造されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処
理ガス流路１１３に導入する。
入された空気を酸素原料としてオゾナイザー１１５によ
り製造されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処
理ガス流路１１３に導入する。
【０１０１】また、この場合、第１の放電プラズマ処理
部１１２ａから排出された酸素は第１の共通流路１１７
ａ、第２の三方コック１３６により接続された第１の酸
素排出流路１３４ａ、第４のコック１３８により接続さ
れた共通酸素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１３
１の外部へ排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂから排出された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３
の三方コック１３７により接続された第２の酸素排出流
路１３４ｂ、第４のコック１３８により接続された共通
酸素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１３１の外部
へ排出される。
部１１２ａから排出された酸素は第１の共通流路１１７
ａ、第２の三方コック１３６により接続された第１の酸
素排出流路１３４ａ、第４のコック１３８により接続さ
れた共通酸素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１３
１の外部へ排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２
ｂから排出された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３
の三方コック１３７により接続された第２の酸素排出流
路１３４ｂ、第４のコック１３８により接続された共通
酸素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１３１の外部
へ排出される。
【０１０２】また、放電プラズマ処理部を２つ備えてい
る放電プラズマ装置を、実施の形態６に示すように、酸
素製造装置で製造された酸素をオゾナイザーの酸素原料
とするように構成（図１８参照）しても同様の効果が得
られる。図１８において、１４１はガス処理装置、１４
２は酸素製造装置、１４３は酸素製造装置１４２から排
出された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５に導
入するための酸素原料流路、１４４は空気を酸素製造装
置１４２に導入するための空気流路、１４５はガス処理
装置１４１の外部から空気を吸引するために空気流路１
４４の途中に設けられた第６のポンプである。
る放電プラズマ装置を、実施の形態６に示すように、酸
素製造装置で製造された酸素をオゾナイザーの酸素原料
とするように構成（図１８参照）しても同様の効果が得
られる。図１８において、１４１はガス処理装置、１４
２は酸素製造装置、１４３は酸素製造装置１４２から排
出された酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５に導
入するための酸素原料流路、１４４は空気を酸素製造装
置１４２に導入するための空気流路、１４５はガス処理
装置１４１の外部から空気を吸引するために空気流路１
４４の途中に設けられた第６のポンプである。
【０１０３】この場合、酸素製造装置１４２で製造され
た酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５により製造
されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処理ガス
流路１１３に導入する。
た酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５により製造
されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処理ガス
流路１１３に導入する。
【０１０４】また、この場合、図１７に示すガス処理装
置１３１と同様に、第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
から排出された酸素は第１の共通流路１１７ａ、第２の
三方コック１３６により接続された第１の酸素排出流路
１３４ａ、第４のコック１３８により接続された共通酸
素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１４１の外部へ
排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂから排出
された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３の三方コッ
ク１３７により接続された第２の酸素排出流路１３４
ｂ、第４のコック１３８により接続された共通酸素排出
流路１３４を流れ、ガス処理装置１４１の外部へ排出さ
れる。
置１３１と同様に、第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
から排出された酸素は第１の共通流路１１７ａ、第２の
三方コック１３６により接続された第１の酸素排出流路
１３４ａ、第４のコック１３８により接続された共通酸
素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１４１の外部へ
排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂから排出
された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３の三方コッ
ク１３７により接続された第２の酸素排出流路１３４
ｂ、第４のコック１３８により接続された共通酸素排出
流路１３４を流れ、ガス処理装置１４１の外部へ排出さ
れる。
【０１０５】また、放電プラズマ処理部を２つ備えてい
る放電プラズマ装置を、実施の形態６に示すように、酸
素製造装置から排出された窒素ガスを放電プラズマ処理
部に導入するように構成（図１９参照）しても同様の効
果が得られる。図１９において、１５１はガス処理装
置、１５２は酸素製造時に窒素を排出する酸素製造装置
（還元性ガス製造装置、還元性ガス製造装置兼用酸素製
造装置）、１５３は酸素製造装置１５２から排出された
窒素を第１，第２の放電プラズマ処理部１１２ａ，１１
２ｂに導入するための共通窒素流路、１５３ａは酸素製
造装置１５２から排出された窒素を第１の放電プラズマ
処理部１１２ａに導入するための第１の窒素流路、１５
３ｂは酸素製造装置１５２から排出された窒素を第２の
放電プラズマ処理部１１２ｂに導入するための第２の窒
素流路、１５４は共通窒素流路１５３をを第１の窒素流
路１５３ａあるいは第２の酸素排出流路１５３ｂに接続
するための第５の三方コックである。
る放電プラズマ装置を、実施の形態６に示すように、酸
素製造装置から排出された窒素ガスを放電プラズマ処理
部に導入するように構成（図１９参照）しても同様の効
果が得られる。図１９において、１５１はガス処理装
置、１５２は酸素製造時に窒素を排出する酸素製造装置
（還元性ガス製造装置、還元性ガス製造装置兼用酸素製
造装置）、１５３は酸素製造装置１５２から排出された
窒素を第１，第２の放電プラズマ処理部１１２ａ，１１
２ｂに導入するための共通窒素流路、１５３ａは酸素製
造装置１５２から排出された窒素を第１の放電プラズマ
処理部１１２ａに導入するための第１の窒素流路、１５
３ｂは酸素製造装置１５２から排出された窒素を第２の
放電プラズマ処理部１１２ｂに導入するための第２の窒
素流路、１５４は共通窒素流路１５３をを第１の窒素流
路１５３ａあるいは第２の酸素排出流路１５３ｂに接続
するための第５の三方コックである。
【０１０６】この場合、酸素製造装置１５２で製造され
た酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５により製造
されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処理ガス
流路１１３に導入し、かつ第１の放電プラズマ処理部１
１２ａの放電プラズマ処理時には酸素製造装置１５２か
ら排出された窒素を共通窒素流路１５３、第５の三方コ
ック１５４により接続された第１の窒素流路１５３ａを
通して第１の放電プラズマ処理部１１２ａに導入し、第
２の放電プラズマ処理部１１２ｂの放電プラズマ処理時
には酸素製造装置１５２から排出された窒素を共通窒素
流路１５３、第５の三方コック１５４により接続された
第２の窒素流路１５３ｂを通して第１の放電プラズマ処
理部１１２ａに導入する。
た酸素を酸素原料としてオゾナイザー１１５により製造
されたオゾンをオゾン流路１１６を通して共通処理ガス
流路１１３に導入し、かつ第１の放電プラズマ処理部１
１２ａの放電プラズマ処理時には酸素製造装置１５２か
ら排出された窒素を共通窒素流路１５３、第５の三方コ
ック１５４により接続された第１の窒素流路１５３ａを
通して第１の放電プラズマ処理部１１２ａに導入し、第
２の放電プラズマ処理部１１２ｂの放電プラズマ処理時
には酸素製造装置１５２から排出された窒素を共通窒素
流路１５３、第５の三方コック１５４により接続された
第２の窒素流路１５３ｂを通して第１の放電プラズマ処
理部１１２ａに導入する。
【０１０７】また、この場合、図１７に示すガス処理装
置１３１と同様に、第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
から排出された酸素は第１の共通流路１１７ａ、第２の
三方コック１３６により接続された第１の酸素排出流路
１３４ａ、第４のコック１３８により接続された共通酸
素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１５１の外部へ
排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂから排出
された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３の三方コッ
ク１３７により接続された第２の酸素排出流路１３４
ｂ、第４のコック１３８により接続された共通酸素排出
流路１３４を流れ、ガス処理装置１５１の外部へ排出さ
れる。
置１３１と同様に、第１の放電プラズマ処理部１１２ａ
から排出された酸素は第１の共通流路１１７ａ、第２の
三方コック１３６により接続された第１の酸素排出流路
１３４ａ、第４のコック１３８により接続された共通酸
素排出流路１３４を流れ、ガス処理装置１５１の外部へ
排出され、第２の放電プラズマ処理部１１２ｂから排出
された酸素は第２の共通流路１１７ｂ、第３の三方コッ
ク１３７により接続された第２の酸素排出流路１３４
ｂ、第４のコック１３８により接続された共通酸素排出
流路１３４を流れ、ガス処理装置１５１の外部へ排出さ
れる。
【０１０８】実施の形態９．図２０はこの発明の実施の
形態９によるガス処理装置を示す構成図である。図２０
において、１６１はガス処理装置、１６２は放電プラズ
マ処理部、１６３はガス処理装置１６１の外部から収集
された処理ガスが貯えられている処理ガスタンク（処理
ガス貯蔵部）、１６４はキャリアガスタンク（キャリア
ガス貯蔵部）、１６５は処理ガスを各成分に分離するた
めの吸着塔（成分分離部）、１６６はキャリアガスを処
理ガスタンク１６４に導入するためのキャリアガス流
路、１６７はキャリアガスと処理ガスとの混合ガスを吸
着塔１６５に導入するための混合ガス流路、１６８はキ
ャリアガス及び各成分に分離された処理ガスを放電プラ
ズマ処理部１６２に導入するための分離処理ガス流路、
１６９は放電プラズマ処理部１６２から排出されたガス
をガス処理装置１６１の外部に排出するための排出流
路、１７０は排出流路１６９を流れている、処理ガスに
含まれる各成分の濃度を検出するセンサである。センサ
１７０として、赤外線吸光光度計や紫外線吸光光度計が
ある。
形態９によるガス処理装置を示す構成図である。図２０
において、１６１はガス処理装置、１６２は放電プラズ
マ処理部、１６３はガス処理装置１６１の外部から収集
された処理ガスが貯えられている処理ガスタンク（処理
ガス貯蔵部）、１６４はキャリアガスタンク（キャリア
ガス貯蔵部）、１６５は処理ガスを各成分に分離するた
めの吸着塔（成分分離部）、１６６はキャリアガスを処
理ガスタンク１６４に導入するためのキャリアガス流
路、１６７はキャリアガスと処理ガスとの混合ガスを吸
着塔１６５に導入するための混合ガス流路、１６８はキ
ャリアガス及び各成分に分離された処理ガスを放電プラ
ズマ処理部１６２に導入するための分離処理ガス流路、
１６９は放電プラズマ処理部１６２から排出されたガス
をガス処理装置１６１の外部に排出するための排出流
路、１７０は排出流路１６９を流れている、処理ガスに
含まれる各成分の濃度を検出するセンサである。センサ
１７０として、赤外線吸光光度計や紫外線吸光光度計が
ある。
【０１０９】なお、この実施の形態９によるガス処理装
置における放電プラズマ処理部は、図２に示す放電プラ
ズマ処理部から吸着剤３９を取り除いたものである。
置における放電プラズマ処理部は、図２に示す放電プラ
ズマ処理部から吸着剤３９を取り除いたものである。
【０１１０】次に動作について説明する。ここでは、処
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
理ガスとして、空気ベースの処理ガスを用いる場合につ
いて説明する。
【０１１１】実施の形態９によるガス処理装置１６１を
用いて、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する
場合、先ず、キャリアガス流路１６６を通して処理ガス
タンク１６３にキャリアガスを導入する。処理ガスタン
ク１６３にキャリアガスを導入すると、処理ガスがキャ
リアガスにより押し出され、処理ガスとキャリアガスと
の混合ガスが混合ガス流路１６７を通して吸着塔１６５
に導入され、処理ガスが吸着塔１６５で各成分に分離さ
れる。吸着塔１６５で分離された各成分は、キャリアガ
スとともに吸着塔１６５から順に出て行き、放電プラズ
マ処理部１６２に導入される。
用いて、処理ガスに含まれている窒素酸化物を処理する
場合、先ず、キャリアガス流路１６６を通して処理ガス
タンク１６３にキャリアガスを導入する。処理ガスタン
ク１６３にキャリアガスを導入すると、処理ガスがキャ
リアガスにより押し出され、処理ガスとキャリアガスと
の混合ガスが混合ガス流路１６７を通して吸着塔１６５
に導入され、処理ガスが吸着塔１６５で各成分に分離さ
れる。吸着塔１６５で分離された各成分は、キャリアガ
スとともに吸着塔１６５から順に出て行き、放電プラズ
マ処理部１６２に導入される。
【０１１２】その後、吸着塔１６５で分離されたものの
うち、窒素酸化物を、放電プラズマ処理する。例えば、
２番目と４番目に吸着塔１６５を出て行く成分が、窒素
酸化物であることが、経験的に知られている場合、この
放電プラズマ処理は、処理ガスに含まれている成分のう
ち２番目と４番目に吸着塔１６５から出て行く成分がセ
ンサ１７０により検出されている間、すなわち窒素酸化
物がセンサ１７０により検出さている間、行われる。
うち、窒素酸化物を、放電プラズマ処理する。例えば、
２番目と４番目に吸着塔１６５を出て行く成分が、窒素
酸化物であることが、経験的に知られている場合、この
放電プラズマ処理は、処理ガスに含まれている成分のう
ち２番目と４番目に吸着塔１６５から出て行く成分がセ
ンサ１７０により検出されている間、すなわち窒素酸化
物がセンサ１７０により検出さている間、行われる。
【０１１３】図２１（Ａ）は横軸に時間ｔを取り、縦軸
にセンサ１７０により検出された、処理ガスに含まれて
いる成分の濃度Ｃを取って示し、図２１（Ｂ）は処理ガ
スに含まれている成分の検出の有無を示し、図２１
（Ｃ）は処理ガスに含まれている窒素酸化物の検出の有
無を示している。２番目と４番目に吸着塔１６５から出
て行く成分が、窒素酸化物であることが、経験的に知ら
れている場合、図２１（Ｃ）に示すように、放電プラズ
処理は、処理ガスに含まれている成分のうち、２番目と
４番目に吸着塔１６５から出て行く成分が、放電プラズ
マ処理部１６２に導入されている間であるｔ１とｔ２の
間及びｔ３とｔ４の間、行われる。
にセンサ１７０により検出された、処理ガスに含まれて
いる成分の濃度Ｃを取って示し、図２１（Ｂ）は処理ガ
スに含まれている成分の検出の有無を示し、図２１
（Ｃ）は処理ガスに含まれている窒素酸化物の検出の有
無を示している。２番目と４番目に吸着塔１６５から出
て行く成分が、窒素酸化物であることが、経験的に知ら
れている場合、図２１（Ｃ）に示すように、放電プラズ
処理は、処理ガスに含まれている成分のうち、２番目と
４番目に吸着塔１６５から出て行く成分が、放電プラズ
マ処理部１６２に導入されている間であるｔ１とｔ２の
間及びｔ３とｔ４の間、行われる。
【０１１４】以上のように、この実施の形態９によれ
ば、放電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだ
ガスである処理ガスが貯えられている処理ガスタンク１
６３と、処理ガスを各成分に分離する分離塔１６５と、
処理ガスタンク１６３に貯えられている処理ガスを分離
塔１６５に押し出すキャリアガスが貯えられているキャ
リアガスタンク１６４と、分離塔１６５で分離されたも
ののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処理する放電プラ
ズマ処理部１６２とを備えているので、窒素酸化物と酸
素とが分離され、酸素を含んだ処理ガスに含まれる窒素
酸化物の処理にも有効である効果が得られる。また、分
離塔１６５で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電
プラズマ処理し、放電プラズマ処理が間欠的となり、電
力を節約することができる効果が得られる。
ば、放電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだ
ガスである処理ガスが貯えられている処理ガスタンク１
６３と、処理ガスを各成分に分離する分離塔１６５と、
処理ガスタンク１６３に貯えられている処理ガスを分離
塔１６５に押し出すキャリアガスが貯えられているキャ
リアガスタンク１６４と、分離塔１６５で分離されたも
ののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処理する放電プラ
ズマ処理部１６２とを備えているので、窒素酸化物と酸
素とが分離され、酸素を含んだ処理ガスに含まれる窒素
酸化物の処理にも有効である効果が得られる。また、分
離塔１６５で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電
プラズマ処理し、放電プラズマ処理が間欠的となり、電
力を節約することができる効果が得られる。
【０１１５】また、実施の形態９によれば、分離塔１６
５で分離された窒素酸化物の放電プラズマ処理を、セン
サ１７０が分離塔１６５で分離された窒素酸化物を検出
している間、行うので、窒素酸化物の放電プラズマ処理
を効率的に行うことができる効果が得られる。
５で分離された窒素酸化物の放電プラズマ処理を、セン
サ１７０が分離塔１６５で分離された窒素酸化物を検出
している間、行うので、窒素酸化物の放電プラズマ処理
を効率的に行うことができる効果が得られる。
【０１１６】また、この実施の形態９によれば、放電プ
ラズマ処理部を、平面状の高電圧電極と、高電圧電極か
ら所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、
該高電圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高
電圧電極と接地電極とで挟まれた放電空間とを有するも
のとしているので、接地電極と高電圧電極との間の電界
強度が高くなり、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果が得られる。
ラズマ処理部を、平面状の高電圧電極と、高電圧電極か
ら所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、
該高電圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高
電圧電極と接地電極とで挟まれた放電空間とを有するも
のとしているので、接地電極と高電圧電極との間の電界
強度が高くなり、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果が得られる。
【０１１７】実施の形態１０．図２２はこの発明の実施
の形態１０によるガス処理装置における放電電極の構成
を示す分解斜視図である。また、図２３はこの発明の実
施の形態１０によるガス処理装置における放電電極の構
成を示す断面図である。図２２及び図２３において、１
８１は放電電極、１８２は外周直径７ｃｍ以上，内周直
径３ｃｍ程度の環形平板状のセラミック板（誘電体）、
１８３はセラミック板１８２の接地電極と反対側表面に
金を蒸着することにより形成された外周直径７ｃｍ程
度，内周直径３ｃｍ程度の環形薄膜状の高電圧電極、１
８４は高電圧電極１８３から所定の間隔を隔てて配置さ
れた外周直径７ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の円筒状
の接地電極、１８５は接地電極１８４を高電圧電極１８
３から所定の間隔を隔てて配置するために接地電極１８
４の上面に所定の間隔をおいて配置された厚さ１ｍｍの
スペーサ、１８６は円柱とその頂部に設けられた環形平
板とから構成される、接地電極１８４と一体的に形成さ
れた支柱、１８７は高電圧電極１８３と接地電極１８４
とで挟まれた放電空間である。
の形態１０によるガス処理装置における放電電極の構成
を示す分解斜視図である。また、図２３はこの発明の実
施の形態１０によるガス処理装置における放電電極の構
成を示す断面図である。図２２及び図２３において、１
８１は放電電極、１８２は外周直径７ｃｍ以上，内周直
径３ｃｍ程度の環形平板状のセラミック板（誘電体）、
１８３はセラミック板１８２の接地電極と反対側表面に
金を蒸着することにより形成された外周直径７ｃｍ程
度，内周直径３ｃｍ程度の環形薄膜状の高電圧電極、１
８４は高電圧電極１８３から所定の間隔を隔てて配置さ
れた外周直径７ｃｍ程度，内周直径３ｃｍ程度の円筒状
の接地電極、１８５は接地電極１８４を高電圧電極１８
３から所定の間隔を隔てて配置するために接地電極１８
４の上面に所定の間隔をおいて配置された厚さ１ｍｍの
スペーサ、１８６は円柱とその頂部に設けられた環形平
板とから構成される、接地電極１８４と一体的に形成さ
れた支柱、１８７は高電圧電極１８３と接地電極１８４
とで挟まれた放電空間である。
【０１１８】このような実施の形態１０によるガス処理
装置における放電プラズマ処理部の放電面積は、実施の
形態９によるガス処理装置における放電ガス処理部の放
電面積の１／１０である。
装置における放電プラズマ処理部の放電面積は、実施の
形態９によるガス処理装置における放電ガス処理部の放
電面積の１／１０である。
【０１１９】単位ガス量当たりに入力されるトータル放
電電力を一定にして、窒素酸化物の濃度が２００ｐｐｍ
である窒素ベースの参照ガスを、実施の形態１０による
ガス処理装置における放電プラズマ処理部及び実施の形
態９によるガス処理装置における放電ガス処理部に、一
定の流量で流して、放電プラズマ処理を行った。
電電力を一定にして、窒素酸化物の濃度が２００ｐｐｍ
である窒素ベースの参照ガスを、実施の形態１０による
ガス処理装置における放電プラズマ処理部及び実施の形
態９によるガス処理装置における放電ガス処理部に、一
定の流量で流して、放電プラズマ処理を行った。
【０１２０】実施の形態１０によるガス処理装置におけ
る放電プラズマ処理部での放電プラズマ処理では、参照
ガスの放電空間の通過時間（放電空間滞在時間）、すな
わち参照ガスが放電を受ける時間が１ミリ秒となり、生
成したＮ2 Ｏの濃度は、２２ｐｐｍとなった。
る放電プラズマ処理部での放電プラズマ処理では、参照
ガスの放電空間の通過時間（放電空間滞在時間）、すな
わち参照ガスが放電を受ける時間が１ミリ秒となり、生
成したＮ2 Ｏの濃度は、２２ｐｐｍとなった。
【０１２１】また、実施の形態１０によるガス処理装置
における放電プラズマ処理部での放電プラズマ処理で
は、参照ガスの放電空間の通過時間（放電空間滞在時
間）、すなわち参照ガスが放電を受ける時間がが１０ミ
リ秒となり、生成したＮ2 Ｏの濃度は、３３ｐｐｍとな
った。
における放電プラズマ処理部での放電プラズマ処理で
は、参照ガスの放電空間の通過時間（放電空間滞在時
間）、すなわち参照ガスが放電を受ける時間がが１０ミ
リ秒となり、生成したＮ2 Ｏの濃度は、３３ｐｐｍとな
った。
【０１２２】このように、放電空間滞在時間が長くなる
と、生成したＮ2 Ｏの濃度が高くなるのは、放電空間滞
在時間が長くなると、コロナ放電により窒素分子が解離
した後、窒素原子が余分な放電エネルギーを受けて、Ｎ
2 Ｏの生成に寄与するためと考えられる。
と、生成したＮ2 Ｏの濃度が高くなるのは、放電空間滞
在時間が長くなると、コロナ放電により窒素分子が解離
した後、窒素原子が余分な放電エネルギーを受けて、Ｎ
2 Ｏの生成に寄与するためと考えられる。
【０１２３】以上のように、この実施の形態１０によれ
ば、放電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだ
ガスである処理ガスの放電空間の通過時間を１ミリ秒以
下とすると、Ｎ2 Ｏの生成を低く押さえることができる
効果が得られる。
ば、放電プラズマ処理対象としての窒素酸化物を含んだ
ガスである処理ガスの放電空間の通過時間を１ミリ秒以
下とすると、Ｎ2 Ｏの生成を低く押さえることができる
効果が得られる。
【０１２４】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、ガス
処理装置が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所
定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電
圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電
極と接地電極とで挟まれた放電空間と、放電空間に配置
された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤と
を有する放電プラズマ処理部を備えるように構成したの
で、処理ガスに含まれている窒素酸化物が吸着剤に吸着
されることにより、窒素酸化物と酸素とが分離され、酸
素を含んだ処理ガスに含まれる窒素酸化物の処理にも有
効である効果がある。また、吸着剤が窒素酸化物で飽和
した時点で窒素酸化物を放電プラズマ処理し、放電プラ
ズマ処理が間欠的となり、電力を節約することができる
効果がある。
処理装置が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所
定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電
圧電極と接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電
極と接地電極とで挟まれた放電空間と、放電空間に配置
された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着しない吸着剤と
を有する放電プラズマ処理部を備えるように構成したの
で、処理ガスに含まれている窒素酸化物が吸着剤に吸着
されることにより、窒素酸化物と酸素とが分離され、酸
素を含んだ処理ガスに含まれる窒素酸化物の処理にも有
効である効果がある。また、吸着剤が窒素酸化物で飽和
した時点で窒素酸化物を放電プラズマ処理し、放電プラ
ズマ処理が間欠的となり、電力を節約することができる
効果がある。
【０１２５】この発明によれば、高電圧電極と接地電極
との間隔が１ｍｍ以下であるように構成したので、接地
電極と高電圧電極との間の電界強度が高くなり、放電プ
ラズマ処理時における窒素原子生成量が増加し、窒素酸
化物が窒素分子と酸素分子とになる量が増加する効果が
ある。また、高電圧電極に印加する交流電圧がゼロ−ピ
ーク値で６ｋＶ程度となり、電力を節約することができ
る効果がある。
との間隔が１ｍｍ以下であるように構成したので、接地
電極と高電圧電極との間の電界強度が高くなり、放電プ
ラズマ処理時における窒素原子生成量が増加し、窒素酸
化物が窒素分子と酸素分子とになる量が増加する効果が
ある。また、高電圧電極に印加する交流電圧がゼロ−ピ
ーク値で６ｋＶ程度となり、電力を節約することができ
る効果がある。
【０１２６】この発明によれば、誘電体が、高電圧電極
の接地電極側表面に膜状に形成されるように構成したの
で、誘電体による電圧降下が小さくなり、放電空間の電
界強度が高くなる効果がある
の接地電極側表面に膜状に形成されるように構成したの
で、誘電体による電圧降下が小さくなり、放電空間の電
界強度が高くなる効果がある
【０１２７】この発明によれば、放電プラズマ処理部
が、高電圧電極あるいは接地電極と垂直方向に放電空間
を複数備えるように構成したので、放電プラズマ処理時
における放電プラズマ処理量が増加する効果がある。
が、高電圧電極あるいは接地電極と垂直方向に放電空間
を複数備えるように構成したので、放電プラズマ処理時
における放電プラズマ処理量が増加する効果がある。
【０１２８】この発明によれば、放電プラズマ処理対象
としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスを放電
プラズマ処理部に導入するための処理ガス流路にオゾン
を供給するオゾン製造装置を備えるように構成したの
で、処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含まれて
いる場合に、一酸化窒素を吸着剤に吸着されやすい窒素
酸化物である二酸化窒素に酸化し、放電プラズマ処理量
が増加する効果がある。
としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスを放電
プラズマ処理部に導入するための処理ガス流路にオゾン
を供給するオゾン製造装置を備えるように構成したの
で、処理ガスに窒素酸化物である一酸化窒素が含まれて
いる場合に、一酸化窒素を吸着剤に吸着されやすい窒素
酸化物である二酸化窒素に酸化し、放電プラズマ処理量
が増加する効果がある。
【０１２９】この発明によれば、オゾン製造装置が、吸
着剤への窒素酸化物の吸着時に該吸着剤に吸着されなか
った、処理ガスに含まれる酸素を酸素原料とするように
構成したので、処理ガスに含まれている酸素を有効利用
することができる効果がある。
着剤への窒素酸化物の吸着時に該吸着剤に吸着されなか
った、処理ガスに含まれる酸素を酸素原料とするように
構成したので、処理ガスに含まれている酸素を有効利用
することができる効果がある。
【０１３０】この発明によれば、放電プラズマ処理部に
還元性ガスを供給する還元性ガス製造装置を備えるよう
に構成したので、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果がある。
還元性ガスを供給する還元性ガス製造装置を備えるよう
に構成したので、放電プラズマ処理時における窒素原子
生成量が増加し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とに
なる量が増加する効果がある。
【０１３１】この発明によれば、オゾン製造装置に酸素
を供給しかつ放電プラズマ処理部に酸素製造時に排出さ
れる窒素を供給する窒素製造装置兼用酸素製造装置を備
えるように構成したので、窒素を放電プラズマ処理部に
供給する設備を簡略化することができる効果がある。
を供給しかつ放電プラズマ処理部に酸素製造時に排出さ
れる窒素を供給する窒素製造装置兼用酸素製造装置を備
えるように構成したので、窒素を放電プラズマ処理部に
供給する設備を簡略化することができる効果がある。
【０１３２】この発明によれば、第１の放電プラズマ処
理部と第２の放電プラズマ処理部とを備え、第１の放電
プラズマ処理部における放電プラズマ処理時に第２の放
電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸着させ、第
２の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処理時に
第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸着
させるように構成したので、処理ガスに含まれている窒
素酸化物を連続的に処理できる効果がある。
理部と第２の放電プラズマ処理部とを備え、第１の放電
プラズマ処理部における放電プラズマ処理時に第２の放
電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸着させ、第
２の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処理時に
第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸着
させるように構成したので、処理ガスに含まれている窒
素酸化物を連続的に処理できる効果がある。
【０１３３】この発明によれば、第１の放電プラズマ処
理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第
１の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化
物がすべて処理された時点である処理終了時点を検出す
る第１のセンサと、第２の放電プラズマ処理部の吸着剤
が飽和した時点である飽和時点あるいは第２の放電プラ
ズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物がすべて処
理された時点である処理終了時点を検出する第２のセン
サとを備え、第１の放電プラズマ処理部における放電プ
ラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部における放電
プラズマ処理への切替を、第１のセンサが処理終了時点
を検出したときあるいは第２のセンサが飽和時点を検出
したときに行い、第２の放電プラズマ処理部における放
電プラズマ処理から第１の放電プラズマ処理部における
放電プラズマ処理への切替を、第２のセンサが処理終了
時点を検出したときあるいは第１のセンサが飽和時点を
検出したときに行うように構成したので、第１の放電プ
ラズマ処理部における放電プラズマ処理から第２の放電
プラズマ処理部における放電プラズマ処理への切替ある
いは第２の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処
理から第１の放電プラズマ処理部における放電プラズマ
処理への切替を効率的に行うことができる効果がある。
理部の吸着剤が飽和した時点である飽和時点あるいは第
１の放電プラズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化
物がすべて処理された時点である処理終了時点を検出す
る第１のセンサと、第２の放電プラズマ処理部の吸着剤
が飽和した時点である飽和時点あるいは第２の放電プラ
ズマ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物がすべて処
理された時点である処理終了時点を検出する第２のセン
サとを備え、第１の放電プラズマ処理部における放電プ
ラズマ処理から第２の放電プラズマ処理部における放電
プラズマ処理への切替を、第１のセンサが処理終了時点
を検出したときあるいは第２のセンサが飽和時点を検出
したときに行い、第２の放電プラズマ処理部における放
電プラズマ処理から第１の放電プラズマ処理部における
放電プラズマ処理への切替を、第２のセンサが処理終了
時点を検出したときあるいは第１のセンサが飽和時点を
検出したときに行うように構成したので、第１の放電プ
ラズマ処理部における放電プラズマ処理から第２の放電
プラズマ処理部における放電プラズマ処理への切替ある
いは第２の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処
理から第１の放電プラズマ処理部における放電プラズマ
処理への切替を効率的に行うことができる効果がある。
【０１３４】この発明によれば、放電プラズマ処理対象
としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスが貯え
られている処理ガス貯蔵部と、処理ガスを各成分に分離
する成分分離部と、処理ガス貯蔵部に貯えられている処
理ガスを成分分離部に押し出すキャリアガスが貯えられ
ているキャリアガス貯蔵部と、成分分離部で分離された
もののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処理する放電プ
ラズマ処理部とを備えるように構成したので、窒素酸化
物と酸素とが分離され、酸素を含んだ処理ガスに含まれ
る窒素酸化物の処理にも有効である効果がある。また、
成分分離部で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電
プラズマ処理し、放電プラズマ処理が間欠的となり、電
力を節約することができる効果がある。
としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスが貯え
られている処理ガス貯蔵部と、処理ガスを各成分に分離
する成分分離部と、処理ガス貯蔵部に貯えられている処
理ガスを成分分離部に押し出すキャリアガスが貯えられ
ているキャリアガス貯蔵部と、成分分離部で分離された
もののうち、窒素酸化物を放電プラズマ処理する放電プ
ラズマ処理部とを備えるように構成したので、窒素酸化
物と酸素とが分離され、酸素を含んだ処理ガスに含まれ
る窒素酸化物の処理にも有効である効果がある。また、
成分分離部で分離されたもののうち、窒素酸化物を放電
プラズマ処理し、放電プラズマ処理が間欠的となり、電
力を節約することができる効果がある。
【０１３５】この発明によれば、放電プラズマ処理部か
ら排出された窒素酸化物を検出するセンサを備え、窒素
酸化物の放電プラズマ処理を、センサが窒素酸化物を検
出している間、行うように構成したので、窒素酸化物の
放電プラズマ処理を効率的に行うことができる効果があ
る。
ら排出された窒素酸化物を検出するセンサを備え、窒素
酸化物の放電プラズマ処理を、センサが窒素酸化物を検
出している間、行うように構成したので、窒素酸化物の
放電プラズマ処理を効率的に行うことができる効果があ
る。
【０１３６】この発明によれば、放電プラズマ処理部
が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所定の間隔
を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電圧電極と
接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電極と接地
電極とで挟まれた放電空間とを有するように構成したの
で、接地電極と高電圧電極との間の電界強度を高くな
り、放電プラズマ処理時における窒素原子生成量が増加
し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とになる量が増加
する効果がある。
が、平面状の高電圧電極と、高電圧電極から所定の間隔
を隔てて配置された平面状の接地電極と、高電圧電極と
接地電極との間に位置する誘電体と、高電圧電極と接地
電極とで挟まれた放電空間とを有するように構成したの
で、接地電極と高電圧電極との間の電界強度を高くな
り、放電プラズマ処理時における窒素原子生成量が増加
し、窒素酸化物が窒素分子と酸素分子とになる量が増加
する効果がある。
【０１３７】この発明によれば、平面状の高電圧電極
と、高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置された平面
状の接地電極と、高電圧電極と接地電極との間に位置す
る誘電体と、高電圧電極と接地電極とで挟まれた放電空
間とを有する放電プラズマ処理部を備え、放電プラズマ
処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガ
スの放電空間の通過時間が１ミリ秒以下であるように構
成したので、Ｎ2 Ｏの生成を低く押さえることができる
効果がある。
と、高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置された平面
状の接地電極と、高電圧電極と接地電極との間に位置す
る誘電体と、高電圧電極と接地電極とで挟まれた放電空
間とを有する放電プラズマ処理部を備え、放電プラズマ
処理対象としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガ
スの放電空間の通過時間が１ミリ秒以下であるように構
成したので、Ｎ2 Ｏの生成を低く押さえることができる
効果がある。
【図１】 この発明の実施の形態１によるガス処理装置
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図２】 この発明の実施の形態１によるガス処理装置
における放電プラズマ処理部を示す構成図である。
における放電プラズマ処理部を示す構成図である。
【図３】 この発明の実施の形態１によるガス処理装置
における放電電極の構成を示す分解斜視図である。
における放電電極の構成を示す分解斜視図である。
【図４】 放電電極を構成する接地電極上に吸着剤が配
置された状態を示す斜視図である。
置された状態を示す斜視図である。
【図５】 換算電界強度と窒素原子生成量との関係を示
す特性図である。
す特性図である。
【図６】 ガス密度と電極間距離との積と、放電電圧と
の関係を示す特性図である。
の関係を示す特性図である。
【図７】 この発明の実施の形態２によるガス処理装置
を構成する放電プラズマ処理部における放電電極の構成
を示す分解斜視図である。
を構成する放電プラズマ処理部における放電電極の構成
を示す分解斜視図である。
【図８】 放電電極を構成する高電圧電極の接地電極側
表面に誘電体膜がコーティングされている状態を示す断
面図である。
表面に誘電体膜がコーティングされている状態を示す断
面図である。
【図９】 この発明の実施の形態３によるガス処理装置
における放電プラズマ処理部を示す構成図である。
における放電プラズマ処理部を示す構成図である。
【図１０】 放電電極を構成する高電圧電極の両面に誘
電体膜がコーティングされている状態を示す斜視図であ
る。
電体膜がコーティングされている状態を示す斜視図であ
る。
【図１１】 この発明の実施の形態４によるガス処理装
置を構成する放電プラズマ処理部を示す構成図である。
置を構成する放電プラズマ処理部を示す構成図である。
【図１２】 この発明の実施の形態５によるガス処理装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図１３】 この発明の実施の形態６によるガス処理装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図１４】 この発明の実施の形態７によるガス処理装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図１５】 この発明の実施の形態８によるガス処理装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図１６】 窒素酸化物濃度の時間変化を示す特性図で
ある。
ある。
【図１７】 この発明の実施の形態８によるガス処理装
置の変形例１を示す構成図である。
置の変形例１を示す構成図である。
【図１８】 この発明の実施の形態８によるガス処理装
置の変形例２を示す構成図である。
置の変形例２を示す構成図である。
【図１９】 この発明の実施の形態８によるガス処理装
置の変形例３を示す構成図である。
置の変形例３を示す構成図である。
【図２０】 この発明の実施の形態９によるガス処理装
置を示す構成図である。
置を示す構成図である。
【図２１】 （Ａ）は横軸に時間ｔを取り、縦軸にセン
サにより検出された、処理ガスに含まれている成分の濃
度Ｃを取って示す特性図であり、（Ｂ）は処理ガスに含
まれている成分の検出の有無を示す特性図であり、
（Ｃ）は処理ガスに含まれている窒素酸化物の検出の有
無を示す特性図である。
サにより検出された、処理ガスに含まれている成分の濃
度Ｃを取って示す特性図であり、（Ｂ）は処理ガスに含
まれている成分の検出の有無を示す特性図であり、
（Ｃ）は処理ガスに含まれている窒素酸化物の検出の有
無を示す特性図である。
【図２２】 この発明の実施の形態１０によるガス処理
装置における放電電極の構成を示す分解斜視図である。
装置における放電電極の構成を示す分解斜視図である。
【図２３】 この発明の実施の形態１０によるガス処理
装置における放電電極の構成を示す断面図である。
装置における放電電極の構成を示す断面図である。
【図２４】 従来のガス処理装置における放電電極の構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
１，８１，９１，１０１，１１１，１３１，１４１，１
５１，１６１ ガス処理装置、２，５１，６１，１６２
放電プラズマ処理部、３ 処理ガス流路、５，１１５
オゾナイザー（オゾン製造装置）、３１，１８２ セ
ラミック板（誘電体）、３２，４２，５３，１８３ 高
電圧電極、３３，６４，１８４ 接地電極、３８，１８
７ 放電空間、３９ 吸着剤、４３ 誘電体膜（誘電
体）、５４ａ 第１の誘電体膜（誘電体）、５４ｂ 第
２の誘電体膜（誘電体）、５５ａ第１の接地電極（接地
電極）、５５ｂ 第２の接地電極（接地電極）、５８
ａ，７０ａ 第１の放電空間（放電空間）、５８ｂ，７
０ｂ 第２の放電空間（放電空間）、５９ａ，７１ａ
第１の吸着剤（吸着剤）、５９ｂ，７１ｂ 第２の吸着
剤（吸着剤）、６６ａ 第１のセラミック板（誘電
体）、６６ｂ 第２のセラミック板（誘電体）、６７ａ
第１の高電圧電極（高電圧電極）、６７ｂ 第２の高
電圧電極（高電圧電極）、１０２，１５２ 酸素製造装
置（窒素製造装置、窒素製造装置兼用酸素製造装置）、
１１２ａ 第１の放電プラズマ処理部、１１２ｂ 第２
の放電プラズマ処理部、１１３ 共通処理ガス流路（処
理ガス流路）、１２２ 第１の三方コック（切替手
段）、１２６ａ 第１のセンサ、１２６ｂ第２のセン
サ、１６３ 処理ガスタンク（処理ガス貯蔵部）、１６
４ キャリアガスタンク（キャリアガス貯蔵部）、１６
５ 吸着塔（成分分離部）、１７０センサ。
５１，１６１ ガス処理装置、２，５１，６１，１６２
放電プラズマ処理部、３ 処理ガス流路、５，１１５
オゾナイザー（オゾン製造装置）、３１，１８２ セ
ラミック板（誘電体）、３２，４２，５３，１８３ 高
電圧電極、３３，６４，１８４ 接地電極、３８，１８
７ 放電空間、３９ 吸着剤、４３ 誘電体膜（誘電
体）、５４ａ 第１の誘電体膜（誘電体）、５４ｂ 第
２の誘電体膜（誘電体）、５５ａ第１の接地電極（接地
電極）、５５ｂ 第２の接地電極（接地電極）、５８
ａ，７０ａ 第１の放電空間（放電空間）、５８ｂ，７
０ｂ 第２の放電空間（放電空間）、５９ａ，７１ａ
第１の吸着剤（吸着剤）、５９ｂ，７１ｂ 第２の吸着
剤（吸着剤）、６６ａ 第１のセラミック板（誘電
体）、６６ｂ 第２のセラミック板（誘電体）、６７ａ
第１の高電圧電極（高電圧電極）、６７ｂ 第２の高
電圧電極（高電圧電極）、１０２，１５２ 酸素製造装
置（窒素製造装置、窒素製造装置兼用酸素製造装置）、
１１２ａ 第１の放電プラズマ処理部、１１２ｂ 第２
の放電プラズマ処理部、１１３ 共通処理ガス流路（処
理ガス流路）、１２２ 第１の三方コック（切替手
段）、１２６ａ 第１のセンサ、１２６ｂ第２のセン
サ、１６３ 処理ガスタンク（処理ガス貯蔵部）、１６
４ キャリアガスタンク（キャリアガス貯蔵部）、１６
５ 吸着塔（成分分離部）、１７０センサ。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０１Ｂ 13/10 Ｂ０１Ｄ 53/34 １２９Ａ 21/02 (72)発明者 野田 清治 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 アルカディ ガル 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内
Claims (14)
- 【請求項１】 平面状の高電圧電極と、該高電圧電極か
ら所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、
該高電圧電極と該接地電極との間に位置する誘電体と、
該高電圧電極と該接地電極とで挟まれた放電空間と、該
放電空間に配置された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着
しない吸着剤とを有する放電プラズマ処理部を備えたガ
ス処理装置。 - 【請求項２】 高電圧電極と接地電極との間隔は、１ｍ
ｍ以下であることを特徴とする請求項１記載のガス処理
装置。 - 【請求項３】 誘電体は、高電圧電極の接地電極側表面
に膜状に形成されているものであることを特徴とする請
求項１記載のガス処理装置。 - 【請求項４】 放電プラズマ処理部は、高電圧電極ある
いは接地電極と垂直方向に放電空間を複数備えたもので
あることを特徴とする請求項１記載のガス処理装置。 - 【請求項５】 放電プラズマ処理対象としての窒素酸化
物を含んだガスである処理ガスを放電プラズマ処理部に
導入するための処理ガス流路にオゾンを供給するオゾン
製造装置を備えたことを特徴とする請求項１記載のガス
処理装置。 - 【請求項６】 オゾン製造装置は、吸着剤への窒素酸化
物の吸着時に該吸着剤に吸着されなかった、処理ガスに
含まれる酸素を酸素原料とするものであることを特徴と
する請求項５記載のガス処理装置。 - 【請求項７】 放電プラズマ処理部に還元性ガスを供給
する還元性ガス製造装置を備えたことを特徴とする請求
項１記載のガス処理装置。 - 【請求項８】 放電プラズマ処理対象としての窒素酸化
物を含んだガスである処理ガスを放電プラズマ処理部に
供給するための処理ガス流路にオゾンを供給するオゾン
製造装置と、該オゾン製造装置に酸素を供給しかつ上記
放電プラズマ処理部に酸素製造時に排出される窒素を供
給する窒素製造装置兼用酸素製造装置とを備えたことを
特徴とする請求項１記載のガス処理装置。 - 【請求項９】 平面状の高電圧電極と、該高電圧電極か
ら所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極と、
該高電圧電極と該接地電極との間に位置する誘電体と、
該高電圧電極と該接地電極とで挟まれた放電空間と、該
放電空間に配置された、窒素酸化物を吸着し酸素を吸着
しない吸着剤とを有する、第１の放電プラズマ処理部と
第２の放電プラズマ処理部とを備え、該第１の放電プラ
ズマ処理部における放電プラズマ処理時に該第２の放電
プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸着させ、該第
２の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処理時に
該第１の放電プラズマ処理部の吸着剤に窒素酸化物を吸
着させることを特徴とするガス処理装置。 - 【請求項１０】 第１の放電プラズマ処理部の吸着剤が
飽和した時点である飽和時点あるいは第１の放電プラズ
マ処理部の吸着剤に吸着された窒素酸化物がすべて処理
された時点である処理終了時点を検出する第１のセンサ
と、第２の放電プラズマ処理部の吸着剤が飽和した時点
である飽和時点あるいは第２の放電プラズマ処理部の吸
着剤に吸着された窒素酸化物がすべて処理された時点で
ある処理終了時点を検出する第２のセンサとを備え、上
記第１の放電プラズマ処理部における放電プラズマ処理
から上記第２の放電プラズマ処理部における放電プラズ
マ処理への切替を、上記第１のセンサが処理終了時点を
検出したときあるいは上記第２のセンサが飽和時点を検
出したときに行い、上記第２の放電プラズマ処理部にお
ける放電プラズマ処理から上記第１の放電プラズマ処理
部における放電プラズマ処理への切替を、上記第２のセ
ンサが処理終了時点を検出したときあるいは上記第１の
センサが飽和時点を検出したときに行うことを特徴とす
る請求項９記載のガス処理装置。 - 【請求項１１】 放電プラズマ処理対象としての窒素酸
化物を含んだガスである処理ガスが貯えられている処理
ガス貯蔵部と、処理ガスを各成分に分離する成分分離部
と、該処理ガス貯蔵部に貯えられている処理ガスを上記
成分分離部に押し出すキャリアガスが貯えられているキ
ャリアガス貯蔵部と、上記成分分離部で分離されたもの
のうち、窒素酸化物を放電プラズマ処理する放電プラズ
マ処理部とを備えたガス処理装置。 - 【請求項１２】 放電プラズマ処理部から排出された窒
素酸化物を検出するセンサを備え、窒素酸化物の放電プ
ラズマ処理を、上記センサが窒素酸化物を検出している
間、行うことを特徴とする請求項１１記載のガス処理装
置。 - 【請求項１３】 放電プラズマ処理部は、平面状の高電
圧電極と、該高電圧電極から所定の間隔を隔てて配置さ
れた平面状の接地電極と、該高電圧電極と該接地電極と
の間に位置する誘電体と、該高電圧電極と該接地電極と
で挟まれた放電空間とを有するものであることを特徴と
する請求項１１記載のガス処理装置。 - 【請求項１４】 平面状の高電圧電極と、該高電圧電極
から所定の間隔を隔てて配置された平面状の接地電極
と、該高電圧電極と該接地電極との間に位置する誘電体
と、該高電圧電極と該接地電極とで挟まれた放電空間と
を有する放電プラズマ処理部を備え、放電プラズマ処理
対象としての窒素酸化物を含んだガスである処理ガスの
上記放電空間の通過時間が１ミリ秒以下であることを特
徴とするガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10082230A JPH11276848A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10082230A JPH11276848A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ガス処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11276848A true JPH11276848A (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=13768615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10082230A Pending JPH11276848A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11276848A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007000733A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Osaka Prefecture Univ | ガス処理方法及び処理装置 |
| CN104910993A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-09-16 | 鸡西大学 | 放电等离子体转化秸秆制备生物燃料的方法 |
| CN105642115A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-06-08 | 神华集团有限责任公司 | 一种烟气脱硝的装置和方法 |
| CN110898632A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-24 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | VOCs的处理装置及VOCs的处理方法 |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP10082230A patent/JPH11276848A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007000733A (ja) * | 2005-06-22 | 2007-01-11 | Osaka Prefecture Univ | ガス処理方法及び処理装置 |
| CN104910993A (zh) * | 2015-06-24 | 2015-09-16 | 鸡西大学 | 放电等离子体转化秸秆制备生物燃料的方法 |
| CN105642115A (zh) * | 2015-12-31 | 2016-06-08 | 神华集团有限责任公司 | 一种烟气脱硝的装置和方法 |
| CN110898632A (zh) * | 2018-09-14 | 2020-03-24 | 中国船舶重工集团公司第七一一研究所 | VOCs的处理装置及VOCs的处理方法 |
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