JPH11293054A - ポリエチレン系樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 成形安定性に優れ、透明性、光沢、腰、口開
き性、強度に優れるフィルムを得ることができるポリエ
チレン系樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 下記成分（Ａ）〜（Ｄ）からなるポリエ
チレン系樹脂組成物。 （Ａ）： メタロセン系遷移金属化合物、及び、塩類処
理及び／又は酸処理を行なって得られた、珪酸塩を除く
イオン交換性層状化合物、及び、無機珪酸塩からなる群
より選ばれた少なくとも１種の化合物を必須成分とする
オレフィン重合用触媒の存在下に、エチレンと炭素数３
〜１２のα−オレフィンを共重合して得られるエチレン
・α−オレフィン共重合体９９．５ 〜７０重量％ （Ｂ）： 高圧ラジカル法によって製造された低密度ポ
リエチレン０．５ 〜３０重量％、 （Ｃ）： 酸化防止剤０．０５〜 １．０重量部 （Ｄ）： アンチブロッキング剤 ０．０１〜
０．８重量部

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、成形時の安定性に
優れ、フィルム成形を行なうことにより、透明性、光
沢、腰、口開き性、強度に優れたフィルムを得ることが
できるポリエチレン系樹脂組成物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、エチレン・α−オレフィン共重合
体をインフレーションフィルム成形して得られるフィル
ムは、引張強度及び衝撃強度等の機械的特性が優れてい
るために袋用の用途を中心にして様々な用途に大量に使
用されている。しかし、エチレン・α−オレフィン共重
合体のみをインフレーションフィルム成形して得られる
フィルムは、多くの用途において透明性と口開き性が十
分でないと言う問題があった。一方、メタロセン触媒に
よるエチレン・α−オレフィン共重合体が特開平４−２
１３３０９号公報に提案されている。しかし、このメタ
ロセン触媒を用いて製造されるエチレン・α−オレフィ
ン共重合体も成形時の安定性が不十分で、更に、従来の
エチレン・α−オレフィン共重合体のフィルムよりも透
明性と口開き性がいくらか改良されたものとなってはい
るが、未だ十分に満足するものまでに至っていない。従
って、成形安定性に優れ、フィルムに成形した際に十分
な口開き性を得るためには、高圧ラジカル法によって製
造された低密度ポリエチレンを多量にブレンドし、且
つ、多量のアンチブロッキング剤を添加する必要があっ
た。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この様
な高圧法低密度ポリエチレンやアンチブロッキング剤を
添加する方法ではフィルムの強度や透明性が低下する問
題が生じ、アンチブロッキング剤の量を減らすと、透明
性は改良されるものの、口開き性が悪化し、製品品質の
点で問題が生じた。従って、本発明は、エチレン・α−
オレフィン共重合体の持つ優れた機械的特性を損なうこ
と無く、十分な透明性と口開き性を持つフィルムが得ら
れ、成形時の安定性に優れるポリエチレン系樹脂組成物
を提供するものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題点
に解決すべく種々の検討を重ねた結果、特定のオレフィ
ン系重合用触媒の存在下にエチレンとα−オレフィンを
共重合して得られた、ＭＦＲと密度の値が特定の範囲内
にあるエチレン・α−オレフィン共重合体と、ＭＦＲと
密度の値が特定の範囲内にある高圧ラジカル法によって
製造された低密度ポリエチレン、及び、特定量の酸化防
止剤と特定量のアンチブロッキング剤とを配合すること
により、上記目的が達成されることを見出し、本発明を
完成するに至ったものである。すなわち、本発明のポリ
エチレン系樹脂組成物は、下記成分（Ａ）〜成分（Ｄ）
からなることを特徴とするものである。 成分（Ａ）： 成分（ａ）： メタロセン系遷移金属化合物、及び、 成分（ｂ）： 塩類処理及び／又は酸処理を行なって得られた、水分含有率 が３重量％以下の、 （ｂ₁ ）： 珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物、及び、 （ｂ₂ ）： 無機珪酸塩 からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物 を必須成分とするオレフィン重合用触媒の存在下に、エチレンと炭素数３〜１２ のα−オレフィンを共重合して得られるＭＦＲ０．１〜１５ｇ／１０分、且つ、 密度０．８８０〜０．９６０ｇ／ｃｍ³ のエチレン・α−オレフィン共重合体 ９９．５ 〜７０重量％ 成分（Ｂ）： 高圧ラジカル法によって製造されたＭＦＲ０．１〜２０ｇ／１ ０分、且つ、密度０．９１０〜０．９３５ｇ／ｃｍ³ の低密度ポリエチレン ０．５ 〜３０重量％、 成分（Ｃ）： 酸化防止剤 ０．０５〜 １．０重量部 成分（Ｄ）： アンチブロッキング剤 ０．０１〜 ０．８重量部

【０００５】

【発明の実施の形態】[I] 構成成分 (1) エチレン・α−オレフィン共重合体（成分
（Ａ）） (A) 物 性 本発明において用いられる成分（Ａ）のエチレン・α−
オレフィン共重合体は、１９０℃、２．１６ｋｇ荷重で
のＭＦＲが０．１〜１５ｇ／１０分、好ましくは０．５
〜７ｇ／１０分であることが重要である。ＭＦＲが上記
範囲未満では成形時の押し出し負荷が高くなって加工性
が低下する。一方、ＭＦＲが上記範囲を超過するとフィ
ルムとしての強度が低下するばかりでなく、成形安定性
も低下する。本発明において用いられる成分（Ａ）のエ
チレン・α−オレフィン共重合体は、密度が０．８８０
〜０．９６０ｇ／ｃｍ³ 、好ましくは０．９００〜０．
９４０ｇ／ｃｍ³ であることが重要である。密度が上記
範囲未満では、フィルムの腰が不足し、加工適性が低下
する。一方、密度が上記範囲を超過すると、通常のエチ
レン・α−オレフィン共重合体に比べると透明性に優れ
ているものの、絶対的な透明性としては未だ不十分なレ
ベルである。

【０００６】(B) 製 造 本発明において用いられる成分（Ａ）のエチレン・α−
オレフィン共重合体は、成分（ａ）のメタロセン系遷移
金属化合物、及び、成分（ｂ）の塩類処理及び／又は酸
処理を行なって得られた、水分含有率が３重量％以下
の、（ｂ₁ ）珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物、及
び、（ｂ₂ ）無機珪酸塩からなる群より選ばれた少なく
とも１種の化合物を必須成分とするオレフィン重合用触
媒の存在下に、エチレンと炭素数３〜１２のα−オレフ
ィンとを共重合して得られるランダム共重合体である。

【０００７】(a) 原 料 上記成分（Ａ）のエチレン・α−オレフィン共重合体に
おいて原料として用いられるエチレン、及び、該エチレ
ンと共重合されるα−オレフィンとしては、炭素数が３
〜１２、好ましくは４〜１０のもので、具体的には、例
えば、１−ブテン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペ
ンテン、１−オクテン、１−デセン、或いは、これらの
混合物であり、これに加えて、少量の他のα−オレフィ
ン或いはポリエン等が共重合されても良い。ここで他の
オレフィンとしては、例えば、プロピレン、１−ブテ
ン、１−ペンテン、１−ヘキセン、３−メチル−１−ブ
テン、４−メチル−１−ペンテン等を挙げることができ
る。また、上記ポリエンとしては、ブタジエン、イソプ
レン、１，４−ヘキサジエン、ジシクロペンタジエン等
を挙げることができる。上記α−オレフィンの含有量
は、エチレン・α−オレフィン共重合体が後述の特性を
満足する限り限定されるものではないが、一般に０．０
１〜２７重量％、好ましくは０．５〜１８重量％、特に
好ましくは２〜１３重量％である。

【０００８】(b) オレフィン重合用触媒 かかるエチレン・α−オレフィン共重合体を得るための
重合方法については、限定されるものではないが、成分
（ａ）のメタロセン系遷移金属化合物、及び、成分
（ｂ）の塩類処理及び／又は酸処理を行なって得られ
た、水分含有率が３重量％以下の、（ｂ₁ ）珪酸塩を除
くイオン交換性層状化合物、及び、（ｂ₂ ）無機珪酸塩
からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物を必須
成分とするオレフィン重合用触媒によって製造すること
が重要である。

【０００９】(i) メタロセン系遷移金属化合物（成分
（ａ）） オレフィン重合用触媒成分である成分（ａ）のメタロセ
ン系遷移金属化合物は、置換されていても良い１個若し
くは２個のシクロペンタジエニル系配位子、すなわち置
換基が結合して縮合環を形成していても良い１〜２個の
シクロペンタジエニル環含有配位子と長周期表の３，
４，５，６族の遷移金属とからなる有機金属化合物、或
いは、それらのカチオン型錯体である。かかるメタロセ
ン系遷移金属化合物として好ましいものは、下記の一般
式［II］若しくは［III]で表される化合物である。 一般式［II］ （ＣｐＲ¹ _ａＨ_５−ａ）_ｐ（ＣｐＲ² _ｂＨ_５−ｂ）_ｑＭ
Ｒ³ _ｒ 一般式［III] ［（ＣｐＲ¹ _ａＨ_５−ａ）_ｐ（ＣｐＲ² _ｂＨ_５−ｂ）_ｑ
ＭＲ³ _ｒＬ_ｍ］^ｎ＋［Ｒ⁴ ］^ｎ− （ 上記の一般式［II］及び［III]中、ＣｐＲ¹ _ａＨ
_５−ａ及びＣｐＲ² _ｂＨ_{５ −ｂ}は、シクロペンタジエニ
ル（Ｃｐ）基の誘導体を示す。一般式［II］及び［III]
中のＲ¹ 、Ｒ² は、炭素数１〜２０の置換されていても
良い炭化水素基、珪素含有置換基、燐含有置換基、窒素
含有置換基、酸素含有置換基であり、各々同一でも異な
っていても良い。

【００１０】具体的には、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−
ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘキシル基、
ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアル
キル基、フェニル基、ｐ−トリル基、ｏ−トリル基、ｍ
−トリル基等のアリール基、フルオロメチル基、フルオ
ロエチル基、フルオロフェニル基、クロロメチル基、ク
ロロエチル基、クロロフェニル基、ブロモメチル基、ブ
ロモエチル基、ブロモフェニル基、ヨードメチル基、ヨ
ードエチル基、ヨードフェニル基等のハロ置換炭化水素
基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフ
ェニルシリル基等の珪素含有置換基、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ペンタメチル
フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ
基、ｏ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基等を挙げ
ることができる。これらの中でも、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチ
ル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基、ト
リメチルシリル基、メトキシ基、エトキシ基等のアルコ
キシ基、フェノキシ基等のアリールオキシ基等である。

【００１１】また、Ｒ¹ とＲ² は、互いに結合して架橋
基を形成しても良い。具体的には、メチレン基、エチレ
ン基のようなアルキレン基、エチリデン基、プロピリデ
ン基、イソプロピリデン基、フェニルメチリデン基、ジ
フェニルメチリデン基のようなアルキリデン基、ジメチ
ルシリレン基、ジエチルシリレン基、ジプロピルシリレ
ン基、ジイソプロピルシリレン基、ジフェニルシリレン
基、メチルエチルシリレン基、メチルフェニルシリレン
基、メチルイソプロピルシリレン基、メチル−ｔ−ブチ
ルシリレン基のような珪素含有架橋基、ジメチルゲミレ
ン基、ジエチルゲミレン基、ジプロピルゲミレン基、ジ
イソプロピルゲミレン基、ジフェニルゲミレン基、メチ
ルエチルゲミレン基、メチルフェニルゲミレン基、メチ
ルイソプロピルゲミレン基、メチル−ｔ−ブチルゲミレ
ン基のようなゲルマニウム含有架橋基等、アミノ基等、
ホスフィニル基等を挙げることができる。

【００１２】更に、Ｒ¹ 同志、又はＲ² 同志で互いに結
合して架橋基を形成しても良い。具体的には、インデニ
ル基、テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基、オ
クタヒドロフルオレニル基等が好ましく挙げられ、これ
らは置換されていても良い。Ｒ³ は炭素数１〜２０の置
換されていても良い炭化水素基、水素、ハロゲン、珪素
含有置換基、アルコキシ、アリールオキシ、アミド、又
は、チオアルコキシであり、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基等のアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、
ｏ−トリル基、ｍ−トリル基等のアリール基、フルオロ
メチル基、フルオロエチル基、フルオロフェニル基、ク
ロロメチル基、クロロエチル基、クロロフェニル基、ブ
ロモメチル基、ブロモエチル基、ブロモフェニル基、ヨ
ードメチル基、ヨードエチル基、ヨードフェニル基等の
ハロ置換炭化水素基、弗素、塩素、臭素、沃素等のハロ
ゲン、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ
フェニルシリル基等の珪素含有置換基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ
基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等のアルコキシ
基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ペンタメチル
フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ
基、ｏ−トリルオキシ基等のアリールオキシ基、ジメチ
ルアミド基、ジエチルアミド基、ジプロピルアミド基、
ジイソプロピルアミド基、メチルチオアルコキシ基、エ
チルチオアルコキシ基、プロピルチオアルコキシ基、ブ
チルチオアルコキシ基、ｔ−ブチルチオアルコキシ基、
フェニルチオアルコキシ基等のチオアルコキシ基を挙げ
ることができる。これらの中で好ましくは水素、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、フェニル基、塩素等のハロゲン、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ジメチルア
ミド基、メチルチオアルコキシ基を挙げることができ、
中でも、水素、メチル基、塩素が特に好ましい。

【００１３】また、Ｒ³ は、Ｒ¹ 若しくはＲ² 若しくは
Ｃｐと結合していても良く、このような配位子の具体例
として、ＣｐＨ₄ （ＣＨ₂ ）_ｎＯ−（１≦ｎ≦５）、Ｃ
ｐＭｅ₄ （ＣＨ₂ ）_ｎＯ−（１≦ｎ≦５）、ＣｐＨ
_４（Ｍｅ₂ Ｓｉ）（ｔ−Ｂｕ）Ｎ−、ＣｐＭｅ₄ （Ｍｅ
₂ Ｓｉ）（ｔ−Ｂｕ）Ｎ−等（Ｃｐはシクロペンタジエ
ニル基、Ｍｅはメチル基、Ｂｕはブチル基を示す。）が
挙げられる。更に、Ｒ³ が相互に結合して二座配位子を
形成しても良い。この様なＲ³ の具体例としては、−Ｏ
ＣＨ₂ Ｏ−、−ＯＣＨ₂ ＣＨ₂ Ｏ−、−Ｏ（ｏ−Ｃ₆ Ｈ
₄ ）Ｏ−等を挙げることができる。

【００１４】Ｍは、周期率表３，４，５，６族の原子で
あり、具体的には、スカンジウム、イットリウム、ラン
タン、セリウム、プラセオジウム、ネオジウム、サマリ
ウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジス
プロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッ
テルビウム、ルテチウム、アクチニウム、トリウム、プ
ロトアクチニウム、ウラン、チタニウム、ジルコニウ
ム、ハフニウム、バナジウム、ニオブ、タンタル、クロ
ム、モリブデン、タングステンが挙げられる、これらの
うち、４族のチタニウム、ジルコニウム、ハフニウムが
好ましく用いられる。また、これらは混合しても用いて
もよい。

【００１５】Ｌは、電気的に中性な配位子、ｍはその個
数で０以上の整数を示す。具体的にはジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル
類、アセトニトリルのようなニトリル類、ジメチルホル
ムアミドのようなアミド類、トリメチルフォスフィンの
ようなフォスフィン類、トリメチルアミンのようなアミ
ン類を挙げることができる。好ましくはテトラヒドロフ
ラン、トリメチルフォスフィン、トリメチルアミンであ
る。

【００１６】［Ｒ⁴ ］は、カチオンを中和する１個また
は２個以上のアニオンである。具体的には、テトラフェ
ニルボレート、テトラ（ｐ−トリル）ボレート、カルバ
ドデカボレート、ジカルバウンデカボレート、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラフルオ
ロボレート、ヘキサフルオロフォスフェートである。
ａ、ｂは０〜５の整数である。また、ｐ、ｑ、ｒは、Ｍ
の価数をＶとしたときに、メタロセン系化合物が一般式
［II］の場合には、ｐ＋ｑ＋ｒ＝Ｖを満たす負でない整
数であり、メタロセン系化合物が一般式［III]の場合に
は、ｐ＋ｑ＋ｒ＝Ｖ−ｎを満たす負でない整数である。
通常ｐ、ｑは０〜３の整数で、好ましくは０または１で
ある。ｒは０〜３の整数で好ましくは１または２であ
る、また、ｎは０≦ｎ≦Ｖを満たす整数である。）

【００１７】上述のメタロセン系遷移金属化合物は、具
体的にはジルコニウムを例にとれば、一般式［II］に相
当するものとしては、（１）ビス（メチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロライド、（２）ビス（エ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（３）ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジメチル、（４）ビス（エチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジメチル、（５）ビス（メチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウム二水素化物、（６）ビ
ス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム二水素
化物、（７）ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（８）ビス（トリメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（９）
ビス（インデニル）ジルコニウムジクロライド、（１
０）ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジメチル、（１１）ビス（インデニル）ジルコニウム
ジメチル、（１２）ビス（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムジメチル、（１３）ビス（ト
リフルオロメチルシクロペンタジエニル）ジルコニウム
ジクロライド、（１４）イソプロピリデン−ビス（イン
デニル）ジルコニウムジクロライド、（１５）イソプロ
ピリデン−ビス（インデニル）ジルコニウム二水素化
物、（１６）ペンダメチルシクロペンタジエニル（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（１
７）ペンダメチルシクロペンタジエニル（シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジメチル、（１８）イソプロピ
リデン（シクロペンタジエニル）（フルオレニル）ジル
コニウムジクロライド、（１９）イソプロピリデン（シ
クロペンタジエニル）（フルオレニル）ジルコニウムジ
メチル、

【００１８】（２０）ビス（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（２１）ビス（シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジメチル、（２２）ビス（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジエチル、（２３）メ
チルシクロペンタジエニル（シクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、（２４）メチルシクロペンタ
ジエニル（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチ
ル、（２５）ジメチルシクロペンタジエニル（シクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、（２６）イ
ンデニル（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
ライド、（２７）ビス（ペンダメチルシクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、（２８）インデニル
（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジルコニウムジ
メチル、（２９）トリメチルシクロペンタジエニル（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、（３０）
トリフルオロメチルシクロペンタジエニル（シクロペン
タジエニル）ジルコニウムジクロライド、（３１）トリ
フルオロメチルシクロペンタジエニル（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジメチル、（３２）ビス（シクロ
ペンタジエニル）（トリメチルシリル）（メチル）ジル
コニウム、（３３）メチレン−ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジクロライド、（３４）エチレン−
ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライ
ド、（３５）ジメチルシリル−ビス（シクロペンタジエ
ニル）ジルコニウムジメチル、（３６）ビス（シクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムビス（メタンスルホナト）
（３７）ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムト
リフルオロメタンスルホナトクロライト、（３８）ビス
（インデニル）ジルコニウムビス（トリプルオロメタン
スルホナト）、（３９）エチレンビス（インデニル）ジ
ルコニウムビス（トリフルオロメタンスルホナト）、

【００１９】（４０）（第３級ブチルアミド）ジメチル
（テトラメチルシクロペンタジエニル）シランジベンジ
ルジルコニウム（第３級ブチルアミド）ジメチル（２，
３，４，５−テトラメチルシクロペンタジエニル）シラ
ンジベンジルジルコニウム、（４１）インデニルジルコ
ニウムトリス（ジメチルアミド）、（４２）（第３級ブ
チルアミド）（テトラメチルシクロペンタジエニル）−
１，２−エタンジイルコニウムジクロライド、（４３）
（第３級ブチルアミド）ジメチルー（テトラメチルシク
ロペンタジエニル）シランジルコニウムジクロライド、
（４４）（フェニルフォスフィド）ジメチル（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）シランジルコニウムジクロ
ライド、（４５）ビス（１，３−ジメチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジクロリド、（４６）ビス（１
−エチルー３−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロリド、（４７）ビス（１−ｎ−プロピル−３
−メチルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクリ
ド、（４８）ビス（１−ｉ−プロピルー３−メチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（４９）
ビス（１−ｎ−ブチルー３−メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロリド、

【００２０】（５０）ビス（１−ｉ−ブチルー３−メチ
ルシクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、
（５１）ビス（１−シクロヘキシル−３−メチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド、（５２）ビ
ス（１，３−ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジメチル、（５３）ビス（１−エチルー３−メチル
シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチル、（５
４）ビス（１−ｎ−プロピルー３−メチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウムジメチル、（５５）ビス（１−
ｎ−ブチルー３−メチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウムジメチル、（５６）ビス（１，３−ジメチルシク
ロペンタジエニル）ジルコニウムビス（ジエチルアミ
ド）、（５７）ビス（１−エチルー３−メチルシクロペ
ンタジエニル）ジルコニウムビス（ジエチルアミド）、
（５８）ビス（１−ｎ−ブチルー３−メチルシクロペン
タジエニル）ジルコニウムビス（ジエチルアミド）等が
ある。

【００２１】また、−般式［III]に相当するものとして
は、（１）ビス（メチルシクロペンタジエニル）ジルコ
ニウム（クロライド）（テトラフェニルボレート）テト
ラヒドロフラン錯体、（２）ビス（エチルシクロペンタ
ジエニル）ジルコニウム（クロライド）（テトラフェニ
ルボレート）テトラヒドロフラン錯体、（３）ビス（メ
チルシクロペンタジエニル）ジルコニウム（メチル）
（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（４）ビス（エチルシクロペンタジエニル）ジルコニウ
ム（メチル）（テトラフェニルボレート）テトラヒドロ
フラン錯体、（５）ビス（メチルシクロペンタジエニ
ル）ジルコニウム（ヒドリド）（テトラフェニルボレー
ト）テトラヒドロフラン錯体、（６）ビス（ジメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウム（クロライド）（テ
トラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（７）ビス（インデニル）ジルコニウム（クロライド）
（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（８）ビス（ジメチルシクロペンタジエニル）ジルコニ
ウム（メチル）（テトラフェニルボレート）テトラヒド
ロフラン錯体、（９）ビス（トリメチルシクロペンタジ
エニル）ジルコニウム（ヒドリド）（テトラフェニルボ
レート）テトラヒドロフラン錯体、

【００２２】（１０）イソプロピリデン−ビス（インデ
ニル）ジルコニウム（クロライド）（テトラフェニルボ
レート）テトラヒドロフラン錯体、（１１）イソプロピ
リデン−ビス（インデニル）ジルコニウム（メチル）
（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（１２）イソプロピリデン−ビス（インデニル）ジルコ
ニウム（ヒドリド）（テトラフェニルボレート）テトラ
ヒドロフラン錯体、（１３）ペンタメチルシクロペンタ
ジエニル（シクロペンタジエニル）ジルコニウム（クロ
ライド）（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラ
ン錯体、（１４）イソプロピリデン（シクロペンタジエ
ニル）（フルオレニル）ジルコニウム（クロライド）
（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（１５）ビス（シクロペンタジエニル）（メチル）ジル
コニウム（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラ
ン錯体、（１６）メチルシクロペンタジエニル（シクロ
ペンタジエニル）ジルコニウム（クロライド）（テトラ
フェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、（１７）
ジメチルシクロペンタジエニル（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウム（クロライト）（テトラフェニルボレ
ート）テトラヒドロフラン錯体、（１８）インデニル
（シクロペンタジエニル）ジルコニウム（クロライド）
（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、
（１９）トリメチルシリルシクロペンタジエニル（シク
ロペンタジエニル）ジルコニウム（メチル）（テトラフ
ェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、

【００２３】（２０）ビス（シクロペンタジエニル）
（トリメチルシリル）ジルコニウム（テトラフェニルボ
レート）テトラヒドロフラン錯体、（２１）ビス（シク
ロペンタジエニル）（トリメチルシリルメチル）ジルコ
ニウム（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン
錯体、（２２）エチレン−ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウム（クロライド）（テトラフェニルボレ
ート）テトラヒドロフラン錯体、（２３）ジメチルシリ
ル−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム（クロ
ライド）（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラ
ン錯体、（２４）エチレン−ビス（シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウム（メチル）（テトラフェニルボレー
ト）テトラヒドロフラン錯体、（２５）ジメチルシリル
−ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウム（メチ
ル）（テトラフェニルボレート）テトラヒドロフラン錯
体、（２６）エチレン−ビス（シクロペンタジエニル）
ジルコニウム（ヒドリド）（テトラフェニルボレート）
テトラヒドロフラン錯体、（２７）ビス（シクロペンタ
ジエニル）ジルコニウム（メタンスルホナト）（テトラ
フェニルボレート）テトラヒドロフラン錯体、等があ
る。また、チタニウム化合物、ハフニウム化合物等の第
３、４、５、６族金属化合物についても、上記と同様の
化合物が挙げられる。更に、これらの化合物の混合物を
用いてもよい。

【００２４】(ii) 成分（ｂ）の化合物 オレフィン重合用触媒成分である成分（ｂ）の化合物と
しては、塩類処理及び／又は酸処理を行って得られた、
水分含有率が３重量％以下の、（ｂ₁ ）珪酸塩を除くイ
オン交換性層状化合物、及び、（ｂ₂ ）無機珪酸塩から
なる群より選ばれた少なくとも一種の化合物を用いる。

【００２５】（ｂ₁ ）珪酸塩を除くイオン交換性層状化
合物 塩類処理も酸処理も施されていない状態の、珪酸塩を除
くイオン交換性層状化合物とは、イオン結合等によって
構成される面が互いに弱い結合力で平行に積み重なった
結晶構造をとる化合物であり、その例として、大部分の
粘土を挙げることができる。また、粘土は、通常、粘土
鉱物を主成分として構成される。これら粘土、粘土鉱
物、イオン交換性層状化合物は天然産のものに限らず、
人工合成物であってよい。

【００２６】・粘土、粘土鉱物 粘土、粘土鉱物の具体例としてはアロフェン等のアロフ
ェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、ア
ノーキサイト等のカオリン族、メタハロイサイト、ハロ
イサイト等のハロイサイト族、クリソタイル、リザルタ
イト、アンチゴライト等の蛇紋石族、モンモリロナイ
ト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サ
ポナイト、ヘクトライト等のスメクタイト、バーミキュ
ライト等のバーミキュライト鉱物、イライト、サリサイ
ト、海緑石等の雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオラ
イト、パリゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガ
イロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョク
デイ石群等が挙げられる。これらは混合層を形成してい
てもよい。これらの中では、モンモリロナイト、ザウコ
ナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、
ヘクトライト、ベントナイト、テニオライト、雲母等の
スメクタイト族が好ましい。

【００２７】・イオン交換性層状化合物 更に、イオン交換性層状化合物は、六方最密パッキング
型、アンチモン型、ＣｄＣｌ₂ 型、ＣｄＩ₂ 型等の層状
の結晶構造を有するイオン結晶性化合物等を例示するこ
とが出来る。このような結晶構造を有するイオン交換性
層状化合物の具体例としては、α−Ｚｒ（ＨＡｓＯ₄ ）
₂ ・Ｈ₂ Ｏ、α−Ｚｒ（ＨＰＯ₄ ）₂ 、α−Ｚｒ（ＫＰ
Ｏ₄）₂ ・３Ｈ₂ Ｏ、α−Ｔｉ（ＨＰＯ₄ ）₂ 、α−Ｔ
ｉ（ＨＡｓＯ₄ ）₂ ・Ｈ₂ Ｏ、α−Ｓｎ（ＨＰＯ₄ ）₂
・Ｈ₂ Ｏ、γ−Ｚｒ（ＨＰＯ₄ ）₂ 、γ−Ｔｉ（ＨＰＯ
₄ ）₂ 、γ−Ｔｉ（ＮＨ₄ ＰＯ₄ ）₂ ・Ｈ₂ Ｏ等の多価
金属の結晶性酸性塩があげられる。これらは特に処理を
行うことなくそのまま用いてもよいし、ボールミル、篩
分け、塩酸、硫酸、リン酸等の無機酸、蟻酸、酢酸、安
息香酸等の有機酸、等との接触による酸処理等の処理を
行った後に用いてもよい。また単独で用いても、２種以
上を混合して用いてもよい。

【００２８】（ｂ₂ ）無機珪酸塩 塩類処理も酸処理も施されていない状態の無機珪酸塩と
しては、ゼオライト、珪藻土が挙げられ、これらは合成
品を用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよ
い。また、これらは、特に処理を行うことなくそのまま
用いてもよいし、ボールミル、篩分け、酸処理等の処理
を行った後に用いてもよい。また単独で用いても、２種
以上を混合して用いてもよい。本発明に用いられる、塩
類処理も酸処理も施されていない状態の、珪酸塩を除く
イオン交換性層状化合物及び無機珪酸塩からなる群より
選ばれた少なくとも一種の化合物は、交換可能な１族金
属の陽イオン（通常、例えばＮａ、Ｋ）を含有する。１
族金属の陽イオンの含有量は、０．１重量％好ましくは
０．５重量％であることが望ましい。これら、珪酸塩を
除くイオン交換性層状化合物及び無機珪酸塩からなる群
より選ばれた少なくとも一種の化合物を塩類処理及び／
又は酸処理することによってオレフィン重合用触媒成分
である成分（ｂ）の化合物が得られる。

【００２９】塩類処理及び／又は酸処理 塩類処理及び／又は酸処理によって、固体の酸強度を変
えることができる。また、塩類処理は、イオン複合体、
分子複合体、有機誘導体等を形成し、表面積や層間距離
を変えることができる。即ち、イオン交換性を利用し、
層間の交換性イオンを別の大きな嵩高いイオンと置換す
ることにより、層間が拡大した状態の層状物質を得るこ
とが出来る。本発明においては、塩類で処理される前
の、珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物及び無機珪酸
塩からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物の含
有する交換可能な１族金属の陽イオンの４０％以上、好
ましくは６０％以上を、下記に示す塩類より解離した陽
イオンとイオン交換することが必要である。

【００３０】・塩 類 このようなイオン交換を目的とした本発明の塩類処理で
用いられる塩類は、２〜１４族原子からなる群より選ば
れた少なくとも一種の原子を含む陽イオンを含有する化
合物であり、好ましくは、２〜１４族原子からなる群よ
り選ばれた少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、ハ
ロゲン原子、無機酸及び有機酸からなる群より選ばれた
少なくとも一種の陰イオンとからなる化合物であり、更
に好ましくは、２〜１４族原子からなる群より選ばれた
少なくとも一種の原子を含む陽イオンと、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ、Ｆ、ＰＯ₄ 、ＳＯ₄ 、ＮＯ₃ 、ＣＯ₃ 、Ｃ₂ Ｏ₄ 、
ＣｌＯ₄ 、ＯＣＯＣＨ₃ 、ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ 、
ＯＣｌ₂ 、Ｏ（ＮＯ₃ ）₂、Ｏ（ＣｌＯ₄ ）₂ 、Ｏ（Ｓ
Ｏ₄ ）、ＯＨ、Ｏ₂ Ｃｌ₂ 、ＯＣｌ₃ 、ＯＣＯＨ、ＯＣ
ＯＣＨ₂ ＣＨ₃ 、Ｃ₂ Ｈ₄ Ｏ₄ 及びＣ₆ Ｈ₅ Ｏ₇ からな
る群がら選ばれる少なくとも一種の陰イオンとからなる
化合物である。具体的には、ＣａＣｌ₂ 、ＣａＳＯ₄ 、
Ｃａ（ＮＯ₃ ）₂ 、ＭｇＣｌ₂ 、ＭｇＢｒ₂ 、ＭｇＳＯ
₄ 、Ｍｇ（ＰＯ₄ ）₂ 、Ｍｇ（ＮＯ₃ ）₂ 、Ｍｇ（Ｃｌ
Ｏ₄ ）₂ 、ＣｒＯ₂ Ｃｌ₂ 、ＣｒＦ₃ 、ＣｒＣｌ₃ 、Ｃ
ｒＢｒ₃ 、Ｃｒ（ＮＯ₃ ）₃ 、Ｃｒ₂ （ＳＯ₄ ）₃ 、Ｃ
ｏ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₃ 、ＣｏＣＯ₃ 、Ｃｏ
Ｃ₂ Ｏ₄ 、ＣｏＦ₂ 、ＮｉＣＯ₃ 、ＮｉＣ₂ Ｏ₄ 、Ｐｂ
ＳＯ₄ 、Ｐｂ（ＮＯ₃ ）₂ 、ＣｕＢｒ₂ 、Ｃｕ（ＯＣＯ
ＣＨ₃ ）₂ 、Ｚｎ（ＣＨ₃ ＣＯＣＨＣＯＣＨ₃ ）₂ 、Ｚ
ｎ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₂ 、Ｚｎ（ＯＯＣＨ）₂ 、ＺｎＣＯ
₃ 、Ｚｎ（ＳＯ₄）、Ｚｎ（ＮＯ₃ ）₂ 、ＺｎＣｌ₂ 、
ＡｌＣｌ₃ 、Ａｌ（ＮＯ₃ ）₃ 、ＧｅＩ₄、ＧｅＢ
ｒ₄ 、Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃ ）₄ 、Ｐｂ（ＣｌＯ₄ ）₂ ，
ＰｂＩ₂ 等が挙げられる。これら塩類のうち、４、５、
又は、６族原子の陽イオンを含有する化合物で処理され
たオレフィン重合用触媒成分である成分（ｂ）の化合物
を用いることが特に好ましい。酸処理は表面の不純物を
取り除くほか、結晶構造のＡｌ，Ｆｅ，Ｍｇ等の陽イオ
ンの一部又は全部を溶出させる。

【００３１】・酸 酸処理で用いられる酸は、好ましくは塩酸、硫酸、硝
酸、酢酸、シュウ酸から選択される。処理に用いる塩類
及び酸は、２種以上であってもよい。塩類処理と酸処理
を組み合わせる場合においては、塩類処理を行った後、
酸処理を行う方法、酸処理を行った後、塩類処理を行う
方法、及び塩類処理と酸処理を同時に行う方法がある。

【００３２】・処理条件 塩類及び酸による処理条件は、特には制限されないが、
通常塩類及び酸濃度は、０．１〜３０重量％、処理温度
は室温〜沸点、処理時間は、５分〜２４時間の条件を選
択して、珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物及び無機
珪酸塩からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物
を構成している物質の少なくとも一部を溶出するじ条件
で行うことが好ましい。また、塩類及び酸は、一般的に
は水溶液で用いられる。本発明では、上記塩類処理及び
／又は酸処理を行うが、処理前、処理間、処理後に粉砕
や造粒等で形状制御を行ってもよい。また、アルカリ処
理や有機物処理等の他の化学処理を併用してもよい。こ
のようにして得られる成分（ｂ）の化合物成分として
は、水銀圧入法で測定した半径２０Ａ以上の細孔容積が
０．１ｃｃ／ｇ以上、特には０．３〜５ｃｃ／ｇのもの
が好ましい。

【００３３】これら珪酸塩を除くイオン交換性層状化合
物及び無機珪酸塩からなる群より選ばれた少なくとも一
種の化合物には、通常、吸着水及び層間水が含まれる。
本発明においては、これらの吸着水及び層間水を除去し
て（ｂ）化合物成分を得る。ここで、吸着水とは粘土、
粘土鉱物又はイオン交換性層状化合物粒子の表面あるい
は結晶破面に吸着された水で、層間水は結晶の層間に存
在する水である。本発明では、加熱処理によりこれらの
吸着水及び／又は層間水を除去したものが用いられるこ
とになり、望ましい。粘土、粘土鉱物及び層間水の吸着
水及び層間水の加熱処理方法は特に制限されないが、加
熱脱水、気体流通下の加熱脱水、減圧下の加熱脱水及び
有機溶媒との共沸脱水等の方法が用いられる。加熱の際
の温度は、層間水が残存しないように、１００℃以上、
好ましくは１５０℃以上であるが、構造破壊を生じるよ
うな高温条件は好ましくない。また、空気流通下での加
熱等の架橋構造を形成させるような加熱脱水方法は、触
媒の重合活性が低下し、好ましくない。加熱時間は０．
５時間以上、好ましくは１時間以上である。その際、除
去した後の成分（ｂ）の化合物の水分含有率が、温度２
００℃、圧力１ｍｍＨｇの条件下で２時間脱水した場合
の水分含有量を０重量％としたとき、３重量％以下、好
ましくは１重量％以下、下限は０重量％以上であること
が必要である。

【００３４】(2) 低密度ポリエチレン（成分（Ｂ）） (A) 物 性 本発明において用いられる成分（Ｂ）の高圧ラジカル法
によって製造された低密度ポリエチレンは、ＭＦＲが
０．１〜２０ｇ／１０分、好ましくは０．１５〜１０ｇ
／１０分である。また、その密度は０．９１０〜０．９
３５ｇ／ｃｍ³ 、好ましくは０．９１５〜０．９３２ｇ
／ｃｍ³ であることが重要である。上記低密度ポリエチ
レンのＭＦＲが上記範囲未満であると透明性や光沢性が
悪化することがある。一方、ＭＦＲが上記範囲を超過す
ると十分な透明性、光沢、成形安定性が得られない。ま
た、上記低密度ポリエチレンの密度が上記範囲未満であ
ると腰が不十分となる。一方、密度が上記範囲を超過す
ると透明性、光沢、強度が不十分となる。なお、上記高
圧ラジカル法によって製造された低密度ポリエチレン
は、本発明の目的を損なわない範囲であれば、エチレン
と他のα−オレフィン、酢酸ビニル、アクリル酸エステ
ル等の重合性単量体との共重合体であっても良い。

【００３５】(B) 製 造 本発明において用いられる高圧ラジカル法によって製造
された低密度ポリエチレンとは、重合圧力１，５００〜
３，５００ｋｇ／ｃｍ² 、重合温度１５０〜３５０℃
で、酸素、空気、有機過酸化物等のラジカル発生剤の存
在下にラジカル重合によって製造された低密度ポリエチ
レンであり、一般には高圧法低密度ポリエチレンとして
市販されているものである。

【００３６】(3) 酸化防止剤（成分（Ｃ）） 本発明において用いられる成分（Ｃ）の酸化防止剤は、
公知のポリオレフィン用酸化防止剤でよく、リン系、フ
ェノール系、イオウ系等の各種酸化防止剤が利用でき
る。リン系酸化防止剤 上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニル
ホスファイト、ジフェニルホスファイト、トリノニルフ
ェニルホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトー
ルジホスファイト、４，４′−ブチリデンビス（３−メ
チル−６−ｔ−ブチルフェニルジトリデシル）ホスファ
イト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４′−ビフェニレ
ンジホスホナイト等を挙げることができる。

【００３７】フェノール系酸化防止剤 上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，
３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ
−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、
２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、ペンタエリスリチル−テトラキス［３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト、トリス［β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロピオニル−オキシエチル］イソシ
アヌレート等を挙げることができる。

【００３８】イオウ系酸化防止剤 上記イオウ系酸化防止剤としては、例えば、テトラキス
（ラウリルメルカプトプロピオニルオキシメチレン）メ
タン、ジラウリルチオジプロピオン酸エステル、ジステ
アリルチオジプロピオン酸エステル等を挙げることがで
きる。これら酸化防止剤は、単独でも、２種以上を組み
合わせて用いてもよいが、リン系酸化防止剤とフェノー
ル系酸化防止剤の組み合わせ、又は、イオウ系酸化防止
剤とフェノール系酸化防止剤の組み合わせが好ましい。

【００３９】(4) アンチブロッキング剤（成分
（Ｄ）） 本発明において用いられる成分（Ｄ）のアンチブロッキ
ング剤としては、二酸化珪素、滑石、ゼオライト等を挙
げることができる。更に詳細には、天然シリカ、合成シ
リカ、タルク、Ａ型ゼオライト、Ｐｃ型ゼオライト、Ｘ
型ゼオライト等を挙げることができ、何れも酸変性やイ
オン交換等の処理が施されていてもよい。これらアンチ
ブロッキング剤は水澤化学工業社製の「シルトンＪＣ−
３０」等として市販されている。これらアンチブロッキ
ング剤は、単独でも、２種以上を組み合わせて用いても
よいが、何れも平均粒径が１０μｍ以下のものが好まし
い。

【００４０】(5) その他の配合剤（任意成分：成分
（Ｅ）） 本発明のポリエチレン系樹脂組成物には、本発明の効果
を著しく阻害しない範囲内で、高密度ポリエチレン等の
上記成分（Ｂ）の低密度ポリエチレン以外のポリエチレ
ン樹脂やポリプロピレン等のポリエチレン以外の樹脂が
含まれていても良いし、更に、付加的成分、例えば、中
和剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、耐候性改良
剤、核剤、結露防止剤、分子量調整剤、着色剤、衝撃改
良剤、充填剤、難燃剤、接着性向上剤及び印刷性向上剤
等を配合することができる。

【００４１】[II] 配合割合 本発明のポリエチレン系樹脂組成物中に含まれる成分
（Ａ）のエチレン・α−オレフィン共重合体の配合割合
は９９．５〜７０重量％、好ましくは９７〜８０重量％
であり、成分（Ｂ）の高圧ラジカル法によって製造され
た低密度ポリエチレンの配合割合は０．５〜３０重量
％、好ましくは３〜２０重量％である。上記成分（Ａ）
のエチレン・α−オレフィン共重合体の配合割合が上記
範囲未満であると、十分な強度が得られないと言う問題
が生じる。また、上記範囲を超過すると、十分な透明
性、光沢が得られないという問題が生じる。一方、成分
（Ｂ）の高圧ラジカル法によって製造された低密度ポリ
エチレンの配合割合が上記範囲未満であると、十分な透
明性、光沢が得られないという問題が生じる。また、上
記範囲を超過すると、十分な強度が得られないという問
題が生じる。上記成分（Ａ）のエチレン・α−オレフィ
ン共重合体成分と、成分（Ｂ）の高圧ラジカル法によっ
て製造された低密度ポリエチレン成分とを合わせて１０
０重量部として、成分（Ｃ）の酸化防止剤は０．０５〜
１．０重量部、好ましくは０．１０〜０．３５重量部で
あり、成分（Ｄ）のアンチブロッキング剤は０．０１〜
０．８重量部、好ましくは０．１〜０．５重量部の割合
で使用される。成分（Ｃ）の酸化防止剤の配合割合が、
上記範囲未満であると、成形時にゲルが多発すると言と
いう問題が生じる。また、上記範囲を超過すると、フィ
ルムが変色し易くなるという問題が生じる。一方、成分
（Ｄ）のアンチブロッキング剤の配合割合が、上記範囲
未満であると、十分な口開き性が得られないという問題
が生じる。また、上記範囲を超過すると、十分な透明
性、光沢が得られないという問題が生じる。

【００４２】[III] ポリエチレン系樹脂組成物の製造 (1) 混練方法 上記成分（Ａ）のエチレン・α−オレフィン共重合体、
成分（Ｂ）の高圧ラジカル法によって製造された低密度
ポリエチレン、成分（Ｃ）の酸化防止剤、成分（Ｄ）の
アンチブロッキング剤を、必要により用いられる成分
（Ｅ）のその他の配合剤（任意成分）を上記配合割合で
配合し、溶融混線、或いは、ドライブレンドすることに
より、本発明のポリエチレン系樹脂組成物を得ることが
できる。但し、ドライブレンドする場合には、成分
（Ｃ）の酸化防止剤、成分（Ｄ）のアンチブロッキング
剤、成分（Ｅ）のその他の配合剤（任意成分）について
は、マスターバッチ方式を取ることが好ましい。

【００４３】(2) 溶融混練 上記溶融混練は、一般に一軸押出機、二軸押出機、バン
バリーミキサー、ロールミキサー、ブラベンダープラス
トグラフ、ニーダー等の通常の混練機を用いて、通常１
７０〜２５０℃の温度で混練し、好適には造粒すること
によって、本発明のポリエチレン系樹脂組成物を得るこ
とができる。この場合、各成分の分散を良好にすること
ができる混練・造粗方法を選択することが好ましく、通
常は一軸押出機或いは二軸押出機を用いて混線・造粒が
行われる。

【００４４】[IV] 成 形 このようにして得られた本発明のポリエチレン系樹脂組
成物は、成形時の安定性に優れ、それを用いて成形した
フィルムは透明性、光沢、腰、口開き性、強度に優れ、
また、これらの品質バランスにも優れているので、規格
袋、重袋、ラップフィルム、砂糖袋、食品包装用等の各
種包装用フィルム、輸液バッグ、バッグインボックス、
農業用資材等に好適である。また、インフレーションフ
ィルム成形、Ｔダイフイルム成形等による通常のフィル
ム用途に限らず、押出成形、中空成形、射出成形等によ
って様々な容器、パイプ、チューブ、等に加工すること
もできる。更に、他のフィルムに押出被覆、或いは共押
出成形することにより各種複合フィルムとすることもで
き、鋼管被覆、電線被覆或いは発泡成形等の用途に使用
することもできる。

【００４５】

【実施例】以下に示す実施例及び比較例によって、本発
明を更に具体的に説明する。 [I] 評価方法 (1) ＭＦＲ ＪＩＳ Ｋ ６７６０に準拠し、１９０℃、２．１６ｋ
ｇ荷重の条件て測定した。 (2) 密 度 ＪＩＳ Ｋ６７６０に準拠して測定した。 (3) ヘーズ ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。 (4) 光沢度 ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。 (5) 引張弾性率 ＩＳＯ Ｒ１１８４に準拠して、縦方向の測定値を示し
た。 (6) 成形安定性 インフレーションフィルム成形の際に、バブルの状態を
肉眼で観察し、成形安定性を次のように３段階評価し
た。 ○：バブルの揺れがほとんど認められない △：バブルの揺れ、蛇行が認められる ×：バブルがかなり揺れるか、蛇行し、成形することが
難しい。

【００４６】(7) 口開き性 インフレーションフィルム成形したチューブ状のフィル
ムサンプルを、チューブの軸方向の長さが２０ｃｍとな
るように軸方向に対して垂直に切断し、そのフィルムサ
ンプルの上下を、縦２５ｃｍ、横３５ｃｍの長方形をし
たガラス板２枚ではさみ、ガラス板の上に１５ｋｇの荷
重を載せて、４５℃に温度設定したギヤオーブン中で、
５日間保管後、荷重とガラス板を取り去り、密着したフ
ィルムを手で引き剥がし、口開き性を次のように３段階
評価した。 Ｏ：ほとんど抵抗なく、引き剥がすことができる △：引き剥がす際に抵抗があるか、フィルム表面に白化
や損傷の発生が認められる ×：かなりの抵抗があり、引き剥がすとフィルム表面に
白化や損傷の発生が認められるか、あるいは引き剥がす
ことができない。

【００４７】(8) メモリーエフェクト（ＭＥ） メモリーエフェクト（ＭＥ）の測定は、ＪＩＳ Ｋ７２
１０で使用されるメルトインデクサーと内径２．０９５
ｍｍ、外径９．５０ｍｍ、長さ８．０００ｍｍのオリフ
ィスを用いて、シリンダー温度を２４０℃に保ち、装置
にサンプルを充填した後、ピストンのみを載せ、６分後
に３ｇ／分の一定速度で溶融したサンプルを押し出し、
１分間経過した時点でオリフィスから出たサンプルをオ
リフィス直下の出口でカットし、次にエチルアルコール
を入れたメスシリンダーを、エチルアルコールの液面が
オリフィス下面から２０ｍｍの距離となるようにオリフ
ィス真下に置き、まっすぐな押出物をエチルアルコール
中に採取して、その直径を０．０１ｍｍ単位で測定す
る。その値をオリフィスの内径２．０９５（ｍｍ）で割
った値をＭＥの値とする。

【００４８】[II] 実施例及び比較例 実施例１ (1) 触媒成分の調製 硫酸亜鉛０．２ｋｇを溶解させた脱塩水３．２ｋｇに市
販の合成雲母（コープケミカル社ＭＥ−１００）１ｋｇ
を分散させ、室温で１時間攪拌処理し、濾過した。更
に、脱塩水で洗浄した後、このスラリーを噴霧乾燥機に
導入し、球状の造粒粒子を得た。この粒子を更に２００
℃の温度で２時間減圧乾燥した。一方、容量１０リット
ルの誘導攪拌装置付き反応器にｎ−ヘプタン４．４リッ
トル、上記乾燥造粒粒子１５０ｇを導入した。これに６
００ｍｌのトルエンに溶解したジメチルシリレンビス
（４，５，６，７−テトラヒドロインデニル）ジルコニ
ウムジクロリド１２．０ｍｍｏｌの溶液を添加し、室温
で１０分間攪拌した。この攪拌混合物に引き続き更にト
リエチルアルミニウム７２ｍｍｏｌを添加し、系の温度
を６０℃とした。ここへエチレンガスを導入し、温度を
６０℃に保ったまま２時間かけて５６２ｇのエチレンを
重合し、予備重合触媒を得た。

【００４９】(2) エチレン・ブテン共重合 上記「 (1) 触媒成分の調製」で得られた予備重合触媒
を用いて気相重合を行った。すなわち、エチレンと１−
ブテンとの混合ガスが循環する連続式気相重合反応器に
上記固体触媒成分を３３５ｍｇ／ｈｒ、トリエチルアル
ミニウム１，２５６ｍｇ／ｈｒを間欠的に供給した。重
合反応の条件は、重合温度８８℃、重合圧力２０ｋｇ／
ｃｍ² −Ｇ、平均滞留時間４．１時間であり、生成ポリ
エチレンの平均重合レートは７．３ｋｇ／ｈｒであっ
た。得られたエチレン・ブテン共重合体ＡのＭＦＲ、密
度を測定し、その結果を表１に示す。

【００５０】(3) ペレット化 上記のエチレン・ブテン共重合体のパウダー９２重量部
に、表２に示す日本ポリケム社から市販されている高圧
ラジカル法によって製造された低密度ポリエチレンａ
「ノバテック−ＬＤ ＬＦ２８０」を８重量部、酸化防
止剤としてオクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキジフェニル）プロピオネートを０．１
重量部及びテトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）−４，４′−ビフェニレンジホスホナイトを０．１
重量部、中和剤としてステアリン酸カルシウムを０．０
５重量部、アンチブロッキング剤として水澤化学工業社
製の「シルトンＪＣ−３０」０．１５重量部を加え、こ
れらを容量５０リットルのスーパーミキサーを用いて、
回転数８００ｒｐｍ／分で５分間混合した後、スクリュ
ー径４０ｍｍφ、Ｌ／Ｄ＝２６の単軸押出機で２００
℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍにて溶融混練してペレ
ット化した。

【００５１】(4) フィルム成形 このペレットをスクリュー径４０ｍｍφ、Ｌ／Ｄ＝２４
の押出機を備えたダイ径７５ｍｍφ、ダイリップ幅３ｍ
ｍのインフレーションフィルム成形機を用いて、温度２
００℃、スクリュー回転数５０ｒｐｍ、ブローアップ比
２．０、引取速度１６．５ｍ／分、フロストライン高さ
２００ｍｍの条件下で成形して、幅２３０ｍｍ、厚み３
０μｍのインフレーションフィルムを得た。成形の際に
は、成形安定性を評価し、成形したフィルムのヘーズ、
引張弾性率、口開き性を測定・評価した。その結果を表
３に示す。

【００５２】実施例２ 実施例１の「 (2) エチレン・ブテン共重合」で得られ
たエチレン・ブテン共重合体Ａを用いて、同じく実施例
１の「 (3) ペレット化」で高圧ラジカル法によって製
造された低密度ポリエチレンを表２に示す高圧ラジカル
法低密度ポリエチレンｂ「ノバテック−ＬＤ ＬＳ１６
２」に変えた以外は実施例１と同様にしてペレット化及
びフィルム成形を行ない、成形安定性の評価と、成形し
たフィルムのヘーズ、光沢度、引張弾性率、口開き性を
測定し、評価した。その結果を表３に示す。

【００５３】実施例３ (1) 触媒成分の調製 硝酸クロム０．８ｋｇを溶解させた脱塩水３．４ｋｇに
市販の合成雲母（コープケミカル社ＭＥ−１００）１ｋ
ｇを分散させ、室温で１時間攪拌処理し、濾過した。更
に、脱塩水で洗浄した後、このスラリーを噴霧乾燥機に
導入し、球状の造粒粒子を得た。この粒子を更に２００
℃の温度で２時間減圧乾燥した。一方、容量１０リット
ルの誘導攪拌装置付き反応器にｎ−ヘプタン４．４リッ
トル、上記乾燥造粒粒子１５０ｇを導入した。これに６
００ｍｌのトルエンに溶解したビス（ｎ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）ジルコニウムジクロリド１２．０ｍｍ
ｏｌの溶液を添加し、室温で１０分間攪拌した。この攪
拌混合物に引き続き更にトリエチルアルミニウム７１．
５ｍｍｏｌを添加し、系の温度を６０℃とした。ここへ
エチレンガスを導入し、温度を６０℃に保ったまま２時
間かけて５６２ｇのエチレンを重合し、予備重合触媒を
得た。

【００５４】(2) エチレン・ブテン共重合 上記「 (1) 触媒成分の調製」で得られた予備重合触媒
を用いて気相重合を行った。すなわち、エチレンと１−
ブテンとの混合ガスが循環する連続式気相重合反応器に
上記固体触媒成分を３６３ｍｇ／ｈｒ、トリエチルアル
ミニウム５６８ｍｇ／ｈｒを間欠的に供給した。重合反
応の条件は、重合温度８３℃、重合圧力２０ｋｇ／ｃｍ
² −Ｇ、平均滞留時間１４時間であり、生成ポリエチレ
ンの平均重合レートは４．３ｋｇ／ｈｒであった。得ら
れたエチレン・ブテン共重合体ＡのＭＦＲ、密度を測定
し、その結果を表１に示した。

【００５５】(3) ペレット化 エチレン・ブテン共重合体のパウダーとして上記「 (2)
エチレン・ブテン共重合」で得たエチレン・ブテン共
重合体Ｂを使用した以外は、実施例１の「 (3)ペレット
化」に記載の方法と同様にしてペレット化した。

【００５６】(4) フィルム成形 ペレットとして上記「 (3) ペレット化」で得たペレッ
トを使用した以外は実施例１の「 (4) フィルム成形」
と同様にしてフィルム成形し、成形安定性を評価し、成
形したフィルムのヘーズ、引張弾性率、口開き性を測定
・評価した。その結果を表３に示す。

【００５７】比較例１ 実施例１で得たエチレン・ブテン共重合体Ａを、実施例
１の「 (3) ペレット化」で、アンチブロッキング剤と
して「シルトンＪＣ−３０」を加えなかった以外は、実
施例１と同様に実施して、ペレット化及びフィルム成形
し、成形安定性の評価、及び、成形したフィルムのヘー
ズ、光沢度、引張弾性率、口開き性を測定し、評価し
た。その結果を表３に示す。

【００５８】比較例２ エチレン・ブテン共重合体として、日本ポリケム社から
市販されている直鎖状低密度ポリエチレンＣ「ノバテッ
クＬＬ Ｆ３０ＦＧ」を用い、ペレット化の際にアンチ
ブロッキング剤として「シルトンＪＣ−３０」を加えな
かった以外は、実施例１の「 (3) ペレット化」と同様
にしてペレット化し、同じく実施例１の「 (4) フィル
ム成形」と同様に実施してフィルム成形し、成形安定性
の評価、及び、成形したフィルムのヘーズ、光沢度、引
張弾性率、口開き性を測定し、評価した。その結果を表
３に示す。また、エチレン・ブテン共重合体ＣのＭＦＲ
と密度を表１に示す。

【００５９】比較例３ エチレン・ブテン共重合体として、日本ポリケム社から
市販されている直鎖状低密度ポリエチレンＤ「ノバテッ
クＬＬ ＵＦ２４０」を用い、ペレット化の際に高圧ラ
ジカル法によって製造された低密度ポリエチレンを加え
ず、アンチブロッキング剤として「シルトンＪＣ−３
０」を加えなかった以外は、実施例１の「 (3) ペレッ
ト化」と同様にしてペレット化し、同じく実施例１の
「 (4) フィルム成形」と同様に実施してフィルム成形
し、成形安定性の評価、及び、成形したフィルムのヘー
ズ、光沢度、引張弾性率、口開き性を測定し、評価し
た。その結果を表３に示す。また、エチレン・ブテン共
重合体ＤのＭＦＲと密度を表１に示す。

【００６０】比較例４ エチレン・α−オレフィン共重合体として、メタロセン
触媒を用いて製造された市販の直鎖状低密度ポリエチレ
ンＥ（α−オレフィン：１−ヘキセン、１−ヘキセン含
量：８重量％）を用い、実施例１の「 (4) フィルム成
形」と同様に実施してフィルム成形し、成形安定性の評
価、及び、成形したフィルムのヘーズ、光沢度、引張弾
性率、口開き性を測定し、評価した。その結果を表３に
示す。また、エチレン・ブテン共重合体ＤのＭＦＲと密
度を表１に示す。

【００６１】

【表１】

【００６２】

【表２】

【００６３】

【表３】

【００６４】

【発明の効果】このような本発明のポリエチレン系樹脂
組成物は、それをフィルム成形する際に成形安定性に優
れており、成形したフィルムは、透明性、光沢、腰、口
開き性、強度に優れたものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ //(Ｃ０８Ｌ 23/08 23:06）

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記成分（Ａ）〜成分（Ｄ）からなること
   を特徴とするポリエチレン系樹脂組成物。 成分（Ａ）： 成分（ａ）： メタロセン系遷移金属化合物、及び、 成分（ｂ）： 塩類処理及び／又は酸処理を行なって得られた、水分含有率 が３重量％以下の、 （ｂ₁ ）： 珪酸塩を除くイオン交換性層状化合物、及び、 （ｂ₂ ）： 無機珪酸塩 からなる群より選ばれた少なくとも１種の化合物 を必須成分とするオレフィン重合用触媒の存在下に、エチレンと炭素数３〜１２ のα−オレフィンを共重合して得られるＭＦＲ０．１〜１５ｇ／１０分、且つ、 密度０．８８０〜０．９６０ｇ／ｃｍ³ のエチレン・α−オレフィン共重合体 ９９．５ 〜７０重量％ 成分（Ｂ）： 高圧ラジカル法によって製造されたＭＦＲ０．１〜２０ｇ／１ ０分、且つ、密度０．９１０〜０．９３５ｇ／ｃｍ³ の低密度ポリエチレン ０．５ 〜３０重量％、 成分（Ｃ）： 酸化防止剤 ０．０５〜 １．０重量部 成分（Ｄ）： アンチブロッキング剤 ０．０１〜 ０．８重量部
2. 【請求項２】成分（Ａ）の（ａ）：メタロセン系遷移金
   属化合物が、下記の一般式（Ｉ）で表されるメタロセン
   系遷移金属化合物である、請求項１に記載のポリエチレ
   ン系樹脂組成物。 Ｒ¹ _i （ＣｐＲ² _ｎ）（ＣｐＲ³ _ｍ）ＭＸ¹ Ｘ² ［Ｉ］ （式中、Ｃｐはシクロペンタジエニル基を表し、Ｒ¹ は
   長周期律表第１４族元素を含む共有結合架橋基であり、
   ｉは０又は１であり、Ｒ² 及びＲ³ はハロゲン、珪素含
   有基、炭素数１〜２０の炭化水素基又はハロゲン含有炭
   化水素基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基
   であり、２個のＲ² 或いはＲ³ がシクロペンタジエニル
   環に隣接して置換されている場合は互いに結合してＣ₄
   〜Ｃ₈ の環を形成していても良く、ｍ、ｎは０〜５の整
   数で、ｉ＋ｍ＝５及びｉ＋ｎ＝５を満たし、Ｍは長周期
   律表第ＩＶｂ族の遷移金属であり、Ｘ¹ 及びＸ² はハロ
   ゲン原子、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ア
   ルコキシ基、アリールオキシ基、アミド基を表す。）
3. 【請求項３】成分（Ａ）で用いられたオレフィン重合用
   触媒成分の（ｂ）の化合物が、塩類処理を行なって得ら
   れたものである、請求項１に記載のポリエチレン系樹脂
   組成物。
4. 【請求項４】成分（Ｂ）で用いられた低密度ポリエチレ
   ンのメモリーエフェクト（ＭＥ）が１．６〜２．１であ
   る、請求項１に記載のポリエチレン系樹脂組成物。