JPH11295196A - 供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガス - Google Patents
供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガスInfo
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- JPH11295196A JPH11295196A JP10095589A JP9558998A JPH11295196A JP H11295196 A JPH11295196 A JP H11295196A JP 10095589 A JP10095589 A JP 10095589A JP 9558998 A JP9558998 A JP 9558998A JP H11295196 A JPH11295196 A JP H11295196A
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 分析機器を校正するのに、あるいは未知濃度
試料を分析するのに必要とされる時間を短縮するととも
に、分析ラインの簡略化する。 【解決手段】 ガス供給源１から所定の配管Ｄを介して
分析機器８に供給される供給対象ガスの成分濃度を安定
化する方法において、上記供給対象ガスに微量水分を含
有させて上記配管Ｄ内を流した。好ましくは、上記ガス
供給源１において微量水分を含有する供給対象ガスを保
持させておき、上記ガス供給源１から上記配管Ｄ内を微
量水分を含有する供給対象ガスを流す。また、供給対象
ガスの水分含有量を１０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍとする。
試料を分析するのに必要とされる時間を短縮するととも
に、分析ラインの簡略化する。 【解決手段】 ガス供給源１から所定の配管Ｄを介して
分析機器８に供給される供給対象ガスの成分濃度を安定
化する方法において、上記供給対象ガスに微量水分を含
有させて上記配管Ｄ内を流した。好ましくは、上記ガス
供給源１において微量水分を含有する供給対象ガスを保
持させておき、上記ガス供給源１から上記配管Ｄ内を微
量水分を含有する供給対象ガスを流す。また、供給対象
ガスの水分含有量を１０ｐｐｍ〜２００ｐｐｍとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス供給源から所
定の配管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスの
成分濃度を安定化する方法、およびこの方法に用いられ
る微量水分含有供給対象ガスに関する。
定の配管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスの
成分濃度を安定化する方法、およびこの方法に用いられ
る微量水分含有供給対象ガスに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、大気中から様々な有害物質が低い
濃度で検出されており、これらの物質に人体が長期間曝
露されることによる健康への影響が懸念されている。従
って、このような有害物質の濃度を定期的に測定して、
その濃度が所定レベルを越えないように監視する必要が
ある。
濃度で検出されており、これらの物質に人体が長期間曝
露されることによる健康への影響が懸念されている。従
って、このような有害物質の濃度を定期的に測定して、
その濃度が所定レベルを越えないように監視する必要が
ある。
【０００３】有害な大気汚染物質の測定においては、測
定値はその数値が低くなればなるほど信頼性（測定精
度）が要求される。この測定は、通常、ガスクロマトグ
ラフなどの分析機器を用いて行われるが、その信頼性を
確保するために、適当な標準物質によって分析機器を定
期的かつ正確に校正する必要がある。すなわち、濃度が
既知の有害物質を含む標準物質を用いることにより、分
析機器による測定濃度が同標準物質における有害成分の
既知濃度と一致するように校正を行う必要がある。
定値はその数値が低くなればなるほど信頼性（測定精
度）が要求される。この測定は、通常、ガスクロマトグ
ラフなどの分析機器を用いて行われるが、その信頼性を
確保するために、適当な標準物質によって分析機器を定
期的かつ正確に校正する必要がある。すなわち、濃度が
既知の有害物質を含む標準物質を用いることにより、分
析機器による測定濃度が同標準物質における有害成分の
既知濃度と一致するように校正を行う必要がある。
【０００４】有害物質が気体状の大気汚染物質の場合、
標準物質としては、有害物質を成分ガスとして含む標準
ガスが用いられる。分析機器の校正を正確に行うための
標準ガスとしては、経時的な濃度変化が少なく、かつ高
精度のものであることが要求される。
標準物質としては、有害物質を成分ガスとして含む標準
ガスが用いられる。分析機器の校正を正確に行うための
標準ガスとしては、経時的な濃度変化が少なく、かつ高
精度のものであることが要求される。
【０００５】本発明者らは先に、予め高圧容器の内壁に
純水を吸着させ、その後に成分ガスを微量含む低濃度標
準ガスを前記容器に充填すれば、経時的な濃度変化が抑
制されて安定化された低濃度標準ガスが得られることを
見出し、特許出願をした（特願平９−１８１３０３
号）。
純水を吸着させ、その後に成分ガスを微量含む低濃度標
準ガスを前記容器に充填すれば、経時的な濃度変化が抑
制されて安定化された低濃度標準ガスが得られることを
見出し、特許出願をした（特願平９−１８１３０３
号）。
【０００６】ところで、分析機器の校正方法について
は、様々な方法があるが、その一例を図９を参照して説
明する。すなわち、一定量の有害成分を窒素ガスと混合
（窒素バランス）した濃度既知の低濃度標準ガスは、ガ
ス供給源としての容器１から供給されて減圧弁３を出た
後、マスフローコントローラ５により流量を調整され、
混合器７に導入される。一方、希釈用ガスとしての窒素
ガスは、ガス供給源としての容器２から供給されて減圧
弁４を出た後に加湿器１５によって加湿され、たとえば
３０００〜７０００ｐｐｍの水分を含有したものとされ
る。そして、加湿された希釈用ガスは、マスフローコン
トローラ６により流量を調整され、混合器７において低
濃度ガスと混合される。混合器７で所定の倍率に希釈さ
れた低濃度標準ガスは、直接分析機器８に導入される
か、あるいは図示しない所定の容量を持つ容器（キャニ
スタや捕集管など）を介して分析機器８に導入される。
は、様々な方法があるが、その一例を図９を参照して説
明する。すなわち、一定量の有害成分を窒素ガスと混合
（窒素バランス）した濃度既知の低濃度標準ガスは、ガ
ス供給源としての容器１から供給されて減圧弁３を出た
後、マスフローコントローラ５により流量を調整され、
混合器７に導入される。一方、希釈用ガスとしての窒素
ガスは、ガス供給源としての容器２から供給されて減圧
弁４を出た後に加湿器１５によって加湿され、たとえば
３０００〜７０００ｐｐｍの水分を含有したものとされ
る。そして、加湿された希釈用ガスは、マスフローコン
トローラ６により流量を調整され、混合器７において低
濃度ガスと混合される。混合器７で所定の倍率に希釈さ
れた低濃度標準ガスは、直接分析機器８に導入される
か、あるいは図示しない所定の容量を持つ容器（キャニ
スタや捕集管など）を介して分析機器８に導入される。
【０００７】たとえば、キャニスタなどに捕集された一
定容量の低濃度ガスは、必要があれば濃縮される。この
濃縮は、キャニスタ中の低濃度標準ガスの全量を液体窒
素で冷却したトラップに流し、通常、冷却・固化して捕
集された有害成分ガスを今度は加熱しながらキャニスタ
の容量の１／１０、１／５、１／２などの容量の窒素ガ
スを流して濃縮し、別の容器に取る方法により行われて
いる。このようにして得られた種々の既知濃度の低濃度
標準ガスを用いて検量線を作成し、これにより分析機器
８の校正が行われる。
定容量の低濃度ガスは、必要があれば濃縮される。この
濃縮は、キャニスタ中の低濃度標準ガスの全量を液体窒
素で冷却したトラップに流し、通常、冷却・固化して捕
集された有害成分ガスを今度は加熱しながらキャニスタ
の容量の１／１０、１／５、１／２などの容量の窒素ガ
スを流して濃縮し、別の容器に取る方法により行われて
いる。このようにして得られた種々の既知濃度の低濃度
標準ガスを用いて検量線を作成し、これにより分析機器
８の校正が行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、低濃度
標準ガスを減圧弁３，４、マスフローコントローラ５，
６、混合器７、キャニスタ、および各機器を接続する金
属配管Ａ，Ｂ，Ｃなどからなる分析ラインに流した場
合、流し始めてから応答率（分析機器において定量され
る各成分の最大成分濃度を１００とした場合のこれに対
するその瞬間において実際に定量されている各成分濃度
の割合）が１００％に達するまで非常に時間がかかり、
さらに応答率それ自体が不安定であるという問題があっ
た。すなわち、分析機器８を校正するのに多大な時間を
浪費せざるを得なかった。同様な理由から、分析すべき
未知濃度試料を分析装置に供給した場合にも、応答率が
１００％あるいは安定した応答率が得られるまでに多大
な時間を要することがある。
標準ガスを減圧弁３，４、マスフローコントローラ５，
６、混合器７、キャニスタ、および各機器を接続する金
属配管Ａ，Ｂ，Ｃなどからなる分析ラインに流した場
合、流し始めてから応答率（分析機器において定量され
る各成分の最大成分濃度を１００とした場合のこれに対
するその瞬間において実際に定量されている各成分濃度
の割合）が１００％に達するまで非常に時間がかかり、
さらに応答率それ自体が不安定であるという問題があっ
た。すなわち、分析機器８を校正するのに多大な時間を
浪費せざるを得なかった。同様な理由から、分析すべき
未知濃度試料を分析装置に供給した場合にも、応答率が
１００％あるいは安定した応答率が得られるまでに多大
な時間を要することがある。
【０００９】また、低濃度標準ガスは、加湿器１５によ
って比較的に多量の水分（たとえば３０００〜７０００
ｐｐｍ）を含有したものとされているので、分析機器８
に導入される直前に水分を取り除く必要があるといった
問題もある。
って比較的に多量の水分（たとえば３０００〜７０００
ｐｐｍ）を含有したものとされているので、分析機器８
に導入される直前に水分を取り除く必要があるといった
問題もある。
【００１０】本発明は、上記した事情の下で考え出され
たものであって、分析機器を校正するのに、あるいは未
知濃度試料を分析するのに必要とされる時間を短縮する
とともに、分析ラインを簡略化することをその課題とし
ている。
たものであって、分析機器を校正するのに、あるいは未
知濃度試料を分析するのに必要とされる時間を短縮する
とともに、分析ラインを簡略化することをその課題とし
ている。
【００１１】
【課題を解決するための手段および作用】上述したよう
に、容器内壁を純水により吸着処理した後に充填された
低濃度標準ガスは容器内において安定化されていること
は本発明者らによって既に見出されているが、このよう
にして安定化された標準ガスを図９を参照して説明した
ような分析ラインに流すと、上記の問題が解決されると
いう知見が得られた。その原因を追求すると、純水によ
る吸着処理の際に吸着されなかった余剰の水分が低濃度
標準ガス中に含まれており、この微量の水分が分析ライ
ンにおける低濃度標準ガスの安定化に寄与していること
を見出した。また、低濃度標準ガスのみならず、この低
濃度標準ガスを希釈するための窒素ガスやヘリウムガス
等の成分ガスにも高圧容器内で微量の水分を含有させた
場合にも同様の効果があることを見出し、本発明に到達
した。
に、容器内壁を純水により吸着処理した後に充填された
低濃度標準ガスは容器内において安定化されていること
は本発明者らによって既に見出されているが、このよう
にして安定化された標準ガスを図９を参照して説明した
ような分析ラインに流すと、上記の問題が解決されると
いう知見が得られた。その原因を追求すると、純水によ
る吸着処理の際に吸着されなかった余剰の水分が低濃度
標準ガス中に含まれており、この微量の水分が分析ライ
ンにおける低濃度標準ガスの安定化に寄与していること
を見出した。また、低濃度標準ガスのみならず、この低
濃度標準ガスを希釈するための窒素ガスやヘリウムガス
等の成分ガスにも高圧容器内で微量の水分を含有させた
場合にも同様の効果があることを見出し、本発明に到達
した。
【００１２】すなわち、本発明は、ガス供給源から所定
の配管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスの成
分濃度を安定化させる方法であって、上記供給対象ガス
に微量水分を含有させて上記配管内を流すことを特徴と
している。
の配管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスの成
分濃度を安定化させる方法であって、上記供給対象ガス
に微量水分を含有させて上記配管内を流すことを特徴と
している。
【００１３】ところで、容器内壁に純水を吸着させた後
に、低濃度標準ガスなどの供給対象ガスを充填した場合
には、充填された標準ガスが安定に保持されるのは次の
理由によると考えられる。すなわち、容器内壁に吸着さ
れた水分子は熱力学的に安定であるため、後に標準ガス
を充填したとしても、標準ガスが先に吸着された水分子
と入れ替わって吸着されたり、容器内壁と反応すること
がなくなるためであると考えられる。
に、低濃度標準ガスなどの供給対象ガスを充填した場合
には、充填された標準ガスが安定に保持されるのは次の
理由によると考えられる。すなわち、容器内壁に吸着さ
れた水分子は熱力学的に安定であるため、後に標準ガス
を充填したとしても、標準ガスが先に吸着された水分子
と入れ替わって吸着されたり、容器内壁と反応すること
がなくなるためであると考えられる。
【００１４】一方、成分ガス供給源から所定の配管を介
して分析機器へ標準ガスを供給する場合に、分析機器に
おける応答率が１００％になるまで相当の時間を要する
のは、次の理由によるものと考えられる。すなわち、標
準ガスが配管内を流れる間に、標準ガスが配管の内面に
吸着され、吸着平衡状態またはこれに近い状態となるま
では配管内面での吸着が起こるためであると考えられ
る。したがって、標準ガスが配管内面に吸着されやすい
成分ガスを含むものである場合には、吸着平衡状態また
はこれに近い状態となるまでに相当の時間を要し、結
局、分析機器での成分ガスの応答率が１００％となるま
でに相当の時間を要するものと考えられる。
して分析機器へ標準ガスを供給する場合に、分析機器に
おける応答率が１００％になるまで相当の時間を要する
のは、次の理由によるものと考えられる。すなわち、標
準ガスが配管内を流れる間に、標準ガスが配管の内面に
吸着され、吸着平衡状態またはこれに近い状態となるま
では配管内面での吸着が起こるためであると考えられ
る。したがって、標準ガスが配管内面に吸着されやすい
成分ガスを含むものである場合には、吸着平衡状態また
はこれに近い状態となるまでに相当の時間を要し、結
局、分析機器での成分ガスの応答率が１００％となるま
でに相当の時間を要するものと考えられる。
【００１５】上記安定化方法では、配管内を流れる供給
対象ガスが微量水分を含有したものとされているため、
供給対象ガスに含有された水分子が配管の内面に吸着さ
れ、これによって成分ガスが吸着したり、配管の内面と
反応したりするといった可能性が低減されることにな
る。すなわち、上記安定化方法では、供給対象ガスの吸
着によって配管内面が吸着平衡状態に達するのではな
く、主として第３成分である水分子によって吸着平衡状
態に達することとなる。したがって、上記安定化方法で
は、分析機器での成分ガスの応答率が１００％となるま
での時間が大幅に削減され、分析機器の校正に要する時
間が大幅に短縮されることとなる。また、上記供給対象
ガスが成分ガス濃度が未知の試料であっても、分析機器
において安定した応答率が得られるまでの時間が短縮さ
れ、分析時間が短縮されることが期待される。
対象ガスが微量水分を含有したものとされているため、
供給対象ガスに含有された水分子が配管の内面に吸着さ
れ、これによって成分ガスが吸着したり、配管の内面と
反応したりするといった可能性が低減されることにな
る。すなわち、上記安定化方法では、供給対象ガスの吸
着によって配管内面が吸着平衡状態に達するのではな
く、主として第３成分である水分子によって吸着平衡状
態に達することとなる。したがって、上記安定化方法で
は、分析機器での成分ガスの応答率が１００％となるま
での時間が大幅に削減され、分析機器の校正に要する時
間が大幅に短縮されることとなる。また、上記供給対象
ガスが成分ガス濃度が未知の試料であっても、分析機器
において安定した応答率が得られるまでの時間が短縮さ
れ、分析時間が短縮されることが期待される。
【００１６】微量水分が含有された供給対象ガスを配管
内に流す方法としては、上記ガス供給源において微量水
分を含有する供給対象ガスを保持させておき、上記ガス
供給源から上記配管内を微量水分を含有する供給対象ガ
スを流す方法が考えられる（図１に示す第１の実施形態
参照）。この場合、供給対象ガスに水分が含有された状
態で保持されているので、ガス供給源の内壁において
は、水分子が熱力学的に安定して吸着されており、充填
された供給対象ガスの組成変動が回避されることが期待
される。もちろん、先に述べたように、予めガス供給源
の内壁に水分子を吸着させておき、この状態で微量な水
分を含む供給対象ガスを充填しておいてもよい。
内に流す方法としては、上記ガス供給源において微量水
分を含有する供給対象ガスを保持させておき、上記ガス
供給源から上記配管内を微量水分を含有する供給対象ガ
スを流す方法が考えられる（図１に示す第１の実施形態
参照）。この場合、供給対象ガスに水分が含有された状
態で保持されているので、ガス供給源の内壁において
は、水分子が熱力学的に安定して吸着されており、充填
された供給対象ガスの組成変動が回避されることが期待
される。もちろん、先に述べたように、予めガス供給源
の内壁に水分子を吸着させておき、この状態で微量な水
分を含む供給対象ガスを充填しておいてもよい。
【００１７】また、微量水分が含有された供給対象ガス
を配管内に流す別の方法としては、上記配管に水分を定
量的に添加できる装置を連結しておき、この水分添加装
置から供給される一定量の水分によって上記配管内を流
れる供給対象ガスを微量水分が含有されたものとする方
法も考えられる（図２に示した第２の実施形態参照）。
上記水分添加装置としては、たとえばパーミエーション
式水分発生器、水素・酸素燃焼式水分発生器などを利用
したものが挙げられる。
を配管内に流す別の方法としては、上記配管に水分を定
量的に添加できる装置を連結しておき、この水分添加装
置から供給される一定量の水分によって上記配管内を流
れる供給対象ガスを微量水分が含有されたものとする方
法も考えられる（図２に示した第２の実施形態参照）。
上記水分添加装置としては、たとえばパーミエーション
式水分発生器、水素・酸素燃焼式水分発生器などを利用
したものが挙げられる。
【００１８】本発明の供給対象ガスは、各成分の濃度が
既知の低濃度標準ガスや希釈用ガス、またはこれらの混
合ガスを含む概念である。もちろん、上記供給対象ガス
には、濃度が未知の試料も含まれる。
既知の低濃度標準ガスや希釈用ガス、またはこれらの混
合ガスを含む概念である。もちろん、上記供給対象ガス
には、濃度が未知の試料も含まれる。
【００１９】上記低濃度標準ガスとしては、たとえばア
クリロニトリル、１，３−ブタジエン、塩化ビニル、ジ
クロロメタン、クロロフォルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチ
レンなどが挙げられ、これらのうちの１種類を含んでい
るものでも、あるいは複数種類を含んでいるものでもよ
い。とくに、アクリロニトリルを含む低濃度標準ガスの
場合に良好な結果が得られる。また、上記希釈用ガスと
しては、窒素ガスまたはヘリウムガスなどが挙げられ
る。
クリロニトリル、１，３−ブタジエン、塩化ビニル、ジ
クロロメタン、クロロフォルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチ
レンなどが挙げられ、これらのうちの１種類を含んでい
るものでも、あるいは複数種類を含んでいるものでもよ
い。とくに、アクリロニトリルを含む低濃度標準ガスの
場合に良好な結果が得られる。また、上記希釈用ガスと
しては、窒素ガスまたはヘリウムガスなどが挙げられ
る。
【００２０】本発明は、上記低濃度標準ガスを希釈用ガ
スと混合して所望の濃度に希釈してから分析機器に供給
する場合にも適用することができる（図４から図６にそ
れぞれ示す第３から第５の実施形態参照）。この場合に
も、低濃度標準ガスおよび希釈用ガスに微量水分を含有
させた状態でボンベなどの容器に保持しておき、これを
配管内に流すようにしてもよく、また、低濃度標準ガス
および希釈用ガスが配管を流れる間に、水分添加装置に
よって微量水分を含ませてもよい。
スと混合して所望の濃度に希釈してから分析機器に供給
する場合にも適用することができる（図４から図６にそ
れぞれ示す第３から第５の実施形態参照）。この場合に
も、低濃度標準ガスおよび希釈用ガスに微量水分を含有
させた状態でボンベなどの容器に保持しておき、これを
配管内に流すようにしてもよく、また、低濃度標準ガス
および希釈用ガスが配管を流れる間に、水分添加装置に
よって微量水分を含ませてもよい。
【００２１】本発明においては、上記供給対象ガスの微
量水分含有量は、特に限定されないが、たとえば１０ｐ
ｐｍ〜２００ｐｐｍとするのが好ましい。これは、水分
の含有量が１０ｐｐｍより少ないと配管内を流れる供給
対象ガスの安定化効果が十分でなく、２００ｐｐｍより
も多いと却って分析機器における分析結果に悪い影響を
与えるためである。
量水分含有量は、特に限定されないが、たとえば１０ｐ
ｐｍ〜２００ｐｐｍとするのが好ましい。これは、水分
の含有量が１０ｐｐｍより少ないと配管内を流れる供給
対象ガスの安定化効果が十分でなく、２００ｐｐｍより
も多いと却って分析機器における分析結果に悪い影響を
与えるためである。
【００２２】このように本発明では、配管内を流される
供給対象ガスの水分含有量が、分析機器における分析結
果に悪い影響を与えない範囲とされているので、分析機
器に導入する前に供給対象ガスから水分を除去する必要
がないと利点が得られる。
供給対象ガスの水分含有量が、分析機器における分析結
果に悪い影響を与えない範囲とされているので、分析機
器に導入する前に供給対象ガスから水分を除去する必要
がないと利点が得られる。
【００２３】また、上記供給対象ガスの流量は、１ｃｍ
3 ／ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎとするのが好ましい。
3 ／ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎとするのが好ましい。
【００２４】本発明はさらに、ガス供給源から所定の配
管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスであっ
て、微量の水分を含有することを特徴とする、微量水分
含有供給対象ガスをも提供するものである。
管を介して分析機器へ供給される供給対象ガスであっ
て、微量の水分を含有することを特徴とする、微量水分
含有供給対象ガスをも提供するものである。
【００２５】本発明のその他の特徴および利点は、添付
図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明
らかとなろう。
図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明
らかとなろう。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を、図面を参照して具体的に説明する。
態を、図面を参照して具体的に説明する。
【００２７】図１は、本発明の第１の実施形態に係る供
給対象ガスの成分濃度安定方法を説明するための概念図
である。
給対象ガスの成分濃度安定方法を説明するための概念図
である。
【００２８】図１に示すように、本実施形態では、低濃
度標準ガスが容器１に保持されており、これが分析機器
８に供給されて分析機器８が校正されるようになされて
いる場合において、供給対象となる低濃度標準ガスの成
分濃度を安定化する方法について説明する。
度標準ガスが容器１に保持されており、これが分析機器
８に供給されて分析機器８が校正されるようになされて
いる場合において、供給対象となる低濃度標準ガスの成
分濃度を安定化する方法について説明する。
【００２９】容器１と分析機器８の間は金属配管Ｄで接
続されており、金属配管Ｄには、減圧弁３およびマスフ
ローコントローラ５がそれぞれ配置されている。なお、
金属配管Ｄは、たとえばＳＵＳ、鋳鉄、銅、アルミニウ
ムなどの各種の金属によって構成される。
続されており、金属配管Ｄには、減圧弁３およびマスフ
ローコントローラ５がそれぞれ配置されている。なお、
金属配管Ｄは、たとえばＳＵＳ、鋳鉄、銅、アルミニウ
ムなどの各種の金属によって構成される。
【００３０】このような構成では、容器１内に保持され
た低濃度標準ガスは、金属配管Ｄ内を通ってガスクロマ
トグラフなどの分析機器８に直接導入され、あるいは従
来例において説明したようにキュニスタ（図示略）に採
取されて検量線の作成に用いられる。このとき、減圧弁
３によって減圧され、流量がマスフローコントローラ５
によって調整される。なお、低濃度標準ガスの流量は、
たとえば１ｃｍ3 ／ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎに調整
される。
た低濃度標準ガスは、金属配管Ｄ内を通ってガスクロマ
トグラフなどの分析機器８に直接導入され、あるいは従
来例において説明したようにキュニスタ（図示略）に採
取されて検量線の作成に用いられる。このとき、減圧弁
３によって減圧され、流量がマスフローコントローラ５
によって調整される。なお、低濃度標準ガスの流量は、
たとえば１ｃｍ3 ／ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎに調整
される。
【００３１】低濃度標準ガスは、通常、各成分ガスの濃
度が０．００５〜１００ｐｐｍ、圧力が１ＭＰａ（約１
０Ｋｇ／ｃｍ2 ）〜１５ＭＰａ（約１５０Ｋｇ／ｃ
ｍ2 ）とされ、微量の水分を含有した状態で容器１内に
充填されている。すなわち、低濃度標準ガスは、微量水
分が含有された状態で金属配管Ｄ内を流される。これが
本発明の最大の特徴である。
度が０．００５〜１００ｐｐｍ、圧力が１ＭＰａ（約１
０Ｋｇ／ｃｍ2 ）〜１５ＭＰａ（約１５０Ｋｇ／ｃ
ｍ2 ）とされ、微量の水分を含有した状態で容器１内に
充填されている。すなわち、低濃度標準ガスは、微量水
分が含有された状態で金属配管Ｄ内を流される。これが
本発明の最大の特徴である。
【００３２】ところで、低濃度標準ガスの水分の含有量
は、１０〜２００ｐｐｍとされる。これは、水分の含有
量が１０ｐｐｍより少ないと配管Ｄ内を流れる低濃度標
準ガスの安定化効果が十分でなく、２００ｐｐｍよりも
多いと却って分析機器８における分析結果に悪い影響を
与えるため好ましくないからである。
は、１０〜２００ｐｐｍとされる。これは、水分の含有
量が１０ｐｐｍより少ないと配管Ｄ内を流れる低濃度標
準ガスの安定化効果が十分でなく、２００ｐｐｍよりも
多いと却って分析機器８における分析結果に悪い影響を
与えるため好ましくないからである。
【００３３】なお、本発明の方法が適用される低濃度標
準ガスは、成分ガスとしてアクリロニトリル、１，３−
ブタジエン、塩化ビニル、ジクロロメタン、クロロフォ
ルム、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレンなどを含むものであ
る。とくに、アクリロニトリルを含む低濃度標準ガスを
用いた場合に良好な結果が得られる。
準ガスは、成分ガスとしてアクリロニトリル、１，３−
ブタジエン、塩化ビニル、ジクロロメタン、クロロフォ
ルム、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレンなどを含むものであ
る。とくに、アクリロニトリルを含む低濃度標準ガスを
用いた場合に良好な結果が得られる。
【００３４】上記供給方法では、上記金属配管Ｄ内を流
される低濃度標準ガスが微量水分を含有したものとされ
ているため、上記金属配管Ｄの内面に低濃度標準ガスに
含有された水分子が吸着され、これによって低濃度標準
ガス（成分ガス）が吸着したり、金属配管Ｄの内面と反
応したりするといった可能性が低減されることになる。
すなわち、上記安定化方法では、成分ガスの吸着によっ
て金属配管Ｄの内面が吸着平衡状態に達するのではな
く、主として第３成分である水分子によって吸着平衡状
態に達することとなる。したがって、上記安定化方法で
は、分析機器８での各成分ガスの応答率が１００％とな
るまで時間が大幅に削減され、分析機器８の校正に要す
る時間が大幅に短縮されることとなる。
される低濃度標準ガスが微量水分を含有したものとされ
ているため、上記金属配管Ｄの内面に低濃度標準ガスに
含有された水分子が吸着され、これによって低濃度標準
ガス（成分ガス）が吸着したり、金属配管Ｄの内面と反
応したりするといった可能性が低減されることになる。
すなわち、上記安定化方法では、成分ガスの吸着によっ
て金属配管Ｄの内面が吸着平衡状態に達するのではな
く、主として第３成分である水分子によって吸着平衡状
態に達することとなる。したがって、上記安定化方法で
は、分析機器８での各成分ガスの応答率が１００％とな
るまで時間が大幅に削減され、分析機器８の校正に要す
る時間が大幅に短縮されることとなる。
【００３５】また、本実施形態では、金属配管Ｄ内を流
れる低濃度標準ガスに微量水分が含有されているので、
加湿器や水分添加装置によって低濃度成分ガスに微量水
分を含有させるといった操作が不要となる。その結果、
低濃度標準ガスに微量水分を含有させるために、ガス流
れに一定量の水をコンスタントに添加するという煩雑な
操作を省略することができる。
れる低濃度標準ガスに微量水分が含有されているので、
加湿器や水分添加装置によって低濃度成分ガスに微量水
分を含有させるといった操作が不要となる。その結果、
低濃度標準ガスに微量水分を含有させるために、ガス流
れに一定量の水をコンスタントに添加するという煩雑な
操作を省略することができる。
【００３６】さらに、低濃度標準ガスの水分含有量が、
分析機器８における分析結果に悪い影響を与えない範囲
（２００ｐｐｍ以下）とされているので、分析機器８に
導入される前に低濃度標準ガスから水分を除去する必要
がないといった利点が得られる。
分析機器８における分析結果に悪い影響を与えない範囲
（２００ｐｐｍ以下）とされているので、分析機器８に
導入される前に低濃度標準ガスから水分を除去する必要
がないといった利点が得られる。
【００３７】なお、容器１としては、アルミニウム合金
製容器、マンガン鋼製内面研磨容器などが用いられる。
また、減圧弁３は、低濃度標準ガスが汚染されないよう
な清浄度の高いものが用いられる。
製容器、マンガン鋼製内面研磨容器などが用いられる。
また、減圧弁３は、低濃度標準ガスが汚染されないよう
な清浄度の高いものが用いられる。
【００３８】もちろん、図２に示した第２の実施形態の
ように、低濃度標準ガスを分析機器８に供給する過程に
おいて、水分添加装置９によって低濃度標準ガスに水分
を含有させて配管Ｄ内に微量水分を含有する成分ガスを
流すようになされたものも本発明の適用範囲であるのは
いうまでもない。なお、水分添加装置９としては、パー
ミエーション式水分発生器や水素・酸素燃焼式水分発生
器などが採用される。
ように、低濃度標準ガスを分析機器８に供給する過程に
おいて、水分添加装置９によって低濃度標準ガスに水分
を含有させて配管Ｄ内に微量水分を含有する成分ガスを
流すようになされたものも本発明の適用範囲であるのは
いうまでもない。なお、水分添加装置９としては、パー
ミエーション式水分発生器や水素・酸素燃焼式水分発生
器などが採用される。
【００３９】ここで、上記水分添加装置９としてのパー
ミエーション水分発生器の構成を図３を参照しつつ簡単
に説明する。このパーミエーション水分発生器９は、筒
状とされた中空部材１１内に、その内部に液体水分１４
が収容されたテフロンチューブ１２が保持された構成と
されている。上記中空部材１１の下部には、その内部に
気体（低濃度標準ガス）を供給するための気体入口１１
ａが形成されており、その上部には気体を外部に排出す
るための気体出口１１ｂが形成されている。一方、上記
テフロンチューブ１２は、上記筒状部材１１よりも小径
とされており、上記中空部材１１の内面と上記テフロン
チューブ１２の外面との間に、上記気体入口１１ａおよ
び気体出口１１ｂと連通する気体流路としての空間１３
を形成した状態で保持されている。
ミエーション水分発生器の構成を図３を参照しつつ簡単
に説明する。このパーミエーション水分発生器９は、筒
状とされた中空部材１１内に、その内部に液体水分１４
が収容されたテフロンチューブ１２が保持された構成と
されている。上記中空部材１１の下部には、その内部に
気体（低濃度標準ガス）を供給するための気体入口１１
ａが形成されており、その上部には気体を外部に排出す
るための気体出口１１ｂが形成されている。一方、上記
テフロンチューブ１２は、上記筒状部材１１よりも小径
とされており、上記中空部材１１の内面と上記テフロン
チューブ１２の外面との間に、上記気体入口１１ａおよ
び気体出口１１ｂと連通する気体流路としての空間１３
を形成した状態で保持されている。
【００４０】すなわち、上記入口１１ａから供給された
低濃度標準ガスが、上記空間１３を通過して上記出口１
１ｂから排出されるようになされている。ところで、上
記テフロンチューブ１２は水蒸気を透過し、液体水分を
透過しないようになされている。このため、上記出口１
１ｂから排出される低濃度標準ガスは、テフロンチュー
ブ１２からの水蒸気が同伴され、所定量の水分を含有し
たものとされる。
低濃度標準ガスが、上記空間１３を通過して上記出口１
１ｂから排出されるようになされている。ところで、上
記テフロンチューブ１２は水蒸気を透過し、液体水分を
透過しないようになされている。このため、上記出口１
１ｂから排出される低濃度標準ガスは、テフロンチュー
ブ１２からの水蒸気が同伴され、所定量の水分を含有し
たものとされる。
【００４１】次に、本発明の第３の実施形態に係る供給
対象ガスの成分濃度安定方法を図４を参照しつつ簡単に
説明する。すなわち、本実施形態では、容器１には低濃
度標準ガスが保持されており、容器２には希釈用ガスが
保持されており、両容器１，２からの低濃度標準ガスお
よび希釈用ガスとが混合器７において混合されて所望の
濃度に希釈され、これが分析機器８に供給されるように
なされている。なお、低濃度標準ガスおよび希釈用ガス
は、微量の水分を含有した状態で各容器１，２に保持さ
れているものとする。
対象ガスの成分濃度安定方法を図４を参照しつつ簡単に
説明する。すなわち、本実施形態では、容器１には低濃
度標準ガスが保持されており、容器２には希釈用ガスが
保持されており、両容器１，２からの低濃度標準ガスお
よび希釈用ガスとが混合器７において混合されて所望の
濃度に希釈され、これが分析機器８に供給されるように
なされている。なお、低濃度標準ガスおよび希釈用ガス
は、微量の水分を含有した状態で各容器１，２に保持さ
れているものとする。
【００４２】容器１と混合器７の間、および容器２と混
合器７の間が所定の金属配管Ａ，Ｂによってそれぞれ接
続されており、各金属配管Ａ，Ｂには、減圧弁３，４お
よびマスフローコントローラ５，６がそれぞれ配置され
ている。また、混合器７と分析機器８の間も金属配管Ｃ
によって接続されている。
合器７の間が所定の金属配管Ａ，Ｂによってそれぞれ接
続されており、各金属配管Ａ，Ｂには、減圧弁３，４お
よびマスフローコントローラ５，６がそれぞれ配置され
ている。また、混合器７と分析機器８の間も金属配管Ｃ
によって接続されている。
【００４３】このような構成では、容器１内に保持され
た低濃度標準ガスは、金属配管Ａ内を通って混合器７に
供給されるが、このとき減圧弁３によって減圧され、流
量がマスフローコントローラ５によって調整される。
た低濃度標準ガスは、金属配管Ａ内を通って混合器７に
供給されるが、このとき減圧弁３によって減圧され、流
量がマスフローコントローラ５によって調整される。
【００４４】一方、希釈用ガスも同様に、希釈用ガスが
保持された容器２から減圧弁４を介して混合器７に供給
されるが、希釈用ガスの流量はマスフローコントローラ
６によって調整される。
保持された容器２から減圧弁４を介して混合器７に供給
されるが、希釈用ガスの流量はマスフローコントローラ
６によって調整される。
【００４５】なお、低濃度標準ガスおよび希釈用ガスの
流量は、第１の実施形態と同様に、たとえば１ｃｍ3 ／
ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎとされるが、希釈用ガスの
流量は低濃度標準ガスに対する希釈率によって決定され
る。
流量は、第１の実施形態と同様に、たとえば１ｃｍ3 ／
ｍｉｎ〜２０ｄｍ3 ／ｍｉｎとされるが、希釈用ガスの
流量は低濃度標準ガスに対する希釈率によって決定され
る。
【００４６】希釈用ガスとしては、窒素ガスやヘリウム
ガスなどが用いられる。希釈用ガスも低濃度標準ガスと
同様に１ＭＰａ（約１０Ｋｇ／ｃｍ2 ）〜１５ＭＰａ
（約１５０Ｋｇ／ｃｍ2 ）の圧力で充填し、水分の含有
量も前記と同じ理由で１０〜２００ｐｐｍとするのが好
ましい。
ガスなどが用いられる。希釈用ガスも低濃度標準ガスと
同様に１ＭＰａ（約１０Ｋｇ／ｃｍ2 ）〜１５ＭＰａ
（約１５０Ｋｇ／ｃｍ2 ）の圧力で充填し、水分の含有
量も前記と同じ理由で１０〜２００ｐｐｍとするのが好
ましい。
【００４７】上述したように、各マスフローコントロー
ラ５，６によって流量が調整された低濃度標準ガスおよ
び希釈用ガスは、混合器７において混合される。このと
き、マスフローコントローラ５，６によって低濃度標準
ガスおよび希釈用ガスのそれぞれの流量を調整して混合
することにより、所定の濃度の低濃度標準ガスとされ
る。かくして得られた低濃度標準ガスは、ガスクロマト
グラフなどの分析機器８に直接導入され、あるいは従来
例において述べたようにキュニスタ（図示略）に採取さ
れて検量線の作成に用いられる。
ラ５，６によって流量が調整された低濃度標準ガスおよ
び希釈用ガスは、混合器７において混合される。このと
き、マスフローコントローラ５，６によって低濃度標準
ガスおよび希釈用ガスのそれぞれの流量を調整して混合
することにより、所定の濃度の低濃度標準ガスとされ
る。かくして得られた低濃度標準ガスは、ガスクロマト
グラフなどの分析機器８に直接導入され、あるいは従来
例において述べたようにキュニスタ（図示略）に採取さ
れて検量線の作成に用いられる。
【００４８】上記供給方法でも、上記各金属配管Ａ，
Ｂ，Ｃ内を流される低濃度標準ガスおよび希釈用ガスが
微量水分を含有したものとされているため、分析機器８
での各成分ガスの応答率が１００％となるまで時間が大
幅に削減され、分析機器８の校正に要する時間が大幅に
短縮されることとなる。また、低濃度標準ガスおよび希
釈用ガスの水分含有量が１０〜２００ｐｐｍとされてい
るので、分析機器８に導入する前に低濃度標準ガスと希
釈用ガスの混合ガスから水分を除去する必要はない。
Ｂ，Ｃ内を流される低濃度標準ガスおよび希釈用ガスが
微量水分を含有したものとされているため、分析機器８
での各成分ガスの応答率が１００％となるまで時間が大
幅に削減され、分析機器８の校正に要する時間が大幅に
短縮されることとなる。また、低濃度標準ガスおよび希
釈用ガスの水分含有量が１０〜２００ｐｐｍとされてい
るので、分析機器８に導入する前に低濃度標準ガスと希
釈用ガスの混合ガスから水分を除去する必要はない。
【００４９】もちろん、図５に示した第４の実施形態の
ように、低濃度標準ガスおよび希釈用ガスを混合器７に
供給する過程において、水分添加装置９，１０などによ
って低濃度標準ガスおよび希釈用ガスのそれぞれに水分
を含有させて金属配管Ａ，Ｂ，Ｃ内を流すようにしたも
のでもよいのはいうまでもない。なお、水分添加装置
９，１０としては、第２の実施形態と同様に、パーミエ
ーション式水分発生器や水素・酸素燃焼式水分発生器な
どが好適に採用される。
ように、低濃度標準ガスおよび希釈用ガスを混合器７に
供給する過程において、水分添加装置９，１０などによ
って低濃度標準ガスおよび希釈用ガスのそれぞれに水分
を含有させて金属配管Ａ，Ｂ，Ｃ内を流すようにしたも
のでもよいのはいうまでもない。なお、水分添加装置
９，１０としては、第２の実施形態と同様に、パーミエ
ーション式水分発生器や水素・酸素燃焼式水分発生器な
どが好適に採用される。
【００５０】また、図６に示す第５の実施形態のよう
に、希釈用ガスのみが水分添加装置１０によって微量水
分が含有されられるようにしてもよく、この場合の低濃
度標準ガスは、予め微量水分が含有された状態で容器１
内に保持されている。逆に、低濃度標準ガスのみが水分
添加装置によって微量水分を含有させるようにし、希釈
用ガスは予め微量水分を含有したものとしておいてもよ
い。
に、希釈用ガスのみが水分添加装置１０によって微量水
分が含有されられるようにしてもよく、この場合の低濃
度標準ガスは、予め微量水分が含有された状態で容器１
内に保持されている。逆に、低濃度標準ガスのみが水分
添加装置によって微量水分を含有させるようにし、希釈
用ガスは予め微量水分を含有したものとしておいてもよ
い。
【００５１】なお、上述したいずれの実施形態において
も、低濃度標準ガスを用いて分析機器を校正する場合に
ついて説明したが、本発明は濃度が未知の試料を分析機
器に供給する場合にも適用できる。すなわち、微量水分
が含有された分析試料に所定の配管内を流して分析機器
に供給して分析する場合においても、分析機器において
測定される応答率が安定化するまでに要する時間、言い
換えれば分析時間が短縮されることが期待される。
も、低濃度標準ガスを用いて分析機器を校正する場合に
ついて説明したが、本発明は濃度が未知の試料を分析機
器に供給する場合にも適用できる。すなわち、微量水分
が含有された分析試料に所定の配管内を流して分析機器
に供給して分析する場合においても、分析機器において
測定される応答率が安定化するまでに要する時間、言い
換えれば分析時間が短縮されることが期待される。
【００５２】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施例により何
ら限定されるものではない。
明するが、本発明の技術範囲はこれらの実施例により何
ら限定されるものではない。
【００５３】
【実施例１】本実施例では、上述した第１の実施形態の
方法によって成分濃度が安定化された低濃度標準ガスが
分析機器に供給される（図１参照）。すなわち、長さ１
００ｃｍのＳＵＳ−３１６Ｌの配管Ｄ、減圧弁３、マス
フローコントローラ５などを含む分析ラインに、アクリ
ロニトリル、塩化ビニル、１，３−ブタジエン、ジクロ
ロメタンを各々１ｐｐｍ（窒素バランス）、純水７０ｐ
ｐｍを含む低濃度標準ガスを直接水素炎イオン型検出器
（ＦＩＤ）付ガスクロマトグラフ８に供給して分析し
た。マスフローコントローラ５によって低濃度標準ガス
の流量を１５０ｃｍ3 ／ｍｉｎに調整した場合の結果を
図７に示すが、低濃度ガスを流し始めてから数分程度で
応答率が１００％に達した。
方法によって成分濃度が安定化された低濃度標準ガスが
分析機器に供給される（図１参照）。すなわち、長さ１
００ｃｍのＳＵＳ−３１６Ｌの配管Ｄ、減圧弁３、マス
フローコントローラ５などを含む分析ラインに、アクリ
ロニトリル、塩化ビニル、１，３−ブタジエン、ジクロ
ロメタンを各々１ｐｐｍ（窒素バランス）、純水７０ｐ
ｐｍを含む低濃度標準ガスを直接水素炎イオン型検出器
（ＦＩＤ）付ガスクロマトグラフ８に供給して分析し
た。マスフローコントローラ５によって低濃度標準ガス
の流量を１５０ｃｍ3 ／ｍｉｎに調整した場合の結果を
図７に示すが、低濃度ガスを流し始めてから数分程度で
応答率が１００％に達した。
【００５４】
【実施例２】実施例１において、低濃度標準ガス中に含
有する純水の量を１５０ｐｐｍとした以外は同様にして
分析を行った。分析結果は実施例１と略同様であった。
有する純水の量を１５０ｐｐｍとした以外は同様にして
分析を行った。分析結果は実施例１と略同様であった。
【００５５】
【実施例３】実施例１で用いたのと同じ低濃度標準ガス
を、当初より純水７０ｐｐｍを含有する窒素ガスを用い
て希釈し、上記各成分の濃度を０．５ｐｐｍとして分析
した。すなわち、図４を参照して説明した第３の実施形
態の方法によって成分濃度が安定化された状態でガスク
ロマトグラフ８に低濃度標準ガスを供給し、これをガス
クロマトグラフ８で分析したところ、図７と略同様な結
果が得られた。すなわち、低濃度標準ガスを流し始めて
から数分程度で応答率が１００％に達した。
を、当初より純水７０ｐｐｍを含有する窒素ガスを用い
て希釈し、上記各成分の濃度を０．５ｐｐｍとして分析
した。すなわち、図４を参照して説明した第３の実施形
態の方法によって成分濃度が安定化された状態でガスク
ロマトグラフ８に低濃度標準ガスを供給し、これをガス
クロマトグラフ８で分析したところ、図７と略同様な結
果が得られた。すなわち、低濃度標準ガスを流し始めて
から数分程度で応答率が１００％に達した。
【００５６】
【実施例４】実施例１で用いたのと同じ低濃度標準ガス
を、水分添加装置としてのパーミエーション式水分発生
器１０を用いて水分濃度が７０ｐｐｍになるように微量
水分を添加した窒素ガスを用いて希釈し、上記各成分の
濃度を０．５ｐｐｍとした（図６に示す第５の実施形態
参照）。得られたガスを実施例１と同様にして分析した
ところ、図７と略同様な結果が得られた。
を、水分添加装置としてのパーミエーション式水分発生
器１０を用いて水分濃度が７０ｐｐｍになるように微量
水分を添加した窒素ガスを用いて希釈し、上記各成分の
濃度を０．５ｐｐｍとした（図６に示す第５の実施形態
参照）。得られたガスを実施例１と同様にして分析した
ところ、図７と略同様な結果が得られた。
【００５７】
【比較例１】実施例１において、低濃度標準ガス中に純
水を含有することなしにし、それ以外の条件は実施例１
と同様にして分析を行った。その結果を図８に示すが、
アクリロニトリルの応答率が１００％に達するのに略９
０分を要した。
水を含有することなしにし、それ以外の条件は実施例１
と同様にして分析を行った。その結果を図８に示すが、
アクリロニトリルの応答率が１００％に達するのに略９
０分を要した。
【００５８】
【発明の効果】アクリロニトリルを含む低濃度標準ガス
または該低濃度標準ガスと希釈用の窒素ガス両方に微量
水分を含有させることにより、金属配管や減圧弁などを
含むガス供給路内における低濃度標準ガスがガスを流し
始めて直後に安定化された。
または該低濃度標準ガスと希釈用の窒素ガス両方に微量
水分を含有させることにより、金属配管や減圧弁などを
含むガス供給路内における低濃度標準ガスがガスを流し
始めて直後に安定化された。
【００５９】その結果、ＧＣ（ガスクロマトグラフ）で
の応答率が１００％に達するまでの時間が短縮され、分
析時間、分析精度の向上を図ることができた。
の応答率が１００％に達するまでの時間が短縮され、分
析時間、分析精度の向上を図ることができた。
【図１】本発明の第１の実施形態に係る供給対象ガスの
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る供給対象ガスの
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
【図３】上記第２の実施形態において使用される水分添
加装置としてのパーミエーション水分発生器を説明する
ための模式図である。
加装置としてのパーミエーション水分発生器を説明する
ための模式図である。
【図４】本発明の第３の実施形態に係る供給対象ガスの
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
【図５】本発明の第４の実施形態に係る供給対象ガスの
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
【図６】本発明の第５の実施形態に係る供給対象ガスの
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
成分濃度安定化方法を説明するための概念図である。
【図７】実施例１の結果を表すグラフである。
【図８】比較例１の結果を表すグラフである。
【図９】従来例を説明するための図である。
【符号の説明】 １，２ 容器 ３，４ 減圧弁 ５，６ マスフローコントローラ ７ 混合器 ８ 分析機器 ９，１０ 水分添加装置 １１ 中空部材（水分添加装置としてのパーミエーショ
ン式水分発生器の） １１ａ 入口（中空部材に形成された） １１ｂ 出口（中空部材に形成された） １２ テフロンチューブ（パーミエーション式水分発生
器の） １３ 空間（気体流路としての） １４ 液体水分（テフロンチューブ内に収容された） １５ 加湿器（従来例の） Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ 金属配管
ン式水分発生器の） １１ａ 入口（中空部材に形成された） １１ｂ 出口（中空部材に形成された） １２ テフロンチューブ（パーミエーション式水分発生
器の） １３ 空間（気体流路としての） １４ 液体水分（テフロンチューブ内に収容された） １５ 加湿器（従来例の） Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄ 金属配管
Claims (11)
- 【請求項１】 ガス供給源から所定の配管を介して分析
機器へ供給される供給対象ガスの成分濃度を安定化させ
る方法であって、 上記供給対象ガスに微量水分を含有させて上記配管内を
流すことを特徴とする、供給対象ガスの成分濃度安定化
方法。 - 【請求項２】 上記ガス供給源において微量水分を含有
する供給対象ガスを保持させておき、上記ガス供給源か
ら上記配管内に微量水分を含有する供給対象ガスを流
す、請求項１に記載の安定化方法。 - 【請求項３】 上記配管には、水分添加装置が連結され
ており、この水分添加装置から供給される水分によって
上記配管内を流れる供給対象ガスが微量水分を含有した
ものとされる、請求項１に記載の安定化方法。 - 【請求項４】 上記供給対象ガスは、各成分の濃度が既
知の低濃度標準ガスを含む、請求項１ないし３のいずれ
か１つに記載の安定化方法。 - 【請求項５】 上記低濃度標準ガスは、アクリロニトリ
ルを含む、請求項４に記載の安定化方法。 - 【請求項６】 上記供給対象ガスは、希釈用ガスを含
む、請求項１ないし３のいずれか１つに記載の安定化方
法。 - 【請求項７】 上記供給対象ガスは、各成分の濃度が既
知の低濃度標準ガスおよび希釈用ガスを含む、請求項１
ないし３のいずれかに記載の安定化方法。 - 【請求項８】 上記希釈用ガスとして窒素ガスまたはヘ
リウムガスを用いる、請求項６または７に記載の安定化
方法。 - 【請求項９】 上記供給対象ガスの微量水分含有量は、
１０ｐｐｍから２００ｐｐｍである、請求項１ないし８
のいずれか１つに記載の安定化方法。 - 【請求項１０】 上記供給対象ガスの流量は、１ｃｍ3
／ｍｉｎ〜２０ｄｍ 3 ／ｍｉｎである、請求項１ないし
９のいずれか１つに記載の安定化方法。 - 【請求項１１】 ガス供給源から所定の配管を介して分
析機器へ供給される供給対象ガスであって、微量の水分
を含有することを特徴とする、微量水分含有供給対象ガ
ス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10095589A JPH11295196A (ja) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | 供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガス |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10095589A JPH11295196A (ja) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | 供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガス |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11295196A true JPH11295196A (ja) | 1999-10-29 |
Family
ID=14141776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10095589A Pending JPH11295196A (ja) | 1998-04-08 | 1998-04-08 | 供給対象ガスの成分濃度安定化方法、この方法に用いられる微量水分含有供給対象ガス |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11295196A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007010313A (ja) * | 2005-06-28 | 2007-01-18 | Shimadzu Corp | におい測定方法 |
| CN107608300A (zh) * | 2017-08-11 | 2018-01-19 | 安徽省碧水电子技术有限公司 | 烟气自动监控系统及其方法 |
Citations (9)
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| JPH09243537A (ja) * | 1996-03-08 | 1997-09-19 | Yokogawa Electric Corp | ガス測定装置 |
-
1998
- 1998-04-08 JP JP10095589A patent/JPH11295196A/ja active Pending
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