JPH11281965A - 光アドレス装置および液晶表示装置 - Google Patents

光アドレス装置および液晶表示装置

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JPH11281965A
JPH11281965A JP8749398A JP8749398A JPH11281965A JP H11281965 A JPH11281965 A JP H11281965A JP 8749398 A JP8749398 A JP 8749398A JP 8749398 A JP8749398 A JP 8749398A JP H11281965 A JPH11281965 A JP H11281965A
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Masami Kido
政美 城戸
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Abstract

(57)【要約】 【課題】大型化や高精細化に適した低コスト、高歩留ま
りな光アドレス装置およびそれを用いた液晶表示装置を
提供する。 【解決手段】複数のプラズマ発光チャネルを有する光ア
ドレス装置であって、プラズマ発光チャネルは、第1基
板と、第2基板と、リブ隔壁とによって包囲された空間
にイオン化可能なガスを有し、第1基板および第2基板
のそれぞれ対向する面は、第1電極および第2電極を有
する。第1電極はプラズマ発光チャネルの全面に形成さ
れた透明電極であって、プラズマ発光チャネルから発生
した光は、第1基板および第1電極を透過して出射され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気光学材料を用
いた表示装置に用いられる光アドレス装置およびそれを
用いた表示装置に関する。特に、液晶表示装置に好適に
用いられる光アドレス装置およびそれを用いた液晶表示
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は、その駆動方式によっ
て、電気アドレス方式、熱アドレス方式、および光アド
レス方式に分類される。これらのうち、直視型表示装置
として現在もっとも多く用いられているのは、電気アド
レス方式のパッシブマトリクス(PM)方式ならびにア
クティブマトリクス(AM)方式である。
【0003】近年、表示装置の大型化や高精細化に対す
るニーズが高まっている。しかしながら、従来の方式の
液晶表示装置では、これらのニーズに十分に対応できて
おらず、市販品で対角20インチ、試作段階でも対角3
0インチ程度が限界となっているのが現状である。とく
に、PM方式では、画素数の増加に伴い、クロストーク
のためにコントラストが低下するという問題がある。ま
た、AM方式では、スイッチング素子(特に薄膜トラン
ジスタ:TFT)を無欠陥で多数作り込むことが困難で
あるという問題がある。
【0004】これに対し、TFTのような半導体スイッ
チング素子を用いないAM方式液晶表示装置として、19
90年にアメリカのTektronix社のT.Buzakらによってプラ
ズマアドレス方式液晶表示装置(PALC)が開発され
た(例えば、特開平1-217396号公報)。PALCの断面
構造を模式的に図1に示す。
【0005】PALC100は、液晶セルとプラズマセ
ルとを積層した構成をしている。基板1と、誘電体セパ
レータ4との間に液晶層3が挟持されており、信号電極
(列電極)2と、誘電体セパレータ4との間の電位差に
よって、液晶層3が駆動される。プラズマセルは、基板
9と誘電体セパレータ4との間隙が複数のリブ隔壁6で
分割された複数のプラズマ放電チャネル5を有してい
る。プラズマ放電チャネル5には、イオン化可能なガス
が封入されており、カソード7とアノード8との間に放
電パルス電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。複数のプラズマ放電チャネル5は、信号電極(列
電極)2と直交する方向に延びており、カソード7とア
ノード8とが走査電極(行電極)10として機能し、線
順次走査される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したPALC方式
を用いた液晶表示装置は、TFTを用いた液晶表示装置
に比べ、比較的簡単に大型化を行うことが出来る。しか
しながら、PALCに用いられている誘電体セパレータ
4はガラスからなる薄板であり、これは高価である上に
表示装置が大きくなればなるほど取り扱いが難しく、表
示装置作製中に破損する確率が高くなる。
【0007】さらに、PALCの駆動時においてこの薄
板ガラスのプラズマ側表面は擬似的な電極として働く
が、そのガラスの厚さは約50〜100ミクロンであ
り、一般的なネマティック液晶層の厚さである3〜6ミ
クロンに比べて10倍以上の厚みを持っている。このた
めPALCを駆動する際には液晶層を有効に駆動する電
圧の10倍以上の電圧を印加する必要が有る。このこと
は駆動回路の負担を増やすと共に消費電力の増加、それ
に伴う発熱などの問題を引き起こす。
【0008】さらに、上記の薄板ガラスは強度的に脆弱
であるので、薄板ガラス上に電極を形成することは非常
に困難である。従って、プラズマ放電用の電極は、図1
に示したように、基板平面に対して平行に形成される。
これは、表示装置の開口率を低下させる原因であり、表
示品位を低下させるので好ましくない。
【0009】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、大型化や高精細化に適した低コスト、
高歩留まりな光アドレス装置およびそれを用いた液晶表
示装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決する為の手段】本発明の光アドレス装置
は、複数のプラズマ発光チャネルを有し、該プラズマ発
光チャネルは、第1基板と、該第1基板に対向する第2
基板と、該第1基板と第2基板との間に形成されたリブ
隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該リブ隔壁によ
って包囲された空間にイオン化可能なガスを有し、該第
1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、第1
電極および第2電極を有し、該第1電極はプラズマ発光
チャネルの全面に形成された透明電極であって、該プラ
ズマ発光チャネルから発生した光は、該第1基板および
該第1電極を透過して出射され、そのことによって上記
目的が達成される。
【0011】前記第1電極は、前記複数のプラズマ発光
チャネルに共通の単一の電極であってもよい。
【0012】前記第1電極は、前記複数のプラズマ発光
チャネルごとに形成されたストライプ状の電極であって
もよい。
【0013】前記第1電極に接続された金属電極を更に
有してもよい。
【0014】前記金属電極の少なくとも一部は、前記第
1基板に垂直な方向から見たときに前記リブ隔壁と重な
る位置に形成されていることが好ましい。
【0015】本発明の光アドレス装置は、複数のプラズ
マ発光チャネルを有し、該プラズマ発光チャネルは、第
1基板と、該第1基板に対向する第2基板と、該第1基
板と第2基板との間に形成されたリブ隔壁と、該第1基
板と、該第2基板と、該リブ隔壁によって包囲された空
間にイオン化可能なガスを有し、該第1基板および該第
2基板のそれぞれ対向する面は、第1電極および第2電
極を有し、該第1電極および該第2電極は互いに平行な
ストライプ状の電極であって、該第1電極の少なくとも
一部は、該第1基板に垂直な方向から見たときに該リブ
隔壁と重なる位置に形成されており、そのことによって
上記目的が達成される。
【0016】本発明の液晶表示装置は、第3基板と、第
4基板と、該第3基板と該第4基板との間に挟持された
液晶層と、該第3基板の該液晶層側に設けられた電極層
と、該第4基板の該液晶層側に設けられたマトリクス状
に配置された複数の画素電極と、該複数の画素電極と光
導電層を介して電気的に接続された互いに平行なストラ
イプ状の複数の信号電極と、該第4基板の外側に設けら
れ、該光導電層の少なくとも一部に光を照射する上記の
光アドレス装置とを有し、該光アドレス装置からの光を
スイッチングすることによって該光導電層の電気伝導度
を変化させ、該画素電極と該信号電極との電気的接続を
スイッチングし、そのことによって、該液晶層を光アド
レスするので、上記目的が達成される。
【0017】前記光アドレス装置は、前記第1電極に接
続された金属電極を更に有し、前記第3基板または前記
第4基板は、ブラックマトリクスをさらに有し、該金属
電極の少なくとも一部は、前記第1基板に垂直な方向か
ら見たときに、該ブラックマトリクスと重なる位置およ
び/または表示領域外に形成する構成としてもよい。
【0018】以下、作用について説明する。
【0019】本発明による光アドレス装置のプラズマ発
光チャネルの放電用電極の一方は、透明電極からなり、
プラズマ発光チャネルの全面に形成されている。従っ
て、放電用電極による開口率の低下が抑制される。ま
た、本発明の他の光アドレス装置は、ストライプ状の一
対の放電用電極を用いるが、ストライプ状電極の少なく
とも一部がリブ隔壁やブラックマスクと重なる位置また
は表示領域外に形成されるので、放電電極による開口率
の低下が少ない。
【0020】本発明の液晶表示装置のは、光導電層を介
して画素電極(またはストライプ状電極)に電気的に接
続された信号電極と、光導電層に光照射する複数の光源
とを有している。光導電層に選択的に光照射することに
よって、信号電極に接続される画素電極(例えば、行を
線順次的に)を選択することができる。従って、対向電
極(例えば、列電極)と画素電極との間に印加された電
圧を、光源のスイッチングによって線順次走査すること
ができる。即ち、液晶層を光アドレスすることができ
る。液晶層に電圧を印加するための電極、光導電層およ
び光源の配置は種々に選択することができる。
【0021】本発明による液晶表示装置は、従来のPA
LCのプラズマセルと類似した構成の光アドレス装置を
用いるが、光を用いてアドレスするので、PALCのよ
うに非常に薄いガラスシートを用いる必要がない。即
ち、光の強度と光導電層の感度とが十分であれば、プラ
ズマ発光部と光導電層との間に設けられる基板の厚さに
制限はなく、製造工程でのハンドリング等を考慮して適
宜設計することができる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
【0023】(実施形態1)本実施形態による液晶表示
装置200を模式的に図2に示す。液晶表示装置200
は、光アドレス装置200aと、対向電極12を有する
基板11と、これらの間に挟持された液晶層13とを有
している。対向電極12は、ITO(インジウム錫酸化
物)などの透明導電材料を用いて、表示領域のほぼ全面
に形成されている。必要に応じて、カラーフィルタを形
成してもよい。
【0024】光アドレス装置200aは、基板19と基
板24との間隙が複数のリブ隔壁20で分割された複数
のストライプ状のプラズマ発光チャネル21を有してい
る。プラズマ発光チャネル21には、イオン化可能なガ
スが封入されており、第1電極22と第2電極23との
間に交流電圧を印加することによって、プラズマが発生
する。第1電極22は、複数のプラズマ発光チャネル2
1に共通の単一の電極として形成しても良いし、各プラ
ズマ発光チャネル21毎に、ストライプ状の電極として
形成してもよい。開口率を高めるために、第1電極22
は、少なくともプラズマ発光チャネル21の全面に形成
することが好ましい。
【0025】基板19の液晶層13側の面(プラズマ発
光チャネル21とは反対側)の表面には、液晶層13側
から、信号電極14、光導電層15、画素電極16が形
成されている。画素電極16は、マトリクス状に配置さ
れた複数のドット状の電極である。信号電極14は、互
いに平行な複数のストライプ状の電極であり、プラズマ
発光チャネル21の延びる方向と直交する方向に延びて
いる。信号電極14と画素電極16とは、光導電層15
を介して接続されている。光導電層15は、複数の信号
電極14と複数の画素電極16に対して共通の単一の光
導電膜として形成しても良いし、それぞれの信号電極1
4毎に、ストライプ状の光導電膜を形成しても良い。勿
論、画素電極16毎に、ドット状の光導電膜を形成する
こともできる。
【0026】また、画素電極16の端部(リブ隔壁20
に対応する位置)の下には、絶縁層17で覆われた金属
配線18が形成されている。金属配線18/絶縁層17
/画素電極16は蓄積容量(補助容量)として機能す
る。この例では、金属配線18を信号電極14と直交す
る方向(プラズマ発光チャネル21と平行な方向)に延
びるストライプ状の電極として形成したが、これに限ら
れない。
【0027】光アドレス装置200aの発光効率を高め
るために、プラズマ発光チャネル21に封入するガスの
種類やガス圧およびプラズマ発光チャネルの構造(空間
の大きさ)等を最適化すればよい。例えば、紫外線を発
光させる場合には、例えば、ヘリウム、キセノンやこれ
らの混合ガスを用いることができる。さらに、これらの
混合ガスに水銀を混合することによって近紫外線を発光
させることができる。また、可視光を発光させる場合に
は、ネオンとキセノンの混合ガスなどを用いるか、また
は、プラズマ発光チャネル21の内壁に適切な蛍光体を
塗布し、紫外線を可視光に変換する構成としてもよい。
アドレス用の光として紫外線を用いると透過型液晶表示
装置を形成することができるという利点がある。
【0028】本発明による液晶表示装置においては、光
アドレス用の光源からの光の強度と光導電層の感度とが
十分であれば、液晶セルと光アドレス装置200aとの
間に設けられる基板19の材料や厚さに制限はなく、製
造工程の歩留まりを考慮して適宜設定することができ
る。紫外線を用いる場合には、例えば、石英基板や溶融
シリカ基板などを用いることができる。また、大画面の
表示装置を構成する場合には、基板19を複数の基板で
構成してもよい。
【0029】光導電層15の材料は、アドレス用の光に
対して電気伝導度が十分に変化する材料を、アドレス用
の光の波長や強度および装置の構成を考慮して、公知の
材料から選択すればよい。紫外線に対しては、例えば、
酸化チタンを用いることができる。また、可視光に対し
ては、アモルファスシリコンを用いることができる。
【0030】プラズマ発光を用いた表示装置として、い
わゆるプラズマ表示装置(PDP)が知られている。P
DPは、プラズマ発光された紫外線を蛍光体で可視光に
変換し、その可視光を表示に用いる、自発光型の表示装
置である。それに対し、本発明による液晶表示装置にお
いては、プラズマ発光によって得られた光を、画素をア
ドレスするために用いる。表示に用いる光は、従来の液
晶表示装置と同様に、透過型の場合にはバックライトか
らの光であり、反射型の場合には周囲光である。従っ
て、プラズマ発光の強度は光導電層の電気伝導度を十分
に変化させることが可能であればよく、比較的弱い光を
用いることができる。例えば、プラズマ発光による紫外
線を用いる場合においては、その輝線を用いる必要がな
く、光導電層の感度や基板の透過率特性を考慮して、最
適化すればよい。
【0031】本実施例による光アドレス装置200aお
よび液晶表示装置200の動作原理を図3を参照しなが
ら説明する。なお、蓄積容量は簡単のために省略する。
【0032】選択されたプラズマ発光チャネル21内の
電極22および電極23との間に交流電圧を印加するこ
とによって、プラズマ発光チャネル21内のガスがイオ
ン化され、プラズマが発生する。プラズマはそのガスの
種類やガス圧によって種々の波長の光を発生する(図3
(a))。
【0033】この光は基板19および画素電極16を通
過し、光導電層15に照射される。光照射された光導電
層15は、その電気伝導度が増加し、導電体となり、画
素電極16と信号電極14とが電気的に接続される。光
導電層15が導電状態の時に、対向電極12と信号電極
14との間に駆動電圧を印加すると、画素電極16と対
向電極12との間の液晶層13に電圧が印加され、画素
に対応する領域の液晶層13aが駆動される(図3
(b))。
【0034】次に、電極22と23との間の電圧を切
り、プラズマ発光を停止すると、光導電層15の電気伝
導度は低下し絶縁体となり、画素電極16と信号電極1
4とは電気的に絶縁される。画素電極16、光導電層1
5と対向電極12とこれらの間の液晶層13はキャパシ
タとして機能するので、先に印加された駆動電圧に対応
する電荷が画素電極16上に保持され、液晶層13aの
駆動状態は保持される(いわゆるサンプルホールドであ
る)(図3(c))。蓄積容量を形成することによっ
て、さらに、電荷保持特性を改善することができる。
【0035】プラズマ発光が停止した状態(消光状態)
では、対向電極12と信号電極14との間に駆動電圧を
印加しても、画素電極16と信号電極14とは、電気的
に切り離されているので、画素電極16上の液晶層13
は駆動されない。次のフレーム(またはフィールド)
で、プラズマ発光チャネル25aが選択される期間(プ
ラズマ発光する期間)に、画素電極16に新たな駆動電
圧が印加される。消光状態において、対向電極12と信
号電極14との間に電圧を印加した場合に駆動される液
晶層は、信号電極14上の液晶層に限られるので、この
部分をブラックマトリクス等で覆っておけば表示品質の
低下の問題はない。
【0036】本実施例による光アドレス装置200aお
よび液晶表示装置200は、例えば、以下の方法で形成
することができる。図4A〜4Cを参照しながらその製
造方法を説明する。
【0037】図4A(a)および(b)に示すように、
約1.1mm厚のガラス基板11上に厚さ約50nmの
ITO(対向電極)をスパッタ法により形成し、対向電
極12を形成する。必要に応じて、配向膜やカラーフィ
ルタを形成してもよい。
【0038】図4B(a)〜(d)に示すように、例え
ば、約1.1mm厚のガラス基板24に対し、例えば、
ニッケルを約1μm厚にスパッタ法で堆積し、エッチン
グによりストライプ状の電極23を形成する(図4B
(a)および(b))。この上に、ガラスペーストを厚
み約20μmになるように塗布・焼成し、絶縁層26を
形成し、絶縁層26の上に、約200nmの酸化マグネ
シウム層27を形成する(図4B(c))。得られた基
板の表面に、スクリーン印刷法により約300μmのリ
ブ隔壁20を、例えばガラスペーストを用いて形成する
(図4B(d))。
【0039】図4C(a)〜(f)に示すように、ま
ず、約0.7mm厚の基板19上に、約15nm厚の透
明導電膜22をスパッタ法により全面に形成する。次
に、ガラスペーストを厚み20μmになるように塗布・
焼成し、絶縁層28を形成し、その後、約200nm厚
の酸化マグネシウム層29を形成する(図4C
(a))。紫外線をアドレス光として用いる場合には、
基板19の材料として、紫外線を透過する材料(例え
ば、石英や溶融シリカ)を用いることが好ましく、加え
て、信号電極14部分(以下に述べる)に対応した位置
に、透明電極22/絶縁層28/酸化マグネシウム29
を形成しない領域を設けることが好ましい(図4D)。
【0040】さらに、基板19の反対側の面に約0.1
μm厚のアルミを蒸着し、ストライプ状にエッチング
し、アルミ配線18を形成する(図4C(b))。得ら
れたアルミ配線18を陽極酸化することにより、その表
面に酸化膜17を形成する(図4C(c))。その上
に、約15nm厚の透明導電膜をスパッタ法により形成
し、ドット状にエッチングして画素電極16を形成する
(図4C(d))。ここで、このアルミ配線18/酸化
膜17/画素電極16の構造が蓄積容量として働く。
【0041】さらに、この上にスパッタ法により約0.
1μmの酸化チタン膜を光導電層15として形成する
(図4C(e))。この上に、例えば、アルミを用い
て、ストライプ状の信号電極14を形成する。信号電極
14とアルミ配線18とのストライプ方向は互いに直交
している。必要に応じて、配向膜を形成してもよい。
【0042】次に、信号電極14と電極23のストライ
プ方向が互いに直交し、電極22と電極23が対向する
ように、基板19と基板24とを貼りあわせ、リブ隔壁
20で形成される溝の内部を減圧した後に、例えば、ヘ
リウムとキセノンの混合ガスを封入し、プラズマ発光チ
ャネル21を形成する。
【0043】最後に、対向電極12と信号電極14とが
対向するように、基板11と基板19とを、例えば5μ
mのスペーサーを介して貼りあわせ、この空隙にネマテ
ィック液晶材料を注入し、液晶層13を形成し、液晶表
示装置200が得られる。液晶層13は、従来のアクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置に用いられている液晶材
料を用いて形成することができる。例えば、ネマティッ
ク液晶、コレステリック液晶などの液晶材料を用いるこ
とができる。
【0044】液晶表示装置200の電極22と電極23
との間に、約150Vの交流電圧を印加することによ
り、ヘリウムとキセノンの混合ガスをプラズマ化し、紫
外光を発生させることができる。紫外線を発光した状態
で、対向電極12と信号電極14との間に、駆動電圧を
印加することにより、画素電極16上の液晶層13を駆
動することができる。
【0045】なお、電荷保持時間は、画素電極16の下
のアルミ配線18の幅や酸化膜17の厚み、種類(酸化
膜17上にさらに窒化シリコンをスパッタする等)など
を変えることにより、変更が可能なことは言うまでもな
い。
【0046】プラズマ発光チャネルの構造および材料は
上記の例に限られず、発光波長に応じて、ガス種、ガス
圧、放電電圧(直流または交流や電圧値)を考慮して適
宜設定すればよい。絶縁層や酸化マグネシウム層を省略
することもできる。
【0047】(実施形態2)実施形態1の光アドレス装
置および液晶表示装置を大型化すると、ITOなどの透
明導電材料は電気伝導率が比較的低いので、電極22を
ITOで形成すると、信号電圧の遅延、電圧波形の歪や
振幅の低下等の問題を生じる場合がある。本実施形態で
は、上記の問題を回避するために、透明電極に電気的に
接続された金属電極を形成する。
【0048】本実施形態の装置においては、実施形態1
の液晶表示装置200の基板19と電極22との間に、
例えば、アルミを用いて金属電極を形成する。用いられ
る金属材料は、アルミに限られずITOよりも電気抵抗
の低い材料であればよい。
【0049】金属電極の好ましい配置を図5を参照しな
がら説明する。液晶表示装置200の表示領域を図5
(a)の参照符号50で表される領域であるとする。基
板19に透明電極22を形成する前、または後に、図5
(b)に示す金属電極51および金属電極52を形成す
る。金属電極51は表示領域50外に形成され、金属電
極52は表示領域50内のリブ隔壁20(図2参照)に
対応する位置に形成されることが好ましい。また、対向
基板(図2の基板11)にブラックマトリクスを形成す
る場合には、基板面から見て、金属電極52がブラック
マトリクスと重なるように形成することが好ましい。
【0050】(実施形態3)本実施形態では、放電用電
極として、金属材料からなるストライプ状の電極を形成
する。その他の構成は、実施形態1と同様なので、詳細
な説明は省略する。
【0051】図6を参照しながら、本実施形態を説明す
る。基板61(実施形態1の基板11に対応)にカラー
フィルタ層63(例えば、R:63a、G:63bを含
む)とブラックマトリクス64とが形成されている。基
板69(実施形態1の基板19に対応)には、例えば、
ニッケル配線からなる電極72(実施形態1の電極22
に対応)が形成されている。この電極72は、平行部7
2aと凸部72bを有し、平行部72aはリブ隔壁80
と、凸部72bはブラックマトリクス64と、基板61
に垂直な方向から見たときにそれぞれ重なる位置に形成
されている。また、基板74(実施形態1の基板24に
対応)上には、例えば、ニッケル配線からなる電極73
(実施形態1の電極23に対応)が形成されている。こ
の電極73は、平行部73aと凸部73bを有し、平行
部73aはリブ隔壁80と、凸部73bはブラックマト
リクス64と、基板61に垂直な方向から見たときにそ
れぞれ重なる位置に形成されている。本実施形態では、
ガラスペーストと酸化マグネシウム層を省いてある。こ
のように、プラズマ放電用の電極72および電極73を
ブラックマトリクス64やリブ隔壁80と少なくとも一
部を重ねることによって、プラズマ放電用の電極による
開口率の低下を抑制することができる。なお、これらの
電極の凸部をすべてのブラックマトリクス下に配置する
必要はなく、装置の構成に応じて改変してもよい。例え
ば、赤、緑、青の3原色のカラーフィルタをワンセット
として、その両側にのみ配置してもよい。本実施形態の
光アドレス装置は、電極72と電極73との間に、例え
ば、200Vの直流(パルス)電圧を印加することによ
って、プラズマ発光を起こすことができる。
【0052】
【発明の効果】上述したように、本発明によれば、新し
い光アドレス装置およびそれを用いた新しい方式の液晶
表示装置が提供される。本発明による液晶表示装置は、
TFTなどのアクティブ素子を必要としないので、高い
歩留まりで比較的安価に製造できる。さらに、光によっ
てアドレスするので、従来のPALCで必要とされるき
わめて薄い(約50μm程度)誘電体セパレータを必要
とせず、従来のPALCよりも比較的安価に高歩留まり
で作製できる上に、従来のPALCに比べて低電圧で駆
動できる液晶表示装置を提供することができる。
【0053】本発明による光アドレス装置のプラズマ発
光チャネルの放電用電極の一方は、透明電極からなり、
プラズマ発光チャネルの全面に形成されている。従っ
て、放電用電極による開口率の低下が抑制される。ま
た、本発明の他の光アドレス装置は、ストライプ状の一
対の放電用電極を用いるが、ストライプ状電極の少なく
とも一部がリブ隔壁やブラックマトリクスと重なる位置
または表示領域外に形成されるので、放電電極による開
口率の低下が少ない。
【0054】本発明における透過型の表示装置において
バックライトを置く場合に、バックライトと表示装置と
の間に紫外線吸収層(例えば高分子からなるフィルムな
ど)を適時追加しても構わない。また、本発明による液
晶表示装置では、液晶層の構造には制限がなく(例えば
ホスト−ゲスト型液晶、コレステリック液晶、高分子分
散型液晶など)公知の液晶層を広く利用することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のPALCの断面構造を模式的に示す図で
ある。
【図2】本発明による液晶表示装置の一例を示す模式的
な断面図である。
【図3】本発明における液晶表示装置の動作原理を示す
模式的な断面図である。
【図4A】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図4B】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図4C】本発明による液晶表示装置の製造方法の例を
示す概略図である。
【図4D】本発明による液晶表示装置に用いられる中間
の基板の構成例を模式的に示す断面図である。
【図5】本発明による光アドレス装置の金属配線の配置
例を示す模式図である。
【図6】本発明による液晶表示装置の金属配線の配置例
を示す模式図である。
【符号の説明】 1 ガラス基板 2 信号(列)電極 3 液晶層 4 誘電セパレータ 5 プラズマ放電部 6 リブ隔壁 7 カソード 8 アノード 9 ガラス基板 10 走査(行)電極 11 第1基板 12 対向電極 13 液晶層 14 信号電極(列電極) 15 光導電層 16 画素電極(ドット状) 17 絶縁層 18 金属配線 19 基板 20 リブ隔壁 21 プラズマ発光チャネル 22 第1電極(放電用電極) 23 第2電極(放電用電極) 24 基板

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のプラズマ発光チャネルを有し、 該プラズマ発光チャネルは、第1基板と、該第1基板に
    対向する第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形
    成されたリブ隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該
    リブ隔壁によって包囲された空間にイオン化可能なガス
    を有し、 該第1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、
    第1電極および第2電極を有し、 該第1電極はプラズマ発光チャネルの全面に形成された
    透明電極であって、該プラズマ発光チャネルから発生し
    た光は、該第1基板および該第1電極を透過して出射さ
    れる、光アドレス装置。
  2. 【請求項2】 前記第1電極は、前記複数のプラズマ発
    光チャネルに共通の単一の電極である請求項1に記載の
    光アドレス装置。
  3. 【請求項3】 前記第1電極は、前記複数のプラズマ発
    光チャネルごとに形成されたストライプ状の電極である
    請求項1に記載の光アドレス装置。
  4. 【請求項4】 前記第1電極に接続された金属電極を更
    に有する請求項1から3のいずれかに記載の光アドレス
    装置。
  5. 【請求項5】 前記金属電極の少なくとも一部は、前記
    第1基板に垂直な方向から見たときに前記リブ隔壁と重
    なる位置に形成されている請求項4に記載の光アドレス
    装置。
  6. 【請求項6】 複数のプラズマ発光チャネルを有し、 該プラズマ発光チャネルは、第1基板と、該第1基板に
    対向する第2基板と、該第1基板と第2基板との間に形
    成されたリブ隔壁と、該第1基板と、該第2基板と、該
    リブ隔壁によって包囲された空間にイオン化可能なガス
    を有し、 該第1基板および該第2基板のそれぞれ対向する面は、
    第1電極および第2電極を有し、 該第1電極および該第2電極は互いに平行なストライプ
    状の電極であって、該第1電極の少なくとも一部は、該
    第1基板に垂直な方向から見たときに該リブ隔壁と重な
    る位置に形成されている、光アドレス装置。
  7. 【請求項7】 第3基板と、第4基板と、該第3基板と
    該第4基板との間に挟持された液晶層と、 該第3基板の該液晶層側に設けられた電極層と、 該第4基板の該液晶層側に設けられたマトリクス状に配
    置された複数の画素電極と、 該複数の画素電極と光導電層を介して電気的に接続され
    た互いに平行なストライプ状の複数の信号電極と、 該第4基板の外側に設けられ、該光導電層の少なくとも
    一部に光を照射する、請求項1から6のいずれかに記載
    の光アドレス装置と、を有し、 該光アドレス装置からの光をスイッチングすることによ
    って該光導電層の電気伝導度を変化させ、該画素電極と
    該信号電極との電気的接続をスイッチングし、そのこと
    によって、該液晶層を光アドレスする液晶表示装置。
  8. 【請求項8】 前記光アドレス装置は、前記第1電極に
    接続された金属電極を更に有し、 前記第3基板または前記第4基板は、ブラックマトリク
    スをさらに有し、 該金属電極の少なくとも一部は、前記第1基板に垂直な
    方向から見たときに、該ブラックマトリクスと重なる位
    置および/または表示領域外に形成されている、請求項
    7に記載の液晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20020085238A (ko) * 2001-05-07 2002-11-16 주식회사 현대 디스플레이 테크놀로지 액정표시장치의 백라이트 유니트
CN116736584A (zh) * 2023-06-30 2023-09-12 中国科学院上海光学精密机械研究所 透射式高损伤阈值光寻址空间光调制器

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