JPH11292556A - 低脆性ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
低脆性ガラスおよびその製造方法Info
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- JPH11292556A JPH11292556A JP11025444A JP2544499A JPH11292556A JP H11292556 A JPH11292556 A JP H11292556A JP 11025444 A JP11025444 A JP 11025444A JP 2544499 A JP2544499 A JP 2544499A JP H11292556 A JPH11292556 A JP H11292556A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B27/00—Tempering or quenching glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
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Abstract
(57)【要約】
【課題】ガラスの組成を変えることなく脆性を低下させ
る。 【解決手段】ガラスの歪点をＴ（℃）とするとき、該ガ
ラスに２０℃から（Ｔ＋３００）℃までの範囲の温度に
おいて１ＧＰａ以上の圧力を印加する処理を施すことに
よって、ガラスの脆性をその処理前より低下させる。
る。 【解決手段】ガラスの歪点をＴ（℃）とするとき、該ガ
ラスに２０℃から（Ｔ＋３００）℃までの範囲の温度に
おいて１ＧＰａ以上の圧力を印加する処理を施すことに
よって、ガラスの脆性をその処理前より低下させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、低脆性ガラスおよ
びその製造方法に関する。
びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ガラスの脆性を低下させるた
めに、ガラスに要求される諸特性を維持しつつ組成を設
計することは行われている。しかし、組成を変えること
によってガラスの低脆性化を行うと、連続量産窯で生産
する際に、組成変更が必要になるので、組成変更中のガ
ラスは損失になる。
めに、ガラスに要求される諸特性を維持しつつ組成を設
計することは行われている。しかし、組成を変えること
によってガラスの低脆性化を行うと、連続量産窯で生産
する際に、組成変更が必要になるので、組成変更中のガ
ラスは損失になる。
【０００３】また、ガラスに高い圧力を印加するとガラ
スの脆性が変化するという報告がある（Zuyi Zhang et
al.,J.Am.Ceram.Soc.,30,6359-6362(1995)）。同報告で
は、ビッカース圧子を打ち込んで圧力印加前後での傷の
大きさの変化を調べているが、圧力印加後の傷の大きさ
は印加前よりも大きくなっており、脆性がより高くなっ
ている。この高脆性化のメカニズムは明らかではない
が、圧力印加によりガラスが緻密化するため、脆性が高
くなると考えられる。
スの脆性が変化するという報告がある（Zuyi Zhang et
al.,J.Am.Ceram.Soc.,30,6359-6362(1995)）。同報告で
は、ビッカース圧子を打ち込んで圧力印加前後での傷の
大きさの変化を調べているが、圧力印加後の傷の大きさ
は印加前よりも大きくなっており、脆性がより高くなっ
ている。この高脆性化のメカニズムは明らかではない
が、圧力印加によりガラスが緻密化するため、脆性が高
くなると考えられる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、組成
変更によることなく、ガラスの低脆性化を達成しようと
するものである。
変更によることなく、ガラスの低脆性化を達成しようと
するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前述の課題を
解決すべくなされたものであり、ガラスに圧力を印加す
ると、ある圧力まではガラスが緻密化し高脆性化する
が、驚くべきことにさらに高い圧力を印加するとガラス
は緻密化するものの低脆性化するという発見に基づいて
なされたものである。
解決すべくなされたものであり、ガラスに圧力を印加す
ると、ある圧力まではガラスが緻密化し高脆性化する
が、驚くべきことにさらに高い圧力を印加するとガラス
は緻密化するものの低脆性化するという発見に基づいて
なされたものである。
【０００６】すなわち、本発明は、ガラスの歪点をＴ
（℃）とするとき、該ガラスに２０℃から（Ｔ＋３０
０）℃までの範囲の温度において１ＧＰａ以上の圧力を
印加する処理を施すことによって、ガラスの脆性をその
処理前より低下させることを特徴とする低脆性ガラスの
製造方法を提供する。
（℃）とするとき、該ガラスに２０℃から（Ｔ＋３０
０）℃までの範囲の温度において１ＧＰａ以上の圧力を
印加する処理を施すことによって、ガラスの脆性をその
処理前より低下させることを特徴とする低脆性ガラスの
製造方法を提供する。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明においては、２０℃から
（Ｔ＋３００）℃までの範囲の温度においてガラスに１
ＧＰａ以上の圧力が印加される。ここでいう温度は、前
記圧力が印加される処理における最高温度である。以
下、この温度を加圧温度という。加圧温度を前記範囲に
限定することにより低脆性化を達成できる。
（Ｔ＋３００）℃までの範囲の温度においてガラスに１
ＧＰａ以上の圧力が印加される。ここでいう温度は、前
記圧力が印加される処理における最高温度である。以
下、この温度を加圧温度という。加圧温度を前記範囲に
限定することにより低脆性化を達成できる。
【０００８】加圧温度は、好ましくは（Ｔ＋２００）℃
以下、より好ましくは（Ｔ＋５０）℃以下である。ま
た、Ｔ＞３２０℃のとき、加圧温度は好ましくは（Ｔ−
３００）℃以上である。Ｔ＞２２０℃のとき、加圧温度
は好ましくは（Ｔ−２００）℃以上である。
以下、より好ましくは（Ｔ＋５０）℃以下である。ま
た、Ｔ＞３２０℃のとき、加圧温度は好ましくは（Ｔ−
３００）℃以上である。Ｔ＞２２０℃のとき、加圧温度
は好ましくは（Ｔ−２００）℃以上である。
【０００９】ガラスを加圧温度にするために加熱するこ
とが必要な場合の加熱装置としては、電気加熱装置、ガ
ス加熱装置、重油加熱装置などが使用できる。この場
合、本発明では、加圧操作を同時に行うため、安全性の
点で電気加熱装置の使用が好ましいが、これに限定され
ない。
とが必要な場合の加熱装置としては、電気加熱装置、ガ
ス加熱装置、重油加熱装置などが使用できる。この場
合、本発明では、加圧操作を同時に行うため、安全性の
点で電気加熱装置の使用が好ましいが、これに限定され
ない。
【００１０】本発明では、上記加圧温度で、所定の高い
圧力、すなわち、１ＧＰａ以上の圧力を印加する。加圧
装置としてはホットプレスや、ＨＩＰ（熱間等方圧加圧
装置）や、例えばダイヤモンド合成に使用されるような
超高圧発生装置などが使用でき、高い圧力を印加できる
という点で超高圧発生装置の使用が好ましい。
圧力、すなわち、１ＧＰａ以上の圧力を印加する。加圧
装置としてはホットプレスや、ＨＩＰ（熱間等方圧加圧
装置）や、例えばダイヤモンド合成に使用されるような
超高圧発生装置などが使用でき、高い圧力を印加できる
という点で超高圧発生装置の使用が好ましい。
【００１１】本発明において、低脆性化が達成できる圧
力は材料により異なり、適宜調整すればよい。例えば、
５ＧＰａ以上であれば、低脆性化が達成できるが、材料
によっては、これより低い圧力（３ＧＰａ以上）でも低
脆性化が達成できる。ガラスによっては、１ＧＰａ以上
であれば低脆性化が達成できると考えられる。ただし、
あまり圧力が低いと、ガラス構造が緻密化して高脆性化
するおそれがある。
力は材料により異なり、適宜調整すればよい。例えば、
５ＧＰａ以上であれば、低脆性化が達成できるが、材料
によっては、これより低い圧力（３ＧＰａ以上）でも低
脆性化が達成できる。ガラスによっては、１ＧＰａ以上
であれば低脆性化が達成できると考えられる。ただし、
あまり圧力が低いと、ガラス構造が緻密化して高脆性化
するおそれがある。
【００１２】本発明において、ガラスを加圧温度および
所定圧力下に保持する時間は、当該条件下でガラス構造
の緻密化が飽和するのに充分な時間であればよい。例え
ば２分以上であれば低脆性化が達成できると考えられる
が、材料や加圧温度によっては、これより短くても低脆
性化が達成できる場合がある。
所定圧力下に保持する時間は、当該条件下でガラス構造
の緻密化が飽和するのに充分な時間であればよい。例え
ば２分以上であれば低脆性化が達成できると考えられる
が、材料や加圧温度によっては、これより短くても低脆
性化が達成できる場合がある。
【００１３】本発明において、上記した加圧温度・所定
高圧での処理を行うために加熱した場合において、前記
処理後に温度を下げる速度としては、ガラスの内部と外
部の温度差によって生じる熱応力でガラスが破壊しない
速度であればよく、適宜調節できる。
高圧での処理を行うために加熱した場合において、前記
処理後に温度を下げる速度としては、ガラスの内部と外
部の温度差によって生じる熱応力でガラスが破壊しない
速度であればよく、適宜調節できる。
【００１４】本発明において、上記した加圧温度・所定
高圧での処理の後、圧力を解除する温度は、ガラスの構
造緩和が生じない温度以下であることが好ましい。その
ため、圧力を解除する温度は、ガラス転移点以下である
ことが好ましく、また、歪点以下であることが好まし
く、室温が最も好ましい。
高圧での処理の後、圧力を解除する温度は、ガラスの構
造緩和が生じない温度以下であることが好ましい。その
ため、圧力を解除する温度は、ガラス転移点以下である
ことが好ましく、また、歪点以下であることが好まし
く、室温が最も好ましい。
【００１５】本発明においてガラスの脆性の指標として
はローンらによって提案された脆性指標値Ｂを使用した
(B.R.Lawn et al.,J.Am.Ceram.Soc.,62[7-8],347-350(1
979)) 。ここで、脆性指標値Ｂは材料のビッカース硬さ
Ｈv と破壊靱性値Ｋc から下記式１により定義される。
はローンらによって提案された脆性指標値Ｂを使用した
(B.R.Lawn et al.,J.Am.Ceram.Soc.,62[7-8],347-350(1
979)) 。ここで、脆性指標値Ｂは材料のビッカース硬さ
Ｈv と破壊靱性値Ｋc から下記式１により定義される。
【００１６】この脆性指標値をガラスに適応する場合
に、問題となるのは破壊靱性値Ｋc が正確に評価しにく
いことである。この問題を解決するために、本発明者
は、ビッカース圧子を押し込み荷重Ｐで打ち込んだとき
にガラス表面に残る圧痕の対角長ａと圧痕の４隅から発
生するクラック長さ（圧痕を含む２つのクラックの全
長）ｃとの間の下記式２の関係から脆性を定量的に評価
できることを見いだしている（図１参照）。すなわち、
各種ガラスの表面にビッカース圧子を打ち込み、ビッカ
ース圧子の押し込み荷重Ｐと圧痕の対角長ａとクラック
長さｃを測定し、式２を用いて計算すれば、容易にガラ
スの脆性を評価できる。 Ｂ＝Ｈv ／Ｋc ・・・式１ ｃ／ａ＝０．００５６Ｂ2/3 Ｐ1/6 ・・・式２
に、問題となるのは破壊靱性値Ｋc が正確に評価しにく
いことである。この問題を解決するために、本発明者
は、ビッカース圧子を押し込み荷重Ｐで打ち込んだとき
にガラス表面に残る圧痕の対角長ａと圧痕の４隅から発
生するクラック長さ（圧痕を含む２つのクラックの全
長）ｃとの間の下記式２の関係から脆性を定量的に評価
できることを見いだしている（図１参照）。すなわち、
各種ガラスの表面にビッカース圧子を打ち込み、ビッカ
ース圧子の押し込み荷重Ｐと圧痕の対角長ａとクラック
長さｃを測定し、式２を用いて計算すれば、容易にガラ
スの脆性を評価できる。 Ｂ＝Ｈv ／Ｋc ・・・式１ ｃ／ａ＝０．００５６Ｂ2/3 Ｐ1/6 ・・・式２
【００１７】
【実施例】以下に本発明を、例を挙げてさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、ガ
ラス転移点はＴＭＡで、比重はアルキメデス法で、歪点
はＪＩＳ Ｒ３１０３に従って、それぞれ測定した。例
１〜１０は実施例、例１１〜１２は比較例である。
説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、ガ
ラス転移点はＴＭＡで、比重はアルキメデス法で、歪点
はＪＩＳ Ｒ３１０３に従って、それぞれ測定した。例
１〜１０は実施例、例１１〜１２は比較例である。
【００１８】［例１］炭酸リチウムとケイ砂を、２０モ
ル％のＬｉ2 Ｏと８０モル％のＳｉＯ2 からなるＬｉ2
Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
白金坩堝を用いて１５００℃で１時間溶解後、その温度
で１時間ガラスを撹拌して均質化した後、 １時間放置し
て泡ぬきし、溶融ガラスを得た。さらに、この溶融ガラ
スを幅５ｃｍの板上に流し出して板状にし、その後徐冷
してＬｉ2 Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスを得た。このガラスの
比重は２．２７、ガラス転移点は４４７℃、歪点は３９
５℃、脆性値は５４００ｍ-1/2であった。
ル％のＬｉ2 Ｏと８０モル％のＳｉＯ2 からなるＬｉ2
Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
白金坩堝を用いて１５００℃で１時間溶解後、その温度
で１時間ガラスを撹拌して均質化した後、 １時間放置し
て泡ぬきし、溶融ガラスを得た。さらに、この溶融ガラ
スを幅５ｃｍの板上に流し出して板状にし、その後徐冷
してＬｉ2 Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスを得た。このガラスの
比重は２．２７、ガラス転移点は４４７℃、歪点は３９
５℃、脆性値は５４００ｍ-1/2であった。
【００１９】直径約１０ｍｍ、厚さ約５ｍｍの円盤状試
料に加工したこのガラスを直径約１５ｍｍの円筒形ヒー
タにセットし、試料の周りに窒化ホウ素を充填し超高圧
発生装置に入れた。
料に加工したこのガラスを直径約１５ｍｍの円筒形ヒー
タにセットし、試料の周りに窒化ホウ素を充填し超高圧
発生装置に入れた。
【００２０】６ＧＰａの圧力を印加した後、約２５℃／
分の速度で４００℃まで昇温し、４００℃で２分間保持
した後、降温し、室温で圧力を解放した。この場合の加
圧温度は４００℃である。処理後のガラスの表面を鏡面
研磨し、比重と脆性値とを測定したところ、ガラスの比
重は２．６８と加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆
性値は５０００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少
し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下して
いた。
分の速度で４００℃まで昇温し、４００℃で２分間保持
した後、降温し、室温で圧力を解放した。この場合の加
圧温度は４００℃である。処理後のガラスの表面を鏡面
研磨し、比重と脆性値とを測定したところ、ガラスの比
重は２．６８と加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆
性値は５０００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少
し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下して
いた。
【００２１】［例２]炭酸リチウムとケイ砂を、２５モ
ル％のＬｉ2 Ｏと７５モル％のＳｉＯ2 からなるＬｉ2
Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
例１と同様の方法で溶解成形した。このガラスの比重は
２．２９、歪点は４０６℃、ガラス転移点は４５４℃、
脆性値は６０００ｍ-1/2であった。
ル％のＬｉ2 Ｏと７５モル％のＳｉＯ2 からなるＬｉ2
Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
例１と同様の方法で溶解成形した。このガラスの比重は
２．２９、歪点は４０６℃、ガラス転移点は４５４℃、
脆性値は６０００ｍ-1/2であった。
【００２２】例１と同様の方法で加熱・加圧処理をした
後のＬｉ2 Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．６４であ
り、加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆性値は４５
００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少し、ガラスが
傷つきにくくなっており、脆性が低下していた。
後のＬｉ2 Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．６４であ
り、加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆性値は４５
００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少し、ガラスが
傷つきにくくなっており、脆性が低下していた。
【００２３】［例３]炭酸リチウムとケイ砂を、Ｌｉ2
ＯとＳｉＯ2 からなりそのモル比が１：２であるＬｉ2
Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
例１と同様の方法で溶解成形した。このガラスの比重は
２．３４、歪点は４２０℃、ガラス転移点は４７０℃、
軟化点は５９３℃、脆性値は５３００ｍ-1/2であった。
ＯとＳｉＯ2 からなりそのモル比が１：２であるＬｉ2
Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスが得られるように５０ｇ調合し、
例１と同様の方法で溶解成形した。このガラスの比重は
２．３４、歪点は４２０℃、ガラス転移点は４７０℃、
軟化点は５９３℃、脆性値は５３００ｍ-1/2であった。
【００２４】例１と同様の方法で加熱・加圧処理をした
後のＬｉ2 Ｏ・ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．５８であ
り、加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆性値は３８
００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少し、ガラスが
傷つきにくくなっており、脆性が低下していた。
後のＬｉ2 Ｏ・ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．５８であ
り、加熱・加圧処理前よりも増大したが、脆性値は３８
００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも減少し、ガラスが
傷つきにくくなっており、脆性が低下していた。
【００２５】［例４]例３において、印加圧力だけを３
ＧＰａに変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．４９であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は５０００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
ＧＰａに変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．４９であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は５０００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
【００２６】［例５］例３において、加圧温度だけを２
５０℃に変更して得た、Ｌｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの
比重は２．４７であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は３３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
５０℃に変更して得た、Ｌｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの
比重は２．４７であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は３３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
【００２７】［例６］例３において、加圧温度だけを３
７０℃に変更して得た、Ｌｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの
比重は２．５４であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は３５００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
７０℃に変更して得た、Ｌｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの
比重は２．５４であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は３５００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
【００２８】［例７］例３において、加圧温度だけを４
３０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．５７であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は３３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
３０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．５７であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は３３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
【００２９】［例８］例３において加圧温度だけを４７
０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの比重
は２．５８であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は３４００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2 ガラスの比重
は２．５８であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は３４００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
【００３０】［例９］例３において、加圧温度だけを５
８０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．６０であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は４３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
８０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの比
重は２．６０であり、加熱・加圧処理前よりも増大した
が、脆性値は４３００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前よりも
減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低下
していた。
【００３１】［例１０］例３において、加圧温度だけを
６６０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの
比重は２．６０であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は５２００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
６６０℃に変更して得たＬｉ2 Ｏ・２ＳｉＯ2ガラスの
比重は２．６０であり、加熱・加圧処理前よりも増大し
たが、脆性値は５２００ｍ-1/2と加熱・加圧処理前より
も減少し、ガラスが傷つきにくくなっており、脆性が低
下していた。
【００３２】［例１１]例１と同様の方法で溶解成形し
て得たＬｉ2 Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスに対して、０．１Ｇ
Ｐａの圧力で加熱・加圧処理をした。加熱・加圧処理を
した後のＬｉ2Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．５
２、脆性値は７４００ｍ-1/2といずれの物性値も加熱・
加圧処理前よりも増大し、ガラスが傷つきやすくなって
おり、脆性が高くなっていた。このように、加圧する圧
力が不充分であるとガラスが緻密化して脆くなる場合が
ある。
て得たＬｉ2 Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスに対して、０．１Ｇ
Ｐａの圧力で加熱・加圧処理をした。加熱・加圧処理を
した後のＬｉ2Ｏ・４ＳｉＯ2 ガラスの比重は２．５
２、脆性値は７４００ｍ-1/2といずれの物性値も加熱・
加圧処理前よりも増大し、ガラスが傷つきやすくなって
おり、脆性が高くなっていた。このように、加圧する圧
力が不充分であるとガラスが緻密化して脆くなる場合が
ある。
【００３３】［例１２]例２と同様な方法で溶解成形し
て得たＬｉ2 Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスに対し、０．１ＧＰ
ａの圧力で加熱・加圧処理をした。加熱・加圧処理をし
た後のリチウムトリシリケートガラスの比重は２．５
２、脆性値は６７００ｍ-1/2といずれの物性値も加熱・
加圧処理前よりも増大し、ガラスが傷つきやすくなって
おり、脆性が高くなっていた。このように、加圧する圧
力が不充分であるとガラスが緻密化して脆くなる場合が
ある。
て得たＬｉ2 Ｏ・３ＳｉＯ2 ガラスに対し、０．１ＧＰ
ａの圧力で加熱・加圧処理をした。加熱・加圧処理をし
た後のリチウムトリシリケートガラスの比重は２．５
２、脆性値は６７００ｍ-1/2といずれの物性値も加熱・
加圧処理前よりも増大し、ガラスが傷つきやすくなって
おり、脆性が高くなっていた。このように、加圧する圧
力が不充分であるとガラスが緻密化して脆くなる場合が
ある。
【００３４】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ガラスの組
成を変えることなくガラスを低脆性化できる。このため
腕時計や液晶表示装置などのカバーガラス、眼鏡などの
レンズ、および磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディ
スクなどのメモリーディスク基板、その他ガラスメスシ
リンダやスポイト（特に医療用など）に広く応用でき
る。また、本発明の製造方法によればガラスの屈折率も
大きくなるので、眼鏡などのレンズの軽量化も同時に達
成できる。
成を変えることなくガラスを低脆性化できる。このため
腕時計や液晶表示装置などのカバーガラス、眼鏡などの
レンズ、および磁気ディスク、光ディスク、光磁気ディ
スクなどのメモリーディスク基板、その他ガラスメスシ
リンダやスポイト（特に医療用など）に広く応用でき
る。また、本発明の製造方法によればガラスの屈折率も
大きくなるので、眼鏡などのレンズの軽量化も同時に達
成できる。
【図１】脆性指標値の測定を説明する図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 牧原 正記 大阪府池田市緑丘１丁目８番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 ジテンドラ セーガル 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 伊藤 節郎 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 (72)発明者 柳沢 修 神奈川県横浜市鶴見区末広町１丁目１番地 旭硝子株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】ガラスの歪点をＴ（℃）とするとき、該ガ
ラスに２０℃から（Ｔ＋３００）℃までの範囲の温度に
おいて１ＧＰａ以上の圧力を印加する処理を施すことに
よって、ガラスの脆性をその処理前より低下させること
を特徴とする低脆性ガラスの製造方法。 - 【請求項２】請求項１記載の製造方法により製造されて
なる低脆性ガラス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11025444A JPH11292556A (ja) | 1998-02-10 | 1999-02-02 | 低脆性ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-28657 | 1998-02-10 | ||
| JP2865798 | 1998-02-10 | ||
| JP11025444A JPH11292556A (ja) | 1998-02-10 | 1999-02-02 | 低脆性ガラスおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11292556A true JPH11292556A (ja) | 1999-10-26 |
Family
ID=26363056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11025444A Pending JPH11292556A (ja) | 1998-02-10 | 1999-02-02 | 低脆性ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11292556A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04265240A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-21 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学用シリカガラスの製造方法 |
| JPH07232930A (ja) * | 1993-05-17 | 1995-09-05 | Tdk Corp | ガラス材、生体組織代替材、その製造方法および生体組織代替材成形装置 |
| JPH0977565A (ja) * | 1995-09-11 | 1997-03-25 | Ngk Insulators Ltd | ガラスセラミックス成形体の製造方法 |
-
1999
- 1999-02-02 JP JP11025444A patent/JPH11292556A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04265240A (ja) * | 1991-02-21 | 1992-09-21 | Shinetsu Quartz Prod Co Ltd | 光学用シリカガラスの製造方法 |
| JPH07232930A (ja) * | 1993-05-17 | 1995-09-05 | Tdk Corp | ガラス材、生体組織代替材、その製造方法および生体組織代替材成形装置 |
| JPH0977565A (ja) * | 1995-09-11 | 1997-03-25 | Ngk Insulators Ltd | ガラスセラミックス成形体の製造方法 |
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