JPH11307391A - 電子部品用端子電極及び電子部品 - Google Patents

電子部品用端子電極及び電子部品

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JPH11307391A
JPH11307391A JP10112432A JP11243298A JPH11307391A JP H11307391 A JPH11307391 A JP H11307391A JP 10112432 A JP10112432 A JP 10112432A JP 11243298 A JP11243298 A JP 11243298A JP H11307391 A JPH11307391 A JP H11307391A
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邦彦 浜田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 外側にメッキ層を形成した場合であっても、
メッキ液の電子部品素体への侵入を抑制することがで
き、かつ電子部品素体の電気的・機械的特性の低下が生
じ難い電子部品用端子電極を得る。 【解決手段】 ガラスフリット含有導電ペーストの焼き
付けにより形成される電子部品用端子電極において、電
子部品素体としてのセラミック焼結体2の外表面に、順
に形成された第1〜第3の電極層4a〜4c,5a〜5
cを有し、第2の電極層4b,5bのガラス含有率が、
第1,第3の電極層4a,4c,5a,5cのガラス含
有率よりも高くされている端子電極4,5。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば積層コンデ
ンサなどの電子部品に用いられ、導電ペーストの塗布・
焼き付けにより形成される端子電極及び該端子電極を用
いた電子部品に関し、より詳細には、複数の電極層を積
層してなる構造を有する電子部品用端子電極及び該端子
電極を用いた電子部品に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電子部品の外部接続用端子電極
は、通常、導電ペーストの塗布・焼き付けにより形成さ
れていた。この種の導電ペーストは、AgやAg−Pd
などの金属粉末と、ガラスフリットと、有機バインダ樹
脂と、溶剤とを含む。従来の導電ペーストの塗布・焼き
付けにより形成されている電子部品用端子電極の一例
を、図2及び図3を参照して説明する。
【0003】図2は、従来の端子電極が形成された積層
コンデンサの一例を示す断面図である。積層コンデンサ
11は、誘電体セラミックスよりなるセラミック焼結体
12を用いて構成されている。セラミック焼結体12内
には、内部電極13a〜13fがセラミック層を介して
重なり合うように配置されている。内部電極13a,1
3c,13eは、端面12aに、内部電極13b,13
d,13fは、端面12aと対向している他方の端面1
2bに引き出されている。
【0004】端面12a,12bを覆うように端子電極
14,15がそれぞれ形成されている。端子電極14,
15は、Agなどの金属粉末を含む導電ペーストの塗布
・焼き付けにより形成された電極層14a,15aと、
電極層14a,15a上に形成されており、かつ電極層
14a,15aの半田食われを防止するためのNiメッ
キ層14b,15bと、最外側に形成されており、かつ
半田付け性を高めるためのSnメッキ層14c,15c
とを有する。
【0005】上述したように、電極層14a,15a
は、ガラスフリット含有導電ペーストの塗布・焼き付け
により形成されている。ところが、使用するガラスフリ
ットの耐メッキ液溶解性が低い場合には、メッキ層14
b,14c,15b,15cの形成に際し、メッキ液が
セラミック焼結体12内に、内部電極が引き出されてい
る部分から侵入し、電気的特性や機械的特性の低下を招
くという問題があった。逆に、耐メッキ液溶解性が高い
ガラスフリットを用いた場合には、電極層14a,15
aの外側表面において、Niメッキ層14b,15bを
確実に付着させることができず、Niメッキ層14b,
15bの付着状態が不安定になるという問題があった。
【0006】そこで、図3に示す積層コンデンサのよう
に、導電ペーストの塗布・焼き付けにより形成される電
極層が2層構造とされている端子電極が提案されてい
る。図3に示す積層コンデンサ21では、端子電極2
4,25は、それぞれ、端面12a,12bを覆うよう
に形成されており、かつガラスを相対的に多く含有する
電極層24a,25aと、電極層24a,25a上に形
成されており、相対的にガラスが少なく含有されている
電極層24b,25bと、電極層24b,25b上に形
成されておりかつ電極層24a,24b,25a,25
bの半田食われを防止するためのNiメッキ層24c,
25cと、最外側層に形成されており、半田付け性を高
めるためのSnメッキ層24d,25dとを有する。
【0007】ここでは、端面12a,12bに直接接触
される電極層24a,25aにガラスを相対的に多く含
有させておき、それによって電極層24a,25aによ
るシール性を高め、Niメッキ層24c,25cやSn
メッキ層24d,25dの形成に際してのメッキ液のセ
ラミック焼結体12内への侵入を防止している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記端
子電極24,25では、セラミック焼結体12の端面1
2a,12bと電極層24a,25aに含まれているガ
ラスとが過剰に反応し、すなわちガラス成分がセラミッ
ク焼結体12内に拡散し、セラミック焼結体12が脆く
なったり、クラックが発生したりし、セラミック焼結体
12の機械的特性が低下するという問題があった。加え
て、端子電極24,25のセラミック焼結体12に対す
る接合強度が低下し、端子電極24,25が剥がれるこ
ともあった。
【0009】本発明の目的は、外側面にメッキ層を形成
した場合のメッキ液の侵入による電子部品素体の電気的
・機械的特性の劣化が生じ難く、かつ強固なメッキ付き
性が得られる電子部品用端子電極及び該電子部品用端子
電極を用いた電子部品を提供することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、ガラスフリット含有導電ペーストの焼き付けにより
形成される電子部品用端子電極であって、電子部品素体
面に順に形成された第1〜第3の電極層を有し、第2の
電極層のガラス含有率が第1,第3の電極層のガラス含
有率よりも高くされていることを特徴とする。
【0011】請求項2に記載の発明では、前記第2の電
極層のガラス含有率が15〜90体積%の範囲とされて
いる。請求項3に記載の発明では、前記第2の電極層の
膜厚が2〜150μmの範囲とされている。
【0012】請求項4に記載の発明に係る電子部品は、
セラミックスを主体とする電子部品素体の外表面に、請
求項1〜3のいずれかに記載の電子部品用端子電極が形
成されていることを特徴とする。
【0013】請求項5に記載の発明では、上記電子部品
素体には、端子電極に電気的に接続される内部電極がさ
らに備えられている。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の非限定的な実施例
を挙げることにより、本発明を明らかにする。
【0015】図1は、本発明の一実施例に係る端子電極
が形成された積層コンデンサを示す断面図である。積層
コンデンサ1は、電子部品素体としてのセラミック焼結
体2を有する。セラミック焼結体2は、直方体状の形状
を有し、適宜の誘電体セラミックスにより構成されてい
る。
【0016】セラミック焼結体2内には、内部電極3a
〜3fがセラミック層を介して厚み方向に重なり合うよ
うに配置されている。内部電極3a,3c,3eは、セ
ラミック焼結体2の一方の端面2aに引き出されてお
り、内部電極3b,3d,3fは、端面2aと対向し合
っている他方の端面2bに引き出されている。
【0017】内部電極3a〜3fは、Ag、Ag−P
d、Ni、Cuなどの適宜の金属材料により構成されて
いる。通常、セラミック焼結体2を得るにあたっては、
先ず、導電ペーストの塗布印刷により形成された内部電
極材を介して複数枚のセラミックグリーンシートを積層
する。次に、得られた積層体を焼成し、セラミック焼結
体2を得ている。
【0018】セラミック焼結体2の端面2aを覆うよう
に、かつ上面2c,下面2d及び図示されていない一対
の側面に至るように端子電極4,5が形成されている。
本実施例の積層コンデンサでは、端子電極4,5は、ガ
ラスフリット含有導電ペーストの焼き付けにより形成さ
れた第1〜第3の電極層4a〜4c,5a〜5cの外側
面に、さらにNiメッキ層4d,5d及びSnメッキ層
4e,5eを形成した構造を有する。すなわち、各端子
電極4,5は5つの層を積層した構造を有する。
【0019】第1の電極層4a,5aは、端面2a,2
bに直接接触するように最内側の層として形成されてお
り、かつ第2の電極層4b,5bよりもガラス含有率が
低くされている。また、第3の電極層4c,5cについ
ても、内側の第2の電極層4b,5bに比べてそのガラ
ス含有率が低められている。すなわち、端子電極4,5
においては、第1,第3の電極層間に存在する第2の電
極層4b,5bのガラス含有率が相対的に高められてい
る。
【0020】従って、第1の電極層のガラス含有率が、
第2の電極層のガラス含有率よりも低められているの
で、ガラス成分が焼き付けに際しセラミック焼結体2内
に過剰に拡散し難い。よって、セラミック焼結体2の機
械的強度の低下が生じ難い。
【0021】他方、第2の電極層4b,5bは、そのガ
ラス含有率が高いため、内部へのメッキ液の侵入を防止
するバリア層として機能する。すなわち、Niメッキ層
4d,5d及びSnメッキ層4e,5eの形成に際し、
湿式メッキ法を用いた場合であっても、第2の電極層4
b,5bにおけるガラス含有率が高いため、広く分布し
ているガラス成分によりメッキ液の内部への侵入が確実
に抑制される。
【0022】さらに、第3の電極層4c,5cは、その
ガラス含有率が第2の電極層に比べて低められているの
で、第3の電極層4c,5cの外表面に、Niメッキ層
4d,5dを確実に付着させ得る。
【0023】従って、第1〜第3の電極層4a〜4c,
5a〜5cを上記のように積層した構造とすることによ
り、外側にメッキ層を形成した場合のメッキ液の侵入に
起因するセラミック焼結体の電気的・機械的特性の劣化
を確実に防止することができると共に、その外表面にメ
ッキ層を強固に付着させることができる。
【0024】なお、第2の電極層4b,5bのガラス含
有率については、後述の実験例から明らかなように、焼
き付け後において、15体積%〜90体積%の範囲とす
ることが好ましい。15体積%未満の場合には、第2の
電極層がメッキ液の侵入を抑制するためのバリア層とし
て十分に機能しないことがあり、90体積%を超えると
導電性が低下し、電極として機能しないことがある。
【0025】また、第2の電極層4b,5bの膜厚につ
いては、2μm以上、150μm以下の範囲とすること
が好ましい。2μm未満の場合には、メッキ液の侵入に
対するバリア層としての機能が低下し、セラミック焼結
体の機械的特性や絶縁抵抗が低下することがあり、15
0μmを超えると電極の抵抗分が高くなることがある。
【0026】なお、第1〜第3の電極層4a〜4c,5
a〜5cは、一層毎に焼き付けられて形成されてもよ
く、あるいは第1〜第3の電極層を構成するための導電
ペーストを積層した後に一度に焼き付けられて形成され
てもよい。
【0027】また、図1に示した積層コンデンサ1は、
本発明に係る電子部品の一例を示すものに過ぎず、本発
明に係る電子部品は、セラミックスを主体とする電子部
品素体の外表面に本発明に係る電子部品用端子電極が形
成されている構造に一般的に適用することができる。従
って、積層型セラミック電子部品に限らず、単板型のセ
ラミック電子部品にも本発明を適用することができる。
また、内部電極を有する電子部品についても、積層コン
デンサ、積層バリスタ、積層圧電共振部品などに限定さ
れず、一層の内部電極を有する電子部品、例えば同一高
さ位置において一対の内部電極が対向配置されているサ
ーミスタや抵抗素子などにも本発明を適用することがで
きる。
【0028】次に、具体的な実験例につき説明する。図
1に示したセラミック焼結体2として、BaTiO3
主成分とし、3.2mm×1.6mm×1.6mmの寸
法を有し、内部に100層のAg−Pd合金よりなる内
部電極が形成されているセラミック焼結体2を用意し
た。このセラミック焼結体2の端面2a,2bを覆うよ
うに、Ag導電ペーストを塗布し、焼き付けることによ
り電極を形成し、積層コンデンサ1を得た。
【0029】なお、上記導電ペーストとしては、Ag粉
末を60〜75重量%、Pb−Bi−Al−Si−B系
ガラス(軟化点500℃)1〜10重量%及び有機バイ
ンダ樹脂2〜5重量%を含むものを用いた。また、焼き
付け温度は600℃とした。もっとも、第1〜第3の電
極層4a〜4c,5a〜5cを順次上記方法に従って形
成した結果、各電極層4a〜4c,5a〜5cにおける
ガラス含有率及び膜厚については、以下の通りであっ
た。
【0030】第1の電極層4a,5a…ガラス含有率は
8体積%、膜厚は15μm。 第2の電極層4b,5b…ガラス含有率及び膜厚は下記
の表1に示すように種々変更されたもの。 第3の電極層4c,5c…ガラス含有率は2体積%、膜
厚は15μm。
【0031】上記のようにして、第1〜第3の電極層が
形成された比較例及び実施例1〜6の各積層コンデンサ
において、さらに、第3の電極層4c,5cの外側に、
2μmの厚みとなるようにNiメッキ層4d,5dを、
さらにその外側に厚み3μmとなるようにSnメッキ層
4e,5eを湿式メッキ法により形成した。
【0032】上記のようにして得られた比較例及び実施
例1〜6の各積層コンデンサについて、Niメッキ層4
d,5dを形成する前に絶縁抵抗を測定すると共に、S
nメッキ層4e,5eを形成した後に絶縁抵抗を測定
し、絶縁抵抗の劣化を評価した。この場合、絶縁抵抗の
低下の割合が50%未満である場合を「劣化なし」と
し、50%以上絶縁抵抗が低下した場合を「劣化」と判
断した。結果を下記の表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】表1から明らかなように、比較例の積層コ
ンデンサでは、第2の電極層のガラス含有率が第1の電
極層のガラス含有率と等しく8体積%であったためか、
第2の電極層がバリア層として機能せず、従ってメッキ
後の絶縁抵抗劣化数が100個あたり58個と非常に多
かった。
【0035】これに対して、実施例1〜6の積層コンデ
ンサでは、第2の電極層のガラス含有率が全て第1の電
極層のガラス含有率よりも高かったためか、メッキ後に
絶縁抵抗が劣化していた積層コンデンサの数が100個
あたり10個以下と著しく少なくなったことがわかる。
【0036】特に、第2の電極層のガラス含有率が15
体積%以上である実施例2〜6では、絶縁抵抗の劣化し
た積層コンデンサの割合がより一層少なくなり、さらに
第2の電極層の膜厚が2μm以上である実施例2,3,
5,6では、絶縁抵抗が劣化した積層コンデンサは皆無
であった。
【0037】従って、第2の電極層のガラス含有率を1
5体積%以上、膜厚を2μm以上とすることにより、メ
ッキ液の侵入に起因する絶縁抵抗の劣化をより一層効果
的に防止し得ることがわかる。
【0038】
【発明の効果】請求項1に記載の発明に係る電子部品用
端子電極では、ガラスフリット含有導電ペーストの焼き
付けにより形成された第1〜第3の電極層を積層した構
造を有し、第2の電極層のガラス含有率が第1,第3の
電極層のガラス含有率よりも高くされているため、第3
の電極層よりも外側にメッキ層を形成したとしても、第
2の電極層がメッキ液の侵入に対するバリア層として機
能し、メッキ液の侵入に起因する電子部品の特性の劣
化、例えば絶縁抵抗の劣化や機械的特性の低下を確実に
防止することができる。従って、生産に際しての電子部
品の良品率を高めることができると共に、信頼性に優れ
た電子部品を提供することが可能となる。
【0039】請求項4に記載の発明に係る電子部品で
は、本発明に係る電子部品用端子電極がセラミックスを
主体とする電子部品素体の外表面に形成されているの
で、外側表面にメッキ層を形成した場合であっても、メ
ッキ層の侵入に起因する絶縁抵抗の低下などの特性の低
下が生じ難く、信頼性を高めることが可能となる。
【0040】また、請求項5に記載の発明では、電子部
品素体が、端子電極に電気的に接続される内部電極を備
えているが、本発明に係る端子電極を有するので、内部
電極が電子部品素体の外表面に引き出されている部分か
らのメッキ液の侵入が確実に抑制される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る端子電極が形成された
積層コンデンサを示す縦断面図。
【図2】従来の積層コンデンサの端子電極を説明するた
めの断面図。
【図3】従来の積層コンデンサの端子電極の他の例を説
明するための断面図。
【符号の説明】
1…電子部品としての積層コンデンサ 2…電子部品素体としてのセラミック焼結体 3a〜3f…内部電極 4,5…端子電極 4a,5a…第1の電極層 4b,5b…第2の電極層 4c,4c…第3の電極層 4d,5d…Niメッキ層 4e,5e…Snメッキ層

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラスフリット含有導電ペーストの焼き
    付けにより形成される電子部品用端子電極であって、 電子部品素体面に順に形成された第1〜第3の電極層を
    有し、第2の電極層のガラス含有率が第1,第3の電極
    層のガラス含有率よりも高くされていることを特徴とす
    る、電子部品用端子電極。
  2. 【請求項2】 前記第2の電極層のガラス含有率が15
    〜90体積%の範囲とされている、請求項1に記載の電
    子部品用端子電極。
  3. 【請求項3】 前記第2の電極層の膜厚が2〜150μ
    mの範囲とされている、請求項1または2に記載の電子
    部品用端子電極。
  4. 【請求項4】 セラミックスを主体とする電子部品素体
    の外表面に、請求項1〜3のいずれかに記載の電子部品
    用端子電極が形成されていることを特徴とする、電子部
    品。
  5. 【請求項5】 前記電子部品素体が、前記端子電極に電
    気的に接続される内部電極をさらに備える、請求項4に
    記載の電子部品。
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