JPH11290844A - 光触媒反応水処理装置 - Google Patents
光触媒反応水処理装置Info
- Publication number
- JPH11290844A JPH11290844A JP10102562A JP10256298A JPH11290844A JP H11290844 A JPH11290844 A JP H11290844A JP 10102562 A JP10102562 A JP 10102562A JP 10256298 A JP10256298 A JP 10256298A JP H11290844 A JPH11290844 A JP H11290844A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- treated
- water tank
- water
- treated water
- photocatalytic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 173
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 title claims abstract description 32
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 67
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 32
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 30
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 26
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 29
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 20
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 claims 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 abstract description 31
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 abstract 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000013505 freshwater Substances 0.000 description 11
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000003276 Apios tuberosa Nutrition 0.000 description 1
- 235000010777 Arachis hypogaea Nutrition 0.000 description 1
- 235000010744 Arachis villosulicarpa Nutrition 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000133018 Panax trifolius Species 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光触媒二酸化チタンに光触媒反応を起こさ
せ、この光触媒反応により汚水を酸化分解処理して新水
を得る。 【解決手段】 被処理水流入管１４から流入された被処
理水（汚水）Ｗ1 を浄化処理して処理水（新水）Ｗ2 を
得るのに光触媒二酸化チタンを表面にコーティングした
セラミックボール３を処理水槽２内に多数収容して処理
水槽２内を上昇する被処理水Ｗ1 とともに旋回流動させ
る上昇流旋回誘導板１１と、処理水槽２内で処理水Ｗ2
の混在した被処理水Ｗ1 を下降させる下降流誘導板１２
を設け、さらにセラミックボール３の光触媒二酸化チタ
ン層に紫外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線
放射管１３を設ける。
せ、この光触媒反応により汚水を酸化分解処理して新水
を得る。 【解決手段】 被処理水流入管１４から流入された被処
理水（汚水）Ｗ1 を浄化処理して処理水（新水）Ｗ2 を
得るのに光触媒二酸化チタンを表面にコーティングした
セラミックボール３を処理水槽２内に多数収容して処理
水槽２内を上昇する被処理水Ｗ1 とともに旋回流動させ
る上昇流旋回誘導板１１と、処理水槽２内で処理水Ｗ2
の混在した被処理水Ｗ1 を下降させる下降流誘導板１２
を設け、さらにセラミックボール３の光触媒二酸化チタ
ン層に紫外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線
放射管１３を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、汚水等の被処理水
を光触媒二酸化チタン等の光触媒反応の酸化分解力によ
る処理を行って新水等の処理水を得る光触媒反応水処理
装置に関するものである。
を光触媒二酸化チタン等の光触媒反応の酸化分解力によ
る処理を行って新水等の処理水を得る光触媒反応水処理
装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】現在、光触媒反応の材料として光触媒二
酸化チタンがある。これは、波長４００ｎｍ以下の紫外
線を二酸化チタン（以下、ＴｉＯ2 という）表面に照射
すると、光触媒反応による強力な酸化分解力が発生す
る。そして、この酸化分解力が有機物を分解して抗菌，
脱臭，浄水，大気浄化等の作用をし、汚染防止等の効果
を有することが判明している。
酸化チタンがある。これは、波長４００ｎｍ以下の紫外
線を二酸化チタン（以下、ＴｉＯ2 という）表面に照射
すると、光触媒反応による強力な酸化分解力が発生す
る。そして、この酸化分解力が有機物を分解して抗菌，
脱臭，浄水，大気浄化等の作用をし、汚染防止等の効果
を有することが判明している。
【０００３】すなわち、この光触媒反応のポイントは、 １．ＴｉＯ2 の表面に紫外線が当たることによって光触
媒反応が起こる。
媒反応が起こる。
【０００４】２．水，空気等の処理対象物はＴｉＯ2 の
面に接触することによって酸化分解反応効果を得ること
ができる。ということが最も基本的な原則であって、Ｔ
ｉＯ2 を担持させるための基材の用途別選択や、その固
定方法等については種々研究，開発されているものの、
これらのことは、水処理分野においては可能であるとい
うことが言われているだけで、その実用化されたものは
見当らない。
面に接触することによって酸化分解反応効果を得ること
ができる。ということが最も基本的な原則であって、Ｔ
ｉＯ2 を担持させるための基材の用途別選択や、その固
定方法等については種々研究，開発されているものの、
これらのことは、水処理分野においては可能であるとい
うことが言われているだけで、その実用化されたものは
見当らない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】なぜならば、現在の技
術における考え方では、 （１）被処理水に対し、１００％近く（万遍なく）Ｔｉ
Ｏ2 の処理面に接触できる装置に満足できるものがな
い。
術における考え方では、 （１）被処理水に対し、１００％近く（万遍なく）Ｔｉ
Ｏ2 の処理面に接触できる装置に満足できるものがな
い。
【０００６】（２）水処理の場合、ＴｉＯ2 を固着させ
た面に光を照射しなければならないが、ＴｉＯ2 面が水
中にあるため、ＴｉＯ2 面をどのようにセットすればよ
いか、またＴｉＯ2 面に紫外線を効果的に照射するには
どのようにすればよいかということ等が未だ解決されて
いない。
た面に光を照射しなければならないが、ＴｉＯ2 面が水
中にあるため、ＴｉＯ2 面をどのようにセットすればよ
いか、またＴｉＯ2 面に紫外線を効果的に照射するには
どのようにすればよいかということ等が未だ解決されて
いない。
【０００７】（３）紫外線発生装置を水中に設置するに
は紫外線放射管を電気的に絶縁された防水カバー管の中
に入れなければならず、紫外線を処理水槽の外側から水
中のＴｉＯ2 面を照射するには、光波のうち、特に紫外
線の透過率が大きいものでなければならないということ
もあって、その材質が石英ガラスまたはフッ素樹脂管等
を使用することになり高価となる。
は紫外線放射管を電気的に絶縁された防水カバー管の中
に入れなければならず、紫外線を処理水槽の外側から水
中のＴｉＯ2 面を照射するには、光波のうち、特に紫外
線の透過率が大きいものでなければならないということ
もあって、その材質が石英ガラスまたはフッ素樹脂管等
を使用することになり高価となる。
【０００８】（４）高濃度の被処理水を大型の石英管ま
たはフッ素樹脂管で形成されたメスシリンダに入れ、Ｔ
ｉＯ2 のパウダを白濁する状態まで入れて撹拌し外側か
ら紫外線を照射すると、メスシリンダ内は気泡を発生し
て光触媒反応が起きて酸化分解が行われるので、経時的
に汚水中の有機物質の量が確実に減少するが、この状態
から処理水のみを完全に取り出すには装置も高価となり
ＴｉＯ2 の回収，再生も困難であり、また、ＴｉＯ2 粉
末のコストも高い。
たはフッ素樹脂管で形成されたメスシリンダに入れ、Ｔ
ｉＯ2 のパウダを白濁する状態まで入れて撹拌し外側か
ら紫外線を照射すると、メスシリンダ内は気泡を発生し
て光触媒反応が起きて酸化分解が行われるので、経時的
に汚水中の有機物質の量が確実に減少するが、この状態
から処理水のみを完全に取り出すには装置も高価となり
ＴｉＯ2 の回収，再生も困難であり、また、ＴｉＯ2 粉
末のコストも高い。
【０００９】（５）低濃度で大量の水処理、例えば、プ
ール等の水槽内の被処理水を浄化処理して得られた処理
水を再び水槽内へ還流せしめる循環ラインを有する浄化
装置では、当然循環ラインの途中で上記（１）〜（４）
項に記載の装置を設けて処理しなければならない。この
ため、１時間当り数トン〜数十トンの被処理水が流動す
る前記循環ラインの中でどのような結果が出るか不明で
ある。等の問題点があった。
ール等の水槽内の被処理水を浄化処理して得られた処理
水を再び水槽内へ還流せしめる循環ラインを有する浄化
装置では、当然循環ラインの途中で上記（１）〜（４）
項に記載の装置を設けて処理しなければならない。この
ため、１時間当り数トン〜数十トンの被処理水が流動す
る前記循環ラインの中でどのような結果が出るか不明で
ある。等の問題点があった。
【００１０】本発明は上記の点にかんがみなされたもの
で、光触媒二酸化チタンに紫外線を照射して光触媒反応
を起こさせ、この光触媒反応により汚水等の被処理水を
酸化分解処理して新水等の処理水を得る光触媒反応水処
理装置を提供することを目的とする。
で、光触媒二酸化チタンに紫外線を照射して光触媒反応
を起こさせ、この光触媒反応により汚水等の被処理水を
酸化分解処理して新水等の処理水を得る光触媒反応水処
理装置を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、被処理水流入
管から流入された被処理水を貯溜する下部貯溜室と、こ
の下部貯溜室から流入された被処理水を流動させて浄化
処理する処理水槽と、この処理水槽内で処理された処理
水を貯溜する上部貯溜室と、この上部貯溜室内の前記処
理水が流出する処理水流出管とを有するとともに、処理
水槽内で流動する被処理水を旋回上昇せしめる上昇流旋
回誘導板と、処理水槽内で浄化処理しきれなかった被処
理水が上部貯溜室内で混在している処理水を処理水槽へ
下降誘導せしめる下降流誘導板とを処理水槽内に設け、
前記処理水槽内に光触媒二酸化チタン層を表面にコーテ
ィングしたセラミックボールを前記流動する被処理水と
ともに流動するように多数収容し、さらに前記セラミッ
クボールの表面にコーティングした光触媒二酸化チタン
層に紫外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線放
射管を設けたものである。
管から流入された被処理水を貯溜する下部貯溜室と、こ
の下部貯溜室から流入された被処理水を流動させて浄化
処理する処理水槽と、この処理水槽内で処理された処理
水を貯溜する上部貯溜室と、この上部貯溜室内の前記処
理水が流出する処理水流出管とを有するとともに、処理
水槽内で流動する被処理水を旋回上昇せしめる上昇流旋
回誘導板と、処理水槽内で浄化処理しきれなかった被処
理水が上部貯溜室内で混在している処理水を処理水槽へ
下降誘導せしめる下降流誘導板とを処理水槽内に設け、
前記処理水槽内に光触媒二酸化チタン層を表面にコーテ
ィングしたセラミックボールを前記流動する被処理水と
ともに流動するように多数収容し、さらに前記セラミッ
クボールの表面にコーティングした光触媒二酸化チタン
層に紫外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線放
射管を設けたものである。
【００１２】また、処理水槽は、紫外線透過性の材料で
形成し、この処理水槽の外周近傍から処理水槽内のセラ
ミックボールの表面にコーティングした光触媒二酸化チ
タン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を設け、
さらに、セラミックボールの表面にコーティングされた
光触媒二酸化チタンに対する照射効率を向上させる反射
板を紫外線放射管の周辺近傍に設けたものである。
形成し、この処理水槽の外周近傍から処理水槽内のセラ
ミックボールの表面にコーティングした光触媒二酸化チ
タン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を設け、
さらに、セラミックボールの表面にコーティングされた
光触媒二酸化チタンに対する照射効率を向上させる反射
板を紫外線放射管の周辺近傍に設けたものである。
【００１３】また、処理水槽は、チタン板により形成さ
れ、このチタン板によって形成された前記処理水槽の内
面に光触媒二酸化チタン層を形成し、この光触媒二酸化
チタン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を処理
水槽内に設けたものである。
れ、このチタン板によって形成された前記処理水槽の内
面に光触媒二酸化チタン層を形成し、この光触媒二酸化
チタン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を処理
水槽内に設けたものである。
【００１４】また、処理水槽は、チタン板により形成さ
れ、また処理水槽内をチタン板からなる仕切板で複数の
室に仕切り、処理水槽の内面と仕切板の表面とにそれぞ
れ光触媒二酸化チタン層を形成し、これらの光触媒二酸
化チタン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を処
理水槽内の各室内にそれぞれ設けたものである。
れ、また処理水槽内をチタン板からなる仕切板で複数の
室に仕切り、処理水槽の内面と仕切板の表面とにそれぞ
れ光触媒二酸化チタン層を形成し、これらの光触媒二酸
化チタン層に向けて紫外線を照射する紫外線放射管を処
理水槽内の各室内にそれぞれ設けたものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施の形
態を示す一部破断斜視図、図２は図１の要部を示す側断
面図で、本発明の基本的な構成を示すものである。これ
らの図において、１は光触媒反応水処理装置の全体を示
す。２は処理水槽で、石英ガラス管または光透過性フッ
素樹脂管等の紫外線透過性の材料で形成されている。な
お、図１において、処理水槽２は円柱形であるが四角柱
等の角柱であってもよい。また、処理水槽２の内部には
セラミックボール３が充填されている。このセラミック
ボール３は溶結凝灰岩のアルミナ珪酸の粉末を焼成し、
さらにその表面に光触媒二酸化チタン（以下、単にＴｉ
Ｏ2 という）を焼き付けてコーティングして、アナター
ゼ型結晶形に処理形成されたもので、比重を１．１〜
１．２，直径約１０ｍｍの球形に成形したものである。
セラミックボール３の表面にコーティングされたＴｉＯ
2 は紫外線の照射によって光触媒反応を起こさせるもの
で、この光触媒反応によって被処理水（以下汚水とい
う）Ｗ1 中の不純物と接触させて酸化分解することによ
り浄化処理して処理水（以下新水という）Ｗ2 を得るも
のである。なお、セラミックボール３は処理水槽２内を
流動する汚水Ｗ1 とともに処理水槽２内を流動できるよ
うに多数収容されている。
態を示す一部破断斜視図、図２は図１の要部を示す側断
面図で、本発明の基本的な構成を示すものである。これ
らの図において、１は光触媒反応水処理装置の全体を示
す。２は処理水槽で、石英ガラス管または光透過性フッ
素樹脂管等の紫外線透過性の材料で形成されている。な
お、図１において、処理水槽２は円柱形であるが四角柱
等の角柱であってもよい。また、処理水槽２の内部には
セラミックボール３が充填されている。このセラミック
ボール３は溶結凝灰岩のアルミナ珪酸の粉末を焼成し、
さらにその表面に光触媒二酸化チタン（以下、単にＴｉ
Ｏ2 という）を焼き付けてコーティングして、アナター
ゼ型結晶形に処理形成されたもので、比重を１．１〜
１．２，直径約１０ｍｍの球形に成形したものである。
セラミックボール３の表面にコーティングされたＴｉＯ
2 は紫外線の照射によって光触媒反応を起こさせるもの
で、この光触媒反応によって被処理水（以下汚水とい
う）Ｗ1 中の不純物と接触させて酸化分解することによ
り浄化処理して処理水（以下新水という）Ｗ2 を得るも
のである。なお、セラミックボール３は処理水槽２内を
流動する汚水Ｗ1 とともに処理水槽２内を流動できるよ
うに多数収容されている。
【００１６】処理水槽２の下部には汚水Ｗ1 を貯溜する
下部貯溜室４が設けられ、上部には浄化処理された新水
Ｗ2 を貯溜する上部貯溜室５が設けられている。また、
下部貯溜室４の上方で処理水槽２との仕切り部分には下
部受け板６が設けられ、汚水Ｗ1 を通す透孔６ａが多数
形成され、上部貯溜室５の下方で処理水槽２との仕切り
部分には上部押え板７が設けられ、処理水槽２で処理さ
れた汚水Ｗ2 を通す透孔７ａが形成されており、上部押
え板固定金具８が取り付けられている。
下部貯溜室４が設けられ、上部には浄化処理された新水
Ｗ2 を貯溜する上部貯溜室５が設けられている。また、
下部貯溜室４の上方で処理水槽２との仕切り部分には下
部受け板６が設けられ、汚水Ｗ1 を通す透孔６ａが多数
形成され、上部貯溜室５の下方で処理水槽２との仕切り
部分には上部押え板７が設けられ、処理水槽２で処理さ
れた汚水Ｗ2 を通す透孔７ａが形成されており、上部押
え板固定金具８が取り付けられている。
【００１７】また、処理水槽２と上部貯溜室５との境界
は水漏れ防止用の嵌合シール９でシールされており、上
部貯溜室５の上部には図示しないボルト・ナット等の固
着手段により蓋１０が固定されている。下部受け板６の
上面には透孔６ａから処理水槽２内に流入された汚水Ｗ
1 を旋回して上昇させるための上昇流旋回誘導板１１が
設けられ、上部押え板７の下面には処理水槽２で処理し
きれなかった上部貯溜室５内の汚水Ｗ1 が混在する新水
Ｗ2 を再び処理水槽２内へ誘導降下させる下降流誘導板
１２が設けられている。
は水漏れ防止用の嵌合シール９でシールされており、上
部貯溜室５の上部には図示しないボルト・ナット等の固
着手段により蓋１０が固定されている。下部受け板６の
上面には透孔６ａから処理水槽２内に流入された汚水Ｗ
1 を旋回して上昇させるための上昇流旋回誘導板１１が
設けられ、上部押え板７の下面には処理水槽２で処理し
きれなかった上部貯溜室５内の汚水Ｗ1 が混在する新水
Ｗ2 を再び処理水槽２内へ誘導降下させる下降流誘導板
１２が設けられている。
【００１８】下部貯溜室４の４隅には紫外線を放射する
紫外線放射管１３が設けられている。なお、図１では紫
外線放射管１３の１本が処理水槽２の後方に位置するた
め図示されていない。下部貯溜室４には被処理水（汚
水）流入管１４が接続され、流量調整バルブ１５，流量
計１６，サンプリングコック１７が設けられている。蓋
１０には新水Ｗ2 を流出する処理水（新水）流出管１８
が設けられている。
紫外線放射管１３が設けられている。なお、図１では紫
外線放射管１３の１本が処理水槽２の後方に位置するた
め図示されていない。下部貯溜室４には被処理水（汚
水）流入管１４が接続され、流量調整バルブ１５，流量
計１６，サンプリングコック１７が設けられている。蓋
１０には新水Ｗ2 を流出する処理水（新水）流出管１８
が設けられている。
【００１９】また、蓋１０には上部貯溜室５内の水圧を
測定する圧力計１９と、圧力計１９の指示によって流速
を加減して水圧を調整したり、新水Ｗ2 のサンプリング
を行うコック２０とが設けられている。また、２１は前
記処理水槽２のケーシングで二点鎖線で図示してある。
測定する圧力計１９と、圧力計１９の指示によって流速
を加減して水圧を調整したり、新水Ｗ2 のサンプリング
を行うコック２０とが設けられている。また、２１は前
記処理水槽２のケーシングで二点鎖線で図示してある。
【００２０】図３は、図１の光触媒反応水処理装置１の
使用態様を示す概略構成図で、図１と同一符号は同一部
分を示し、２２は前記汚水Ｗ1 の入った汚水槽、２３は
ポンプである。なお、紫外線放射管１３の電源線の図示
は省略してある。また、紫外線放射管１３にはセラミッ
クボール３にコーティングしたＴｉＯ2 に対する照射効
率を向上させるため図示されていないが、紫外線放射管
１３の外周近傍に反射板を設け。そして、この反射板は
各紫外線放射管１３に対し、それぞれ個別に設けてもよ
く、また、各紫外線放射管１３全体を１枚の反射板で覆
うように設けてもよい。
使用態様を示す概略構成図で、図１と同一符号は同一部
分を示し、２２は前記汚水Ｗ1 の入った汚水槽、２３は
ポンプである。なお、紫外線放射管１３の電源線の図示
は省略してある。また、紫外線放射管１３にはセラミッ
クボール３にコーティングしたＴｉＯ2 に対する照射効
率を向上させるため図示されていないが、紫外線放射管
１３の外周近傍に反射板を設け。そして、この反射板は
各紫外線放射管１３に対し、それぞれ個別に設けてもよ
く、また、各紫外線放射管１３全体を１枚の反射板で覆
うように設けてもよい。
【００２１】次に動作について図１〜図３により説明す
る。
る。
【００２２】汚水槽２２内の汚水Ｗ1 はポンプ２３の駆
動によって汚水流入管１４内を流れ、流量調整バルブ１
５の操作で流量計１６によって所要の流量に調整されて
光触媒反応水処理装置１の下部貯溜室４内に流入し、下
部受け板６の透孔６ａを通って上昇流旋回誘導板１１に
よって処理水槽２内を図３の矢印方向に旋回しながら上
昇する。すなわち汚水Ｗ1 はセラミックボール３に接触
して浄化処理されながら上昇し、上部押え板７の透孔７
ａを通って上部押え板７上の上部貯溜室５内に貯溜され
てから新水流出管１８を通って外部へ流出するが、上部
貯溜室５内の浄化処理された新水Ｗ2 をさらに浄化処理
させるため、その一部が上部貯溜室５から透孔７ａを通
って下降流誘導板１２に誘導されながら流下し、再びセ
ラミックボール３に接触することによりさらに浄化され
る。このようにして処理水槽２内を上下に旋回させるこ
とにより再び上昇して透孔７ａを通って上部貯溜室５内
に入り、新水流出管１８を通って外部へ流出する。
動によって汚水流入管１４内を流れ、流量調整バルブ１
５の操作で流量計１６によって所要の流量に調整されて
光触媒反応水処理装置１の下部貯溜室４内に流入し、下
部受け板６の透孔６ａを通って上昇流旋回誘導板１１に
よって処理水槽２内を図３の矢印方向に旋回しながら上
昇する。すなわち汚水Ｗ1 はセラミックボール３に接触
して浄化処理されながら上昇し、上部押え板７の透孔７
ａを通って上部押え板７上の上部貯溜室５内に貯溜され
てから新水流出管１８を通って外部へ流出するが、上部
貯溜室５内の浄化処理された新水Ｗ2 をさらに浄化処理
させるため、その一部が上部貯溜室５から透孔７ａを通
って下降流誘導板１２に誘導されながら流下し、再びセ
ラミックボール３に接触することによりさらに浄化され
る。このようにして処理水槽２内を上下に旋回させるこ
とにより再び上昇して透孔７ａを通って上部貯溜室５内
に入り、新水流出管１８を通って外部へ流出する。
【００２３】このように処理水槽２内に汚水Ｗ1 が流入
するとセラミックボール３も汚水Ｗ1 の流れとともにゆ
るやかに流動し、これにより汚水Ｗ1 はセラミックボー
ル３の表面にコーティングされたＴｉＯ2 に接触し、ま
た紫外線放射管１３から紫外線がＴｉＯ2 の表面に照射
されて光触媒反応を起こさせるので、この光触媒反応に
よる酸化分解によって、汚水Ｗ1 は浄化処理され新水Ｗ
2 となる。なお、図３は汚水槽２２の場合を示したが、
汚水槽２２がプール等の場合には、新水Ｗ2 をプールに
還流して水が循環するようにする。
するとセラミックボール３も汚水Ｗ1 の流れとともにゆ
るやかに流動し、これにより汚水Ｗ1 はセラミックボー
ル３の表面にコーティングされたＴｉＯ2 に接触し、ま
た紫外線放射管１３から紫外線がＴｉＯ2 の表面に照射
されて光触媒反応を起こさせるので、この光触媒反応に
よる酸化分解によって、汚水Ｗ1 は浄化処理され新水Ｗ
2 となる。なお、図３は汚水槽２２の場合を示したが、
汚水槽２２がプール等の場合には、新水Ｗ2 をプールに
還流して水が循環するようにする。
【００２４】図４は、本発明の第２の実施の形態を示す
側断面図、図５は図４のＩ−Ｉ線による断面図である。
これらの図において、図１と同一符号は同一部分を示
す。３１は光触媒反応水処理装置、３２は処理水槽で、
チタン板で形成された処理水槽３２の内面３２ａは酸化
加工によりアナターゼ型結晶形のＴｉＯ2 に処理形成さ
れている。また、処理水槽３２の内部には図１と同じく
ＴｉＯ2 をコーティングしたセラミックボール３が充填
されている。セラミックボール３は下部受け板６と上部
押え板７で封止されており、いずれも多数の透孔６ａ，
７ａが形成されている。また、処理水槽３２の下部には
汚水Ｗ1 の下部貯溜室３３が設けられ、汚水Ｗ1 を流入
する汚水流入管１４が接続されている。また、処理水槽
３２の上部には新水Ｗ2 の上部貯溜室３４が設けられ、
処理水流出管１８が接続されている。貯溜室３４の上部
にはフランジ３５が形成され、蓋３６がボルト・ナット
３７により固着されている。蓋３６にはグランドナット
３８により紫外線放射管１３が取り付けられている。３
９は前記紫外線放射管１３の電源線である。
側断面図、図５は図４のＩ−Ｉ線による断面図である。
これらの図において、図１と同一符号は同一部分を示
す。３１は光触媒反応水処理装置、３２は処理水槽で、
チタン板で形成された処理水槽３２の内面３２ａは酸化
加工によりアナターゼ型結晶形のＴｉＯ2 に処理形成さ
れている。また、処理水槽３２の内部には図１と同じく
ＴｉＯ2 をコーティングしたセラミックボール３が充填
されている。セラミックボール３は下部受け板６と上部
押え板７で封止されており、いずれも多数の透孔６ａ，
７ａが形成されている。また、処理水槽３２の下部には
汚水Ｗ1 の下部貯溜室３３が設けられ、汚水Ｗ1 を流入
する汚水流入管１４が接続されている。また、処理水槽
３２の上部には新水Ｗ2 の上部貯溜室３４が設けられ、
処理水流出管１８が接続されている。貯溜室３４の上部
にはフランジ３５が形成され、蓋３６がボルト・ナット
３７により固着されている。蓋３６にはグランドナット
３８により紫外線放射管１３が取り付けられている。３
９は前記紫外線放射管１３の電源線である。
【００２５】また、チタン板で形成された処理水槽３２
の内周面３２ａには表面を酸化加工して形成したアナタ
ーゼ型結晶形の光触媒二酸化チタン層が形成されてい
る。
の内周面３２ａには表面を酸化加工して形成したアナタ
ーゼ型結晶形の光触媒二酸化チタン層が形成されてい
る。
【００２６】このように、図４の第２の実施の形態にお
いては、処理水槽３２が不透明のチタン板により形成さ
れているので外方から光照射ができないため、紫外線放
射管１３の３本を処理水槽３２内に等間隔に設けたもの
で、図５にその配置例を示す。
いては、処理水槽３２が不透明のチタン板により形成さ
れているので外方から光照射ができないため、紫外線放
射管１３の３本を処理水槽３２内に等間隔に設けたもの
で、図５にその配置例を示す。
【００２７】したがって、紫外線放射管１３から放射さ
れた紫外線はセラミックボール３にコーティングされた
ＴｉＯ2 面に照射される外に、処理水槽３２の内面３２
ａにも照射されるので、紫外線放射管１３から放射され
る紫外線の全部が内面３２ａに形成されたＴｉＯ2 に照
射され、図１のような外部から照射されるものに比べて
紫外線の照射損失がなく、照射効率がよい。また、汚水
Ｗ1 の浄化に際してもＴｉＯ2 と接触する面積が大きく
なっているので、汚水Ｗ1 の浄化に対する処理効率もよ
い。
れた紫外線はセラミックボール３にコーティングされた
ＴｉＯ2 面に照射される外に、処理水槽３２の内面３２
ａにも照射されるので、紫外線放射管１３から放射され
る紫外線の全部が内面３２ａに形成されたＴｉＯ2 に照
射され、図１のような外部から照射されるものに比べて
紫外線の照射損失がなく、照射効率がよい。また、汚水
Ｗ1 の浄化に際してもＴｉＯ2 と接触する面積が大きく
なっているので、汚水Ｗ1 の浄化に対する処理効率もよ
い。
【００２８】また、汚水Ｗ1 が処理水槽３２内を上昇し
て新水Ｗ2 に処理されるプロセスは図１で説明した場合
と同様である。
て新水Ｗ2 に処理されるプロセスは図１で説明した場合
と同様である。
【００２９】図６は、本発明の第３の実施の形態を示す
平断面図で、光触媒反応水処理装置４１の処理水槽４２
における断面図を示してある。図６においては、チタン
板からなる処理水槽４２内が同じくチタン板からなる仕
切板４３により仕切られたハニカムタイプの構造に形成
したもので、一例として中心室４４の１室と中心室４４
の周囲にある周辺室４５の６室とからなり、合計７室に
形成されている。そして、各室４４，４５には、ＴｉＯ
2 がコーティングされたセラミックボール３が充填さ
れ、かつ各室４４，４５の中心部にはそれぞれ紫外線放
射管１３が埋設されている。さらに、処理水槽４２の内
面４２ａと仕切板４３の板面（表面）４３ａにはすべて
酸化加工によりアナターゼ型結晶形のＴｉＯ2 に形成さ
れており、各紫外線放射管１３から放射される紫外線が
セラミックボール３のＴｉＯ2 層と処理水槽４２の内面
と各室４４，４５の板面４３ａに形成されたＴｉＯ2 層
に向けて照射される。また、汚水Ｗ1 が処理水槽４２の
各室４４，４５内を通って上昇して新水Ｗ2 に処理され
るプロセスは図１で説明した場合と同様である。
平断面図で、光触媒反応水処理装置４１の処理水槽４２
における断面図を示してある。図６においては、チタン
板からなる処理水槽４２内が同じくチタン板からなる仕
切板４３により仕切られたハニカムタイプの構造に形成
したもので、一例として中心室４４の１室と中心室４４
の周囲にある周辺室４５の６室とからなり、合計７室に
形成されている。そして、各室４４，４５には、ＴｉＯ
2 がコーティングされたセラミックボール３が充填さ
れ、かつ各室４４，４５の中心部にはそれぞれ紫外線放
射管１３が埋設されている。さらに、処理水槽４２の内
面４２ａと仕切板４３の板面（表面）４３ａにはすべて
酸化加工によりアナターゼ型結晶形のＴｉＯ2 に形成さ
れており、各紫外線放射管１３から放射される紫外線が
セラミックボール３のＴｉＯ2 層と処理水槽４２の内面
と各室４４，４５の板面４３ａに形成されたＴｉＯ2 層
に向けて照射される。また、汚水Ｗ1 が処理水槽４２の
各室４４，４５内を通って上昇して新水Ｗ2 に処理され
るプロセスは図１で説明した場合と同様である。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、下記のよ
うな効果を有する。
うな効果を有する。
【００３１】本発明の請求項１に記載の発明は、被処理
水流入管から流入された被処理水を貯溜する下部貯溜室
と、この下部貯溜室から流入された前記被処理水を流動
させて浄化処理する処理水槽と、この処理水槽内で処理
された処理水を貯溜する上部貯溜室と、この上部貯溜室
内の前記処理水が流出する処理水流出管とを有するとと
もに、前記処理水槽内で流動する前記被処理水を旋回上
昇せしめる上昇流旋回誘導板と、前記上部貯溜室内に前
記処理水槽内で浄化しきれなかった被処理水が混在する
処理水を前記処理水槽へ誘導して下降せしめる下降流誘
導板とを前記処理水槽内に設け、前記処理水槽内に光触
媒二酸化チタン層を表面にコーティングしたセラミック
ボールを前記流動する被処理水とともに流動するように
多数収容し、さらに前記セラミックボールの表面にコー
ティングした光触媒二酸化チタン層に紫外線を照射して
光触媒反応を起こさせる紫外線放射管を設けたので、被
処理水が光触媒二酸化チタン層に万遍なく接触すること
ができ処理能力が大となる。
水流入管から流入された被処理水を貯溜する下部貯溜室
と、この下部貯溜室から流入された前記被処理水を流動
させて浄化処理する処理水槽と、この処理水槽内で処理
された処理水を貯溜する上部貯溜室と、この上部貯溜室
内の前記処理水が流出する処理水流出管とを有するとと
もに、前記処理水槽内で流動する前記被処理水を旋回上
昇せしめる上昇流旋回誘導板と、前記上部貯溜室内に前
記処理水槽内で浄化しきれなかった被処理水が混在する
処理水を前記処理水槽へ誘導して下降せしめる下降流誘
導板とを前記処理水槽内に設け、前記処理水槽内に光触
媒二酸化チタン層を表面にコーティングしたセラミック
ボールを前記流動する被処理水とともに流動するように
多数収容し、さらに前記セラミックボールの表面にコー
ティングした光触媒二酸化チタン層に紫外線を照射して
光触媒反応を起こさせる紫外線放射管を設けたので、被
処理水が光触媒二酸化チタン層に万遍なく接触すること
ができ処理能力が大となる。
【００３２】また、請求項２に記載の発明は、処理水槽
を紫外線透過性の材料で形成するとともに、紫外線放射
管を処理水槽の外周近傍に設け、さらに紫外線放射管の
外周近傍に反射板を設けたので処理水槽の内部をよく観
察することができ、紫外線放射管から照射される紫外線
の照射効率を高めることができる。
を紫外線透過性の材料で形成するとともに、紫外線放射
管を処理水槽の外周近傍に設け、さらに紫外線放射管の
外周近傍に反射板を設けたので処理水槽の内部をよく観
察することができ、紫外線放射管から照射される紫外線
の照射効率を高めることができる。
【００３３】また、請求項３に記載の発明は、処理水槽
をチタン板で形成し、このチタン板の内面に光触媒二酸
化チタン層を形成し、この光触媒二酸化チタン層に向け
て紫外線を照射する紫外線放射管を処理水槽内に設けた
ので、請求項２記載の処理水槽に比べて被処理水が光触
媒二酸化チタン層に接触する度合が多くなって浄化能力
が大となり、さらに紫外線放射管から照射される紫外線
のすべてが光触媒二酸化チタン層に照射されるので紫外
線の照射損失がない。
をチタン板で形成し、このチタン板の内面に光触媒二酸
化チタン層を形成し、この光触媒二酸化チタン層に向け
て紫外線を照射する紫外線放射管を処理水槽内に設けた
ので、請求項２記載の処理水槽に比べて被処理水が光触
媒二酸化チタン層に接触する度合が多くなって浄化能力
が大となり、さらに紫外線放射管から照射される紫外線
のすべてが光触媒二酸化チタン層に照射されるので紫外
線の照射損失がない。
【００３４】また、請求項４に記載の発明は、処理水槽
をチタン板で形成し、この処理水槽内をチタン板からな
る仕切板で仕切って複数の室に形成するとともに、処理
水槽の内面と仕切板の表面に光触媒二酸化チタン層を形
成し、さらにこれらの光触媒二酸化チタン層に向けて紫
外線を照射する紫外線放射管を各室に設けたので、請求
項３記載の処理水槽と同じ大きさのものであっても被処
理水の浄化能力がさらに大となる。
をチタン板で形成し、この処理水槽内をチタン板からな
る仕切板で仕切って複数の室に形成するとともに、処理
水槽の内面と仕切板の表面に光触媒二酸化チタン層を形
成し、さらにこれらの光触媒二酸化チタン層に向けて紫
外線を照射する紫外線放射管を各室に設けたので、請求
項３記載の処理水槽と同じ大きさのものであっても被処
理水の浄化能力がさらに大となる。
【００３５】したがって、本発明の光触媒反応水処理装
置はプール等の水処理に最適である。
置はプール等の水処理に最適である。
【図１】本発明の第１の実施形態を示す一部破断斜視図
である。
である。
【図２】図１の要部を示す側断面図である。
【図３】図１の光触媒反応水処理装置の使用態様を示す
概略構成図である。
概略構成図である。
【図４】本発明の第２の実施形態を示す側断面図であ
る。
る。
【図５】図４のＩ−Ｉ線による断面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態を示す平断面図であ
る。
る。
１，３１，４１ 光触媒反応水処理装置 ２，３２，４２ 処理水槽 ３ セラミックボール ４，３３ 下部貯溜室 ５，３４ 上部貯溜室 ６ 下部受け板 ６ａ，７ａ 透孔 ７ 上部押え板 ８ 上部押え板固定金具 ９ 嵌合シール １０，３６ 蓋 １１ 上昇流旋回誘導板 １２ 下降流誘導板 １３ 紫外線放射管 １４ 被処理水流入管 １５ 流量調整バルブ １６ 流量計 １７ サンプリングコック １８ 処理水流出管 １９ 圧力計 ２０ コック ２１ ケーシング ２２ 汚水槽 ２３ ポンプ ４３ 仕切板 ４４ 中心室 ４５ 周辺室 Ｗ1 被処理水（汚水） Ｗ2 処理水（新水）
Claims (4)
- 【請求項１】 被処理水流入管から流入された被処理水
を貯溜する下部貯溜室と、この下部貯溜室から流入され
た前記被処理水を流動させて浄化処理する処理水槽と、
この処理水槽内で処理された処理水を貯溜する上部貯溜
室と、この上部貯溜室内の前記処理水が流出する処理水
流出管とを有するとともに、前記処理水槽内で流動する
前記被処理水を旋回上昇せしめる上昇流旋回誘導板と、
前記上部貯溜室内に前記処理水槽内で浄化しきれなかっ
た被処理水が混在する処理水を前記処理水槽へ誘導して
下降せしめる下降流誘導板とを前記処理水槽内に設け、
前記処理水槽内に光触媒二酸化チタン層を表面にコーテ
ィングしたセラミックボールを前記流動する被処理水と
ともに流動するように多数収容し、さらに前記セラミッ
クボールの表面にコーティングした光触媒二酸化チタン
層に紫外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線放
射管を設けたことを特徴とする光触媒反応水処理装置。 - 【請求項２】 処理水槽は、紫外線透過性の材料で形成
されるとともに、紫外線放射管が前記処理水槽の外周近
傍に設けられ、さらに、セラミックボールの表面にコー
ティングされた光触媒二酸化チタン層に対する照射効率
を向上させる反射板が前記紫外線放射管の周辺近傍に設
けられたことを特徴とする請求項１記載の光触媒反応水
処理装置。 - 【請求項３】 処理水槽は、チタン板により形成される
とともに、このチタン板によって形成された前記処理水
槽の内面に光触媒二酸化チタン層を形成し、さらにこの
光触媒二酸化チタン層に向けて紫外線を照射して光触媒
反応を起こさせる紫外線放射管が前記処理水槽内に設け
られたことを特徴とする請求項１記載の光触媒反応水処
理装置。 - 【請求項４】 処理水槽は、チタン板により形成され、
また前記処理水槽内をチタン板からなる仕切板により分
割して複数の室に形成するとともに、前記処理水槽の内
面と前記仕切板の表面とにそれぞれ光触媒二酸化チタン
層を形成し、これらの光触媒二酸化チタン層に向けて紫
外線を照射して光触媒反応を起こさせる紫外線放射管が
前記処理水槽内の前記複数の室内にそれぞれ設けられた
ことを特徴とする請求項１記載の光触媒反応水処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10102562A JPH11290844A (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 光触媒反応水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10102562A JPH11290844A (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 光触媒反応水処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11290844A true JPH11290844A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=14330678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10102562A Pending JPH11290844A (ja) | 1998-04-14 | 1998-04-14 | 光触媒反応水処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11290844A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6932947B2 (en) | 2002-05-09 | 2005-08-23 | Environmentalcare Ltd. | Fluid purification and disinfection device |
| JP2006510486A (ja) * | 2002-12-03 | 2006-03-30 | ドンギャク チョイ | 生ゴミ処理装置 |
| WO2006114853A1 (ja) * | 2005-04-12 | 2006-11-02 | Japan Agriculture And Forestry Association | 活水器 |
| CN101786715A (zh) * | 2010-03-08 | 2010-07-28 | 九江学院 | 二氧化钛预涂动态膜光催化水处理装置 |
| JP2013508138A (ja) * | 2009-10-22 | 2013-03-07 | ソプ シム，ジョン | 紫外線照射死角領域を除去した紫外線を利用した殺菌浄化装置 |
| CN105772037A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-07-20 | 浙江大学 | 一种紫外光催化去除水中溴酸盐的材料及其制备方法 |
| CN105772038A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-07-20 | 浙江大学 | 一种紫外光催化去除水中溴酸盐的材料在去除水中溴酸盐中的应用 |
| CN113318720A (zh) * | 2020-02-28 | 2021-08-31 | 广东粤能净环保科技有限公司 | 一种光催化剂及其制法和应用 |
-
1998
- 1998-04-14 JP JP10102562A patent/JPH11290844A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6932947B2 (en) | 2002-05-09 | 2005-08-23 | Environmentalcare Ltd. | Fluid purification and disinfection device |
| JP2006510486A (ja) * | 2002-12-03 | 2006-03-30 | ドンギャク チョイ | 生ゴミ処理装置 |
| WO2006114853A1 (ja) * | 2005-04-12 | 2006-11-02 | Japan Agriculture And Forestry Association | 活水器 |
| JP2013508138A (ja) * | 2009-10-22 | 2013-03-07 | ソプ シム，ジョン | 紫外線照射死角領域を除去した紫外線を利用した殺菌浄化装置 |
| US9006682B2 (en) | 2009-10-22 | 2015-04-14 | Jong Seop Shim | Microbicidal purification device employing ultraviolet light from which ultraviolet-light-irradiation dead areas have been eliminated |
| CN101786715A (zh) * | 2010-03-08 | 2010-07-28 | 九江学院 | 二氧化钛预涂动态膜光催化水处理装置 |
| CN105772037A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-07-20 | 浙江大学 | 一种紫外光催化去除水中溴酸盐的材料及其制备方法 |
| CN105772038A (zh) * | 2016-01-08 | 2016-07-20 | 浙江大学 | 一种紫外光催化去除水中溴酸盐的材料在去除水中溴酸盐中的应用 |
| CN113318720A (zh) * | 2020-02-28 | 2021-08-31 | 广东粤能净环保科技有限公司 | 一种光催化剂及其制法和应用 |
| CN113318720B (zh) * | 2020-02-28 | 2023-12-29 | 中科粤能净(山东)新材料有限公司 | 一种光催化剂及其制法和应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1984003880A1 (en) | Apparatus for destroying microorganisms | |
| JP2010507476A (ja) | 光触媒反応器 | |
| CN101875001A (zh) | 光催化氧化-膜分离循环流化床反应装置 | |
| CN100558652C (zh) | 用于水处理的光催化曝气滤池 | |
| CN210340579U (zh) | 一种uv光催化污水处理装置 | |
| KR100718676B1 (ko) | 광촉매 비드체를 이용한 수질살균정화장치 | |
| JPH11290844A (ja) | 光触媒反応水処理装置 | |
| CN110075708A (zh) | 一种废气废水综合处理系统及方法 | |
| CN101497014B (zh) | 新型光催化臭氧化流化床反应装置及水处理方法 | |
| KR100438668B1 (ko) | 광촉매반응식 수처리장치 | |
| EP2953902B1 (en) | Uv apparatus | |
| KR20200113726A (ko) | 자외선 고도산화 반응기 및 이를 포함하는 수처리 시스템 | |
| JP3858734B2 (ja) | 水処理装置 | |
| JP3792577B2 (ja) | 光触媒を利用した水処理装置 | |
| CN213707812U (zh) | 一种增强型水面光触媒消毒装置 | |
| JPH1085736A (ja) | 液体処理装置 | |
| CN210237187U (zh) | 一种紫外光催化氧化水处理设备 | |
| JP3733136B1 (ja) | 溶存オゾン分解装置 | |
| JPH11151486A (ja) | 高度浄水処理池および同用光触媒体 | |
| KR19980049350A (ko) | 유동형 TiO₂코팅 충전물을 이용한 정수처리장치 모듈 | |
| CN206109025U (zh) | 一种用于废水处理的光助催化反应装置 | |
| JP2007136372A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3144302B2 (ja) | 被処理流体処理装置 | |
| JP3878297B2 (ja) | 流体浄化装置 | |
| RU239025U1 (ru) | Установка обеззараживания воды |