JPH11307558A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
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- JPH11307558A JPH11307558A JP10107725A JP10772598A JPH11307558A JP H11307558 A JPH11307558 A JP H11307558A JP 10107725 A JP10107725 A JP 10107725A JP 10772598 A JP10772598 A JP 10772598A JP H11307558 A JPH11307558 A JP H11307558A
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- JP
- Japan
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- frame substrate
- semiconductor device
- substrate
- cutting line
- resin
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- Pending
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Injection Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体装置の小型化を図ると共に製造工程に
おけるハンドリングの向上を図り、しかも安価に製造可
能な半導体装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 半導体素子18が搭載されたフレーム基
板1に個々に切込みを入れて切断ライン2を形成する切
断ライン形成工程と、リリースフィルム21が張設され
たモールド金型に前記フレーム基板1を搬入して、前記
切断ライン2の内側に沿って前記フレーム基板1をクラ
ンプして前記半導体素子18を樹脂モールドする樹脂モ
ールド工程と、樹脂モールド後、前記モールド金型より
取り出された前記フレーム基板1より、前記切断ライン
2に沿って半導体装置13を分離する半導体装置分離工
程とを備えた。
おけるハンドリングの向上を図り、しかも安価に製造可
能な半導体装置の製造方法を提供する。 【解決手段】 半導体素子18が搭載されたフレーム基
板1に個々に切込みを入れて切断ライン2を形成する切
断ライン形成工程と、リリースフィルム21が張設され
たモールド金型に前記フレーム基板1を搬入して、前記
切断ライン2の内側に沿って前記フレーム基板1をクラ
ンプして前記半導体素子18を樹脂モールドする樹脂モ
ールド工程と、樹脂モールド後、前記モールド金型より
取り出された前記フレーム基板1より、前記切断ライン
2に沿って半導体装置13を分離する半導体装置分離工
程とを備えた。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の半導体素子
が搭載されたフレームに個々に切込みを入れて予め切断
ラインを形成する切断ライン形成工程を有する半導体装
置の製造方法に関する。
が搭載されたフレームに個々に切込みを入れて予め切断
ラインを形成する切断ライン形成工程を有する半導体装
置の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置の小型化、高密度実装
化が促進するなかでBGA(Ball・Grid・Ar
ray)タイプの半導体装置が用いられるようになって
いる。このBGA用の配線基板は、ガラスエポキシ樹脂
基板、銅張積層基板、ポリイミドフィルムなどのTAB
テープ等を用いたテープ基板など種々の基板に配線パタ
ーンが形成されたフレーム基板が用いられる。このフレ
ーム基板に、半導体素子を搭載してワイヤボンディング
やフリップチップ接続されたものを、例えばトランスフ
ァモールド装置により樹脂モールドが行われる。このト
ランスファモールド装置は、ポッティング装置に比べて
安価に製造でき、しかもパッケージ部分の厚さや大きさ
を均一にできるなどの点で有利である。そして、上記樹
脂モールドされた上記フレーム基板より半導体装置を個
片に切断し、必要に応じてはんだボールを配線基板のパ
ッケージ面とは反対面側に接合して半導体装置が製造さ
れていた。
化が促進するなかでBGA(Ball・Grid・Ar
ray)タイプの半導体装置が用いられるようになって
いる。このBGA用の配線基板は、ガラスエポキシ樹脂
基板、銅張積層基板、ポリイミドフィルムなどのTAB
テープ等を用いたテープ基板など種々の基板に配線パタ
ーンが形成されたフレーム基板が用いられる。このフレ
ーム基板に、半導体素子を搭載してワイヤボンディング
やフリップチップ接続されたものを、例えばトランスフ
ァモールド装置により樹脂モールドが行われる。このト
ランスファモールド装置は、ポッティング装置に比べて
安価に製造でき、しかもパッケージ部分の厚さや大きさ
を均一にできるなどの点で有利である。そして、上記樹
脂モールドされた上記フレーム基板より半導体装置を個
片に切断し、必要に応じてはんだボールを配線基板のパ
ッケージ面とは反対面側に接合して半導体装置が製造さ
れていた。
【0003】ところで、上記樹脂モールド後のフレーム
基板より半導体装置を切断するためには、上記フレーム
基板を切断用の金型でクランプするため、パッケージの
周囲に樹脂モールドされていない配線基板部分が延出し
て残存してしまい、この部分が半導体装置の小型化を促
進する上で障害となっていた。また、上記パッケージの
周囲を狙って切断しようとすると、パッケージが配線基
板より剥離したり欠けたりするおそれもあった。
基板より半導体装置を切断するためには、上記フレーム
基板を切断用の金型でクランプするため、パッケージの
周囲に樹脂モールドされていない配線基板部分が延出し
て残存してしまい、この部分が半導体装置の小型化を促
進する上で障害となっていた。また、上記パッケージの
周囲を狙って切断しようとすると、パッケージが配線基
板より剥離したり欠けたりするおそれもあった。
【0004】これを解決するため、特開平9−2520
65号公報に示すように、プッシュバック方式を用いた
半導体装置及びその製造方法が提案されている。これ
は、予め短冊状のフレーム基板から配線基板を一旦個々
に切断してから再びフレーム基板に戻されて、上記配線
基板上に半導体素子を搭載して接続し、側面に所定のテ
ーパー角度を有する樹脂封止体をトランスファモールド
装置により形成する。そして、上記樹脂成形体をゲート
ブレイクした後、上記個々に切断されている配線基板に
よって半導体装置を各々取り出すようになっている。上
記半導体装置の製造方法は、プッシュバック方式を採用
することによって、パッケージの小型化を図り、その後
の組立工程の自動化を図っている。
65号公報に示すように、プッシュバック方式を用いた
半導体装置及びその製造方法が提案されている。これ
は、予め短冊状のフレーム基板から配線基板を一旦個々
に切断してから再びフレーム基板に戻されて、上記配線
基板上に半導体素子を搭載して接続し、側面に所定のテ
ーパー角度を有する樹脂封止体をトランスファモールド
装置により形成する。そして、上記樹脂成形体をゲート
ブレイクした後、上記個々に切断されている配線基板に
よって半導体装置を各々取り出すようになっている。上
記半導体装置の製造方法は、プッシュバック方式を採用
することによって、パッケージの小型化を図り、その後
の組立工程の自動化を図っている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開平9−252065号公報に示す半導体装置の製造方
法においては、図6(a)(b)に示す短冊状のフレー
ム基板51に搭載された半導体素子を樹脂封止した後、
樹脂成形体52のゲートブレイクを行う場合には、一般
に図7に示すように上記フレーム基板51を治具56に
より保持して不要樹脂に対して傾斜させるよう折り曲げ
て行われる。このとき、各半導体装置53の配線基板5
4は上記フレーム基板51より切断ライン55に沿って
切断されているため、該フレーム基板51を傾けると、
上記半導体装置53が脱落してしまうおそれがあった。
開平9−252065号公報に示す半導体装置の製造方
法においては、図6(a)(b)に示す短冊状のフレー
ム基板51に搭載された半導体素子を樹脂封止した後、
樹脂成形体52のゲートブレイクを行う場合には、一般
に図7に示すように上記フレーム基板51を治具56に
より保持して不要樹脂に対して傾斜させるよう折り曲げ
て行われる。このとき、各半導体装置53の配線基板5
4は上記フレーム基板51より切断ライン55に沿って
切断されているため、該フレーム基板51を傾けると、
上記半導体装置53が脱落してしまうおそれがあった。
【0006】また、上記フレーム基板51としてガラス
エポキシ樹脂基板やBT基板などを用いた場合には、上
記切断ライン55により上記配線基板54を切断した
後、フレーム基板51へ戻す場合に、切断面は荒れた裂
断面となっていることから切断面どうしが擦れるため、
ガラス繊維や樹脂片などの塵が上記配線基板54と上記
フレーム基板51との間に挟み込まれて応力が作用して
上記フレーム基板51が歪んだり、上記配線基板54が
傾いたりして復元性に劣り、また上記塵が周囲に散乱す
るおそれもあった。
エポキシ樹脂基板やBT基板などを用いた場合には、上
記切断ライン55により上記配線基板54を切断した
後、フレーム基板51へ戻す場合に、切断面は荒れた裂
断面となっていることから切断面どうしが擦れるため、
ガラス繊維や樹脂片などの塵が上記配線基板54と上記
フレーム基板51との間に挟み込まれて応力が作用して
上記フレーム基板51が歪んだり、上記配線基板54が
傾いたりして復元性に劣り、また上記塵が周囲に散乱す
るおそれもあった。
【0007】また、上記ゲートブレイクにより半導体装
置53が個々に分離された後、上記配線基板54のパッ
ケージと反対面側にはんだボールを接合する際に、把持
できる基板部分が少ないため、個々に分離された半導体
装置53をハンドリングするのが難しく、半導体製造工
程のインライン化を図り難い。また、上記フレーム基板
51の樹脂路(ランナー部分)に相当する部分には、樹
脂モールド工程において成形樹脂とフレーム基板51と
の剥離性を向上させるため金めっきが施されることが多
いが、製造コストが高くなるという課題がある。
置53が個々に分離された後、上記配線基板54のパッ
ケージと反対面側にはんだボールを接合する際に、把持
できる基板部分が少ないため、個々に分離された半導体
装置53をハンドリングするのが難しく、半導体製造工
程のインライン化を図り難い。また、上記フレーム基板
51の樹脂路(ランナー部分)に相当する部分には、樹
脂モールド工程において成形樹脂とフレーム基板51と
の剥離性を向上させるため金めっきが施されることが多
いが、製造コストが高くなるという課題がある。
【0008】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決し、半導体装置の小型化を図ると共に製造工程におけ
るハンドリングの向上を図り、しかも安価に製造可能な
半導体装置の製造方法を提供することにある。
決し、半導体装置の小型化を図ると共に製造工程におけ
るハンドリングの向上を図り、しかも安価に製造可能な
半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため次の構成を備える。即ち、半導体素子が搭載さ
れたフレーム基板に個々に切込みを入れて切断ラインを
形成する切断ライン形成工程と、リリースフィルムが張
設されたモールド金型に前記フレーム基板を搬入して、
前記切断ラインの内側に沿って前記フレーム基板をクラ
ンプして前記半導体素子を樹脂モールドする樹脂モール
ド工程と、樹脂モールド後、前記モールド金型より取り
出された前記フレーム基板より、前記切断ラインに沿っ
て半導体装置を分離する半導体装置分離工程とを備えた
ことを特徴とする。
するため次の構成を備える。即ち、半導体素子が搭載さ
れたフレーム基板に個々に切込みを入れて切断ラインを
形成する切断ライン形成工程と、リリースフィルムが張
設されたモールド金型に前記フレーム基板を搬入して、
前記切断ラインの内側に沿って前記フレーム基板をクラ
ンプして前記半導体素子を樹脂モールドする樹脂モール
ド工程と、樹脂モールド後、前記モールド金型より取り
出された前記フレーム基板より、前記切断ラインに沿っ
て半導体装置を分離する半導体装置分離工程とを備えた
ことを特徴とする。
【0010】また、前記樹脂モールド工程前に、前記フ
レーム基板の前記半導体素子搭載面と反対面側に配線パ
ターンに接続するはんだボールを接合する工程を備えて
いても良い。また、前記切断ライン形成工程は、切断刃
を有するパンチを前記フレーム基板に接触させながら超
音波振動を加えることにより前記切断ラインを形成する
ようにしても良い。また、前記半導体装置分離工程は、
前記フレーム基板に形成されたパッケージに連続する成
形品ゲートと反対側のコーナー部を押圧することにより
ゲートブレイクして、前記半導体装置が前記フレーム基
板より前記切断ラインに沿って分離されるようにしても
良い。
レーム基板の前記半導体素子搭載面と反対面側に配線パ
ターンに接続するはんだボールを接合する工程を備えて
いても良い。また、前記切断ライン形成工程は、切断刃
を有するパンチを前記フレーム基板に接触させながら超
音波振動を加えることにより前記切断ラインを形成する
ようにしても良い。また、前記半導体装置分離工程は、
前記フレーム基板に形成されたパッケージに連続する成
形品ゲートと反対側のコーナー部を押圧することにより
ゲートブレイクして、前記半導体装置が前記フレーム基
板より前記切断ラインに沿って分離されるようにしても
良い。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の態様
を添付図面に基づいて詳細に説明する。本実施の態様
は、BGAタイプの半導体装置の製造方法について説明
するものとする。図1(a)(b)(c)は半導体装置
の製造工程を示す説明図、図2は図1(a)のフレーム
基板の切断ライン形成工程を示す説明図、図3(a)
(b)及び図4は図1(b)の樹脂モールド工程を示す
説明図、図5は図1(c)の半導体装置分離工程を示す
説明図である。
を添付図面に基づいて詳細に説明する。本実施の態様
は、BGAタイプの半導体装置の製造方法について説明
するものとする。図1(a)(b)(c)は半導体装置
の製造工程を示す説明図、図2は図1(a)のフレーム
基板の切断ライン形成工程を示す説明図、図3(a)
(b)及び図4は図1(b)の樹脂モールド工程を示す
説明図、図5は図1(c)の半導体装置分離工程を示す
説明図である。
【0012】先ず、BGAタイプの半導体装置の構成に
ついて説明すると、短冊状のフレーム基板に穴開けや銅
箔の積層やエッチングなどの工程を繰り返して配線パタ
ーンが複数箇所に形成される。このフレーム基板として
は、ガラスエポキシ樹脂基板や、BTレジンなど用いた
銅張積層基板、ポリイミドなどのテープ基板等が好適に
用いられる。上記フレーム基板に切込みを入れて切断ラ
インを形成することで配線基板が各々形成される。この
切断ラインにより仕切られた各配線基板には、半導体素
子が搭載され、ワイヤボンディングによりランド部と接
合される。上記フレーム基板は、トランスファモールド
装置に搬入されて、上記半導体素子が樹脂モールドされ
てパッケージが形成される。また、上記配線基板のうち
上記パッケージと反対面側のパッド部には、基板端子と
なるはんだボールが接合されて、半導体装置が形成され
る。この半導体装置は、上記フレーム基板より押圧され
ることでゲートブレイクすると共に切断ラインに沿って
該フレーム基板より分離される。
ついて説明すると、短冊状のフレーム基板に穴開けや銅
箔の積層やエッチングなどの工程を繰り返して配線パタ
ーンが複数箇所に形成される。このフレーム基板として
は、ガラスエポキシ樹脂基板や、BTレジンなど用いた
銅張積層基板、ポリイミドなどのテープ基板等が好適に
用いられる。上記フレーム基板に切込みを入れて切断ラ
インを形成することで配線基板が各々形成される。この
切断ラインにより仕切られた各配線基板には、半導体素
子が搭載され、ワイヤボンディングによりランド部と接
合される。上記フレーム基板は、トランスファモールド
装置に搬入されて、上記半導体素子が樹脂モールドされ
てパッケージが形成される。また、上記配線基板のうち
上記パッケージと反対面側のパッド部には、基板端子と
なるはんだボールが接合されて、半導体装置が形成され
る。この半導体装置は、上記フレーム基板より押圧され
ることでゲートブレイクすると共に切断ラインに沿って
該フレーム基板より分離される。
【0013】次に、上記半導体装置の製造工程について
図1〜図5を参照して具体的に説明する。先ず、図1
(a)において、1は短冊状のフレーム基板であり、該
フレーム基板1には複数箇所に配線パターンが形成され
ている。このフレーム基板1には、上記配線パターンに
接続する複数の半導体素子18が搭載されており、該フ
レーム基板1に個々に切込みを入れて切断ライン2が形
成される。この切断ライン2は、四辺に形成されており
このうちゲートが通過するコーナー部が該ゲートを横切
るようゲートライン2aが形成されている。また、上記
切断ライン2は後述するモールド金型のキャビティ形状
と一致するように設計される。
図1〜図5を参照して具体的に説明する。先ず、図1
(a)において、1は短冊状のフレーム基板であり、該
フレーム基板1には複数箇所に配線パターンが形成され
ている。このフレーム基板1には、上記配線パターンに
接続する複数の半導体素子18が搭載されており、該フ
レーム基板1に個々に切込みを入れて切断ライン2が形
成される。この切断ライン2は、四辺に形成されており
このうちゲートが通過するコーナー部が該ゲートを横切
るようゲートライン2aが形成されている。また、上記
切断ライン2は後述するモールド金型のキャビティ形状
と一致するように設計される。
【0014】上記切断ライン2は、図2に示すようにプ
レス装置により形成される。このプレス装置は、パンチ
3、ダイ4及び受け部材5を装備しており、該プレス装
置に上記フレーム基板1が搬入されて、各半導体素子1
8が受け部材5上に配置されるようセットされる。そし
て、上型と下型で上記フレーム基板1をクランプしつつ
上記パンチ3により上記フレーム基板1を押動してダイ
4との協働により所定の深さの切込み(例えばフレーム
厚に対して10%〜15%以下の深さ)を入れて配線基
板6の周囲に切断ライン2を形成するようになってい
る。このように、上記フレーム基板1を完全に切断しな
い半抜き状態で次工程に移送することで、上記半導体素
子18が接続された上記配線基板6が上記フレーム基板
1より脱落することがなく、しかも切断時に樹脂片など
の塵が散乱したりすることはない。また、上記切断ライ
ン2を形成後、押し下げられた上記配線基板6の背面側
より上記受け部材5を上動させて、上記パンチ3側へ押
し戻す動作を加えても良い。これによって、上記配線基
板6を上記フレーム基板1とほぼ面一状にして、樹脂モ
ールド工程におけるキャビティ形状などをシンプルにす
ることができるため、上記フレーム基板1の取扱性を向
上させたり、装置構成を簡素化することができる。
レス装置により形成される。このプレス装置は、パンチ
3、ダイ4及び受け部材5を装備しており、該プレス装
置に上記フレーム基板1が搬入されて、各半導体素子1
8が受け部材5上に配置されるようセットされる。そし
て、上型と下型で上記フレーム基板1をクランプしつつ
上記パンチ3により上記フレーム基板1を押動してダイ
4との協働により所定の深さの切込み(例えばフレーム
厚に対して10%〜15%以下の深さ)を入れて配線基
板6の周囲に切断ライン2を形成するようになってい
る。このように、上記フレーム基板1を完全に切断しな
い半抜き状態で次工程に移送することで、上記半導体素
子18が接続された上記配線基板6が上記フレーム基板
1より脱落することがなく、しかも切断時に樹脂片など
の塵が散乱したりすることはない。また、上記切断ライ
ン2を形成後、押し下げられた上記配線基板6の背面側
より上記受け部材5を上動させて、上記パンチ3側へ押
し戻す動作を加えても良い。これによって、上記配線基
板6を上記フレーム基板1とほぼ面一状にして、樹脂モ
ールド工程におけるキャビティ形状などをシンプルにす
ることができるため、上記フレーム基板1の取扱性を向
上させたり、装置構成を簡素化することができる。
【0015】尚、上記フレーム基板1がポリイミドフィ
ルムなどのテープ基板を用いた場合には、パンチ3の先
端に鋭利な刃を設けておき、該刃先をフレーム基板1に
接触させて超音波振動させることにより、切断ライン2
を形成するようにしても良い。これによって、切断面は
比較的平滑面になるため、プッシュバックしても上記フ
レーム基板1に歪みや変形が生じ難く、樹脂片などの塵
も発生しないため有効である。また、上記超音波振動に
より切断ライン2が形成されるフレーム基板1として、
ポリイミドフィルムなどの剛性の低いテープ基板を用い
た場合には、板厚の5%程度の深さで半抜きした場合に
は変形は殆ど生じないので上記切断ライン2によって囲
まれる配線基板6は僅かな押圧力でフレーム基板1より
分離するため、切断ライン形成工程或いは樹脂モールド
工程で上記配線基板6を押し戻す動作は必ずしも行う必
要はなく、装置構成や製造工程を簡略化することができ
る。
ルムなどのテープ基板を用いた場合には、パンチ3の先
端に鋭利な刃を設けておき、該刃先をフレーム基板1に
接触させて超音波振動させることにより、切断ライン2
を形成するようにしても良い。これによって、切断面は
比較的平滑面になるため、プッシュバックしても上記フ
レーム基板1に歪みや変形が生じ難く、樹脂片などの塵
も発生しないため有効である。また、上記超音波振動に
より切断ライン2が形成されるフレーム基板1として、
ポリイミドフィルムなどの剛性の低いテープ基板を用い
た場合には、板厚の5%程度の深さで半抜きした場合に
は変形は殆ど生じないので上記切断ライン2によって囲
まれる配線基板6は僅かな押圧力でフレーム基板1より
分離するため、切断ライン形成工程或いは樹脂モールド
工程で上記配線基板6を押し戻す動作は必ずしも行う必
要はなく、装置構成や製造工程を簡略化することができ
る。
【0016】次に、図1(b)において、上記フレーム
基板1をトランスファモールド装置のモールド金型へ搬
入して、切断ライン2の内側に沿って上記モールド金型
によりクランプして各半導体素子を樹脂モールドする。
この場合、上記切断ライン2によって囲まれる上記配線
基板6は、上記フレーム基板1に接続されたままである
ので、該配線基板6が小型化してもモールド金型により
良好にクランプすることができる。上記トランスファモ
ールド装置は、キャビティ7が形成された上型8と、上
記キャビティ7に対向するパーティング面に凹部9が形
成された下型10を備えている。この凹部9は、切断ラ
イン形成工程で押圧されてフレーム基板1に対して凹面
となった配線基板6を収容するようになっている(図3
(a)参照)。
基板1をトランスファモールド装置のモールド金型へ搬
入して、切断ライン2の内側に沿って上記モールド金型
によりクランプして各半導体素子を樹脂モールドする。
この場合、上記切断ライン2によって囲まれる上記配線
基板6は、上記フレーム基板1に接続されたままである
ので、該配線基板6が小型化してもモールド金型により
良好にクランプすることができる。上記トランスファモ
ールド装置は、キャビティ7が形成された上型8と、上
記キャビティ7に対向するパーティング面に凹部9が形
成された下型10を備えている。この凹部9は、切断ラ
イン形成工程で押圧されてフレーム基板1に対して凹面
となった配線基板6を収容するようになっている(図3
(a)参照)。
【0017】また、上記上型8と配線基板6との間、及
び上記配線基板6は下型10との間には各々リリースフ
ィルム21が張設されている。上記リリースフィルム2
1は、長尺状のフィルムが繰り出し側及び巻き取り側の
リール間に各々巻回されており、各々上型8及び下型1
0のパーティング面に図示しない吸引機構により吸着さ
れてしわが生じないように張設されている。上記リリー
スフィルム21によりフレーム基板1を上下に覆うこと
により、上記配線基板6が上記フレーム基板1との連結
状態を維持して脱落防止テープとして利用することがで
きる。また、従来上記下型10にフレーム基板1のガイ
ド孔に挿通するガイドピンを設けて該フレーム基板1を
移動させていたが、上記下型10に凹部9を設けること
により上記半抜きされた配線基板6の凹面と嵌合するた
め、上記フレーム基板1の前後左右のずれを規制でき、
ガイド孔やガイドピンを省略することができる(図3
(b)参照)。また、上記上型8と上記配線基板6との
間に張設されたリリースフィルム21によりキャビティ
7及びこれに連通する樹脂路を覆うことにより、エジェ
クタピンを省略可能となり、上記配線基板6と上記下型
10との間に張設されたリリースフィルム21により凹
部9を覆うことにより、樹脂モールド前に上記配線基板
6に接合されたはんだボール22を保護する緩衝材とし
て利用することができる(図3(c)参照)。上記配線
基板6は、上記フレーム基板1に半抜きされた状態で一
体となっているため、上記はんだボール22の接合を樹
脂モールド工程の前に行っても良い。この場合、上記下
型10に形成された凹部9は、上記はんだボール22の
逃げとなるような深さに形成されることが望ましい。
び上記配線基板6は下型10との間には各々リリースフ
ィルム21が張設されている。上記リリースフィルム2
1は、長尺状のフィルムが繰り出し側及び巻き取り側の
リール間に各々巻回されており、各々上型8及び下型1
0のパーティング面に図示しない吸引機構により吸着さ
れてしわが生じないように張設されている。上記リリー
スフィルム21によりフレーム基板1を上下に覆うこと
により、上記配線基板6が上記フレーム基板1との連結
状態を維持して脱落防止テープとして利用することがで
きる。また、従来上記下型10にフレーム基板1のガイ
ド孔に挿通するガイドピンを設けて該フレーム基板1を
移動させていたが、上記下型10に凹部9を設けること
により上記半抜きされた配線基板6の凹面と嵌合するた
め、上記フレーム基板1の前後左右のずれを規制でき、
ガイド孔やガイドピンを省略することができる(図3
(b)参照)。また、上記上型8と上記配線基板6との
間に張設されたリリースフィルム21によりキャビティ
7及びこれに連通する樹脂路を覆うことにより、エジェ
クタピンを省略可能となり、上記配線基板6と上記下型
10との間に張設されたリリースフィルム21により凹
部9を覆うことにより、樹脂モールド前に上記配線基板
6に接合されたはんだボール22を保護する緩衝材とし
て利用することができる(図3(c)参照)。上記配線
基板6は、上記フレーム基板1に半抜きされた状態で一
体となっているため、上記はんだボール22の接合を樹
脂モールド工程の前に行っても良い。この場合、上記下
型10に形成された凹部9は、上記はんだボール22の
逃げとなるような深さに形成されることが望ましい。
【0018】型開きした上記モールド金型へ上記フレー
ム基材1を搬入し、型閉じして上記フレーム基板1をク
ランプしてプランジャ19を上動させてポット20内に
装填された樹脂をキャビティ7へ圧送りして樹脂モール
ドを行う。これによって、各配線基板6上にフリップチ
ップボンディング、ワイヤボンディングなどにより接続
された各半導体素子18を樹脂モールドしてパッケージ
11を形成する(図4参照)。そして、樹脂モールド
後、型開きすると、上記上型8及び下型10とリリース
フィルム21とは各々離型性が良いことから、パッケー
ジ11を含む成形品はモールド金型より容易に離型す
る。そして、上記リリースフィルム21の巻き取り動作
を利用して成形品とフレーム基板1が一体となったまま
上記モールド金型よりゲートブレイク位置へ取り出され
る。尚、上記フレーム基板1の成形品ランナ及び成形品
ゲートに相当する部位には金めっきは施されていないた
め、成形品と上記フレーム基板1とは一体となって移送
される。上記フレーム基板1より配線基板6が脱落しな
いためには、上記リリースフィルム21により上記成形
品と上記フレーム基板1が覆われた状態で取り出される
のが望ましい。
ム基材1を搬入し、型閉じして上記フレーム基板1をク
ランプしてプランジャ19を上動させてポット20内に
装填された樹脂をキャビティ7へ圧送りして樹脂モール
ドを行う。これによって、各配線基板6上にフリップチ
ップボンディング、ワイヤボンディングなどにより接続
された各半導体素子18を樹脂モールドしてパッケージ
11を形成する(図4参照)。そして、樹脂モールド
後、型開きすると、上記上型8及び下型10とリリース
フィルム21とは各々離型性が良いことから、パッケー
ジ11を含む成形品はモールド金型より容易に離型す
る。そして、上記リリースフィルム21の巻き取り動作
を利用して成形品とフレーム基板1が一体となったまま
上記モールド金型よりゲートブレイク位置へ取り出され
る。尚、上記フレーム基板1の成形品ランナ及び成形品
ゲートに相当する部位には金めっきは施されていないた
め、成形品と上記フレーム基板1とは一体となって移送
される。上記フレーム基板1より配線基板6が脱落しな
いためには、上記リリースフィルム21により上記成形
品と上記フレーム基板1が覆われた状態で取り出される
のが望ましい。
【0019】尚、上記切断ライン形成工程で、プレス金
型の受け部材5により上記配線基板6を押し戻さない場
合には、樹脂モールド工程において、図3(b)の破線
に示すように上記下型10のキャビティ7に対向するパ
ーティング面を平坦な面に形成しても良い。この場合、
型閉じにより上記フレーム基板1をクランプする際に、
凹面になっている上記配線基板6がキャビティ7側に押
し戻される。上記構成によれば、予め下型10にフレー
ム基板1の凹面を吸収する凹部9を形成する必要がない
ので、モールド金型の構造を簡略化でき、また切断ライ
ン形成工程で受け部材5も上動させる必要がないので、
装置構成を簡略化して生産コストを低減できる。
型の受け部材5により上記配線基板6を押し戻さない場
合には、樹脂モールド工程において、図3(b)の破線
に示すように上記下型10のキャビティ7に対向するパ
ーティング面を平坦な面に形成しても良い。この場合、
型閉じにより上記フレーム基板1をクランプする際に、
凹面になっている上記配線基板6がキャビティ7側に押
し戻される。上記構成によれば、予め下型10にフレー
ム基板1の凹面を吸収する凹部9を形成する必要がない
ので、モールド金型の構造を簡略化でき、また切断ライ
ン形成工程で受け部材5も上動させる必要がないので、
装置構成を簡略化して生産コストを低減できる。
【0020】次に、図1(c)示すように、樹脂モール
ド後のフレーム基板1よりパッケージ11を押し下げて
ゲートブレイクすると共に切断ライン2に沿って半導体
装置13を上記フレーム基板1より個々に分離して取り
出す。上記パッケージ11の押し下げる位置は、成形品
ゲート15と反対側のパッケージコーナー部14を押し
下げることにより、ゲートライン2aに応力集中が生じ
てゲートブレイクし易くなる。具体的には、図5におい
て、樹脂モールド後のフレーム基板1の治具を兼ねたト
レイ16により上下にクランプすると共に、上記パッケ
ージ11のパッケージコーナー部14を図示しないロッ
ドなどにより押し下げると、切断ライン2に沿って分離
し、上記成形品ゲート15よりゲートライン2aに沿っ
てゲートブレイクして半導体装置13は個々に下側のト
レイ16に収容される。上記トレイ16はゲートブレイ
ク位置より取り出されて、該トレイ16に収容された半
導体装置13は、吸着パッド17などによりパッケージ
11が吸着保持されて収納トレイ(図示せず)に収納さ
れる。
ド後のフレーム基板1よりパッケージ11を押し下げて
ゲートブレイクすると共に切断ライン2に沿って半導体
装置13を上記フレーム基板1より個々に分離して取り
出す。上記パッケージ11の押し下げる位置は、成形品
ゲート15と反対側のパッケージコーナー部14を押し
下げることにより、ゲートライン2aに応力集中が生じ
てゲートブレイクし易くなる。具体的には、図5におい
て、樹脂モールド後のフレーム基板1の治具を兼ねたト
レイ16により上下にクランプすると共に、上記パッケ
ージ11のパッケージコーナー部14を図示しないロッ
ドなどにより押し下げると、切断ライン2に沿って分離
し、上記成形品ゲート15よりゲートライン2aに沿っ
てゲートブレイクして半導体装置13は個々に下側のト
レイ16に収容される。上記トレイ16はゲートブレイ
ク位置より取り出されて、該トレイ16に収容された半
導体装置13は、吸着パッド17などによりパッケージ
11が吸着保持されて収納トレイ(図示せず)に収納さ
れる。
【0021】尚、上記製造工程において、樹脂モールド
工程後、半導体装置13をゲートブレイクする前に、必
要に応じて配線基板6のパッケージ11と反対側のパッ
ド部分にはんだボールを接合する工程を設けても良い。
上記半導体装置13が個々に分離した後にはんだボール
を接合するとすれば、ハンドリングが難しく装置が複雑
化するためである。
工程後、半導体装置13をゲートブレイクする前に、必
要に応じて配線基板6のパッケージ11と反対側のパッ
ド部分にはんだボールを接合する工程を設けても良い。
上記半導体装置13が個々に分離した後にはんだボール
を接合するとすれば、ハンドリングが難しく装置が複雑
化するためである。
【0022】上記構成によれば、複数の半導体素子が搭
載されたフレーム基板1に個々に切込みを入れて切断ラ
イン2を形成しているので、不要な基板部分を無くして
パッケージの小型化を図ることができ、各半導体装置1
3を形成する配線基板6を完全に切断しない半抜き状態
で上記フレーム基板1に一体となったまま次工程に移送
することで、上記各半導体装置13が上記フレーム基板
1より脱落することがないためハンドリングが良く、し
かも切断時に樹脂片などの塵が散乱したりすることはな
い。また、切断刃を有するパンチを上記フレーム基板1
に接触させながら超音波振動を加えることにより上記切
断ライン2を形成する場合には、切断面が平滑になるた
め、押し戻しにより上記フレーム基板1の歪みや変形は
生じ難く、樹脂片などの塵も発生し難くなる。特に、テ
ープ基板のように剛性の低いフレーム基板1の場合、上
記切断ライン2によって囲まれる配線基板6は僅かな押
圧力でフレーム基板1より分離するため、切断ライン形
成工程或いは樹脂モールド工程で上記配線基板6を押し
戻す動作は不要であり、装置構成や製造工程を簡略化す
ることができる。また、上記切断ライン2により囲まれ
た上記配線基板6をパンチ3側へ押し戻す動作を加えて
上記配線基板6を上記フレーム基板1とほぼ面一状にす
ることにより、樹脂モールド工程におけるキャビティ形
状などをシンプルにすることができるため、上記フレー
ム基板1の取扱性を向上させたり、装置構成を簡素化す
ることができる。また、樹脂封止モールド工程におい
て、リリースフィルム21を用いるため、切断ライン2
により囲まれた配線基板6のフレーム基板1からの脱落
を防止したり、エジェクタピンを省略したり、はんだボ
ール22の破損も防止できる。
載されたフレーム基板1に個々に切込みを入れて切断ラ
イン2を形成しているので、不要な基板部分を無くして
パッケージの小型化を図ることができ、各半導体装置1
3を形成する配線基板6を完全に切断しない半抜き状態
で上記フレーム基板1に一体となったまま次工程に移送
することで、上記各半導体装置13が上記フレーム基板
1より脱落することがないためハンドリングが良く、し
かも切断時に樹脂片などの塵が散乱したりすることはな
い。また、切断刃を有するパンチを上記フレーム基板1
に接触させながら超音波振動を加えることにより上記切
断ライン2を形成する場合には、切断面が平滑になるた
め、押し戻しにより上記フレーム基板1の歪みや変形は
生じ難く、樹脂片などの塵も発生し難くなる。特に、テ
ープ基板のように剛性の低いフレーム基板1の場合、上
記切断ライン2によって囲まれる配線基板6は僅かな押
圧力でフレーム基板1より分離するため、切断ライン形
成工程或いは樹脂モールド工程で上記配線基板6を押し
戻す動作は不要であり、装置構成や製造工程を簡略化す
ることができる。また、上記切断ライン2により囲まれ
た上記配線基板6をパンチ3側へ押し戻す動作を加えて
上記配線基板6を上記フレーム基板1とほぼ面一状にす
ることにより、樹脂モールド工程におけるキャビティ形
状などをシンプルにすることができるため、上記フレー
ム基板1の取扱性を向上させたり、装置構成を簡素化す
ることができる。また、樹脂封止モールド工程におい
て、リリースフィルム21を用いるため、切断ライン2
により囲まれた配線基板6のフレーム基板1からの脱落
を防止したり、エジェクタピンを省略したり、はんだボ
ール22の破損も防止できる。
【0023】また、上記各半導体装置13にはんだボー
ルを接合する工程を樹脂モールド工程の前後を問わず行
うこうとができ、しかも各半導体装置13を上記フレー
ム基板1より分離しない状態で行えるので、きわめてハ
ンドリングが良く、作業性を向上させることも可能であ
る。また、予めフレーム基板1のランナ,ゲートに対応
する部位に金めっきを施す必要がないため、製造コスト
を低減することができ、しかも樹脂モールド後の上記フ
レーム基板1をゲートブレイクする際に、各半導体装置
13が上記フレーム基板1より脱落することがなく、不
要なフレーム基板1や不要樹脂が一体となって除去でき
るので、取扱性が極めて良い。
ルを接合する工程を樹脂モールド工程の前後を問わず行
うこうとができ、しかも各半導体装置13を上記フレー
ム基板1より分離しない状態で行えるので、きわめてハ
ンドリングが良く、作業性を向上させることも可能であ
る。また、予めフレーム基板1のランナ,ゲートに対応
する部位に金めっきを施す必要がないため、製造コスト
を低減することができ、しかも樹脂モールド後の上記フ
レーム基板1をゲートブレイクする際に、各半導体装置
13が上記フレーム基板1より脱落することがなく、不
要なフレーム基板1や不要樹脂が一体となって除去でき
るので、取扱性が極めて良い。
【0024】上記実施例は、BGAタイプの半導体装置
の製造工程を例示したがこれに限定されるものではな
く、他のチップサイズパッケージに適用することが可能
である。また、切断ライン形成工程における切断ライン
の深さは、フレーム基板の材質(樹脂基板、テープ基板
など)により様々に設定可能である。また、樹脂モール
ド工程において、上型側にキャビティが形成された片面
モールドタイプのモールド金型を用いて説明したが、こ
れに限定されるものではなく、下型側にキャビティを有
する片面モールドタイプの装置や、両面モールドタイプ
の装置に適用することも可能である。また、上記半導体
装置の製造方法は、装置形態が独立タイプであるかイン
ラインタイプであるかを問わず様々なタイプの半導体製
造工程について適用可能である等、発明の精神を逸脱し
ない範囲内でさらに多くの改変を施し得るのはもちろん
のことである。
の製造工程を例示したがこれに限定されるものではな
く、他のチップサイズパッケージに適用することが可能
である。また、切断ライン形成工程における切断ライン
の深さは、フレーム基板の材質(樹脂基板、テープ基板
など)により様々に設定可能である。また、樹脂モール
ド工程において、上型側にキャビティが形成された片面
モールドタイプのモールド金型を用いて説明したが、こ
れに限定されるものではなく、下型側にキャビティを有
する片面モールドタイプの装置や、両面モールドタイプ
の装置に適用することも可能である。また、上記半導体
装置の製造方法は、装置形態が独立タイプであるかイン
ラインタイプであるかを問わず様々なタイプの半導体製
造工程について適用可能である等、発明の精神を逸脱し
ない範囲内でさらに多くの改変を施し得るのはもちろん
のことである。
【0025】
【発明の効果】本発明は前述したように、複数の半導体
素子が搭載されたフレーム基板に個々に切込みを入れて
切断ラインを形成しているので、不要な基板部分を省略
してパッケージの小型化を図ることができ、各半導体装
置を形成する配線基板を完全に切断しない半抜き状態で
上記フレーム基板に一体となったまま次工程に移送する
ことで、上記各半導体装置が上記フレーム基板より脱落
することがないためハンドリングが良く、しかも切断時
に樹脂片などの塵が散乱したりすることはない。また、
切断刃を有するパンチを上記フレーム基板に接触させな
がら超音波振動を加えることにより上記切断ラインを形
成する場合には、切断面が平滑になるため、プッシュバ
ックにより上記フレーム基板の歪みや変形は生じ難く、
樹脂片などの塵も発生し難くなる。特に、テープ基板の
ように剛性の低いフレーム基板の場合、上記切断ライン
によって囲まれる配線基板は僅かな押圧力で上記フレー
ム基板より分離するため、切断ライン形成工程或いは樹
脂モールド工程で上記配線基板を押し戻す動作は不要で
あり、装置構成や製造工程を簡略化することができる。
また、上記切断ラインにより囲まれた上記配線基板をパ
ンチ側へ押し戻す動作を加えて上記配線基板を上記フレ
ーム基板とほぼ面一状にすることにより、樹脂モールド
工程におけるキャビティ形状などをシンプルにすること
ができるため、上記フレーム基板の取扱性を向上させた
り、装置構成を簡素化することができる。また、樹脂封
止モールド工程において、リリースフィルムを用いるた
め、切断ラインにより囲まれた配線基板のフレーム基板
からの脱落を防止したり、エジェクタピンを省略した
り、はんだボールの破損も防止できる。また、上記各半
導体装置にはんだボールを接合する工程を樹脂モールド
工程の前後を問わず行うこうとができ、しかも各半導体
装置を上記フレーム基板より分離しない状態で行えるの
で、きわめてハンドリングが良く、作業性を向上させる
ことも可能である。また、予めフレーム基板のランナ,
ゲートに対応する部位に金めっきを施す必要がないた
め、製造コストを低減することができ、しかも樹脂モー
ルド後の上記フレーム基板をゲートブレイクする際に、
各半導体装置が上記フレーム基板より脱落することがな
く、不要なフレーム基板や不要樹脂が一体となって除去
できるので、取扱性が極めて良い。
素子が搭載されたフレーム基板に個々に切込みを入れて
切断ラインを形成しているので、不要な基板部分を省略
してパッケージの小型化を図ることができ、各半導体装
置を形成する配線基板を完全に切断しない半抜き状態で
上記フレーム基板に一体となったまま次工程に移送する
ことで、上記各半導体装置が上記フレーム基板より脱落
することがないためハンドリングが良く、しかも切断時
に樹脂片などの塵が散乱したりすることはない。また、
切断刃を有するパンチを上記フレーム基板に接触させな
がら超音波振動を加えることにより上記切断ラインを形
成する場合には、切断面が平滑になるため、プッシュバ
ックにより上記フレーム基板の歪みや変形は生じ難く、
樹脂片などの塵も発生し難くなる。特に、テープ基板の
ように剛性の低いフレーム基板の場合、上記切断ライン
によって囲まれる配線基板は僅かな押圧力で上記フレー
ム基板より分離するため、切断ライン形成工程或いは樹
脂モールド工程で上記配線基板を押し戻す動作は不要で
あり、装置構成や製造工程を簡略化することができる。
また、上記切断ラインにより囲まれた上記配線基板をパ
ンチ側へ押し戻す動作を加えて上記配線基板を上記フレ
ーム基板とほぼ面一状にすることにより、樹脂モールド
工程におけるキャビティ形状などをシンプルにすること
ができるため、上記フレーム基板の取扱性を向上させた
り、装置構成を簡素化することができる。また、樹脂封
止モールド工程において、リリースフィルムを用いるた
め、切断ラインにより囲まれた配線基板のフレーム基板
からの脱落を防止したり、エジェクタピンを省略した
り、はんだボールの破損も防止できる。また、上記各半
導体装置にはんだボールを接合する工程を樹脂モールド
工程の前後を問わず行うこうとができ、しかも各半導体
装置を上記フレーム基板より分離しない状態で行えるの
で、きわめてハンドリングが良く、作業性を向上させる
ことも可能である。また、予めフレーム基板のランナ,
ゲートに対応する部位に金めっきを施す必要がないた
め、製造コストを低減することができ、しかも樹脂モー
ルド後の上記フレーム基板をゲートブレイクする際に、
各半導体装置が上記フレーム基板より脱落することがな
く、不要なフレーム基板や不要樹脂が一体となって除去
できるので、取扱性が極めて良い。
【図1】半導体装置の製造工程を示す説明図である。
【図2】図1のフレーム基板の切断ライン形成工程を示
す説明図である。
す説明図である。
【図3】図1の樹脂モールド工程を示す説明図である。
【図4】図1の樹脂モールド工程を示す説明図である。
【図5】図1の半導体装置分離工程を示す説明図であ
る。
る。
【図6】従来の樹脂モールド後のフレーム基板を示す説
明図である。
明図である。
【図7】従来のフレーム基板のゲートブレイク方法を示
す説明図である。
す説明図である。
1 フレーム基板 2 切断ライン 2a ゲートライン 3 パンチ 4 ダイ 5 受け部材 6 配線基板 7 キャビティ 8 上型 9 凹部 10 下型 11 パッケージ 12 エジェクタピン 13 半導体装置 14 パッケージコーナー部 15 成形品ゲート 16 トレイ 17 吸着パッド 18 半導体素子 19 ポット 20 プランジャ 21 リリースフィルム 22 はんだボール
Claims (4)
- 【請求項1】 半導体素子が搭載されたフレーム基板に
個々に切込みを入れて切断ラインを形成する切断ライン
形成工程と、 リリースフィルムが張設されたモールド金型に前記フレ
ーム基板を搬入して、前記切断ラインの内側に沿って前
記フレーム基板をクランプして前記半導体素子を樹脂モ
ールドする樹脂モールド工程と、 樹脂モールド後、前記モールド金型より取り出された前
記フレーム基板より、前記切断ラインに沿って半導体装
置を分離する半導体装置分離工程と、 を備えたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 【請求項2】 前記樹脂モールド工程前に、前記フレー
ム基板の前記半導体素子搭載面と反対面側に配線パター
ンに接続するはんだボールを接合する工程を備えている
ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方
法。 - 【請求項3】 前記切断ライン形成工程は、切断刃を有
するパンチを前記フレーム基板に接触させながら超音波
振動を加えることにより前記切断ラインを形成すること
を特徴とする請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 【請求項4】 前記半導体装置分離工程は、前記フレー
ム基板に形成されたパッケージに連続する成形品ゲート
と反対側のコーナー部を押圧することによりゲートブレ
イクして、前記半導体装置が前記フレーム基板より前記
切断ラインに沿って分離されることを特徴とする請求項
1記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10107725A JPH11307558A (ja) | 1998-04-17 | 1998-04-17 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10107725A JPH11307558A (ja) | 1998-04-17 | 1998-04-17 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11307558A true JPH11307558A (ja) | 1999-11-05 |
Family
ID=14466376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10107725A Pending JPH11307558A (ja) | 1998-04-17 | 1998-04-17 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11307558A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100365781C (zh) * | 2002-10-14 | 2008-01-30 | 矽品精密工业股份有限公司 | 球栅阵列式半导体芯片封装制程 |
-
1998
- 1998-04-17 JP JP10107725A patent/JPH11307558A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100365781C (zh) * | 2002-10-14 | 2008-01-30 | 矽品精密工业股份有限公司 | 球栅阵列式半导体芯片封装制程 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050223 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050810 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060725 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061121 |