JPH11307433A - 現像装置および現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像後のパターン線幅の均一性を向上させる
ことができる現像装置および現像方法を提供することで
ある。 【解決手段】 基板保持部１に静止状態で保持された基
板１００外の一方側の位置から基板１００上を通過して
基板１００外の他方側の位置までスリット状吐出口を有
する現像液吐出ノズル１１を移動させつつ基板１００上
に現像液を供給する。現像液吐出ノズル１１による基板
１００上への現像液の供給終了から一定時間経過後、基
板保持部１に保持された基板１００を所定の回転数で回
転させた後に基板保持部１００により基板１００を所定
時間静止状態で保持させる。基板１００の回転および基
板１００の静止状態での保持を所定の回数繰り返す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上の感光性膜
に現像液を供給して現像処理を行う現像装置および現像
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の
基板上に形成された感光性膜に現像処理を行うために現
像装置が用いられる。

【０００３】例えば、回転式現像装置は、基板を水平に
保持して鉛直軸の周りで回転させる回転保持部と、基板
の表面に現像液を供給する現像液吐出ノズルとを備え
る。現像液吐出ノズルは、水平面内で回動自在に設けら
れたノズルアームの先端に取り付けられており、基板の
上方位置と待機位置との間を移動することができる。

【０００４】現像処理時には、現像液吐出ノズルが待機
位置から基板の上方に移動した後、基板上のフォトレジ
スト等の感光性膜に現像液を供給する。供給された現像
液は、基板の回転によって基板の全面に塗り広げられ、
感光性膜と接触する。表面張力により基板上に現像液を
保持した状態（液盛り）で一定時間基板を静止させるこ
とにより感光性膜の現像が行われる。現像液の供給が終
了すると、現像液吐出ノズルはノズルアームの回動によ
り基板の上方から退いた待機位置に移動する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の回転式現像装置では、回転する基板に吐出開始時
の現像液が当たることにより基板上の感光性膜が大きな
衝撃を受ける。その衝撃で現像液中に気泡が生じ、感光
性膜の表面に残留する微小な気泡が現像欠陥となる場合
がある。また、吐出開始時の現像液による衝撃で感光性
膜が損傷するおそれもある。

【０００６】近年、パターンの微細化に伴い、より精度
の高いレジストの性能が要求されるとともに、より精度
の高いレジスト現像方法が求められている。レジストの
性能に関しては、露光時における露光部と未露光部との
溶解速度の差（溶解コントラスト）が大きい程、現像後
に得られるレジストパターンの断面形状が良好になると
ともにレジストの解像度がより高くなり、微細なレジス
トパターンの形成が可能となる。したがって、現像時に
おける露光部と未露光部との溶解コントラストが大きい
ほど高性能のレジストであるとされている。

【０００７】溶解コントラストを向上させる手法の１つ
として、レジストの組成を調整することによりレジスト
に表面難溶化効果をもたせる方法がある。表面難溶化効
果とは、未露光部のレジストに現像液が接触すると、そ
の接触部分の溶解速度が極端に減少する効果である。

【０００８】この表面難溶化効果は、レジストの表面へ
現像液を供給する初期段階における現像液の流動や物理
的衝撃により大きな影響を受けることが明らかとなっ
た。すなわち、現像液供給の初期段階で現像液の流動を
抑えると、表面難溶化効果が顕著に得られ、レジストの
パターン形状が向上することになる。また、基板の表面
に均一な衝撃力で現像液を供給することにより、表面難
溶化効果が基板の表面で均一に得られ、現像後のパター
ン線幅の均一性が向上する。

【０００９】そこで、本発明者は、スリット状吐出口を
有する現像液吐出ノズルから現像液を吐出しながら基板
上の一端から他端へ現像液吐出ノズルを直線状に移動さ
せることにより、現像液の供給の初期段階における基板
上の現像液の流動を抑えつつ基板上に均一な衝撃力で現
像液を供給する現像方法を提案している。

【００１０】しかしながら、本発明者のさらなる実験の
結果、上記の表面難溶化効果を有するレジストのうち、
ある特定の種類のレジストでは、スリット状吐出口を有
する現像液吐出ノズルにより現像液を供給した場合で
も、現像後のパターンの線幅が十分に均一にならないこ
とが判明した。

【００１１】本発明の目的は、現像後のパターン線幅の
均一性を向上させることができる現像装置および現像方
法を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
者は、ある特定の種類のレジストを用いた場合に現像後
のパターン線幅の均一性が十分でない現象が生じるのは
次の理由によるものと推測した。

【００１３】現像反応とは、レジストの感光剤の露光に
より現像液に可溶な反応基が生成され、その反応基と現
像液との中和反応によって感光剤とその周囲のレジスト
の樹脂成分とがともに現像液に溶解していく反応であ
る。樹脂成分は一般に数万以上の分子量をもつ高分子で
あり、溶解によっても液相と固相の区別が曖昧な状態、
すなわち一種の臨界状態で溶解反応が進行しているもの
と考えられる。一般に、溶液中では、輸送現象の１つで
ある濃度拡散により溶解物質は一様に散逸する方向に進
行するが、原理的に熱運動によるゆらぎの発生が避けら
れない。

【００１４】通常は、ゆらぎが発生しても熱運動中に崩
れていくが、特殊な外的条件下、たとえば臨界状態下で
は、ゆらぎが巨視的に観測可能な状態量まで成長しやす
いことが知られている。

【００１５】上記に理由により、レジストの溶解反応に
おいても、巨視的なゆらぎが成長して、溶解生成物の濃
度分布が一様でなく、部分的に凝集する部分が生じてい
る可能性がある。これにより、溶解生成物が凝集する部
分では、相対的に溶解反応のための現像液の濃度が低下
するため、この部分での現像後のパターン線幅にばらつ
きが生じ、パターン線幅の面内均一性が低下する現象を
引き起こしているものと考えられる。

【００１６】このような現象は、現像反応がある程度進
行した時間的経過の後に発生するものであるので、現像
液の吐出過程、たとえば現像液の液盛り方式や現像液吐
出ノズルの改良等では有効な対策を講じることができな
い。

【００１７】そこで、本発明者は、溶解生成物の凝集が
現像反応がある程度進行した後に発生する点に着目し、
現像後のパターン線幅の均一性を向上させるべく以下の
発明を案出した。

【００１８】（１）第１の発明 第１の発明に係る現像装置は、基板を水平姿勢で保持す
る基板保持手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズル
と、基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
側の位置から基板上を通過して基板外の他方側の位置ま
で現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、基板保持
手段を回転駆動する駆動手段と、現像液吐出ノズルによ
る基板上への現像液の供給終了から一定時間経過後、駆
動手段により基板保持手段に保持された基板を所定の回
転数で回転させた後に基板保持手段により基板を所定時
間静止状態で保持させる制御手段とを備えたものであ
る。

【００１９】本発明に係る現像装置においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させることにより、静止した基板上に現
像液が供給される。現像液吐出ノズルによる基板上への
現像液の供給終了から一定時間経過後、基板が所定の回
転数で回転し、その後基板が所定時間静止状態で保持さ
れる。

【００２０】現像液の供給終了から一定時間経過後に
は、現像の進行過程で溶解生成物が盛んに発生する。こ
の段階で、基板を所定の回転数で回転させ、その後静止
させることにより、ゆらぎの成長による溶解生成物の不
均一な凝集現象が物理的揺動により回避される。その結
果、現像後のパターン線幅の均一性が向上する。

【００２１】（２）第２の発明 第２の発明に係る現像装置は、第１の発明に係る現像装
置の構成において、制御手段は、駆動手段による基板の
回転および基板保持手段による基板の静止状態での保持
を所定の回数繰り返すものである。

【００２２】基板の回転および静止状態での保持を反復
することにより、ゆらぎの成長による溶解生成物の不均
一な凝集現象が効果的に回避される。したがって、現像
後のパターン線幅の均一性がさらに向上する。

【００２３】（３）第３の発明 第３の発明に係る現像装置は、第１または第２の発明に
係る現像装置の構成において、制御手段は、駆動手段に
よる基板の回転ごとに回転方向を反転させるものであ
る。

【００２４】それにより、感光性膜に対する現像液の流
動の効果を均一化することができる。その結果、現像後
のパターン形状の対称性および矩形性が良好となる。

【００２５】（４）第４の発明 第４の発明に係る現像装置は、第２または第３の発明に
係る現像装置の構成において、所定の回数は２回以上５
回以下であることを特徴する。これにより、ゆらぎの成
長による溶解生成物の不均一な凝集現象が十分に回避さ
れ、現像後のパターン線幅の均一性がより向上する。

【００２６】（５）第５の発明 第５の発明に係る現像装置は、第１〜第４のいずれかの
発明に係る現像装置の構成において、一定時間は１秒以
上５秒以下であることを特徴とする。これにより、ゆら
ぎの成長による溶解生成物の不均一な凝集現象が十分に
回避され、現像後のパターン線幅の均一性がより向上す
る。

【００２７】（６）第６の発明 第６の発明に係る現像装置は、第１〜第５のいずれかの
発明に係る現像装置の構成において、所定の回転数は５
ｒｐｍ以上２５ｒｐｍ以下であることを特徴とする。こ
れにより、ゆらぎの成長による溶解生成物の不均一な凝
集現象が十分に回避され、現像後のパターン線幅の均一
性がより向上する。

【００２８】（７）第７の発明 第７の発明に係る現像装置は、第１〜第６のいずれかの
発明に係る現像装置の構成において、所定時間は０．５
秒以上５秒以下であることを特徴とする。これにより、
ゆらぎの成長による溶解生成物の不均一な凝集現象が十
分に回避され、現像後のパターン線幅の均一性がより向
上する。

【００２９】（８）第８の発明 第８の発明に係る現像装置は、第１〜第７のいずれかの
発明に係る現像装置の構成において、現像液吐出ノズル
は、スリット状吐出口を有することを特徴とする。この
場合、現像液が一定幅の領域に同時に供給される。

【００３０】（９）第９の発明 第９の発明に係る現像装置は、第１〜第８のいずれかの
発明に係る現像装置の構成において、移動手段は、現像
液吐出ノズルをスリット状吐出口とほぼ垂直な方向に移
動させることを特徴とする。

【００３１】この場合、現像液吐出ノズルのスリット状
吐出口が基板上を直線状に走査されるので、現像液を基
板上の広い面積に均一に供給することができる。

【００３２】（１０）第１０の発明 第１０の発明に係る現像方法は、基板保持手段に静止状
態で保持された基板外の一方側の位置から基板上を通過
して基板外の他方側の位置まで現像液吐出ノズルを移動
させつつ基板上に現像液を供給する工程と、現像液吐出
ノズルによる基板上への現像液の供給終了から一定時間
経過後、基板保持手段に保持された基板を所定の回転数
で回転させた後に基板保持手段により基板を所定時間静
止状態で保持させる工程とを備えたものである。

【００３３】本発明に係る現像方法においては、基板保
持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の位置か
ら基板上を通過して基板外の他方側の位置まで現像液吐
出ノズルを移動させることにより、静止した基板上に現
像液が供給される。現像液吐出ノズルによる基板上への
現像液の供給終了から一定時間経過後、基板が所定の回
転数で回転し、その後基板が所定時間静止状態で保持さ
れる。

【００３４】現像液の供給終了から一定時間経過後に
は、現像の進行過程で溶解生成物が盛んに発生する。こ
の段階で、基板を所定の回転数で回転させ、その後静止
させることにより、ゆらぎの成長による溶解生成物の不
均一な凝集現象が物理的揺動により回避される。その結
果、現像後のパターン線幅の均一性が向上する。

【００３５】

【発明の実施の形態】図１は本発明の一実施例における
現像装置の平面図、図２は図１の現像装置の主要部のＸ
−Ｘ線断面図、図３は図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ
線断面図である。

【００３６】図２および図３に示すように、現像装置
は、基板１００を水平姿勢で吸引保持する基板保持部１
を備える。基板保持部１は、モータ２の回転軸３の先端
部に固定され、鉛直方向の軸の周りで回転可能に構成さ
れている。基板保持部１の周囲には、基板１００を取り
囲むように円形の内側カップ４が上下動自在に設けられ
ている。また、内側カップ４の周囲には、正方形の外側
カップ５が設けられている。

【００３７】図１に示すように、外側カップ５の両側に
はそれぞれ待機ポット６，７が配置され、外側カップ５
の一方の側部側にはガイドレール８が配設されている。
また、ノズルアーム９がアーム駆動部１０によりガイド
レール８に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可
能に設けられている。外側カップ５の他方の側部側に
は、純水を吐出する純水吐出ノズル１２が矢印Ｒの方向
に回動可能に設けられている。

【００３８】ノズルアーム９には、下端部にスリット状
吐出口１５を有する現像液吐出ノズル１１がガイドレー
ル８と垂直に取り付けられている。これにより、現像液
吐出ノズル１１は、待機ポット６の位置から基板１００
上を通過して待機ポット７の位置まで走査方向Ａに沿っ
て直線状に平行移動可能となっている。

【００３９】図２に示すように、現像液吐出ノズル１１
には、現像液供給系１４により現像液が供給される。制
御部１３は、モータ２の回転動作、アーム駆動部１０に
よる現像液吐出ノズル１１の走査および現像液吐出ノズ
ル１１からの現像液の吐出を制御する。

【００４０】本実施例では、基板保持部１が基板保持手
段に相当し、アーム駆動部１０が移動手段に相当し、モ
ータ２が駆動手段に相当し、制御部１３が制御手段に相
当する。

【００４１】図４に示すように、スリット状吐出口１５
は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置され
る。スリット状吐出口１５のスリット幅ｔは０．０５〜
１．０ｍｍであり、本実施例では０．２ｍｍである。ま
た、スリット状吐出口１５の吐出幅Ｌは、処理対象とな
る基板１００の直径と同じかまたはそれよりも大きく設
定され、直径８インチの基板１００を処理する場合に
は、本実施例では２１０ｍｍに設定される。

【００４２】現像液吐出ノズル１１は、底面が基板１０
０の表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに
走査される。スリット状吐出口１５と基板１００の表面
との間隔は、０．２〜５ｍｍ、より好ましくは０．５〜
２ｍｍであり、本実施例では１．５ｍｍである。

【００４３】次に、図５および図６を参照しながら図１
の現像装置の動作を説明する。図５（ａ）に示すよう
に、基板１００は基板保持部１により静止状態で保持さ
れている。待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待機
ポット６内の位置Ｐ０に待機している。現像処理時に
は、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに
移動し、外側カップ５内の走査開始位置Ｐ１で下降す
る。

【００４４】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開
始位置Ｐ１から所定の走査速度で走査を開始する。この
時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出
は行わない。本実施例では、走査速度は１０〜５００ｍ
ｍ／秒とする。

【００４５】現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像
液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５が基板１００
上に到達する前に、吐出開始位置Ｐ２にて所定の流量で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。
本実施例では、現像液の流量は１．２Ｌ／分とする。

【００４６】現像液吐出ノズル１１は、現像液を吐出し
ながら吐出開始位置Ｐ２から基板１００上を走査方向Ａ
に直線状に移動する（図６参照）。これにより、基板１
００の全面に現像液が連続的に供給される。供給された
現像液は、表面張力により基板１００上に保持（液盛
り）される。

【００４７】現像液吐出ノズル１１が基板１００上を通
過した後、基板１００上から外れた吐出停止位置Ｐ３で
現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させ
る。そして、現像液吐出ノズル１１が外側カップ５内の
走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１
１の走査を停止させる。

【００４８】その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停
止位置Ｐ４で上昇した後、他方の待機ポット７の位置Ｐ
５まで移動し、待機ポット７内に下降する。

【００４９】図５（ｂ）に示すように、液盛り終了後、
静止状態の基板１００上に現像液が供給された状態を１
〜５秒、より望ましくは２〜４秒（本実施例では３秒）
維持する。

【００５０】その後、図５（ｃ）に示すように、基板保
持部１により基板１００を５〜２５ｒｐｍ、望ましくは
１０〜２０ｒｐｍ（本実施例では１５ｒｐｍ）の回転速
度で回転させる。この場合の回転加速度は１０〜３００
ｒｐｍ／秒、望ましくは２０〜５０ｒｐｍ／秒（本実施
例では３０ｒｐｍ／秒）とする。基板１００を１〜２秒
（本実施例では１．５秒）回転させた後、加速時と同様
の減速度で減速停止させる。

【００５１】そして、図５（ｄ）に示すように、基板１
００を０．５〜５秒（本実施例では２秒）静止状態で保
持する。

【００５２】上記と同様の条件で図５（ｃ）の基板１０
０の回転および図５（ｄ）の静止保持を２〜５回、望ま
しくは３回繰り返す。この際、基板１００の回転ごとに
回転方向を反転させる。

【００５３】その後、たとえば回転数１０００ｒｐｍ程
度で基板１００を回転させ、洗浄用のリンス液吐出ノズ
ル１２から純水を基板１００に供給し、現像の進行を停
止させるとともに純水でリンス処理を行う。

【００５４】最後に、リンス液吐出ノズル１２による純
水の供給を停止し、基板１００をたとえば４０００ｒｐ
ｍで回転させ、基板１００から純水を振り切り、基板１
００を乾燥させる。その後、基板１００の回転を停止
し、現像処理を終了する。

【００５５】現像処理では、基板１００への液盛りから
１〜５経過後に現像の進行過程で溶解生成物が盛んに発
生する。本実施例の現像方法によれば、液盛りから１〜
５秒経過後に基板１００を複数回にわたって反復して低
速回転させることにより、ゆらぎの成長による溶解生成
物の不均一な凝縮現象を物理的揺動で効果的に回避する
ことができる。その結果、現像後のパターン線幅の面内
均一性が向上する。

【００５６】また、基板１００の各回転ごとに回転方向
を反転させることにより、レジストパターンに対する現
像液の流動の効果を均一化することができる。その結
果、レジストパターン形状の対称性および矩形性が良好
となる。

【００５７】以下、図５（ｃ）の基板１００の回転の工
程を攪拌工程と呼ぶ。ここで、図５（ｃ）の攪拌工程の
回数、開始遅延時間、回転数、加速時間、減速時間およ
び時間間隔とパターン線幅の均一性との関係を測定し
た。その測定結果を表１〜表６および図７〜図１２に示
す。図において、黒四角印は現像後のパターン線幅の平
均値を示し、黒丸印は３σを示す。σはパターン線幅の
標準偏差であり、３σは現像後のパターン線幅のばらつ
きの大きさを表す。各測定において、他の条件は現像後
のパターン線幅の均一性が最良となる条件を選択した。

【００５８】表１および図７に攪拌工程の回数と現像後
のパターン線幅および３σとの関係の測定結果を示す。

【００５９】

【表１】

【００６０】表１および図７に示すように、攪拌工程の
回数が３回のときに３σが最も小さくなっている。

【００６１】表２および図８に攪拌工程の開始遅延時間
と現像後のパターン線幅および３σとの関係の測定結果
を示す。開始遅延時間とは、図５（ｂ）において静止状
態の基板１００上に現像液が供給された状態を維持する
時間である。

【００６２】

【表２】

【００６３】表２および図８に示すように、攪拌工程の
開始遅延時間が３．０秒の場合に３σが最小となってい
る。

【００６４】表３および図９に攪拌工程の回転数と現像
後のパターン線幅および３σとの関係の測定結果を示
す。

【００６５】

【表３】

【００６６】表３および図９に示すように、回転数が１
５ｒｐｍの場合に３σが最小となっている。

【００６７】表４および図１０に攪拌工程の加速時間と
現像後のパターン線幅および３σとの関係の測定結果を
示す。

【００６８】

【表４】

【００６９】表４および図１０に示すように、加速時間
が０．５０秒の場合に３σが最小となっている。

【００７０】表５および図１１に攪拌工程の減速時間と
現像後のパターン線幅および３σとの関係の測定結果を
示す。

【００７１】

【表５】

【００７２】表５および図１１に示すように、減速時間
が０．５０秒の場合に３σが最小となっている。

【００７３】表６および図１２に攪拌工程の時間間隔と
現像後のパターン線幅および３σとの関係の測定結果を
示す。攪拌工程の時間間隔とは、図５（ｄ）において基
板１００を静止保持する時間である。

【００７４】

【表６】

【００７５】表６および図１２に示すように、攪拌工程
の時間間隔が１．００秒の場合に３σが最小となってい
る。

【００７６】本実施例の現像方法によると、０．５μｍ
のラインパターンにおいてパターン線幅のばらつきを表
す３σが１４ｎｍ以下になった。これに対して、図５
（ｃ）の回転および図５（ｄ）の静止保持の行わなかっ
た場合には、同様の０．５μｍのラインパターンにおい
て３σが２６〜３２ｎｍ程度であった。このように、本
実施例の現像方法によれば、現像後のパターン線幅の面
内均一性が大幅に改善された。

【００７７】また、本実施例の現像装置では、現像液吐
出ノズル１１が静止した基板１００上に到達する前に現
像液の吐出が開始されるので、吐出開始時の現像液が基
板１００に衝撃を与えることが回避される。それによ
り、現像液中の気泡の発生が抑制され、現像欠陥の発生
が防止される。

【００７８】また、現像液吐出ノズル１１の移動中に空
気に接触するスリット状吐出口１５付近の現像液が基板
１００外に廃棄され、現像液吐出ノズル１１が基板１０
０上に到達した時点で現像液吐出ノズル１１から新しい
現像液が静止した基板１００上に供給される。それによ
り、変質した現像液により現像欠陥が発生することが防
止されるとともに、現像液が乾燥することで発生するパ
ーティクルが基板１００上の感光性膜の表面に付着する
ことが防止される。

【００７９】さらに、現像液吐出ノズル１１が静止した
基板１００上をスリット状吐出口１５と基板１００の上
面とが近接した状態で水平方向に直線状に平行移動し、
スリット状吐出口１５に形成された帯状の現像液が基板
１００の表面に連続的に接触するので、基板１００の表
面に衝撃が加わることなく基板１００の全面に現像液が
均一に供給される。

【００８０】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通過するまで現像液の供給が続けられるので、吐出
停止時の衝撃による液盛り中の現像液への悪影響が防止
される。その結果、現像欠陥の発生が抑制されるととも
に、現像後の感光性膜パターンの線幅均一性が向上す
る。

【００８１】また、現像液吐出ノズル１１が基板１００
上を通り過ぎた後に現像液の吐出が停止されるので、吐
出停止時の現像液の液だれにより基板１００上の感光性
膜に衝撃が加わることが防止される。したがって、現像
欠陥の発生や感光性膜パターンの線幅均一性の劣化が防
止される。

【００８２】なお、上記実施例では、本発明をスリット
状吐出口を有する現像液吐出ノズルを用いた現像装置お
よび現像方法に適用した場合を説明したが、本発明は、
静止状態の基板上に現像液を供給し、基板上に保持され
た現像液で現像処理を行うパドル現像方式の現像装置お
よび現像方法であれば、他の現像液吐出ノズルを用いた
現像装置および現像方法にも適用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例における現像装置の平面図で
ある。

【図２】図１の現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図であ
る。

【図３】図１の現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図であ
る。

【図４】現像液吐出ノズルのスリット状吐出口を示す図
である。

【図５】図１の現像装置の動作を説明するための図であ
る。

【図６】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す平面
図である。

【図７】攪拌工程の回数と現像後のパターン線幅および
そのばらつきとの関係の測定結果を示す図である。

【図８】攪拌工程の開始遅延時間と現像後のパターン線
幅およびそのばらつきとの関係の測定結果を示す図であ
る。

【図９】攪拌工程の回転数と現像後のパターン線幅およ
びそのばらつきとの関係の測定結果を示す図である。

【図１０】攪拌工程の加速時間と現像後のパターン線幅
およびそのばらつきとの関係の測定結果を示す図であ
る。

【図１１】攪拌工程の減速時間と現像後のパターン線幅
およびそのばらつきとの関係の測定結果を示す図であ
る。

【図１２】攪拌工程の時間間隔と現像後のパターン線幅
およびそのばらつきとの関係の測定結果を示す図であ
る。

【符号の説明】

１ 基板保持部 ８ ガイドレール ９ ノズルアーム １０ ノズル駆動部 １１ 現像液吐出ノズル １４ 現像液供給系 １３ 制御部 １５ スリット状吐出口

フロントページの続き (72)発明者 矢野 守隆 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を水平姿勢で保持する基板保持手段
   と、 現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、 前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方
   側の位置から前記基板上を通過して基板外の他方側の位
   置まで前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、 前記基板保持手段を回転駆動する駆動手段と、 前記現像液吐出ノズルによる基板上への現像液の供給終
   了から一定時間経過後、前記駆動手段により前記基板保
   持手段に保持された基板を所定の回転数で回転させた後
   に前記基板保持手段により基板を所定時間静止状態で保
   持させる制御手段とを備えたことを特徴とする現像装
   置。
2. 【請求項２】 前記制御手段は、前記駆動手段による基
   板の回転および前記基板保持手段による基板の静止状態
   での保持を所定の回数繰り返すことを特徴とする請求項
   １記載の現像装置。
3. 【請求項３】 前記制御手段は、前記駆動手段による基
   板の回転ごとに回転方向を反転させることを特徴とする
   請求項２記載の現像装置。
4. 【請求項４】 前記所定の回数は２回以上５回以下であ
   ることを特徴する請求項２または３記載の現像装置。
5. 【請求項５】 前記一定時間は１秒以上５秒以下である
   ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の現像
   装置。
6. 【請求項６】 前記所定の回転数は５ｒｐｍ以上２５ｒ
   ｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜５のいずれ
   かに記載の現像装置。
7. 【請求項７】 前記所定時間は０．５秒以上５秒以下で
   あることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の
   現像装置。
8. 【請求項８】 前記現像液吐出ノズルは、スリット状吐
   出口を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか
   に記載の現像装置。
9. 【請求項９】 前記移動手段は、前記現像液吐出ノズル
   を前記スリット状吐出口とほぼ垂直な方向に移動させる
   ことを特徴とする請求項８記載の現像装置。
10. 【請求項１０】 基板保持手段に静止状態で保持された
    基板外の一方側の位置から基板上を通過して基板外の他
    方側の位置まで現像液吐出ノズルを移動させつつ基板上
    に現像液を供給する工程と、 前記現像液吐出ノズルによる基板上への現像液の供給終
    了から一定時間経過後、前記基板保持手段に保持された
    基板を所定の回転数で回転させた後に前記基板保持手段
    により基板を所定時間静止状態で保持させる工程とを備
    えたことを特徴とする現像方法。