JPH11292864A - オレフィン系エポキシドの製造方法 - Google Patents

オレフィン系エポキシドの製造方法

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JPH11292864A
JPH11292864A JP11059352A JP5935299A JPH11292864A JP H11292864 A JPH11292864 A JP H11292864A JP 11059352 A JP11059352 A JP 11059352A JP 5935299 A JP5935299 A JP 5935299A JP H11292864 A JPH11292864 A JP H11292864A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 チタンシリカライトの存在下のエポキシ化に
おいて高い選択性を有する、オレフィン系エポキシドの
製造方法の提供。 【解決手段】 少なくとも１種のオレフィンと、過酸化
水素またはその反応条件下で過酸化水素を生成できる化
合物とを、窒素原子上で置換されたアミド基を含む有機
分子で処理されたチタンシリカライトから成る触媒の存
在において反応させることからなる、エポキシドの製造
方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、オレフィン系エポ
キシドの製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明
は、オレフィンと、過酸化水素またはその反応条件下で
過酸化水素を生成できる化合物とを、アミド基を含む有
機化合物で処理されたチタンシリカライト触媒の存在に
おいて反応させることからなるオレフィン系エポキシド
を製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】エポキシドまたはオレフィン系酸化物
は、広い範囲の生成物の製造に使用できる中間体であ
る。例えば、エポキシドはグリコール、縮合ポリマー、
例えば、ポリエステルの製造、あるいはポリウレタンフ
ォーム、エラストマー、シール、およびその他の合成に
おいて有用な中間体の製造、に使用することができる。
【０００３】オレフィン系オキシドを製造する多数の方
法がこの分野において知られている。例えば、欧州特許
（ＥＰ）第１００，１１９号明細書には、オレフィン
と、過酸化水素またはその反応条件下で過酸化水素を生
成できる化合物とを、チタンシリカライトの存在におい
て反応させることによって、エポキシドを製造する方法
が記載されている。これらの触媒によれば、高い選択性
をもってエポキシドを製造することが可能となる。
【０００４】しかしながら、これらの触媒を特徴づける
酸性度は、適度である場合でさえ、エポキシドに対し、
その環を開かせる逐次ソルボリシス反応を活性化するの
に十分である。これにより、エポキシドに対する収率の
低下により、また生成副生物の分離のために、製造コス
トが増大する。
【０００５】欧州特許（ＥＰ）第２３０，９４９号明細
書には、エポキシ化反応の前または間に、触媒それ自体
の酸性度を中和する物質で処理されたチタンシリカライ
トを触媒として使用する、オレフィンおよび過酸化水素
からエポキシドを製造する方法が記載されている。使用
できる中和剤は、ＸＳｉＲ3型（Ｘは、例えば、ハロゲ
ンである）のケイ素の有機誘導体、あるいは第Ｉ族およ
びＩＩ族のカチオンから誘導され、異なる塩基強度を有
し、水溶性である物質である。
【０００６】ケイ素の有機誘導体で処理する場合におい
て、その有機誘導体のよく知られた反応性との関係で大
きい制限が存在する。その反応性のために、触媒の予防
的処理の実施が必要となり、この処理は、これらの化合
物をエポキシ化反応の間に継続的に添加することによっ
て実施されるので、溶媒および反応生成物と望ましくな
い反応が引き起こされるであろう。
【０００７】また、公開された欧州特許出願第７１２，
８５２号明細書に記載されているように、エポキシ化反
応の前に、および／または反応それ自体の間の連続的添
加により、触媒を前処理するとき、塩類の使用について
有意な反対の指示が存在する。これらは下記の事柄に関
する：
【０００８】− これらの塩類のあるものの水溶性の問
題、
【０００９】− 望ましくない副生物を形成するエポキ
シドの開環を防止するために、加水分解により、あるｐ
Ｈ範囲にとどまらなくてはならないアニオンを有する塩
類物質を使用する必要性、
【００１０】− 構造的改質を引き起こさないように、
あるいは使用前の触媒に一般に実施される焼成工程にお
いて特に酸中心をつくらないように、ゼオライトからの
容易な除去の必要性、
【００１１】− プラントに関するかぎり、反応溶媒お
よび副生物からエポキシドを分離するために使用される
カラムの底部について、要求される温度および滞留時間
において、これらの塩類が蓄積して、飽和によるか、あ
るいは通常存在する二酸化炭素で重炭酸塩および／また
は炭酸塩が形成されることにより、沈澱を誘発し、適切
な温度、熱交換、レベルおよびそれに伴う滞留時間のコ
ントロール、およびその他を妨害するスケールが生じる
ことがあり、関係する運転およびメンテナンスの問題を
生ずる可能性、
【００１２】− 上に引用した文献に記載されているカ
チオンのあるものは、これらでチタンシリカライトを交
換前処理して、その固有の酸性度の減少を有効に持続す
ることを必要とする特性を有するが、このような酸性度
の減少は、エポキシ化反応の間に合成反応器への供給物
と一緒に塩類物質を単に添加して、触媒を連続的に単に
処理することによっては得ることができないという事
実、
【００１３】− ある種のプロセス廃棄物は燃焼による
廃棄処理に送ることができないことがある。なぜなら、
これらのカチオンは燃焼炉の耐火材料の分散を誘発する
ので、カチオンの存在は絶対に反生産的であることがあ
るからである。
【００１４】理解できるように、前述のすべての問題
は、単独で、あるいは相乗的に、エポキシ化プロセスの
運転およびそれに関係する作業をかなり複雑化すること
がある。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】出願人は、既知の技術
においてこれまで記載されてきているすべてのものに対
する代替手段を提供する、触媒（チタンシリカライト）
の処理によって、前述の困難および制限のすべてを克服
する方法の発見に成功した。
【００１６】特に、この代替処理は、触媒の固有の酸性
度を有意に低下させるためにその触媒に対して施される
ところ、置換されたアミド基（Ｎ−Ｃ＝Ｏ）を含有する
有機分子を使用して実施される。
【００１７】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明は、
少なくとも１種のオレフィンと、過酸化水素またはその
反応条件下で過酸化水素を生成できる化合物とを、有機
分子で処理されたチタンシリカライトから成る触媒の存
在において反応させることからなるエポキシドを製造す
る方法に関し、そしてこの有機分子は、下記一般式を有
する窒素原子上で置換されたアミド基を含むもの、であ
る： 式中、Ｒ1は水素原子または１〜２０個の炭素原子を有
するアルキル基、６〜２０個の炭素原子を有するアリー
ルまたはアルキルアリール基、７〜２０個の炭素原子を
有するシクロアルキル基、Ｎ、ＯおよびＳから選択され
る同一であるか、または異なる１またはそれ以上のヘテ
ロ原子を有するヘテロ環式（Ｃ7−Ｃ20）基であり、Ｒ2
およびＲ3は、同一であるか、または異なり、１〜２０
個の炭素原子を有するアルキル基、６〜２０個の炭素原
子を有するアリールまたはアルキルアリール基、７〜２
０個の炭素原子を有するシクロアルキル基、Ｎ、Ｏおよ
びＳから選択される同一であるか、または異なる１また
はそれ以上のヘテロ原子を有するヘテロ環式（Ｃ7−Ｃ
20）基であり、さらに、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3基は、一緒
になって、飽和もしくは不飽和の環を形成することがで
き、そしてハロゲン原子、ニトロ、ニトリル、硫酸基お
よびそのエステル、リン酸基およびそのエステル、カル
ボニル、ヒドロキシル、カルボキシル、チオール、アミ
ンおよびエーテルの基を含有することができる。
【００１８】これらの化合物の予期せざる効果のため
に、エポキシ化反応において、形成されたエポキシドか
らの副生物の形成の主要な原因である、チタンシリカラ
イトの固有の酸性度を有意に減少させることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】本発明の方法は、既知の技術にお
いて提案されかつチタンシリカライトの存在下のエポキ
シ化における選択性を増加するために使用されてきてい
る解決法のすべてに勝るものである。この意味におい
て、その有効性は非常に驚くべきことである。一般式
（Ｉ）を有する化合物は、それらの個々の場合に応じ
て、非常に弱い塩基性であるか、時には中性であるか、
（例えば、１−メチル−２−ピロリドンの場合）、ある
いは（例えば、弱酸の挙動を有しさえ、（Ｎ−（３−ト
リフルオロメチルフェニル）−ピロリドンの場合）する
からである。
【００２０】さらに、一般式（Ｉ）を有する生成物は、
高い分子双極性を有することにより特徴づけられる。こ
れによって、多数の溶媒または溶媒混合物に非常によく
溶解し、したがって、エポキシ化反応が好ましく実施さ
れる溶媒にも非常によく溶解する。それらの生成物の沸
点もまた非常に高いので、エポキシ化反応の終わりにお
いて、生成物を反応成分の混合物から容易に分離するこ
とができる。さらに、生成物は高い化学的および熱的安
定性を有するので、エポキシドの反応工程およびまた精
製の工程において劣化しない。
【００２１】一般式（Ｉ）を有する窒素原子上で置換さ
れたアミド基を含む有機分子の例は、次の通りである：
（ｉ）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジプロピルホルムアミド、お
よびその他、および対応する混合アミド、（ii）Ｎ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミ
ド、およびその他、および対応する混合アミド、（ii
i）ジシクロヘキシルホルムアミド、ジシクロフェニル
ホルムアミド、ジシクロヘキシルアセトアミド、ジシク
ロフェニルアセトアミド、（iv）Ｎ−メチルピロリド
ン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ
−オクチル−ピロリドン、Ｎ−シクロヘキシルピロリド
ン、Ｎ−ドデシルピロリドン、Ｎ−イソプロピルピロリ
ドン、Ｎ−ヘキシルピロリドン、Ｎ−ブチルピロリド
ン、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ピロリドン、Ｎ−
（２−アミノエチル）ピロリドン、Ｎ−（３−トリフル
オロメチルフェニル）ピロリドン、Ｎ−フェニルピロリ
ドン、Ｎ−ベンジルピロリドン、およびその他、（ｖ）
Ｎ−メチルピペリドン、Ｎ−エチルピペリドン、Ｎ−イ
ソプロピルピペリドン、Ｎ−シクロヘキシルピペリド
ン、Ｎ−フェニルピペリドン、およびその他、（vi）Ｎ
−メチルカプロラクタム、Ｎ−メチルスクシンイミド、
Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−メチルグルタルアミド、お
よびその他、（vii）１，１，２，２−テトラメチル尿
素、およびその他。
【００２２】本発明の方法は、また、他の大きい欠点が
排除されることとなる。触媒の形成プロセス、またはそ
の合成に使用される原料あるいは他の汚染源からの誘導
の間に触媒の中に取り込まれる、Ａｌ(III)またはＦｅ
(III)のようなカチオンのために、存在することのある
強酸部位の中和を可能とするからである。
【００２３】手順の観点から、一般式（Ｉ）を有するア
ミド誘導体の特性のために、触媒の処理は、前もって、
すなわち、反応の前に、あるいは、連続的に、反応それ
自体の間に実施することができる。
【００２４】前者の場合において、処理は、下記のよう
に、同じエポキシ化反応器内で反応の前に実施すること
ができる。使用する溶媒（反応溶媒）中の懸濁液中に維
持された触媒を、前記溶媒中に溶解したある量のアミド
誘導体でコンディショニングし、その際アミド誘導体の
量は触媒の１ｇ当たり０．０１〜０．５ｇ、好ましくは
０．０２〜０．２５ｇであることができ、処理時間は一
般に５〜１００分、好ましくは１５〜３０分の範囲であ
り、そして温度は０〜１００℃、好ましくは２０〜６０
℃であることができる。処理後、試薬をエポキシ化のた
めに直接供給することができる。
【００２５】連続的処理の場合において、反応器に供給
される反応成分の流れの１つによって所望のアミド誘導
体を添加することができ、添加量は反応媒質、温度およ
びエポキシ化すべきオレフィンに従って変化する。した
がって、このようにして得られるエポキシドに対する高
い選択性を、全体の反応時間の間において、好都合に維
持することができる。
【００２６】連続的に触媒を中和するとき有効に用いら
れうるアミド誘導体の量は、触媒１ｇ当たり０．００１
〜０．０５ｇに維持される。
【００２７】前もって処理された触媒をエポキシ化反応
において使用する場合、ある時間後、合成反応器への供
給物中に溶解させた適当量をアミド誘導体として統合す
ることが好都合であることがある。この量は一般に非常
に少なく、触媒１ｇ当たり０．０００１〜０．００５ｇ
である。
【００２８】特に最後に記載した手順を使用するとき、
反応速度を不都合に低下させないで、ごく最初の反応段
階からエポキシドに対する非常に高い選択性を保証しか
つ維持することができる。
【００２９】本発明の方法において使用できる触媒は、
下記の一般式（ＩＩ）に相当するチタンシリカライトの
名称で一般に知られている触媒から選択される： ｘＴｉＯ2（１−ｘ）ＳｉＯ2 （ＩＩ） 式中、ｘは０．０００１〜０．４、好ましくは０．００
１〜０．０４、である。これらの物質は科学文献におい
て知られており、米国特許第４，４１０，５０１号明細
書に記載されている方法に従って製造することができ
る。米国特許第４，４１０，５０１号明細書において、
それらの触媒の構造的特性も特定されている。また、チ
タンの一部分が他の金属、例えば、ホウ素、アルミニウ
ム、鉄またはガリウムにより置換されているチタンシリ
カライトを使用することができる。これらの置換された
チタンシリカライトおよびそれらの製造方法は、公開さ
れた欧州特許出願第２２６，２５７号、第２２６，２５
８号、および第２２６，８２５号明細書に記載されてい
る。
【００３０】本発明のエポキシドの製造方法において使
用する触媒の量は臨界的ではないが、できるだけ短時間
にエポキシ化反応を完結できるように選択される。一般
に、触媒の量は、反応温度、反応性、オレフィンの濃
度、過酸化水素の濃度および溶媒の型に依存する。例え
ば、触媒の量はオレフィン１モル当たり０．１〜３０ｇ
の範囲であることができる。
【００３１】本発明の方法において使用できるオレフィ
ン系化合物は少なくとも１つの二重結合を含有する有機
化合物から選択することができ、そして芳香族、脂肪
族、アルキル芳香族、環状、分枝鎖状または直鎖状であ
ることができる。それらは好ましくは分子の中に２〜３
０個の炭素原子を有しかつ少なくとも１つの二重結合を
含有するオレフィン系炭化水素である。
【００３２】本発明の目的に適当なオレフィンの例は、
下記の一般式（ＩＩＩ）を有するオレフィンから選択さ
れる： 式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、およびＲ7は、同一であるか、あ
るいは異なり、Ｈ、１〜２０個の炭素原子を有するアル
キル基、６〜２０個の炭素原子を有するアリールおよび
アルキルアリール基、６〜１０個の炭素原子を有するシ
クロアルキル基、７〜２０個の炭素原子を有するアルキ
ルシクロアルキル基であることができ、基Ｒ4、Ｒ5、Ｒ
6、およびＲ7は、一緒になって、飽和もしくは不飽和の
環を形成することができる。さらに、これらの基は、ハ
ロゲン原子、ニトロ、ニトリル、スルホン酸基およびそ
のエステル、カルボニル、ヒドロキシル、カルボキシ
ル、チオール、アミンおよびエーテルの基を含有するこ
とができる。
【００３３】本発明の方法によりエポキシ化できるオレ
フィンの例は次の通りである：エチレン、プロピレン、
塩化アリル、アリルアルコール、ブテン、ペンテン、ヘ
キセン、ヘプテン、オクテン−１、１−トリデセン、メ
シチルオキシド、イソプレン、シクロオクテン、シクロ
ヘキセンまたは２環式化合物、例えば、ノルボルネン、
ピネン、およびその他。オレフィンは不飽和炭素原子お
よび異なる位置の双方に前述の置換基を有することがで
きる。
【００３４】本発明の方法において使用する酸化剤は、
過酸化水素（Ｈ2Ｏ2）またはエポキシ化反応条件下にＨ
2Ｏ2を発生できる化合物である。オレフィンに関する過
酸化水素の量は臨界的でないが、０．９〜５、好ましく
は０．９５〜３、の範囲のオレフィン／Ｈ2Ｏ2のモル比
を使用することが好ましい。
【００３５】エポキシ化反応は１またはそれ以上の溶媒
中でエポキシ化温度において実施することができる。典
型的には、極性の特質を有する溶媒を使用するが、この
ような溶媒の例は次の通りである：アルコール（メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブチ
ルアルコール、シクロヘキサノール）、ケトン（例え
ば、アセトン、メチルエチルケトン、アセトフェノ
ン）、エーテル（テトラヒドロフラン、ブチルエーテ
ル）、脂肪族および芳香族の炭化水素、ハロゲン化炭化
水素、エステル、６より小さいか、あるいはそれに等し
い炭素原子数を有するグリコール、脂肪族または芳香族
のニトリル（例えば、アセトニトリルおよびベンゾニト
リル）。メタノールを使用することが好ましく、ケトン
の中ではアセトンを使用することが好ましい。
【００３６】本発明の方法において使用する温度は、一
般に０〜１５０℃、好ましくは２０〜１００℃、より好
ましくは３０〜８０℃の範囲である。
【００３７】操作圧力は、反応のために選定された温度
においてオレフィンを液相に維持できる圧力である。操
作圧力は、一般に、気体のオレフィンを使用するとき
は、大気圧より高い。
【００３８】本発明のエポキシ化法は、バッチ式、半連
続的に、好ましくは連続的に、実施することができる。
【００３９】本発明の方法において、種々の型の反応
器、例えば、固定床の反応器、スラリーの反応器または
流動床の反応器を使用することができる。反応器の型に
依存して、触媒は微小球、粒子または種々の形態および
形状のペレットの形で使用できる。
【００４０】本発明のオレフィン系エポキシドの製造方
法は、既知の方法に従って実施することができる。例え
ば、すべての反応成分を反応帯域に同時にまたは順次に
導入することができる。エポキシ化反応の終わりにおい
て、慣用技術、例えば、蒸留、結晶化、液−液抽出、水
蒸気ストリッピング、およびその他、を使用して、反応
混合物から生成物を分離し、回収することができる。非
反応生成物（オレフィンおよびＨ2Ｏ2）と一緒に触媒を
回収し、引き続くエポキシ化工程において再使用するこ
とができる。
【００４１】下記の実験例により、本発明はよりよく示
される。これらの実験例は本発明を限定しない。
【００４２】公開欧州特許出願第１００，１１９号明細
書に記載されている方法に従い、実験例において使用し
たチタンシリカライトを製造する。触媒は乾燥または不
活性の雰囲気中で適切に保存される。ＦＲＸ技術に従っ
て測定した合計のチタンの量は２．６４重量％に等しい
が、化学解析から得られた量は２．６２重量％である。
【００４３】
【実施例】実験例１（比較） 室温において、気体効果を有する機械的撹拌機、自動温
度調節システム（反応溶液の中に浸漬した内部コイルお
よび外部の循環ジャケット）を装備した１リットルの反
応器の中で、４６０ｇのメタノールおよび２３ｇの水を
含有する混合物の中に１．６７ｇのチタンシリカライト
を懸濁させる。この系を４０℃の温度および２．２気圧
の全体のプロピレンの圧力にするのに必要な時間が経過
した後、２９．５５ｇのＨ2Ｏ2を５７．５５％ｗ／ｗで
供給する。セリウム（ＩＶ）滴定およびＨＰＬＣにより
残留過酸化水素を分析することによって、エポキシ化過
程を追跡する。結果は、下記表に示す通りである。
【００４４】実験例２ 実験例１に記載されたのと同一の実験条件下で、エポキ
シ化反応を実施するが、自動温度調節および合成反応器
の加圧の前に、溶媒中に溶解した２５０ｐｐｍの１−メ
チル−２−ピロリドンを使用する。得られた結果は、表
に示す通りである。
【００４５】実験例３ 実験例２におけるのと同一の手順を実施するが、１００
０ｐｐｍの１−メチル−２−ピロリドンを使用する。得
られた結果は、表に示す通りである。
【００４６】実験例４ 実験例２におけるのと同一の手順を実施するが、１００
ｐｐｍの１−オクチル−２−ピロリドンを使用する。得
られた結果を表に示す。
【００４７】実験例５ 実験例２におけるのと同一の手順を実施するが、２５０
ｐｐｍのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを使用する。得
られた結果は、表に示す通りである。
【００４８】実験例６ 実験例３におけるのと同一の手順を実施するが、１００
０ｐｐｍのＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを使用する。
得られた結果は、表に示す通りである。
【００４９】実験例７ 実験例２におけるのと同一の手順を実施するが、１００
０ｐｐｍの１−メチル−２−ピペリドンを使用する。得
られた結果は表に示す通りである。
【００５０】実験例８ 実験例２におけるのと同一の手順を実施するが、１００
０ｐｐｍのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを使用する。
得られた結果は、表に示す通りである。
【表１】

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】少なくとも１種のオレフィンと、過酸化水
    素またはその反応条件下で過酸化水素を生成できる化合
    物とを、有機分子で処理されたチタンシリカライトから
    成る触媒の存在において反応させることからなり、この
    有機分子が、下記一般式を有する窒素原子上で置換され
    たアミド基を含むものであることを特徴とする、エポキ
    シドの製造方法。 式中、 Ｒ1は水素原子または１〜２０個の炭素原子を有するア
    ルキル基、６〜２０個の炭素原子を有するアリールまた
    はアルキルアリール基、７〜２０個の炭素原子を有する
    シクロアルキル基、Ｎ、ＯおよびＳから選択される同一
    であるか、または異なる１またはそれ以上のヘテロ原子
    を有するヘテロ環式基であり、 Ｒ2およびＲ3は、同一であるか、または異なり、１〜２
    ０個の炭素原子を有するアルキル基、６〜２０個の炭素
    原子を有するアリールまたはアルキルアリール基、７〜
    ２０個の炭素原子を有するシクロアルキル基、Ｎ、Ｏお
    よびＳから選択される同一であるか、または異なる１ま
    たはそれ以上のヘテロ原子を有するヘテロ環式基であ
    り、 さらに、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3基は、一緒になって、飽和
    もしくは不飽和の環を形成することができ、そしてハロ
    ゲン原子、ニトロ、ニトリル、硫酸基およびそのエステ
    ル、リン酸基およびそのエステル、カルボニル、ヒドロ
    キシル、カルボキシル、チオール、アミンおよびエーテ
    ルの基を含有することができる。
  2. 【請求項２】前記触媒の処理をエポキシ化反応の前に前
    もって実施するか、あるいはエポキシ化反応それ自体の
    間に連続的に実施する、請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】前記触媒を触媒１ｇ当たり０．０１〜０．
    ５ｇの範囲の量のアミド誘導体（Ｉ）で前もって処理す
    る、請求項１または２に記載の方法。
  4. 【請求項４】反応器に供給される反応成分の流れの１つ
    によりアミド誘導体（Ｉ）を触媒１ｇ当たり０．００１
    〜０．０５ｇの範囲の量において添加することによっ
    て、前記触媒を連続的に処理する、請求項１または２に
    記載の方法。
  5. 【請求項５】前記チタンシリカライトが、下記一般式 ｘＴｉＯ2（１−ｘ）ＳｉＯ2 （ＩＩ） （式中、ｘは０．０００１〜０．４である）を有するも
    のから選択される、前記請求項のいずれか一項に記載の
    方法。
  6. 【請求項６】前記触媒のチタンの一部分が他の金属、例
    えば、ホウ素、アルミニウム、鉄またはガリウムにより
    置換されている、請求項５に記載の方法。
  7. 【請求項７】前記触媒をオレフィン１モル当たり０．１
    〜３０ｇの量で使用する、前記請求項のいずれか一項に
    記載の方法。
  8. 【請求項８】前記オレフィンが分子の中に２〜３０個の
    炭素原子を有しかつ少なくとも１つの二重結合を含有す
    るオレフィン系炭化水素から選択される、前記請求項の
    いずれか一項に記載の方法。
  9. 【請求項９】前記過酸化水素を０．９〜５の範囲のオレ
    フィン／Ｈ2Ｏ2のモル比において使用する、前記請求項
    のいずれか一項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】前記エポキシ化反応を１またはそれ以上
    の溶媒中でエポキシ化温度において実施する、前記請求
    項のいずれか一項に記載の方法。
  11. 【請求項１１】前記エポキシ化温度が０〜１５０℃の範
    囲である、前記請求項のいずれか一項に記載の方法。
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