JPH11293011A

JPH11293011A - 表面処理方法

Info

Publication number: JPH11293011A
Application number: JP9742698A
Authority: JP
Inventors: Yoshikazu Kondo; 慶和近藤; Kazuhiro Fukuda; 和浩福田; Akira Nishiwaki; 彰西脇
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1998-04-09
Filing date: 1998-04-09
Publication date: 1999-10-26
Anticipated expiration: 2018-04-09
Also published as: JP3619929B2

Abstract

(57)【要約】【課題】放電を安定させ、支持体のダメージを抑え、
効率よく放電処理を施す（第１課題）、また、放電処理
の効率化を図り、改質レベルが高い表面処理を行う（第
２課題）。【解決手段】電極８、９間を連続搬送されている支持
体５の表面を処理室２内で放電処理する表面処理方法に
おいて、前記処理室２内に導入する不活性ガスを、流量
Ｑ（ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］）で導入するとともに、
Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧１０（ただし、ｄは、電極８、９間
のギャップ（ｍ）、Ｗｅは、電極８、９の幅（ｍ）であ
る。）の条件を満足することを特徴とする表面処理方
法。また、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧０．８３×１０^-3（た
だし、Ｗｂは、連続搬送されている支持体５の幅
（ｍ）、ＬＳは、連続搬送されている支持体５の搬送速
度（ｍ／ｍｉｎ）である。）の条件を満足することを特
徴とする表面処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電極間を連続搬送
されている支持体の表面を処理室内で放電処理する表面
処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】連続搬送されている支持体の表面を改質
して、接着力を向上させるために、種々の方法が提案さ
れている。例えば、特公平４−７４３７２号公報には、
大気圧下で不活性ガスを含む雰囲気下で、電極間に高電
圧を印加することにより放電を生じせしめて、電極間を
連続搬送している支持体に対して、表面処理する方法が
開示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記公報に
記載されるように、放電によって表面処理を施し接着性
（改質レベル）を向上させるためには、放電密度を上げ
ることが有効であると考えられていた。しかしながら、
放電密度を上げると、支持体へのダメージを伴い、品質
の低下を招くことになる。例えば、高い放電密度による
放電によって表面処理を継続的に行った場合、支持体自
体が熱を持ち、平滑性が失われたり、局部的にピンホー
ル状の穴やムラなどが発生して品質の低下を促すことに
なる。

【０００４】一方で、本発明者らの検討によると、放電
が不安定になると、集中的な放電が生じて、支持体にダ
メージ（すなわち、局部的に支持体にピンホール状の穴
やムラ、平滑性が失われること）を伴い、品質の低下を
招くことになる。

【０００５】特に、写真乳剤が塗布される写真感光材料
用の支持体に対して、放電によって表面処理を施した場
合、この支持体のダメージは、写真性能に大きく影響を
及ぼし、致命的な欠点となる。

【０００６】そこで、放電を安定させ、支持体のダメー
ジを抑え、効率よく放電処理を施すことを第１課題とす
る。

【０００７】また、放電処理の効率化を図り、改質レベ
ルが高い表面処理を行うことを第２課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記第１課題は、連続搬
送されている支持体の表面を処理室内の電極間で放電処
理する表面処理方法において、前記処理室内に不活性ガ
ス（流量Ｑ（ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］））を含む混合
ガスを導入する際、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧１０の条件を満
足することを特徴とする表面処理方法によって解決する
ことができる。

【０００９】本発明者らが鋭意検討した結果、放電を安
定させることにより、集中的な放電がなくなり、支持体
へのダメージが減ることを知見した。さらに、検討を進
めた結果、放電を安定させるためには、放電エリア、す
なわち、電極間に、誘起していないフレッシュなガスを
多く導入することが重要である。そこで、本第１発明に
おいては、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）を１０以上、すなわち、Ｑ
／（ｄ・Ｗｅ）は、その単位（ｍ／ｍｉｎ）からもわか
るように、電極間の不活性ガスの平均流速であり、この
平均流速を１０（ｍ／ｍｉｎ）以上とすることで以て、
放電を安定させるために必要なフレッシュなガスを電極
間に導入する。この構成によって、集中的な放電がなく
なり、放電が安定し、放電の均一性が増して効率よく放
電処理を行うことができ、支持体の改質を均一に施すこ
とができる。

【００１０】また、上記第２課題は、連続搬送されてい
る支持体の表面を処理室内の電極間で放電処理する表面
処理方法において、前記処理室内に不活性ガス（流量Ｑ
（ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］））を含む混合ガスを導入
する際、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧０．８３×１０^-3の条件
を満足することを特徴とする表面処理方法によって解決
することができる。

【００１１】本発明者らが鋭意検討した結果、処理室内
に不活性ガスを多く導入することにより、低放電密度で
あっても、支持体を改質することができることを知見し
た。そこで、本第２発明においては、Ｑ／（Ｗｂ・Ｌ
Ｓ）を０．８３×１０^-3以上、すなわち、処理室に導入
する不活性ガスの流量Ｑ（ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］）
を、０．８３×１０^-3（Ｗｂ・ＬＳ）以上、さらに換言
すると、支持体の処理面積（ｍ²）あたりの不活性ガス
の量を、０．８３×１０^-3（ｍ³）以上とする。この構
成によって、低放電密度であっても、支持体を改質する
ことができるガスの導入、すなわち、放電処理の効率化
を図り、改質レベルが高い表面処理を行うことができ
る。

【００１２】さらに、大気圧若しくはその近傍下で放電
処理をすることが好ましい。

【００１３】さらに、前記電極の少なくとも一方は、誘
電体を被覆した電極であることが好ましい。

【００１４】さらに、放電密度が６００（Ｗｍｉｎ／ｍ
²）以下で放電処理をすることが好ましい。これによ
り、支持体のダメージを抑えることができる。

【００１５】さらに、４０ｋＨｚ以下で放電処理をする
ことが好ましい。これにより、高温にすることなく放電
処理を施すことができ、支持体のダメージを抑えること
ができる。

【００１６】さらに、放電出力が７．５（ｋＷ／ｍ²）
以上で放電処理をすることが好ましい。すなわち、一般
に、放電密度は放電出力と処理時間の積と考えることが
できるが、本発明者らの検討の結果、同じ放電密度であ
っても、同じ改質効果を得るのに、放電出力が高い方が
効果的であることを知見した。そこで、放電出力を７．
５（ｋＷ／ｍ²）以上とすることにより、効率的な放電
処理を施すことができる。

【００１７】さらに、前記不活性ガスは、ネオンガスや
ヘリウムガスなど各種不活性ガスにも適応できるが、好
ましくはアルゴンガスであり、さらに、前記処理室内に
導入される混合ガスの６０圧力％以上であることが好ま
しい。これは、他の不活性ガスに比してアルゴンガスは
安価であり、しかも、ヘリウムよりも分子量が大きいた
めに格段の改質効果を得ることができる。また、不活性
ガスとして、アルゴンを主成分として他の不活性ガスを
混合させてもよい。

【００１８】さらに、前記ガスは、Ｎ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂の
少なくとも１つが含まれていることが好ましい。これ
は、Ｎ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂から分離した官能基が支持体表面
につくために、改質効果の向上を図ることができる。さ
らに、これらＮ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂は、一般に、反応ガスと
呼ばれ、この反応ガスが少ないと、表面に付く官能基が
少なく改質の効果がダウンし、反応ガスが多いと放電が
不安定化する。そのため、混合ガスの１〜２０（より好
ましくは、５〜１５）圧力％含まれることが好ましい。

【００１９】さらに、前記支持体は、ポリエチレン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
のいずれかであることが好ましい。

【００２０】さらに、前記支持体の厚さは、３００（μ
ｍ）以下であることが好ましい。

【００２１】さらに、前記支持体は、写真乳剤が塗布さ
れる写真感光材料用の支持体であることが好ましい。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施の形態につ
いて、表面処理装置１の概略構成図である図１に基づい
て説明する。

【００２３】表面処理装置１は、表面処理を施す処理室
２と、支持体５の搬送方向上流側に処理室２に隣接した
前予備室３と、支持体５の搬送方向下流側に処理室２に
隣接した後予備室４とを有している。

【００２４】各予備室３、４と室外及び処理室２との間
には、それぞれ対向ローラ対６、７が設けられている。
この対向ローラ６、７は、支持体５を搬送する搬送手段
の一部を構成するとともに、処理室２内を外気（前予備
室３内と後予備室４内の空気）より遮断する機能をも有
している。すなわち、対向ローラ対６、７は、処理室２
内のガス濃度の変化を防止する防止手段として作用し、
対向ローラ対６は支持体５の搬送に伴う外気の同伴風が
処理室２内に入らないように、また、対向ローラ対７は
支持体５の搬送に伴う処理室２内のガス（後述する）が
後予備室４に出ないようにすることにより、安定した放
電を可能にする。

【００２５】なお、この防止手段としては、対向ローラ
対の代わりに、エアーブレードを用いてもよく、この場
合、吹き出すエアーは処理室２内の雰囲気と同じガスを
用いることが好ましい。

【００２６】この対向ローラ対６、７や図示しない搬送
手段により、支持体５が、処理室２内の一対の電極８、
９の間を連続搬送される。この支持体５は、ポリマー支
持体であり、好ましくはポリエチレン（ＰＥ）、ポリエ
チレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタ
レート（ＰＥＮ）であり、写真乳剤が塗布される写真感
光材料用の支持体であることが好ましい。また、支持体
５の厚さは、３００（μｍ）以下であることが好まし
い。

【００２７】一対の電極８、９は、処理室２内に設けら
れた平板電極である。この電極８、９は、導電性、例え
ば、ステンレス、アルミニウム、銅などの金属の電極部
材８１、９１と、電極部材８１、９１の周囲を被覆した
誘電体（例えば、ゴム、ガラス、セラミックなど）８
２、９２とから構成されている。この電極８、９は、所
定の間隙、すなわち、所定の電極間のギャップ（ｄ
（ｍ））をもって、互いに平行になるように配置されて
おり、この電極間の間隙を、搬送手段によって支持体５
が搬送される。

【００２８】なお、本実施の形態では、一対の電極８、
９双方とも、誘電体８２、９２が被覆されたものである
が、少なくとも一方に設ければよい。さらに、本実施の
形態では、誘電体８２、９２は電極部材８１、９１の周
囲全面を被覆しているが、少なくとも電極８、９が対向
する面を被覆していればよい。また、本実施の形態で
は、一対の電極８、９として平板電極を用いたが、一方
若しくは双方の電極を円筒電極若しくは一方をロール状
電極としてもよい。

【００２９】この一対の電極８、９のうち一方の電極
（本実施の形態では電極８）に高周波電源１０が接続さ
れ、他方の電極（本実施の形態では電極９）は接地（ア
ース）されており、一対の電極８、９間に放電を生じせ
しめるように構成している。

【００３０】この支持体１が搬送される一対の電極８、
９間は、図示しないガス供給手段によって、不活性ガス
を含む混合ガスが導入（供給）され、大気圧若しくはそ
の近傍下でその混合ガスの雰囲気とされている。この不
活性ガスは、ネオンガスやヘリウムガスなど各種不活性
ガスにも適応できるが、本実施の形態では、アルゴンガ
スを主成分として用いている。これは、他の不活性ガス
に比してアルゴンガスは安価であり、しかも、ヘリウム
よりも分子量が大きいために支持体５の表面を改質させ
る力が大きく、格段の改質効果を得ることができるため
である。さらに、このアルゴンガスは、処理室２内に導
入される混合ガスの６０圧力％以上であること、効率的
な改質効果を得るために好ましい。

【００３１】また、処理室２に供給される反応ガスとし
て、Ｎ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂を含有させている。すなわち、本
実施の形態では、不活性ガスにＮ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂を含有
させた混合ガスを、処理室２内に導入するよう構成して
いる。このＮ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂は、Ｎ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂から分
離した官能基が支持体表面につくために、化学的改質を
行うことができ、膜付き性の向上、改質効果の向上を図
ることができるため、すべてを含む必要はなく、少なく
とも１つが含まれていることが好ましい。また、本実施
の形態では、処理室２内に導入するに先立ち混合ガスと
しているが、各ガスを独立して導入してもよく、要は、
処理室２内の電極８、９間の雰囲気が、上述した混合ガ
スの成分になっていればよい。

【００３２】このように本実施の形態では、連続搬送さ
れている支持体５の表面（本実施の形態では両面）に対
して、大気圧若しくはその近傍下で少なくとも６０圧力
％以上のアルゴンを含有したガスの雰囲気とした一対の
電極８、９間で放電処理を行うことにより、支持体５の
表面の改質、すなわち、膜付き性を向上させることがで
きる。なお、このときの放電状態は、真空下で起こるグ
ロー放電に似た放電状態となっている。

【００３３】ところで、本発明者らが鋭意検討した結
果、放電を安定させることにより、集中的な放電がなく
なり、支持体へのダメージが減ることを知見した。さら
に、検討を進めた結果、放電を安定させるためには、放
電エリア、すなわち、電極間に、誘起していないフレッ
シュなガスを多く導入することが重要である。そのた
め、処理室２内に導入する混合ガス中の不活性ガスの流
量をＱ（ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］）、電極８、９間の
ギャップをｄ（ｍ）、電極８、９の幅（支持体５の搬送
方向に直交する方向（図１において紙面垂直方向）の長
さである）をＷｅ（ｍ）とすると、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧
１０（好ましくは１２以上、さらに好ましくは３０以
上）の条件を満足するように構成する。すなわち、Ｑ／
（ｄ・Ｗｅ）は、その単位（ｍ／ｍｉｎ）からもわかる
ように、電極８、９間の不活性ガスの平均流速であり、
この平均流速を１０（ｍ／ｍｉｎ）以上（好ましくは１
２以上、さらに好ましくは３０以上）とすることで以
て、放電を安定させるために必要なフレッシュな不活性
ガスを電極８、９間に導入する。この構成によって、集
中的な放電がなくなり、放電が安定し、放電の均一性が
増して効率よく放電処理を行うことができ、支持体の改
質を均一に施すことができる。

【００３４】また、本発明者らが鋭意検討した結果、処
理室内に不活性ガスを多く導入することにより、低放電
密度であっても、支持体を改質することができることを
知見した。そのため、連続搬送されている支持体５の幅
（支持体５の搬送方向に直交する方向（図１において紙
面垂直方向）の長さである）をＷｂ（ｍ）、連続搬送さ
れている支持体５の搬送速度をＬＳ（ｍ／ｍｉｎ）とす
ると、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧０．８３×１０^-3（好まし
くは２．０×１０^-3以上、さらに好ましくは２．８×１
０^-3以上）の条件を満足するように構成する。すなわ
ち、処理室に導入する不活性ガスの流量Ｑ（ｍ³／ｍｉ
ｎ［１ａｔｍ］）を、０．８３×１０^-3（Ｗｂ・ＬＳ）
以上（好ましくは２．０×１０^-3以上、さらに好ましく
は２．８×１０^-3以上）、さらに換言すると、処理面積
（ｍ²）あたりの不活性ガスの量を、０．８３×１０^-3
（ｍ³）以上（好ましくは２．０×１０^-3以上、さらに
好ましくは２．８×１０^-3以上）とする。この構成によ
って、低放電密度であっても、支持体の改質にすること
ができるガスを導入、すなわち、放電処理の効率化を図
り、改質レベルが高い表面処理を行うことができる。

【００３５】さらに、放電密度が６００（Ｗｍｉｎ／ｍ
²）以下で放電処理をすることが好ましい。これによ
り、支持体のダメージを抑えることができる。ここで、
放電密度とは、放電出力を電極８、９の幅Ｗｅ（ｍ）と
支持体５の搬送速度をＬＳ（ｍ／ｍｉｎ）とで割った値
である。さらに、電極に印加する交流高周波電源は、４
０ｋＨｚ以下であることが好ましい。これにより、高温
にすることなく放電処理を施すことができ、支持体のダ
メージを抑えることができる。

【００３６】さらに、放電出力が７．５（ｋＷ／ｍ²）
以上で放電処理をすることが好ましい。すなわち、一般
に、放電密度は放電出力と処理時間の積と考えることが
できるが、本発明者らの検討の結果、同じ放電密度であ
っても、同じ改質効果を得るのに、放電出力が高い方が
効果的であることを知見した。そこで、放電出出力を
７．５（ｋＷ／ｍ²）以上とすることにより、効率的な
放電処理を施すことができる。

【００３７】

【実施例】上述した実施の形態の表面処理装置１を用い
て、種々の実験を行った。なお、実験には、処理室２の
容量が０．０５ｍ³と０．１５ｍ³の２つの表面処理装置
１を用い、処理室２の容量が０．０５ｍ³の表面処理装
置１（第１表面処理装置１）には幅０．１０ｍｍ、処理
室２の容量が０．１５ｍ³の表面処理装置１（第２表面
処理装置１）には幅０．１８ｍのポリエチレンテレフタ
レート（厚さ２００μｍ）の支持体５を、連続搬送し
た。また、第１表面処理装置１には幅０．１０（ｍ）の
電極８、９を、第２表面処理装置１には幅０．１８
（ｍ）の電極８、９を配置し、この電極８、９間に周波
数３０ｋＨｚで印加した。両表面処理装置１とも、一定
量の反応ガスＮ₂、Ｈ₂、ＣＯ₂に対してアルゴンガスを
混合した混合ガスを処理室２に導入した。

【００３８】放電出力、電極８、９間のギャップｄ
（０．００３ｍ〜０．０１ｍ）、支持体５の搬送速度
（３０ｍ／ｍｉｎ〜１２０ｍ／ｍｉｎ）、処理時間
（０．５ｓｅｃ〜１５ｓｅｃ）、不活性ガスの流量Ｑ
（１．６ｍ³／ｍｉｎ［１ａｔｍ］〜３０ｍ³／ｍｉｎ
［１ａｔｍ］）を種々変更することにより、Ｑ／（ｄ・
Ｗｅ）及びＱ／（Ｗｄ・ＬＳｅ）を種々変更して、実験
を行った。

【００３９】評価するサンプルは、処理室２内に混合ガ
スを導入開始後５分間パージさせ、支持体の搬送後、放
電処理を行い、２分後の支持体５をサンプルとした。

【００４０】評価は、ピールテスト、ダメージ、放電状
況の３点について評価した。

【００４１】ピールテストは、得られたサンプルに、ア
プリケータ塗布にて、白黒乳剤を単膜塗布し、乾燥後、
市販のかみそり刃で膜に垂直（９０度）、４５度に入刃
し、傷を約５ｃｍ巾付け、そこにテープ（３Ｍ社ｓｃｏ
ｔｃｈブランド）を貼り、入刃方向に垂直な方向に速い
スピードで剥離させた結果、膜の剥離量で以て膜付き性
（すなわち、改質のレベル）を比較した。なお、ピール
テストの結果は、◎印が剥離なし、○印が入刃部のみ線
状に剥離、△印が一部剥離はあるが実用上問題なし、×
印はテープ剥離部（テープを貼った部分）５０％以上で
剥離、××印はテープ剥離部１００％以上で剥離（テー
プを貼っていない部分でも剥離）したことを表す。

【００４２】ダメージは、得られたサンプルに、アプリ
ケータ塗布にて、白黒乳剤を単膜塗布し、乾燥後、現像
して、ピンホールの有無を確認した。さらに、ピンホー
ルがなかったサンプルに対して、サンプルの平滑度を見
るために濃度分布を測定した。なお、ダメージの結果
は、◎印が濃度変動率が１％未満、○印が濃度変動率が
１．５％未満、△印が濃度変動率が２％未満、×印は濃
度変動率が３％以上、××印はピンホールが発生したこ
とを表す。

【００４３】放電状況は、放電処理中における電極８、
９間の放電状況を目視にて確認を行った。

【００４４】上述の実験を種々行ったうち、その一部
を、評価とともに、表１に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】表からわかるように、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧
１０としたＮｏ．２、５〜８の実験においては、放電状
況がやや荒いものがあるにもかかわらず、支持体のダメ
ージが少ない（平滑度がよい）。さらに、Ｑ／（ｄ・Ｗ
ｅ）≧１２としたＮｏ．５〜８の実験においては平滑度
がよくなり、さらに、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧３０としたＮ
ｏ．６の実験においては平滑度が最もよくなっており、
支持体へのダメージが殆ど生じない。

【００４７】また、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧０．８３×１
０^-3としたＮｏ．４〜８の実験においては、膜付き性が
よく、改質レベルの高い表面処理が行われている。さら
に、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧２．０×１０^-3としたＮｏ．
５〜８の実験、さらにＱ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧２．８×１
０^-3とした実験Ｎｏ．６の実験においては、さらに膜付
き性、改質レベルの向上している。

【００４８】

【発明の効果】本第１発明によれば、放電を安定させ、
支持体のダメージを抑え、効率よく放電処理を施すこと
ができる。

【００４９】また、本第２発明によれば、放電処理の効
率化を図り、改質レベルが高い表面処理を行うことがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】表面処理装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１表面処理装置２処理室５支持体６、７対向ローラ対８、９電極８２、９２誘電体

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】連続搬送されている支持体の表面を処理
室内の電極間で放電処理する表面処理方法において、前記処理室内に不活性ガス（流量Ｑ（ｍ³／ｍｉｎ［１
ａｔｍ］））を含む混合ガスを導入する際、Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧１０（ただし、ｄは、電極間のギャップ（ｍ）、Ｗｅは、電
極の幅（ｍ）である。）の条件を満足することを特徴と
する表面処理方法。
【請求項２】連続搬送されている支持体の表面を処理
室内の電極間で放電処理する表面処理方法において、前記処理室内に不活性ガス（流量Ｑ（ｍ³／ｍｉｎ［１
ａｔｍ］））を含む混合ガスを導入する際、Ｑ／（Ｗｂ・ＬＳ）≧０．８３×１０^-3 （ただし、Ｗｂは、連続搬送されている支持体の幅
（ｍ）、ＬＳは、連続搬送されている支持体の搬送速度
（ｍ／ｍｉｎ）である。）の条件を満足することを特徴
とする表面処理方法。
【請求項３】Ｑ／（ｄ・Ｗｅ）≧１０（ただし、ｄは、電極間のギャップ（ｍ）、Ｗｅは、電
極の幅（ｍ）である。）の条件を満足することを特徴と
する請求項２に記載の表面処理方法。
【請求項４】大気圧若しくはその近傍下で放電処理を
することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記
載の表面処理方法。
【請求項５】前記電極の少なくとも一方は、誘電体を
被覆した電極であることを特徴とする請求項１〜４のい
ずれか１つに記載の表面処理方法。
【請求項６】放電密度が６００（Ｗｍｉｎ／ｍ²）以
下で放電処理をすることを特徴とする請求項１〜５のい
ずれか１つに記載の表面処理方法。
【請求項７】４０ｋＨｚ以下で放電処理をすることを
特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の表面処
理方法。
【請求項８】放電出力が７．５（ｋＷ／ｍ²）以上で
放電処理をすることを特徴とする請求項１〜７のいずれ
か１つに記載の表面処理方法。
【請求項９】前記不活性ガスは、アルゴンガスであ
り、前記処理室内に導入されるガスの６０圧力％以上で
あることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１つに記
載の表面処理方法。
【請求項１０】前記混合ガス中には、Ｎ₂、Ｈ₂、ＣＯ
₂の少なくとも１つが含まれていることを特徴とする請
求項１〜９のいずれか１つに記載の表面処理方法。
【請求項１１】前記支持体は、ポリエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのい
ずれかであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれ
か１つに記載の表面処理方法。
【請求項１２】前記支持体の厚さは、３００（μｍ）
以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか
１つに記載の表面処理方法。
【請求項１３】前記支持体は、写真乳剤が塗布される
写真感光材料用の支持体であることを特徴とする請求項
１〜１２のいずれか１つに記載の表面処理方法。