JPH11287456A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱室の有効スペースを拡大でき、清掃性・
操作性を向上させ得られ、かつ被加熱物を高効率に加熱
できるようにする。 【解決手段】 加熱室２下部の略中央部と導波管６の境
界に、ここに至るまでの導波管の幅と同一か又はそれよ
りも広い給電面８を設定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、加熱室底面に給電
面を設け、被加熱物の下部から高周波を照射し、高効率
で加熱する高周波加熱装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図１３は例えば特開平８−３２１３７６
号公報に開示されている第１従来例の高周波加熱装置を
示す縦断面図である。

【０００３】図１３において、１は被加熱物、２は加熱
室、３は高周波の発生源である高周波発生器、４は被加
熱物１の物理量を検出する物理量検出手段であり、重量
センサ、電界プローブセンサ等がある。５は物理量検出
手段４の検出結果に基づいて高周波発生器３を制御する
制御部、６は高周波発生器３から加熱室２に高周波７を
送出させる導波管、８は導波管６と加熱室２の境界にあ
る給電面、９はターンテーブル、１１はターンテーブル
９を回動させるモータ、１２はターンテーブル９に支持
されて被加熱物１を設置する設置台である。

【０００４】この第１従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波７は、導波管６を
伝搬して上下２ヶ所の給電面８より加熱室２に伝搬し、
加熱室２の内壁面に入射や反射を繰り返しながら、回動
するターンテーブル９上の設置台１２に置かれた被加熱
物１に照射する。これにより、被加熱物１が加熱され
る。

【０００５】このように、前述の第１従来例において
は、導波管６が加熱室２の側面に設置されて、給電面８
と被加熱物１との距離が遠くなっているため、給電面８
から加熱室２に入射した高周波７が直接被加熱物１に吸
収されず、加熱室２の内壁面に入射反射を繰り返した後
に被加熱物１に吸収される。そのため、エネルギーロス
が生ずるという難点がある。

【０００６】また、加熱室２の側面より高周波が入射さ
れるため、被加熱物１の側面や上面が加熱され易く、下
面や中心部が加熱され難いため、加熱ムラが発生する。

【０００７】そこで、例えば特開平９−２１０３７２号
公報に示されている高周波加熱装置のように、被加熱物
の下面中央部の温度を高くできるようにしたものが提案
されている。図１４は同公報に開示されている第２従来
例の高周波加熱装置を示す縦断面図であり、図中、前述
の第１従来例（図１３）のものに相当する部分には同一
符号を付し、その説明を省略する。

【０００８】この第２従来例の高周波加熱装置は、加熱
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、２１はターンテーブル９の周縁部
を下方で支持し、これを回動させるローラ、２２はロー
ラ２１を回転させる回転板、２３は回転板２２を支持回
転させる回転板支持ローラ、２４は回転板支持ローラ２
３を駆動する駆動部である。

【０００９】この第２従来例の高周波加熱装置において
は、駆動部２４により回転板支持ローラ２３を回転させ
ることで回転板２２を回転させ、回転板２２が回転する
ことでローラ２１が回転し、ターンテーブル９が回転す
る。このように、ターンテーブル９の外縁に沿った略円
周上に、これを回転させる機構を配置することで、給電
面８を下面に設置することができる。これにより、高周
波発生器３より発生した高周波７が加熱室２の底面中央
部から加熱室２内に伝搬する。したがって、被加熱物１
の下面中央部の温度を十分高くすることが可能になる。

【００１０】また、同様に給電面を加熱室の底面側に配
置したものとして、例えば特開平８−３２１３７８号公
報に示されているものを挙げることができる。図１５は
同公報に開示されている第３従来例の高周波加熱装置を
示す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図１
３）のものに相当する部分には同一符号を付し、その説
明を省略する。

【００１１】この第３従来例の高周波加熱装置は、加熱
室２の底面の一側に給電室３１を設け、給電室３１内に
回転アンテナ３２を設置している。なお、３３は回転ア
ンテナ３２を駆動する第１モータ、３４はターンテーブ
ル９を駆動する第２モータ、３５は高周波発生器３と第
１モータ３３と第２モータ３４を制御する制御部であ
る。

【００１２】この第３従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６から
給電室３１内の回転アンテナ３２を介して加熱室２の底
面から加熱室２内に伝搬する。このとき、図示しない重
量センサや温度センサで被加熱物１の状態を検出し、検
出した被加熱物１の状態に応じ、回転アンテナ３２を第
１モータ３３で駆動して、高周波の指向性を制御してい
る。したがって、加熱分布を均一化することが可能にな
る。

【００１３】また、同様に給電面を加熱室の底面側に配
置したものとして、例えば特開平９−２２７７５号公報
に示されているものを挙げることができる。図１６は同
公報に開示されている第４従来例の高周波加熱装置を示
す縦断面図であり、図中、前述の第１従来例（図１３）
のものに相当する部分には同一符号を付し、その説明を
省略する。

【００１４】この第４従来例の高周波加熱装置は、有効
利用スペースの拡大や清掃性・操作性を向上させるため
に、加熱室２内にターンテーブルを設置せず、かつ加熱
室２と導波管６の境界である給電面８を加熱室２の底面
に設けている。なお、４１は被加熱物１を載せる誘電体
板、４２は導波管６の長さを変えるための導電性部材か
らなる移動体、４３は移動体４２を往復運動させるモー
タ、４４は導波管６と加熱室２を連結する給電部で、複
数の開口部から構成されている。

【００１５】この第４従来例の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、導波管６を介
して複数の開口部４４より加熱室２内に伝搬する。この
とき、導波管６の長さを規定する移動体４２をモータ４
３で往復運動させることで、被加熱物１を下面より様々
な電界分布で加熱することができる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
第１乃至第３従来例のものにあっては、いずれも加熱室
２内にターンテーブル９が設置されているため、以下の
ような問題が存在していた。 ターンテーブル９を回転させるための構造が複雑で、
部品点数が増え、これに伴い故障率が高くなり、かつ電
波シールド機構が難かしくなり、信頼性に欠ける。 加熱室２内の有効利用スペースが減少し、かつ清掃性
も悪化する。 ターンテーブル９の回動により、被加熱物１を設置し
た位置・向きが変更され、取り出しにくくなり、操作性
が悪い。

【００１７】また、前述の第１及び第３従来例のものに
あっては、加熱室２の底面中央部に給電面がないため被
加熱物１の中心を高効率で加熱することができないとい
う難点があった。

【００１８】また、前述の第４従来例のものにあって
は、給電部が複数の開口部４４から構成されているた
め、中心部だけを集中的に加熱することができず、縦に
細長い被加熱物に対しては、高効率に加熱できないとい
う問題があった。

【００１９】本発明の技術的課題は、加熱室の有効スペ
ースを拡大でき、清掃性・操作性を向上させ得られ、か
つ被加熱物を高効率に加熱できるようにすることにあ
る。

【００２０】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
高周波加熱装置は、被加熱物を収納する加熱室と、高周
波を発生する高周波発生器と、被加熱物の重量・形状等
を検出する物理量検出手段と、物理量検出手段の検出結
果に基づいて高周波発生器を制御する制御手段と、加熱
室下部に設けられ、高周波発生器から発生する高周波を
加熱室に伝送する導波管と、加熱室下部の略中央部と導
波管の境界に設けられ、ここに至るまでの導波管の幅と
同一か又はそれよりも広く設定された給電面と、低誘電
率材質からなり、給電面上に設けられて被加熱物を設置
する設置台と、を備えたものである。

【００２１】また、本発明の請求項２に係る高周波加熱
装置は、給電面につながる導波管の一端の壁を、平面的
にみて加熱室底面の略中央部を円弧の内側とする曲面ま
たは多面体に形成したものである。

【００２２】また、本発明の請求項３に係る高周波加熱
装置は、給電面につながる導波管の一端の壁を、平面的
にみて加熱室底面の略中央部を中心とする皿形に形成し
たものである。

【００２３】また、本発明の請求項４に係る高周波加熱
装置は、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする
円形または多角形に形成したものである。

【００２４】また、本発明の請求項５に係る高周波加熱
装置は、給電面を、加熱室底面の略中央部を中心とする
円形給電面または多角形給電面と、その周囲に設けたス
ロット給電面とから形成するとともに、スロット給電面
を開閉するスロット開閉手段と、物理量検出手段の検出
結果に基づいてスロット開閉手段を駆動制御するスロッ
ト開閉制御手段とを設けたものである。

【００２５】また、本発明の請求項６に係る高周波加熱
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を多方向にラ
ンダムに反射させる導体で構成された可動スタラを設け
るとともに、物理量検出手段の検出結果に基づいてスタ
ラを駆動制御するスタラ駆動制御手段を設けたものであ
る。

【００２６】また、本発明の請求項７に係る高周波加熱
装置は、導波管内の給電面下方に、高周波を受信して電
界を強くする高周波受信体を設けたものである。

【００２７】また、本発明の請求項８に係る高周波加熱
装置は、高周波受信体を可動機構に取付けるとともに、
物理量検出手段の検出結果に基づいて可動機構を駆動し
て高周波受信体の位置を制御する高周波受信体位置制御
手段を設けたものである。

【００２８】

【発明の実施の形態】実施形態１．以下、図示実施形態
により本発明を説明する。図１は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置を示す縦断面図であり、図中、前述の
第１従来例（図１３）のものに相当する部分には同一符
号を付し、説明を省略する。

【００２９】この第１実施形態の高周波加熱装置は、加
熱室２の下部に、高周波発生器３から発生する高周波７
を加熱室２に伝送する矩形導波管６を配置して、加熱室
２と導波管６の境界である給電面８を、加熱室２の底面
中央に設けている。また給電面８は、導波管６の幅（図
面垂直方向の寸法）と同一となる広さに設定されてい
る。つまり、給電面８が円形であれば、その直径が導波
管６の幅と同一となるように、また給電面８が矩形であ
れば、その図面垂直方向の寸法を導波管６の幅と同一と
なるように設定されている。給電面８の上には、低誘電
率材質から構成されて被加熱物１を設置する設置台１２
が設けられている。なお、物理量検出手段４は、被加熱
物１の重量・形状等を検出し、制御手段５は、物理量検
出手段４の検出結果に基づいて高周波発生器３を制御す
る機能を有する。

【００３０】この第１実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波７は、加熱室２下
部の導波管６を介し、加熱室２の底面中央部の導波管６
と同幅に設定された給電面８から加熱室２に伝搬し、設
置台１２上の被加熱物１の底面中央部から直接照射す
る。このため高周波エネルギは、その大部分が直接被加
熱物１に照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。
従って、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エ
ネルギーロスを大幅に低減することができる。

【００３１】また、被加熱物１の底面中央部から直接高
周波を照射して、被加熱物１の下部を集中的に加熱する
ことで、被加熱物１がミルク、酒等の液体のものである
場合は、対流が発生し、加熱ムラがなくなって、全体的
に均一加熱することができる。更に被加熱物１が解凍
等、底面の大きいものである場合は、被加熱物１の中央
部を集中的に加熱するため、端煮え等のいわゆるランナ
ウェイ現象が発生することなく均一に加熱することがで
きる。

【００３２】このように、この第１実施形態の高周波加
熱装置によれば、従来均一加熱を目的として使用されて
いたターンテーブルを不要にでき、被加熱物１を回転さ
せることなくこれを均一に加熱することができる。

【００３３】また、ターンテーブルを不要とすること
で、装置コストを低減でき、かつ被加熱物１を収納する
有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上す
る。

【００３４】実施形態２．図２は本発明の請求項１，
２，４に係る高周波加熱装置を透過的に示す斜視図、図
３はその横断面図であり、各図中、前述の第１実施形態
（図１）のものと同一機能部には同一符号を付し、説明
を省略する。

【００３５】この第２実施形態の高周波加熱装置は、給
電面８Ａにつながる導波管６Ａの一端の壁６ａを、平面
的にみて加熱室２の底面略中央部を円弧の内側とする曲
面（ここでは加熱室の底面略中央部を中心とする直径が
導波管の幅と同一の円柱状）に形成するとともに、対応
する給電面８Ａを、加熱室２の底面略中央部を中心とす
る円形に形成したものである。

【００３６】この第２実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６Ａに導かれてその先端、つまり加熱室２の底
面中央下部に形成されている円柱状部に進入して、円柱
状部の湾曲した壁６ａの面により、円柱状部の中央部付
近Ａに集められ、中央部付近Ａに高周波エネルギが集中
する。そして、この中央部付近Ａに集中した高周波エネ
ルギは、加熱室２の底面略中央部の円形の給電面８Ａよ
り加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置かれた被加熱物
１の下面中央部に直接照射する。このため高周波エネル
ギは、その大部分が直接被加熱物１に照射され、高効率
で被加熱物１に吸収される。従って、被加熱物１を高効
率で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減
することができる。

【００３７】このように、この第２実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物１を回転させることなくこれを均一に加熱すること
ができる。更にターンテーブルを不要とすることで、装
置コストを低減でき、かつ被加熱物１を収納する有効ス
ペースの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００３８】なお、ここでは導波管６Ａの一端の壁６ａ
を円柱状に、また給電面８Ａを円形に、それぞれ形成し
たものを例に挙げて説明したが、これに限るものでな
く、例えば導波管６Ａの一端の壁６ａを、平面的にみて
加熱室２の底面略中央部を円弧の内側とする湾曲面や多
面体に、また給電面８Ａを楕円や多角形に、それぞれ形
成しても同等の作用、効果が得られる。

【００３９】実施形態３．図４は本発明の請求項１，３
に係る高周波加熱装置を透過的に示す斜視図、図５はそ
の縦断面図であり、各図中、前述の第１実施形態（図
１）のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省
略する。

【００４０】この第３実施形態の高周波加熱装置は、給
電面８Ａにつながる導波管６Ａの一端の壁６ｂを、平面
的にみて加熱室２の底面略中央部を中心とする皿形に形
成したものである。

【００４１】この第３実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６Ａに導かれてその先端、つまり加熱室２の底
面中央下部に形成されている皿形状部に進入して、皿形
状部の湾曲したテーパ状壁６ｂの面によって上方に直接
反射され、加熱室２の底面略中央部の円形の給電面８Ａ
より加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置かれた被加熱
物１の下面中央部に直接照射する。このため高周波エネ
ルギは、その大部分が直接被加熱物１に照射され、高効
率で被加熱物１に吸収される。従って、被加熱物１を高
効率で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低
減することができる。

【００４２】このように、この第３実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物１を回転させることなくこれを均一に加熱すること
ができる。更にターンテーブルを不要とすることで、装
置コストを低減でき、かつ被加熱物１を収納する有効ス
ペースの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００４３】実施形態４．図６は本発明の請求項１に係
る高周波加熱装置の他の例を示す横断面図であり、図
中、前述の第１実施形態（図１）のものと同一機能部に
は同一符号を付し、説明を省略する。

【００４４】この第４実施形態の高周波加熱装置は、給
電面８Ｂにつながる導波管６Ｂの一端の壁６ｃを、平面
的にみて加熱室２の底面略中央部を円弧の内側とする曲
面（ここでは加熱室の底面略中央部を中心とする直径が
導波管の幅よりも大きい円柱状）に形成するとともに、
対応する給電面８Ｂを、加熱室２の底面略中央部を中心
とする直径の大きな円形に形成したものである。

【００４５】この第４実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６Ｂに導かれてその先端、つまり加熱室２の底
面中央下部に形成されている大径の円柱状部に進入し
て、円柱状部の湾曲した壁６ｃの面により、円柱状部の
中央部付近Ｂに集められ、中央部付近Ｂに高周波エネル
ギが集中する。そして、この中央部付近Ｂに集中した高
周波エネルギは、加熱室２の底面略中央部の円形（大径
の）の給電面８Ｂより加熱室２に伝搬し、図示しない設
置台上に置かれた被加熱物の下面中央部に直接照射す
る。このため高周波エネルギは、その大部分が直接被加
熱物に照射され、高効率で被加熱物に吸収される。従っ
て、被加熱物を高効率で加熱することができ、エネルギ
ーロスを大幅に低減することができる。

【００４６】ところで、この第４実施形態の高周波加熱
装置は、前述の第２実施形態のものの高周波エネルギ集
中部となる円柱状部を導波管６Ｂの幅よりも大きくなる
ように設定したものである。従って、高周波エネルギ集
中部となるエリアＢを前述の第２実施形態のものよりも
大きくすることができる。

【００４７】このように、この第４実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００４８】なお、ここでは導波管６Ｂの一端の壁６ｃ
を円柱状に、また給電面８Ｂを円形に、それぞれ形成し
たものを例に挙げて説明したが、これに限るものでな
く、例えば導波管６Ｂの一端の壁６ｃを、平面的にみて
加熱室２の底面略中央部を円弧の内側とする湾曲面や多
面体に、また給電面８Ｂを楕円や多角形に、それぞれ形
成しても同等の作用、効果が得られる。

【００４９】また、この第４実施形態の技術思想、つま
り給電面８Ｂにつながる導波管６Ｂの端部を、ここに至
るまでの導波管６Ｂの幅よりも大きく設定して、広い給
電面８Ｂを得ることは、前述の第１乃至第３実施形態へ
の適用はもとより、後述の全ての実施形態への適用が可
能である。

【００５０】実施形態５．図７は本発明の請求項１，
２，３，５に係る高周波加熱装置の給電面部分を拡大し
て示す平面図で、図７（ａ）はスロット給電面が全開し
ている状態の図、図７（ｂ）はスロット給電面が全閉し
ている状態の図、図８はそのスロット開閉板を示す平面
図、図９はそのスロット開閉手段を含む装置全体構成を
示す縦断面図であり、各図中、前述の第１実施形態（図
１）のものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省
略する。

【００５１】この第５実施形態の高周波加熱装置は、給
電面を、加熱室２の底面略中央部を中心とする円形給電
面（又は多角形給電面）８Ｃと、その周囲４箇所（９０
度毎に）に設けたスロット給電面８Ｄとから形成すると
ともに、各スロット給電面８Ｄを開閉するスロット開閉
手段５０と、物理量検出手段４の検出結果に基づいてス
ロット開閉手段５０を駆動制御するスロット開閉制御機
能が付加された制御手段５Ａとを備えている。

【００５２】これを更に詳述すると、スロット開閉手段
５０は、給電面の下方に重ねて配置されたリング状のス
ロット開閉板５１と、スロット開閉板５１を回動させる
駆動機構５２とから構成されている。

【００５３】スロット開閉板５１は図８に示すようにリ
ング状のプレートからなり、その中央孔５１ａは、円形
給電面（又は多角形部）８Ｃと同形状、寸法に設定され
ている。またスロット開閉板５１の面内の周方向４箇所
には、スロット給電面８Ｄと同形状、寸法に設定された
弧状穴５１ｂが形成されており、各弧状穴５１ｂによっ
て各スロット給電面８Ｄを同時に開放できるようになっ
ているとともに、各弧状穴５１ｂ間の各面部５１ｃによ
って各スロット給電面８Ｄを同時に閉塞できるようにな
っている。更にスロット開閉板５１の外周の一部にはセ
クタギヤ５１ｄが形成され、駆動機構５２のモータ５３
の出力軸に取り付けたピニオン５４と噛み合っている。

【００５４】この第５実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ５３によりピニオン５４を往復回動させる
ことで、スロット開閉板５１を往復回動させる。すなわ
ち、物理量検出手段４で、検出した被加熱物の形状・個
数により、底面が広い被加熱物や複数個の被加熱物があ
る場合は、図７（ａ）に示す如く各スロット給電面８Ｄ
を全開させる。これにより、高周波発生器３で発生し、
加熱室２下部の導波管６を伝搬してきた高周波は、スロ
ット開閉板５１の中央孔５１ａと各弧状穴５１ｂから、
加熱室２の底面中央下部に形成されている円形給電面
（又は多角形給電面）８Ｃと各スロット給電面８Ｄに進
入し、円形給電面（又は多角形給電面）８Ｃと各スロッ
ト給電面８Ｄより加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置
かれた被加熱物の下面中央部に直接照射する。またミル
ク・酒等の被加熱物が１個のみある場合は、駆動機構５
２によってスロット開閉板５１を４５度回転させ、図７
（ｂ）に示す如くスロット開閉板５１の各面部５１ｃに
よって各スロット給電面８Ｄを閉塞し、高周波を中央部
の円形給電面（又は多角形給電面）８Ｃからのみ被加熱
物の下面中央部に直接照射する。このため高周波エネル
ギは、その大部分が直接被加熱物に照射され、高効率で
被加熱物に吸収される。従って、被加熱物を高効率で加
熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減するこ
とができる。

【００５５】このように、この第５実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００５６】また、各スロット給電面８Ｄ部を開閉自在
にしたため、被加熱物の位置、大きさ、種類等に対し
て、高効率に最適な開口パターンで加熱することができ
る。

【００５７】実施形態６．図１０は本発明の請求項１，
２，３，４，５，６に係る高周波加熱装置を示す縦断面
図であり、図中、前述の第１実施形態（図１）のものと
同一機能部には同一符号を付し、説明を省略する。

【００５８】この第６実施形態の高周波加熱装置は、導
波管６内の給電面８の下方に、高周波を多方向にランダ
ムに反射させる導体で構成された可動スタラ６１とこの
スタラ６１を駆動するモータ６２を設けるとともに、物
理量検出手段４の検出結果に基づいてスタラ６１を駆動
制御するスタラ駆動制御機能が付加された制御手段５Ｂ
を設けたものである。

【００５９】この第６実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ６２により加熱室２の底面中央下部に配置
されているスタラ６１を回転させる。これにより、高周
波発生器３で発生し、加熱室２下部の導波管６を伝搬し
てきた高周波を、スタラ６１によって多方向に反射さ
せ、加熱室２の底面略中央部の給電面８より加熱室２に
伝搬し、設置台１２上に置かれた被加熱物１に対して直
接ランダムに照射する。従って、底面の広い被加熱物や
複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。このよ
うに高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１に
照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。

【００６０】このように、この第６実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００６１】実施形態７．図１１は本発明の請求項１，
２，３，４，５，７に係る高周波加熱装置を示す縦断面
図であり、図中、前述の第１実施形態（図１）のものと
同一機能部には同一符号を付し、説明を省略する。

【００６２】この第７実施形態の高周波加熱装置は、導
波管６内の給電面８の下方に、高周波を受信して電界を
強くする波長の１／４以上の長さに設定された高周波受
信体７１を設けたものである。

【００６３】この第７実施形態の高周波加熱装置におい
て、高周波発生器３で発生した高周波は、加熱室２下部
の導波管６を伝搬して、加熱室２の底面略中央部の給電
面８より加熱室２に伝搬し、設置台１２上に置かれた被
加熱物１の底面に直接照射する。このとき、導波管６を
伝搬してきた高周波は、一旦、高周波受信体７１に受信
される。このため、高周波受信体７１周りに強電界域Ｃ
が発生し、被加熱物１の底面への照射効率が向上する。
従って高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物１
に照射され、高効率で被加熱物１に吸収される。このた
め、被加熱物１を高効率で加熱することができ、エネル
ギーロスを大幅に低減することができる。

【００６４】このように、この第７実施形態の高周波加
熱装置においても、ターンテーブルを不要にでき、被加
熱物を回転させることなくこれを均一に加熱することが
できる。更にターンテーブルを不要とすることで、装置
コストを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペー
スの拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００６５】実施形態８．図１２は本発明の請求項１，
２，３，４，５，７，８に係る高周波加熱装置を示す縦
断面図であり、図中、前述の第７実施形態（図１１）の
ものと同一機能部には同一符号を付し、説明を省略す
る。

【００６６】この第８実施形態の高周波加熱装置は、高
周波を受信して電界を強くする波長の１／４以上の長さ
に設定されて導波管６内の給電面８の下方に配置される
高周波受信体７１を、水平回転板７２に取り付け、回転
板７２をモータ７３により駆動できるようにするととも
に、物理量検出手段４の検出結果に基づいて回転板７２
を駆動制御して高周波受信体７１の位置を制御する高周
波受信体駆動制御機能が付加された制御手段５Ｃを設け
たものである。

【００６７】この第８実施形態の高周波加熱装置におい
ては、モータ７３により回転板７２を回転させて高周波
受信体７１の位置を変えることで、高周波を受信する場
所を任意に指定でき、任意の加熱分布にすることができ
る。これにより、任意の被加熱物１に対して高効率で、
かつ加熱ムラを押さえて加熱することができる。すなわ
ち、被加熱物１に対して高効率で高周波エネルギを直接
照射することができる。このため、被加熱物１を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。

【００６８】また、この第８実施形態の高周波加熱装置
においても、ターンテーブルを不要にでき、被加熱物を
回転させることなくこれを均一に加熱することができ
る。更にターンテーブルを不要とすることで、装置コス
トを低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの
拡大が図れ、清掃性・操作性も向上する。

【００６９】

【発明の効果】以上述べたように、請求項１の発明によ
れば、加熱室下部の略中央部と導波管の境界に、ここに
至るまでの導波管の幅と同一か又はそれよりも広い給電
面を設定したので、高周波エネルギの大部分を直接被加
熱物に照射することができて、高効率で被加熱物に吸収
させることができる。このため、被加熱物を高効率で加
熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減するこ
とができるとともに、ランナウェイ現象の発生を防ぎ、
均一に加熱することができる。更にターンテーブルを不
要とすることができて、装置コストを低減でき、かつ被
加熱物を収納する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・
操作性を向上させることができる。

【００７０】また、請求項２の発明によれば、給電面に
つながる導波管の一端の壁を、平面的にみて加熱室底面
の略中央部を円弧の内側とする曲面または多面体に形成
したので、加熱室底面の中央部付近に高周波エネルギを
集中させることができて、被加熱物を高効率で加熱する
ことができる。このため、エネルギーロスを大幅に低減
することができるとともに、ランナウェイ現象の発生を
防ぎ、均一に加熱することができる。更にターンテーブ
ルを不要とすることができて、装置コストを低減でき、
かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大が図れ、清
掃性・操作性を向上させることができる。

【００７１】また、請求項３の発明によれば、給電面に
つながる導波管の一端の壁を、平面的にみて加熱室底面
の略中央部を中心とする皿形に形成したので、加熱室下
部の導波管に導かれてきた高周波エネルギを、皿形状部
の湾曲したテーパ状壁の面によって上方に直接反射さ
せ、加熱室の底面略中央部の円形の給電面より加熱室に
直接反射させて伝搬させることができる。このため、加
熱室底面の中央部付近に高周波エネルギを集中させるこ
とができて、被加熱物を高効率で加熱することができ
る。またエネルギーロスを大幅に低減することができる
とともに、ランナウェイ現象の発生を防ぎ、均一に加熱
することができる。更にターンテーブルを不要とするこ
とができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収
納する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向
上させることができる。

【００７２】また、請求項４の発明によれば、給電面
を、加熱室底面の略中央部を中心とする円形または多角
形に形成したので、下方の導波管からの高周波エネルギ
を効率よく加熱室内に伝搬させることができる。更にタ
ーンテーブルを不要とすることができて、装置コストを
低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大
が図れ、清掃性・操作性を向上させることができる。

【００７３】また、請求項５の発明によれば、給電面
を、加熱室底面の略中央部を中心とする円形給電面また
は多角形給電面と、その周囲に設けたスロット給電面と
から形成するとともに、スロット給電面を開閉するスロ
ット開閉手段と、物理量検出手段の検出結果に基づいて
スロット開閉手段を駆動制御するスロット開閉制御手段
とを設けたので、被加熱物の位置、大きさ、種類等に対
して、高効率に最適な開口パターンで加熱することがで
きる。また下方の導波管からの高周波エネルギを、加熱
室底面の略中央部を中心とする円形または多角形に形成
された給電面より、下方の導波管からの高周波エネルギ
を効率よく加熱室内に伝搬させることができる。更にタ
ーンテーブルを不要とすることができて、装置コストを
低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大
が図れ、清掃性・操作性を向上させることができる。

【００７４】また、請求項６の発明によれば、導波管内
の給電面下方に、高周波を多方向にランダムに反射させ
る導体で構成された可動スタラを設けるとともに、物理
量検出手段の検出結果に基づいてスタラを駆動制御する
スタラ駆動制御手段を設けたので、加熱室下部の導波管
を伝搬してきた高周波を、スタラによって多方向に反射
させて、加熱室の底面略中央部の給電面より加熱室に伝
搬させ、設置台上に置かれた被加熱物に対して直接ラン
ダムに照射させることができる。このため、底面の広い
被加熱物や複数個の被加熱物を加熱する際に被加熱物を
高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱することができ
る。このように高周波エネルギは、その大部分が直接被
加熱物１に照射され、高効率で被加熱物に吸収される。
このため、被加熱物１を高効率で加熱することができ、
エネルギーロスを大幅に低減することができる。更にタ
ーンテーブルを不要とすることができて、装置コストを
低減でき、かつ被加熱物を収納する有効スペースの拡大
が図れ、清掃性・操作性を向上させることができる。

【００７５】また、請求項７の発明によれば、導波管内
の給電面下方に、高周波を受信して電界を強くする高周
波受信体を設けたので、高周波受信体周り強電界域が発
生し、被加熱物の底面への照射効率が向上する。従って
高周波エネルギは、その大部分が直接被加熱物に照射さ
れ、高効率で被加熱物に吸収される。このため、被加熱
物１を高効率で加熱することができ、エネルギーロスを
大幅に低減することができる。更にターンテーブルを不
要とすることができて、装置コストを低減でき、かつ被
加熱物を収納する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・
操作性を向上させることができる。

【００７６】また、請求項８の発明によれば、高周波受
信体を可動機構に取付けるとともに、物理量検出手段の
検出結果に基づいて可動機構を駆動して高周波受信体の
位置を制御する高周波受信体位置制御手段を設けたの
で、高周波を受信する場所を任意に指定でき、任意の加
熱分布にすることができる。このため、任意の被加熱物
に対して高効率で、かつ加熱ムラを押さえて加熱するこ
とができる。また、被加熱物に対して高効率で高周波エ
ネルギを直接照射することができて、被加熱物を高効率
で加熱することができ、エネルギーロスを大幅に低減す
ることができる。更にターンテーブルを不要とすること
ができて、装置コストを低減でき、かつ被加熱物を収納
する有効スペースの拡大が図れ、清掃性・操作性を向上
させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の第１実施形態に係る高周波加熱装置
の縦断面図である。

【図２】 本発明の第２実施形態に高周波加熱装置を透
過的に示す斜視図である。

【図３】 第２実施形態に係る高周波加熱装置の構成図
である。

【図４】 本発明の第第３実施形態に係る高周波加熱装
置を透過的に示す斜視図である。

【図５】 第３実施形態に係る高周波加熱装置の縦断面
図である。

【図６】 本発明の第４実施形態に係る高周波加熱装置
の横断面図である。

【図７】 本発明の第５実施形態に係る高周波加熱装置
の給電面部分を拡大して示す平面図である。

【図８】 第５実施形態に係る高周波加熱装置のスロッ
ト開閉板を示す平面図である。

【図９】 第５実施形態に係る高周波加熱装置の全体構
成を示す縦断面図である。

【図１０】 本発明の第６実施形態に係る高周波加熱装
置の縦断面図である。

【図１１】 本発明の第７実施形態に係る高周波加熱装
置の縦断面図である。

【図１２】 本発明の第８実施形態に係る高周波加熱装
置の縦断面図である。

【図１３】 第１従来例の高周波加熱装置を示す縦断面
図である。

【図１４】 第２従来例の高周波加熱装置を示す縦断面
図である。

【図１５】 第３従来例の高周波加熱装置を示す縦断面
図である。

【図１６】 第４従来例の高周波加熱装置を示す縦断面
図である。

【符号の説明】

１ 被加熱物、２ 加熱室、３ 高周波発生器、４ 物
理量検出手段、５ 制御手段、５Ａ 制御手段（スロッ
ト開閉制御手段）、５Ｂ 制御手段（スタラ駆動制御手
段）、５Ｃ 制御手段（高周波受信体位置制御手段）、
６，６Ａ，６Ｂ導波管、６ａ，６ｂ，６ｃ 導波管の一
端の壁、７ 高周波、８，８Ａ，８Ｂ給電面、８Ｃ 円
形給電面、８Ｄ スロット給電面、１２ 設置台、５０
スロット開閉手段、６１ 可動スタラ、７１ 高周波
受信体、７２ 水平回転板（高周波受信体可動機構）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮前 哲也 埼玉県大里郡花園町大字小前田1728番地１ 三菱電機ホーム機器株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被加熱物を収納する加熱室と、 高周波を発生する高周波発生器と、 被加熱物の重量・形状等を検出する物理量検出手段と、 該物理量検出手段の検出結果に基づいて前記高周波発生
   器を制御する制御手段と、 前記加熱室下部に設けられ、前記高周波発生器から発生
   する高周波を前記加熱室に伝送する導波管と、 前記加熱室下部の略中央部と前記導波管の境界に設けら
   れ、ここに至るまでの導波管の幅と同一か又はそれより
   も広く設定された給電面と、 低誘電率材質からなり、前記給電面上に設けられて被加
   熱物を設置する設置台と、を備えたことを特徴とする高
   周波加熱装置。
2. 【請求項２】 給電面につながる導波管の一端の壁を、
   平面的にみて加熱室底面の略中央部を円弧の内側とする
   曲面または多面体に形成したことを特徴とする請求項１
   記載の高周波加熱装置。
3. 【請求項３】 給電面につながる導波管の一端の壁を、
   平面的にみて加熱室底面の略中央部を中心とする皿形に
   形成したことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱装
   置。
4. 【請求項４】 給電面を、加熱室底面の略中央部を中心
   とする円形または多角形に形成したことを特徴とする請
   求項１乃至請求項３のいずれかに記載の高周波加熱装
   置。
5. 【請求項５】 給電面を、加熱室底面の略中央部を中心
   とする円形給電面または多角形給電面と、その周囲に設
   けたスロット給電面とから形成するとともに、 該スロット給電面を開閉するスロット開閉手段と、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記スロット開閉
   手段を駆動制御するスロット開閉制御手段と、を設けた
   ことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記
   載の高周波加熱装置。
6. 【請求項６】 導波管内の給電面下方に、高周波を多方
   向にランダムに反射させる導体で構成された可動スタラ
   を設けるとともに、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記スタラを駆動
   制御するスタラ駆動制御手段を設けたことを特徴とする
   請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の高周波加熱装
   置。
7. 【請求項７】 導波管内の給電面下方に、高周波を受信
   して電界を強くする高周波受信体を設けたことを特徴と
   する請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の高周波加
   熱装置。
8. 【請求項８】 高周波受信体を可動機構に取付けるとと
   もに、 物理量検出手段の検出結果に基づいて前記可動機構を駆
   動して前記高周波受信体の位置を制御する高周波受信体
   位置制御手段を設けたことを特徴とする請求項７記載の
   高周波加熱装置。