JPH11285627A - ポリスルホン分離膜の製造方法 - Google Patents
ポリスルホン分離膜の製造方法Info
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- JPH11285627A JPH11285627A JP10694498A JP10694498A JPH11285627A JP H11285627 A JPH11285627 A JP H11285627A JP 10694498 A JP10694498 A JP 10694498A JP 10694498 A JP10694498 A JP 10694498A JP H11285627 A JPH11285627 A JP H11285627A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 膜表面の平均孔径及び開孔率を自由に設定可
能とすることにより、優れた分画性能を有するポリスル
ホン分離膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 ポリスルホン樹脂を極性有機溶媒に溶解
し、これを流延して界面活性剤の水溶液中に浸漬するこ
とにより膜状物を製膜する。
能とすることにより、優れた分画性能を有するポリスル
ホン分離膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 ポリスルホン樹脂を極性有機溶媒に溶解
し、これを流延して界面活性剤の水溶液中に浸漬するこ
とにより膜状物を製膜する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリスルホン分離
膜の製造方法に関する。更に詳しくは分離膜の表面開口
率を所定の範囲で設定可能とする製造方法である。
膜の製造方法に関する。更に詳しくは分離膜の表面開口
率を所定の範囲で設定可能とする製造方法である。
【０００２】
【従来の技術】ポリスルホン製の分離膜は、機械的強度
が強く、耐熱性および耐薬品性に優れることから浄水器
膜などの精密濾過膜として汎用されている。
が強く、耐熱性および耐薬品性に優れることから浄水器
膜などの精密濾過膜として汎用されている。
【０００３】ここで、ポリスルホン膜は通常ポリスルホ
ンを極性有機溶剤に溶解させた製膜溶液を貧溶媒に浸漬
する乾湿式法において製膜される。
ンを極性有機溶剤に溶解させた製膜溶液を貧溶媒に浸漬
する乾湿式法において製膜される。
【０００４】そして、精密濾過レベルの膜を得るために
製膜溶液中に造孔剤として、たとえばポリエチレングリ
コールなどを添加する必要がある（特開昭５４−２６２
８３号、特開昭５７−３５９０６号、特開昭５８−１１
４７０２号）。
製膜溶液中に造孔剤として、たとえばポリエチレングリ
コールなどを添加する必要がある（特開昭５４−２６２
８３号、特開昭５７−３５９０６号、特開昭５８−１１
４７０２号）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この場合にお
いては、製膜溶液の相安定性および紡糸性を考慮する必
要があり、製膜溶液組成の調製範囲は限界を有し、従っ
て製膜溶液組成の調製による膜表面の平均孔径ならびに
開孔率を所望の値に設定することは困難であった。
いては、製膜溶液の相安定性および紡糸性を考慮する必
要があり、製膜溶液組成の調製範囲は限界を有し、従っ
て製膜溶液組成の調製による膜表面の平均孔径ならびに
開孔率を所望の値に設定することは困難であった。
【０００６】本発明は上記従来技術における問題を解決
するためになされたもので、その目的とするところは、
膜表面の平均孔径及び開孔率を自由に設定可能とするこ
とにより、優れた分画性能を有するポリスルホン分離膜
の製造方法を提供することにある。
するためになされたもので、その目的とするところは、
膜表面の平均孔径及び開孔率を自由に設定可能とするこ
とにより、優れた分画性能を有するポリスルホン分離膜
の製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明にあっては、ポリスルホン樹脂を極性有機溶媒
に溶解し、これを流延して界面活性剤の水溶液中に浸漬
することにより膜状物を製膜する。
に本発明にあっては、ポリスルホン樹脂を極性有機溶媒
に溶解し、これを流延して界面活性剤の水溶液中に浸漬
することにより膜状物を製膜する。
【０００８】前記界面活性剤が陰イオン系界面活性剤で
あること、またこの陰イオン系界面活性剤がドデシル硫
酸ナトリウムであることも好適である。
あること、またこの陰イオン系界面活性剤がドデシル硫
酸ナトリウムであることも好適である。
【０００９】また、分離膜の平均孔径及び表面開口率を
前記水溶液中の界面活性剤の濃度に応じて設定すること
も好適である。
前記水溶液中の界面活性剤の濃度に応じて設定すること
も好適である。
【００１０】従って、凝固液として界面活性剤の水溶液
を用いることにより、製膜溶液の組成を変えることな
く、膜の表面孔径を拡大することが可能となった。
を用いることにより、製膜溶液の組成を変えることな
く、膜の表面孔径を拡大することが可能となった。
【００１１】この場合の界面活性剤としては、主として
ドデシル硫酸ナトリウムが用いられ、その水溶液濃度は
低すぎると効果がなく、高すぎても効果の向上がみられ
ないので、０．１〜１０ｇ／ｌ好ましくは０．５〜３ｇ
／ｌで使用される。
ドデシル硫酸ナトリウムが用いられ、その水溶液濃度は
低すぎると効果がなく、高すぎても効果の向上がみられ
ないので、０．１〜１０ｇ／ｌ好ましくは０．５〜３ｇ
／ｌで使用される。
【００１２】
【発明の実施の形態】（実施の形態１）ポリスルホン１
４重量部に対して、平均分子量が５７０〜６３０のポリ
エチレングリコールを１９重量部およびＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド６７重量部を７０℃で混合して、均一な
ポリスルホン溶液を調製した。
４重量部に対して、平均分子量が５７０〜６３０のポリ
エチレングリコールを１９重量部およびＮ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド６７重量部を７０℃で混合して、均一な
ポリスルホン溶液を調製した。
【００１３】ポリスルホン溶液を２５℃まで冷却した。
その後、ガラス基板上にこのポリスルホン溶液を流延
し、キャスト厚２００μｍに設定したドクターナイフを
用いて厚みを一定（２００μｍ）にキャスティングした
後、直ちに凝固液に浸漬し、凝固した平膜状のポリスル
ホン分離膜を製膜した。
その後、ガラス基板上にこのポリスルホン溶液を流延
し、キャスト厚２００μｍに設定したドクターナイフを
用いて厚みを一定（２００μｍ）にキャスティングした
後、直ちに凝固液に浸漬し、凝固した平膜状のポリスル
ホン分離膜を製膜した。
【００１４】凝固液には純水および０．５，１．５およ
び３．０ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用い
た。製膜後の膜を乾燥し、走査電子顕微鏡にて膜断面お
よび膜内外表面の観察を行なった。
び３．０ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリウム水溶液を用い
た。製膜後の膜を乾燥し、走査電子顕微鏡にて膜断面お
よび膜内外表面の観察を行なった。
【００１５】図１に従来法である凝固液に純水を用いた
場合の膜構造のＳＥＭ写真を示した。また、図２〜４に
実施例である凝固液に界面活性剤水溶液を用いた場合の
膜構造のＳＥＭ写真を示した。それぞれの写真におい
て、（ａ）では膜の断面の状態が示され、（ｂ）では膜
の表面の状態が示されている。
場合の膜構造のＳＥＭ写真を示した。また、図２〜４に
実施例である凝固液に界面活性剤水溶液を用いた場合の
膜構造のＳＥＭ写真を示した。それぞれの写真におい
て、（ａ）では膜の断面の状態が示され、（ｂ）では膜
の表面の状態が示されている。
【００１６】図２は、０．５ｇ／ｌのドデシル硫酸ナト
リウム水溶液を凝固液とした膜であり、図３は、１．５
ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリウム水溶液を凝固液とした
膜であり、図４は、３．０ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリ
ウム水溶液を凝固液とした膜である。
リウム水溶液を凝固液とした膜であり、図３は、１．５
ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリウム水溶液を凝固液とした
膜であり、図４は、３．０ｇ／ｌのドデシル硫酸ナトリ
ウム水溶液を凝固液とした膜である。
【００１７】また、この時の膜表面の平均孔径を図５に
示す。実施例の膜孔径及び開孔率は増大しており、特に
ドデシル硫酸ナトリウム水溶液濃度を０．５ｇ／ｌとし
た場合において孔径は最大となり、純水透過流束が純水
で凝固した場合と比べて３倍に増加した。
示す。実施例の膜孔径及び開孔率は増大しており、特に
ドデシル硫酸ナトリウム水溶液濃度を０．５ｇ／ｌとし
た場合において孔径は最大となり、純水透過流束が純水
で凝固した場合と比べて３倍に増加した。
【００１８】
【発明の効果】上記発明の実施の形態に説明されたよう
に、ポリスルホン樹脂を製膜する際に、凝固液としてド
デシル硫酸ナトリウム水溶液等の界面活性剤の水溶液を
用いることにより、膜孔径及び開孔率を所望の大きさに
設定することができる。
に、ポリスルホン樹脂を製膜する際に、凝固液としてド
デシル硫酸ナトリウム水溶液等の界面活性剤の水溶液を
用いることにより、膜孔径及び開孔率を所望の大きさに
設定することができる。
【００１９】凝固液として純水を用いた場合と比較する
と、膜孔径及び開孔率が大きくなり、透水性能の高い膜
が得られる。
と、膜孔径及び開孔率が大きくなり、透水性能の高い膜
が得られる。
【図１】凝固液として純粋を用いた場合の膜のＳＥＭ写
真である。
真である。
【図２】凝固液として０．５ｇ／ｌのドデシル硫酸ナト
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
【図３】凝固液として１．５ｇ／ｌのドデシル硫酸ナト
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
【図４】凝固液として３．０ｇ／ｌのドデシル硫酸ナト
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
リウム水溶液を用いた場合の膜のＳＥＭ写真である。
【図５】ドデシル硫酸ナトリウム水溶液の濃度と膜表面
の平均孔径との関係を示すグラフ図である。
の平均孔径との関係を示すグラフ図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 ポリスルホン樹脂を極性有機溶媒に溶解
し、これを流延して界面活性剤の水溶液中に浸漬するこ
とにより膜状物を製膜することを特徴とするポリスルホ
ン分離膜の製造方法。 - 【請求項２】 前記界面活性剤が陰イオン系界面活性剤
であることを特徴とする請求項１に記載のポリスルホン
分離膜の製造方法。 - 【請求項３】 前記陰イオン系界面活性剤がドデシル硫
酸ナトリウムであることを特徴とする請求項１に記載の
ポリスルホン分離膜の製造方法。 - 【請求項４】 分離膜の平均孔径及び表面開口率を前記
水溶液中の界面活性剤の濃度に応じて設定することを特
徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のポリス
ルホン分離膜の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10694498A JP3613973B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | ポリスルホン分離膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10694498A JP3613973B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | ポリスルホン分離膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11285627A true JPH11285627A (ja) | 1999-10-19 |
| JP3613973B2 JP3613973B2 (ja) | 2005-01-26 |
Family
ID=14446495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10694498A Expired - Fee Related JP3613973B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | ポリスルホン分離膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3613973B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106823867A (zh) * | 2017-03-06 | 2017-06-13 | 北京理工大学 | 采用聚醇/酯共混物亲水化改性疏水型高分子分离膜的方法 |
| CN113318598A (zh) * | 2021-05-17 | 2021-08-31 | 浙江工业大学 | 一种通过调节基膜孔径增强反渗透膜选择渗透性的方法 |
-
1998
- 1998-04-02 JP JP10694498A patent/JP3613973B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106823867A (zh) * | 2017-03-06 | 2017-06-13 | 北京理工大学 | 采用聚醇/酯共混物亲水化改性疏水型高分子分离膜的方法 |
| CN113318598A (zh) * | 2021-05-17 | 2021-08-31 | 浙江工业大学 | 一种通过调节基膜孔径增强反渗透膜选择渗透性的方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3613973B2 (ja) | 2005-01-26 |
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