JPH11290636A - 空気清浄装置 - Google Patents
空気清浄装置Info
- Publication number
- JPH11290636A JPH11290636A JP10104399A JP10439998A JPH11290636A JP H11290636 A JPH11290636 A JP H11290636A JP 10104399 A JP10104399 A JP 10104399A JP 10439998 A JP10439998 A JP 10439998A JP H11290636 A JPH11290636 A JP H11290636A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- filter
- stage
- filters
- chemical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ケミカルフィルタの層厚を薄減して多層化す
ることによりＳＶ値を小さくし、これによりガス状汚染
物質に対する除去性能及び耐久性の向上とを図る。 【解決手段】 酸性ガス用、塩基性ガス用、有機ガス用
の３種類のケミカルフィルタの層厚を通常よりも薄減す
る。それらフィルタの組合わせを同一にして前段１０と
後段２０の２段に分ける。前段１０で比較的濃度の高い
成分の除去する。後段２０で前段１０で除去され難かっ
た成分を効率よく除去し得る構成となす。
ることによりＳＶ値を小さくし、これによりガス状汚染
物質に対する除去性能及び耐久性の向上とを図る。 【解決手段】 酸性ガス用、塩基性ガス用、有機ガス用
の３種類のケミカルフィルタの層厚を通常よりも薄減す
る。それらフィルタの組合わせを同一にして前段１０と
後段２０の２段に分ける。前段１０で比較的濃度の高い
成分の除去する。後段２０で前段１０で除去され難かっ
た成分を効率よく除去し得る構成となす。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体や液晶生
産施設又はその周辺技術関連のクリーンルーム用として
ケミカルフィルタを内装した空気清浄装置に関するもの
である。
産施設又はその周辺技術関連のクリーンルーム用として
ケミカルフィルタを内装した空気清浄装置に関するもの
である。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】デバイスの微細化、高
集積化に伴い、半導体や液晶生産施設のクリーンルーム
はもちろんのこと、その周辺技術関連のクリーンルーム
においても微粒子だけでなく、酸性ガス、塩基性ガス、
有機ガス等のガス状（分子）物質による汚染対策が要求
されている。
集積化に伴い、半導体や液晶生産施設のクリーンルーム
はもちろんのこと、その周辺技術関連のクリーンルーム
においても微粒子だけでなく、酸性ガス、塩基性ガス、
有機ガス等のガス状（分子）物質による汚染対策が要求
されている。
【０００３】分子汚染の防止対策としては、クリーンル
ーム構成材料等からの汚染分子の発生抑止と、ケミカル
フィルタによる汚染分子の除去が主に行われている。ケ
ミカルフィルタとしては活性炭、活性炭素繊維、化学吸
着剤、イオン交換繊維等が使用されてる。活性炭は大き
な比表面積を有しており、低濃度のガス吸着には古くか
ら実績のある代表的な吸着剤である。特に有機ガスの吸
着除去では活性炭系の吸着剤が使われるのが一般的であ
る。
ーム構成材料等からの汚染分子の発生抑止と、ケミカル
フィルタによる汚染分子の除去が主に行われている。ケ
ミカルフィルタとしては活性炭、活性炭素繊維、化学吸
着剤、イオン交換繊維等が使用されてる。活性炭は大き
な比表面積を有しており、低濃度のガス吸着には古くか
ら実績のある代表的な吸着剤である。特に有機ガスの吸
着除去では活性炭系の吸着剤が使われるのが一般的であ
る。
【０００４】要求される分子汚染レベルも技術の進歩に
伴って、１０ｎｇ／ｍ3 以下という高度なレベルが求め
られるケースも生じている。ケミカルフィルタで汚染分
子の除去性能を高め、寿命を長くするためには、空間速
度（ＳＶ：処理風量を吸着剤の容積で割った値）を小さ
くする必要がある。またケミカルフィルタは除去する対
象汚染物質に応じてフィルタの種類を選定する必要があ
り、総合的に除去するためには酸性ガス用、塩基性ガス
用、有機ガス用の３種類のケミカルフィルタを組合わせ
て使用している。
伴って、１０ｎｇ／ｍ3 以下という高度なレベルが求め
られるケースも生じている。ケミカルフィルタで汚染分
子の除去性能を高め、寿命を長くするためには、空間速
度（ＳＶ：処理風量を吸着剤の容積で割った値）を小さ
くする必要がある。またケミカルフィルタは除去する対
象汚染物質に応じてフィルタの種類を選定する必要があ
り、総合的に除去するためには酸性ガス用、塩基性ガス
用、有機ガス用の３種類のケミカルフィルタを組合わせ
て使用している。
【０００５】上記３種のケミカルフィルタの組合わせに
よる場合、ＳＶ値を小さくする手段として、従来では単
純に各フィルタの層厚を厚くする方法を採用している。
図６は、その従来装置の１例を示すものであって、１は
酸性ガス用フィルタ、２は塩基性ガス用フィルタ、３は
有機ガス用フィルタである。それらフィルタの層厚は６
ｃｍで、ルームエアの入口側にプレフィルタ４を備えた
円筒形の本体５の内部に１０ｃｍ間隔にて３層に組み込
まれており、本体５の流出側には吸引ポンプ６が接続し
てある。
よる場合、ＳＶ値を小さくする手段として、従来では単
純に各フィルタの層厚を厚くする方法を採用している。
図６は、その従来装置の１例を示すものであって、１は
酸性ガス用フィルタ、２は塩基性ガス用フィルタ、３は
有機ガス用フィルタである。それらフィルタの層厚は６
ｃｍで、ルームエアの入口側にプレフィルタ４を備えた
円筒形の本体５の内部に１０ｃｍ間隔にて３層に組み込
まれており、本体５の流出側には吸引ポンプ６が接続し
てある。
【０００６】上記各フィルタの吸着剤は、酸性ガス用、
塩基性ガス用そして有機ガス用の３種類の活性炭系吸着
剤で、何れも４〜８メッシュのヤシ殻破砕炭をベースに
しており、酸性ガス用にはアルカリ性の薬品が、また塩
基性ガス用には酸性の薬品がそれぞれ添着してあるが、
有機ガス用は何も処理していない活性炭である。なお、
塩基性ガス用にはイオン交換繊維や化学吸収剤を使用す
ることが可能であり、有機ガス用としては活性炭素繊維
を用いることができる。
塩基性ガス用そして有機ガス用の３種類の活性炭系吸着
剤で、何れも４〜８メッシュのヤシ殻破砕炭をベースに
しており、酸性ガス用にはアルカリ性の薬品が、また塩
基性ガス用には酸性の薬品がそれぞれ添着してあるが、
有機ガス用は何も処理していない活性炭である。なお、
塩基性ガス用にはイオン交換繊維や化学吸収剤を使用す
ることが可能であり、有機ガス用としては活性炭素繊維
を用いることができる。
【０００７】上記吸着剤は、間隔を同一にして３層に組
み立てられた内径３０ｍｍφの吸着カラムのそれぞれ
に、ＳＶ３０，０００／ｈになるように４０ｍｌづつ充
填されている。各フィルタの組合わせは、窒素酸化物を
活性炭で吸着する場合、何も処理しない活性炭では二酸
化窒素を一酸化窒素に還元脱離する性質があることか
ら、酸性ガス用フィルタ１を入口側に一層目として設置
し、二層目に塩基性ガス用フィルタ２、三層目を有機ガ
ス用フィルタ３の順番としている。
み立てられた内径３０ｍｍφの吸着カラムのそれぞれ
に、ＳＶ３０，０００／ｈになるように４０ｍｌづつ充
填されている。各フィルタの組合わせは、窒素酸化物を
活性炭で吸着する場合、何も処理しない活性炭では二酸
化窒素を一酸化窒素に還元脱離する性質があることか
ら、酸性ガス用フィルタ１を入口側に一層目として設置
し、二層目に塩基性ガス用フィルタ２、三層目を有機ガ
ス用フィルタ３の順番としている。
【０００８】上記構成の従来装置によるイオン除去率
は、図７に示す経時変化から明らかなように、塩素イオ
ンに対する除去率が他のイオンに比べて除去性能が低
く、除去率のばらつきも大きくなっている。入口空気の
イオン濃度は各イオンとも比較的変動が小さく、平均濃
度は高い方から順にＮＯ2 -が約７，５００ｎｇ／ｍ3 、
ＮＨ4 +が約４，３００ｎｇ／ｍ3 、ＳＯ4 2- が約２，１
００ｎｇ／ｍ3 、そしてＣｌ- が最も低くて約２８０ｎ
ｇ／ｍ3 である。
は、図７に示す経時変化から明らかなように、塩素イオ
ンに対する除去率が他のイオンに比べて除去性能が低
く、除去率のばらつきも大きくなっている。入口空気の
イオン濃度は各イオンとも比較的変動が小さく、平均濃
度は高い方から順にＮＯ2 -が約７，５００ｎｇ／ｍ3 、
ＮＨ4 +が約４，３００ｎｇ／ｍ3 、ＳＯ4 2- が約２，１
００ｎｇ／ｍ3 、そしてＣｌ- が最も低くて約２８０ｎ
ｇ／ｍ3 である。
【０００９】この入口空気のイオン濃度から、塩素イオ
ンに対する除去率の低さは、塩素イオン濃度が他のイオ
ンに比べて濃度が低いことに起因していると思われる。
その他のイオンについては初期から３，７００時間経過
後までほぼ８０％以上の除去率を維持している。
ンに対する除去率の低さは、塩素イオン濃度が他のイオ
ンに比べて濃度が低いことに起因していると思われる。
その他のイオンについては初期から３，７００時間経過
後までほぼ８０％以上の除去率を維持している。
【００１０】上記酸性ガスと塩基性ガスに対する除去性
能は、超純水５０ｍｌを入れたＰＰ製のインピンジャー
を用いて１ｌ／ｍｉｎの流量で約１６時間サンプリング
し、陰イオン（Ｃｌ- ，ＮＯ2 -，ＮＯ3 -，ＳＯ4 2- ）及
び陽イオン（ＮＨ4 +）濃度をイオンクロマトグラフィー
（ダイオネクス製ＤＸ−１００及びＱＩＣ）で分析した
結果である。
能は、超純水５０ｍｌを入れたＰＰ製のインピンジャー
を用いて１ｌ／ｍｉｎの流量で約１６時間サンプリング
し、陰イオン（Ｃｌ- ，ＮＯ2 -，ＮＯ3 -，ＳＯ4 2- ）及
び陽イオン（ＮＨ4 +）濃度をイオンクロマトグラフィー
（ダイオネクス製ＤＸ−１００及びＱＩＣ）で分析した
結果である。
【００１１】次に、各フィルタのトータルの有機ガスに
対する除去率についても、入口濃度は４５〜３１０μｇ
・Ｃ／ｍ3 の範囲で、平均濃度は約１６０μｇ・Ｃ／ｍ
3 、成分的にはトルエンが約半分を占めていたが、図８
に示す経時変化によると、一層目の酸性ガス用フィルタ
１及び二層目の塩基性ガス用フィルタ２でも、ＳＶ値が
１５，０００／ｈより小さければ８０％以上の有機ガス
の除去が行われるとのことである。これは薬品を添着し
た活性炭であっても有機ガスに対する除去性能は、薬品
の添着のない活性炭と同程度にあることを示す。
対する除去率についても、入口濃度は４５〜３１０μｇ
・Ｃ／ｍ3 の範囲で、平均濃度は約１６０μｇ・Ｃ／ｍ
3 、成分的にはトルエンが約半分を占めていたが、図８
に示す経時変化によると、一層目の酸性ガス用フィルタ
１及び二層目の塩基性ガス用フィルタ２でも、ＳＶ値が
１５，０００／ｈより小さければ８０％以上の有機ガス
の除去が行われるとのことである。これは薬品を添着し
た活性炭であっても有機ガスに対する除去性能は、薬品
の添着のない活性炭と同程度にあることを示す。
【００１２】またＳＶ値が３０，０００／ｈに大きくな
ると、有機ガス用フィルタ３による最終出口での有機ガ
スの除去性能は，３，５００時間経過後では７０％を下
回るとのことであるが、ＳＶ値が１０，０００／ｈで
は、３，５００時間経過後の最終出口の除去率は９０％
ほどとなっている。なお、酸性ガス用及び塩基性ガス用
ケミカルフィルタでも炭素系のケミカルフィルタは有機
ガスを除去できるが、イオン交換繊維や化学吸着剤では
有機ガスを除去することはできない。
ると、有機ガス用フィルタ３による最終出口での有機ガ
スの除去性能は，３，５００時間経過後では７０％を下
回るとのことであるが、ＳＶ値が１０，０００／ｈで
は、３，５００時間経過後の最終出口の除去率は９０％
ほどとなっている。なお、酸性ガス用及び塩基性ガス用
ケミカルフィルタでも炭素系のケミカルフィルタは有機
ガスを除去できるが、イオン交換繊維や化学吸着剤では
有機ガスを除去することはできない。
【００１３】上記有機ガスの分析はＦＩＤ付きガスクロ
マトグラフ（島津製ＧＣ−１７Ａ）を用いて常温吸着濃
縮法により行ったものであり、吸着捕集管としては、充
填剤としてＴｅｎａｘ−ＧＲを充填した捕集管（Ｔｅｎ
ａｘ捕集管）を用い、サンプル空気中の有機ガスを０．
５ｌ／ｍｉｎの流量で２０分間吸着捕集した後、加熱導
入装置でキャリアガス（Ｈｅ）を流しながら捕集管を２
８０℃に加熱し、吸着した有機ガスを脱離させてＧＣで
測定した結果である。
マトグラフ（島津製ＧＣ−１７Ａ）を用いて常温吸着濃
縮法により行ったものであり、吸着捕集管としては、充
填剤としてＴｅｎａｘ−ＧＲを充填した捕集管（Ｔｅｎ
ａｘ捕集管）を用い、サンプル空気中の有機ガスを０．
５ｌ／ｍｉｎの流量で２０分間吸着捕集した後、加熱導
入装置でキャリアガス（Ｈｅ）を流しながら捕集管を２
８０℃に加熱し、吸着した有機ガスを脱離させてＧＣで
測定した結果である。
【００１４】また上記結果は、外気処理を想定して外気
に近い室内空気をプレフィルタ４を通して吸着カラムに
導き、各段の入口及び出口でイオン濃度および有機ガス
濃度を測定したことによるものであるが、室内循環空気
処理の場合にも同様な結果となる。
に近い室内空気をプレフィルタ４を通して吸着カラムに
導き、各段の入口及び出口でイオン濃度および有機ガス
濃度を測定したことによるものであるが、室内循環空気
処理の場合にも同様な結果となる。
【００１５】このように各層厚を厚くして、ＳＶ値を小
さくして除去性能を高めるという従来装置では、高い除
去性能を長く維持することが難しく、また相対的に濃度
の低い成分に対する除去性能が劣るなどの課題を有す
る。
さくして除去性能を高めるという従来装置では、高い除
去性能を長く維持することが難しく、また相対的に濃度
の低い成分に対する除去性能が劣るなどの課題を有す
る。
【００１６】この発明は、上記従来の課題を解決するた
めに考えられたものであつて、その目的は、ケミカルフ
ィルタの層厚を薄減して多層化することによりＳＶ値を
小さくし、これによりガス状汚染物質に対する除去性能
及び耐久性の向上とを図った新たな構成の空気清浄装置
を提供することにある。
めに考えられたものであつて、その目的は、ケミカルフ
ィルタの層厚を薄減して多層化することによりＳＶ値を
小さくし、これによりガス状汚染物質に対する除去性能
及び耐久性の向上とを図った新たな構成の空気清浄装置
を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的によるこの発明
は、酸性ガス用、塩基性ガス用、有機ガス用の３種類の
ケミカルフィルタの層厚を通常よりも薄減し、それらフ
ィルタの組合わせを同一にして前段と後段との２段に分
け、前段で比較的濃度の高い成分の除去を、後段では前
段で除去され難かった成分を、該成分の相対的な濃度の
高まりにより効率よく除去し得るように構成してなる、
というものである。
は、酸性ガス用、塩基性ガス用、有機ガス用の３種類の
ケミカルフィルタの層厚を通常よりも薄減し、それらフ
ィルタの組合わせを同一にして前段と後段との２段に分
け、前段で比較的濃度の高い成分の除去を、後段では前
段で除去され難かった成分を、該成分の相対的な濃度の
高まりにより効率よく除去し得るように構成してなる、
というものである。
【００１８】このような構成では、各層厚が従来より薄
く形成されてもケミカルフィルタの多層化によりＳＶ値
が小さくなり、また酸性及び塩基性イオンと有機ガスの
除去が、同一組合わせによる前後２段の多層フィルタに
より行われる結果、高い除去性能を長く維持でき、また
相対的に濃度の低い成分に対する除去性能も著しく向上
し、ケミカルフィルタの耐久性も長くなる。
く形成されてもケミカルフィルタの多層化によりＳＶ値
が小さくなり、また酸性及び塩基性イオンと有機ガスの
除去が、同一組合わせによる前後２段の多層フィルタに
より行われる結果、高い除去性能を長く維持でき、また
相対的に濃度の低い成分に対する除去性能も著しく向上
し、ケミカルフィルタの耐久性も長くなる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は、この発明の空気浄化装置
の１実施形態を示すもので、１１，１２は酸性ガス用フ
ィルタ、１２，２２は塩基性ガス用フィルタ、１３，２
３は有機ガス用フィルタである。それらフィルタの層厚
は従来装置の層厚の１／２（３ｃｍ）で、ルームエアの
入口側にプレフィルタ４を備えた従来装置と同径の円筒
形の本体５の内部に一定間隔にて、６層に組み込まれて
おり、本体５の流出側には吸引ポンプ６が接続してあ
る。
の１実施形態を示すもので、１１，１２は酸性ガス用フ
ィルタ、１２，２２は塩基性ガス用フィルタ、１３，２
３は有機ガス用フィルタである。それらフィルタの層厚
は従来装置の層厚の１／２（３ｃｍ）で、ルームエアの
入口側にプレフィルタ４を備えた従来装置と同径の円筒
形の本体５の内部に一定間隔にて、６層に組み込まれて
おり、本体５の流出側には吸引ポンプ６が接続してあ
る。
【００２０】上記３種類のケミカルフィルタは、従来装
置のケミカルフィルタと同様に、吸着剤は酸性ガス用、
塩基性ガス用そして有機ガス用の３種類の活性炭系吸着
剤で、何れも４〜８メッシュのヤシ殻破砕炭をベースに
しており、酸性ガス用にはアルカリ性の薬品が、また塩
基性ガス用には酸性の薬品が添着してあるが、有機ガス
用は何も処理していない活性炭である。なお、塩基性ガ
ス用及び塩基性ガス用ケミカルフィルタとしてはイオン
交換繊維や化学吸収剤を用いることも可能であり、また
有機ガス用には活性炭素繊維を用いることができる。
置のケミカルフィルタと同様に、吸着剤は酸性ガス用、
塩基性ガス用そして有機ガス用の３種類の活性炭系吸着
剤で、何れも４〜８メッシュのヤシ殻破砕炭をベースに
しており、酸性ガス用にはアルカリ性の薬品が、また塩
基性ガス用には酸性の薬品が添着してあるが、有機ガス
用は何も処理していない活性炭である。なお、塩基性ガ
ス用及び塩基性ガス用ケミカルフィルタとしてはイオン
交換繊維や化学吸収剤を用いることも可能であり、また
有機ガス用には活性炭素繊維を用いることができる。
【００２１】上記吸着剤は、ＳＶ値が６０，０００／ｈ
になるように２０ｍｌづつ充填されており、酸性ガス用
フィルタ１１、塩基性ガス用フィルタ１２、有機ガス用
フィルタ１３の順番で組合わせた１組を前段１０とし、
酸性ガス用フィルタ２１、塩基性ガス用フィルタ２２、
有機ガス用フィルタ２３の順番で組合わせた他の１組を
後段２０として、それぞれ酸性ガス用フィルタ１１，２
１を一層目にして前後２段に構成してなる。
になるように２０ｍｌづつ充填されており、酸性ガス用
フィルタ１１、塩基性ガス用フィルタ１２、有機ガス用
フィルタ１３の順番で組合わせた１組を前段１０とし、
酸性ガス用フィルタ２１、塩基性ガス用フィルタ２２、
有機ガス用フィルタ２３の順番で組合わせた他の１組を
後段２０として、それぞれ酸性ガス用フィルタ１１，２
１を一層目にして前後２段に構成してなる。
【００２２】上記構成では、１段構成の従来装置（以下
１段構成と称する）と同様なイオンの除去及び有機ガス
の除去が前段１０と後段２０の２段で繰返し行われる。
前段１０のイオンに対する除去性能の経時変化を図２に
示すと、各フィルタの吸着剤の使用量は１段の場合の１
／２であるにも拘らず各イオンに対する除去性能は１段
構成の場合とほぼ同程度となった。
１段構成と称する）と同様なイオンの除去及び有機ガス
の除去が前段１０と後段２０の２段で繰返し行われる。
前段１０のイオンに対する除去性能の経時変化を図２に
示すと、各フィルタの吸着剤の使用量は１段の場合の１
／２であるにも拘らず各イオンに対する除去性能は１段
構成の場合とほぼ同程度となった。
【００２３】また後段２０のイオンに対する除去性能の
経時変化を図３に示すと、後段出口での除去性能は図７
に示す１段構成の出口や図２の前段１０の出口での除去
性能に比べて明らかに優っており、塩素イオンに対して
もほぼ８０％以上の除去性能が３，７００時間経過後も
維持されている。塩素イオンの次に入口濃度の低い硝酸
イオンの除去率は約９０％であり亜硝酸イオン、硫酸イ
オン、アンモニウムイオンについては９５％以上の除去
率が維持されている。なお、イオンの分析方法は上記従
来装置の場合と同様な方法により行った結果である。
経時変化を図３に示すと、後段出口での除去性能は図７
に示す１段構成の出口や図２の前段１０の出口での除去
性能に比べて明らかに優っており、塩素イオンに対して
もほぼ８０％以上の除去性能が３，７００時間経過後も
維持されている。塩素イオンの次に入口濃度の低い硝酸
イオンの除去率は約９０％であり亜硝酸イオン、硫酸イ
オン、アンモニウムイオンについては９５％以上の除去
率が維持されている。なお、イオンの分析方法は上記従
来装置の場合と同様な方法により行った結果である。
【００２４】このように、同じ吸着剤量を使用した場合
でも、同一組合わせのケミカルフィルタを１段構成の場
合よりも層厚を薄減して前後２段に構成したの方が、除
去性能に優れることが明らかになった。この理由として
は、多成分のガス状汚染物質が複合した系においては共
存するガス成分によって除去性能が影響を受けるためだ
と推察される。
でも、同一組合わせのケミカルフィルタを１段構成の場
合よりも層厚を薄減して前後２段に構成したの方が、除
去性能に優れることが明らかになった。この理由として
は、多成分のガス状汚染物質が複合した系においては共
存するガス成分によって除去性能が影響を受けるためだ
と推察される。
【００２５】つまり、１段構成の場合には最初に酸性ガ
ス成分が除去されるが、比較的濃度の低い塩素イオンは
他の濃度の高い成分の吸着が優先されるために除去性能
が他成分に比べて低くなる。一方、前後２段の場合には
前段１０で濃度の高い成分が除去されているので、後段
２０の酸性ガス用フィルタ２１での入口塩素イオン濃度
が相対的に高くなり、除去されやすくなるからである。
ス成分が除去されるが、比較的濃度の低い塩素イオンは
他の濃度の高い成分の吸着が優先されるために除去性能
が他成分に比べて低くなる。一方、前後２段の場合には
前段１０で濃度の高い成分が除去されているので、後段
２０の酸性ガス用フィルタ２１での入口塩素イオン濃度
が相対的に高くなり、除去されやすくなるからである。
【００２６】次に、前段１０における有機ガス除去率の
経時変化を図４に示すと、一層目の除去率はＳＶ値が大
きい分だけ初期除去率が低く、時間的な劣化も早い。し
かし二層目と三層目の出口については、図９に示す１段
構成の二層目の出口と同程度の除去性能を示している。
経時変化を図４に示すと、一層目の除去率はＳＶ値が大
きい分だけ初期除去率が低く、時間的な劣化も早い。し
かし二層目と三層目の出口については、図９に示す１段
構成の二層目の出口と同程度の除去性能を示している。
【００２７】また後段２０の有機ガス除去率の経時変化
を図５に示すと、後段出口の除去率は３，５００時間経
過後も９５％以上を維持しており、有機ガスの場合にも
１段構成より前後２段の方が除去性能が優っている。こ
の有機ガスの分析方法もまた、上記従来装置の場合と同
様な方法により行った結果であることは言うまでもな
い。
を図５に示すと、後段出口の除去率は３，５００時間経
過後も９５％以上を維持しており、有機ガスの場合にも
１段構成より前後２段の方が除去性能が優っている。こ
の有機ガスの分析方法もまた、上記従来装置の場合と同
様な方法により行った結果であることは言うまでもな
い。
【００２８】以上のごとく、ケミカルフィルタの層厚の
薄減と多層化とによりＳＶ値を小さくし、同一組合わせ
による前後２段の多層フィルタによるこの発明の空気清
浄装置では、同一組合わせによる１段構成のケミカルフ
ィルタによる従来装置との比較において、酸性及び塩基
性イオンと有機ガスの除去性能が一段と優れ、ケミカル
フィルタの耐久性も長くなることから、その除去性能も
長く維持されるようになる。
薄減と多層化とによりＳＶ値を小さくし、同一組合わせ
による前後２段の多層フィルタによるこの発明の空気清
浄装置では、同一組合わせによる１段構成のケミカルフ
ィルタによる従来装置との比較において、酸性及び塩基
性イオンと有機ガスの除去性能が一段と優れ、ケミカル
フィルタの耐久性も長くなることから、その除去性能も
長く維持されるようになる。
【図１】 この発明に係わる空気清浄装置の概念図であ
る。
る。
【図２】 この発明の空気清浄装置における前段のイオ
ン除去率の経時変化である。
ン除去率の経時変化である。
【図３】 同じく後段のイオン除去率の経時変化であ
る。
る。
【図４】 同じく前段の有機ガス除去性能の経時変化で
ある。
ある。
【図５】 同じく後段の有機ガス除去性能の経時変化で
ある。
ある。
【図６】 従来の空気清浄装置の概念図である。
【図７】 同上の空気清浄装置によるイオン除去率の経
時変化である。
時変化である。
【図８】 同じく有機ガス除去性能の経時変化である。
１０ 前段 １１ 酸性ガス用フィルタ １２ 塩基性ガス用フィルタ １３ 有機ガス用フィルタ ２０ 後段 ２１ 酸性ガス用フィルタ ２２ 塩基性ガス用フィルタ ２３ 有機ガス用フィルタ
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体や液晶生産施設又はその周辺技術
関連のクリーンルーム用として、酸性ガス用、塩基性ガ
ス用、有機ガス用の３種類のケミカルフイルタを順に組
合わせて内装した空気清浄装置であって、 上記各フィルタの層厚を通常よりも薄減し、それらフィ
ルタの組合わせを同一にして前段と後段との２段に分
け、前段で比較的濃度の高い成分の除去を、後段では前
段で除去され難かった成分を、該成分の相対的な濃度の
高まりにより効率よく除去し得るように構成してなるこ
とを特徴とする空気清浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10104399A JPH11290636A (ja) | 1998-04-15 | 1998-04-15 | 空気清浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10104399A JPH11290636A (ja) | 1998-04-15 | 1998-04-15 | 空気清浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11290636A true JPH11290636A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=14379652
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10104399A Pending JPH11290636A (ja) | 1998-04-15 | 1998-04-15 | 空気清浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11290636A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009138976A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Shinwa Controls Co Ltd | クリーンルーム排気を超高純度空気に調製する方法 |
| JP2018069134A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | 三菱重工業株式会社 | 有毒ガス除去ユニット、有毒ガス除去設備および車両 |
| CN109395531A (zh) * | 2012-05-07 | 2019-03-01 | 唐纳森公司 | 用于硅氧烷污染物去除的材料、方法及设备 |
| JP2019198656A (ja) * | 2019-05-29 | 2019-11-21 | 三菱重工業株式会社 | 車両 |
| EP3328538B1 (en) * | 2015-08-28 | 2024-06-12 | Serionix, Inc. | Gas filters for basic contaminants |
-
1998
- 1998-04-15 JP JP10104399A patent/JPH11290636A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009138976A (ja) * | 2007-12-04 | 2009-06-25 | Shinwa Controls Co Ltd | クリーンルーム排気を超高純度空気に調製する方法 |
| CN109395531A (zh) * | 2012-05-07 | 2019-03-01 | 唐纳森公司 | 用于硅氧烷污染物去除的材料、方法及设备 |
| JP2019058909A (ja) * | 2012-05-07 | 2019-04-18 | ドナルドソン カンパニー，インコーポレイティド | シロキサン汚染物質の除去のための材料、方法、およびデバイス |
| US10688433B2 (en) | 2012-05-07 | 2020-06-23 | Donaldson Company, Inc. | Materials, methods, and devices for siloxane contaminant removal |
| KR20230033020A (ko) * | 2012-05-07 | 2023-03-07 | 도널드선 컴파니 인코포레이티드 | 실록산 오염물질 제거를 위한 물질, 방법 및 장치 |
| US11648501B2 (en) | 2012-05-07 | 2023-05-16 | Donaldson Company, Inc. | Materials, methods, and devices for siloxane contaminant removal |
| US12151198B2 (en) | 2012-05-07 | 2024-11-26 | Donaldson Company, Inc. | Materials, methods, and devices for siloxane contaminant removal |
| EP3328538B1 (en) * | 2015-08-28 | 2024-06-12 | Serionix, Inc. | Gas filters for basic contaminants |
| JP2018069134A (ja) * | 2016-10-26 | 2018-05-10 | 三菱重工業株式会社 | 有毒ガス除去ユニット、有毒ガス除去設備および車両 |
| JP2019198656A (ja) * | 2019-05-29 | 2019-11-21 | 三菱重工業株式会社 | 車両 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4215096A (en) | Removal of acidic contaminants from gas streams by caustic impregnated activated carbon | |
| JP3693626B2 (ja) | 吸着剤 | |
| US5922105A (en) | Method and apparatus for the preparation of clean gases | |
| EP3579966B1 (en) | Sorbent composition and method of making | |
| KR20170102954A (ko) | 질소 산화물을 제거하기 위한 탄소 수착제 및 이의 제조 방법 | |
| KR100463048B1 (ko) | 케미컬 필터 미디엄, 케미컬 필터 및 이의 제조 방법 | |
| WO2001036880A1 (en) | Clean room | |
| JPH11290636A (ja) | 空気清浄装置 | |
| US6733570B2 (en) | Method and apparatus for the preparation of clean gases | |
| JPWO1994012265A1 (ja) | 基材または基板表面の汚染防止方法および装置 | |
| JP2000210372A (ja) | 空気浄化膜及び消臭フィルタ | |
| JP5126192B2 (ja) | 流体浄化装置 | |
| JP2000157826A (ja) | ケミカルフィルタ及びその交換判定法、並びに気体浄化装置 | |
| JP2004511337A (ja) | 化学反応性濾過のための装置と方法 | |
| JP4447213B2 (ja) | 流体浄化装置 | |
| JP3521748B2 (ja) | 空気浄化フィルターおよび空気浄化器 | |
| JP2005021891A (ja) | ガス精製方法及び装置 | |
| JP2017192429A (ja) | 触媒フィルタ、脱臭装置及び空気清浄装置 | |
| KR20250049743A (ko) | 재생가능 제올라이트 필터 장착한 휴대용 정수기 | |
| JP3981386B2 (ja) | 基材又は基板表面の汚染を防止する方法及び装置 | |
| US20260077289A1 (en) | Reduction of emissions in the vehicle interior | |
| JP2003251147A (ja) | 拡散スクラバ法による大気浄化処理装置 | |
| JP3759062B2 (ja) | 清浄気体の調整装置 | |
| WO2024151849A1 (en) | Adsorbent that contains potassium hydroxide and potassium carbonate, and related methods and devices | |
| JP3346677B2 (ja) | 基材又は基板表面の汚染防止方法と装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040224 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050215 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050414 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060117 |