JPH1130779A - 液晶配向剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶配向性が良好であり、かつ液晶表示素
子の残像消去時間が短く、かつ長期に亘る保存安定性に
優れた液晶配向剤を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）（ａ）ポリアミック酸構造を有
する重合体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環
して得られるイミド構造を有する重合体よりなる群から
選ばれる１種以上の重合体と、（Ｂ）ポリアミック酸シ
リルエステル構造を有する重合体とを含有することを特
徴とする液晶配向剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の液
晶配向膜を形成するために用いられる液晶配向剤に関す
る。さらに詳しくは、液晶配向性が良好であり、かつ液
晶表示素子の残像消去時間が短く、かつ長期に亘る保存
安定性に優れた液晶配向剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、透明導電膜を介して液晶配向膜が
表面に形成されている２枚の基板の間に、正の誘電異方
性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッ
チ構造のセルとし、前記液晶分子の長軸が一方の基板か
ら他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにし
たＴＮ（Twisted Nematic）型液晶セルを有するＴＮ型
液晶表示素子が知られている。このＴＮ型液晶表示素子
などの液晶表示素子における液晶の配向は、通常、ラビ
ング処理により液晶分子の配向能が付与された液晶配向
膜により実現される。ここに、液晶表示素子を構成する
液晶配向膜の材料としては、従来より、ポリイミド、ポ
リアミドおよびポリエステルなどの樹脂が知られてい
る。特にポリイミドは、耐熱性、液晶との親和性、機械
的強度などに優れているため多くの液晶表示素子に使用
されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来知
られているポリアミック酸やそれを脱水閉環して得られ
る構造を有するイミド化重合体を含有する液晶配向剤を
用いて液晶表示素子などを作製した場合、画像表示時
（電圧印加）に発生して液晶配向膜に吸着されたイオン
性電荷が、画像消去後（電圧印加の解除後）においても
液晶配向膜から脱着されず、電圧解除後における液晶配
向膜に電圧が残留蓄積され、この残留電圧に起因して、
電圧印加の解除後における表示画面に残像が生じるとい
う問題がある。また、液晶配向剤の保存中に溶液の粘度
変化が生じ、印刷時に膜厚のバラツキが発生し、表示不
良を引き起こしてしまうという問題もある。

【０００４】本発明は、以上のような事情に鑑みてなさ
れたものであって、本発明の第１の目的は、ラビング処
理によって液晶分子の配向能が確実に付与され、優れた
液晶配向性を有する液晶配向膜を備えた液晶表示素子を
与えることができる液晶配向剤を提供することである。
本発明の第２の目的は、残像消去時間の短い液晶表示素
子を与える液晶配向剤を提供することである。本発明の
第３の目的は、保存安定性に優れた液晶配向剤を提供す
ることである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的および
利点は、（Ａ）（ａ）ポリアミック酸構造を有する重合
体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環して得ら
れるイミド構造を有する重合体よりなる群から選ばれる
１種以上の重合体（以下、「特定重合体（Ａ）」ともい
う）と、（Ｂ）ポリアミック酸シリルエステル構造を有
する重合体（以下、「特定重合体（Ｂ）」ともいう）と
を含有することを特徴とする液晶配向剤によって達成さ
れる。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に関して、具体的に
説明する。 ＜特定重合体（Ａ）＞本発明の液晶配向剤に用いられる
特定重合体（Ａ）は、テトラカルボン酸二無水物とジア
ミン化合物とを有機溶剤中で反応させてポリアミック酸
を合成し、さらに必要に応じて該ポリアミック酸を脱水
閉環させて得ることができる。

【０００７】テトラカルボン酸二無水物 上記ポリアミック酸の合成に用いられるテトラカルボン
酸二無水物としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン
酸二無水物、１,２−ジメチル−１,２,３,４−シクロブ
タンテトラカルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,
２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１,３−ジクロロ−１,２,３,４−シクロブタンテトラカ
ルボン酸二無水物、１,２,３,４−テトラメチル−１,
２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、
１,２,３,４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水
物、１,２,４,５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二
無水物、３,３’,４,４’−ジシクロヘキシルテトラカ
ルボン酸二無水物、２,３,５−トリカルボキシシクロペ
ンチル酢酸二無水物、３,５,６−トリカルボキシノルボ
ルナン−２−酢酸二無水物、２,３,４,５−テトラヒド
ロフランテトラカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,４,
５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２,５−ジ
オキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキ
ソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−
１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ
−５−エチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−
３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３
−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７
−メチル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−
フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジ
オン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エ
チル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラ
ニル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオ
ン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチ
ル−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−
５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）
−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５,８−ジメチル
−５（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニ
ル）−ナフト［１,２−ｃ］−フラン−１,３−ジオン、
５−（２,５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メ
チル−３−シクロヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無
水物、ビシクロ［２,２,２］−オクト−７−エン−２,
３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、下記式（Ｉ）お
よび（II）で表される化合物などの脂肪族および脂環式
テトラカルボン酸二無水物；

【０００８】

【化１】

【０００９】（式中、Ｒ¹ およびＲ³ は芳香環を有する
２価の有機基を示し、Ｒ² およびＲ⁴は、水素原子また
はアルキル基を示し、複数存在するＲ² およびＲ⁴ は、
それぞれ同一でも異なっていてもよい。）

【００１０】ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,
４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３,
３’,４,４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二
無水物、１,４,５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、２,３,６,７−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物、３,３’,４,４’−ビフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−ジメチルジフ
ェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,
４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水
物、１,２,３,４−フランテトラカルボン酸二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルスルフィド二無水物、４,４’−ビス（３,４−ジ
カルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、
４,４’−ビス（３,４−ジカルボキシフェノキシ）ジフ
ェニルプロパン二無水物、３,３’,４,４’−パーフル
オロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３,３’,
４,４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス
（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、
ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水
物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二
無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４,４’−ジ
フェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル
酸）−４,４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレン
グリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロ
ピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテー
ト）、１,４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリ
メリテート）、１,６−ヘキサンジオール−ビス（アン
ヒドロトリメリテート）、１,８−オクタンジオール−
ビス（アンヒドロトリメリテート）、２,２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロト
リメリテート）、下記式（１）〜（４）で表される化合
物などの芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げること
ができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わ
せて用いられる。

【００１１】

【化２】

【００１２】これらのうち、ブタンテトラカルボン酸二
無水物、１,２,３,４−シクロブタンテトラカルボン酸
二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−シクロブタ
ンテトラカルボン酸二無水物、１,２,３,４−シクロペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２,５−ジ
オキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロ
ヘキセン−１,２−ジカルボン酸二無水物、１,３,３ａ,
４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキ
サヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒ
ドロ−５,８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２,５−
ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］フラ
ン−１,３−ジオン、ビシクロ［２,２,２］−オクト−
７−エン−２,３,５,６−テトラカルボン酸二無水物、
ピロメリット酸二無水物、３,３’,４,４’−ベンゾフ
ェノンテトラカルボン酸二無水物、３,３’,４,４’−
ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１,４,
５,８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式
（Ｉ）で表される化合物のうち下記式（５）〜（７）で
表される化合物および上記式（II）で表される化合物の
うち下記式（８）で表される化合物が、良好な液晶配向
性を発現させることができる観点から好ましく、特に好
ましいものとして、１,２,３,４−シクロブタンテトラ
カルボン酸二無水物、１,３−ジメチル−１,２,３,４−
シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２,３,５−ト
リカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１,３,３
ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−
２,５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−
ｃ］フラン−１,３−ジオン、１,３,３ａ,４,５,９ｂ−
ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２,
５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１,２−ｃ］
フラン−１,３−ジオン、ピロメリット酸二無水物およ
び下記式（５）で表される化合物を挙げることができ
る。

【００１３】

【化３】

【００１４】ジアミン化合物 上記ポリアミック酸の合成に用いられるジアミン化合物
としては、例えばｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニ
レンジアミン、４,４’−ジアミノジフェニルメタン、
４,４’−ジアミノジフェニルエタン、４,４’−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、４,４’−ジアミノジフェニ
ルスルホン、３,３’−ジメチル−４,４’−ジアミノビ
フェニル、４,４’−ジアミノベンズアニリド、４,４’
−ジアミノジフェニルエーテル、１,５−ジアミノナフ
タレン、３,３−ジメチル−４,４’−ジアミノビフェニ
ル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１,
３,３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’
−アミノフェニル）−１,３,３−トリメチルインダン、
３,４’−ジアミノジフェニルエーテル、３,３’−ジア
ミノベンゾフェノン、３,４’−ジアミノベンゾフェノ
ン、４,４’−ジアミノベンゾフェノン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、
２,２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニ
ル］ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス（４−アミ
ノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２,２−ビス
［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、
１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３
−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１,３−ビ
ス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９,９−ビス
（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、
２,７−ジアミノフルオレン、９,９−ビス（４−アミノ
フェニル）フルオレン、４,４’−メチレン−ビス（２
−クロロアニリン）、２,２’,５,５’−テトラクロロ
−４,４’−ジアミノビフェニル、２,２’−ジクロロ−
４,４’−ジアミノ−５,５’−ジメトキシビフェニル、
３,３’−ジメトキシ−４,４’−ジアミノビフェニル、
１,４,４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビス
アニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデ
ン）ビスアニリン、２,２’−ビス［４−（４−アミノ
−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキ
サフルオロプロパン、４,４’−ジアミノ−２,２’−ビ
ス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４,４’−ビス
［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキ
シ］−オクタフルオロビフェニルなどの芳香族ジアミ
ン；

【００１５】１,１−メタキシリレンジアミン、１,３−
プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメ
チレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチ
レンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレン
ジアミン、４,４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、
１,４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、
ヘキサヒドロ−４,７−メタノインダニレンジメチレン
ジアミン、トリシクロ［６.２.１.０2,7］−ウンデシレ
ンジメチルジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロ
ヘキシルアミン）などの脂肪族および脂環式ジアミン；

【００１６】２,３−ジアミノピリジン、２,６−ジアミ
ノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、２,４−ジアミ
ノピリミジン、５,６−ジアミノ−２,３−ジシアノピラ
ジン、５,６−ジアミノ−２,４−ジヒドロキシピリミジ
ン、２,４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１,３,５
−トリアジン、１,４−ビス（３−アミノプロピル）ピ
ペラジン、２,４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１,
３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メトキシ−
１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−フェニ
ル−１,３,５−トリアジン、２,４−ジアミノ−６−メ
チル−ｓ−トリアジン、２,４−ジアミノ−１,３,５−
トリアジン、４,６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリ
アジン、２,４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、
２,６−ジアミノプリン、５,６−ジアミノ−１,３−ジ
メチルウラシル、３,５−ジアミノ−１,２,４−トリア
ゾール、６,９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラ
クテート、３,８−ジアミノ−６−フェニルフェナント
リジン、１,４−ジアミノピペラジン、３,６−ジアミノ
アクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミ
ンおよび下記式（III）および（IV）で表される化合物
などの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミ
ノ基以外の窒素原子を有するジアミン；

【００１７】

【化４】

【００１８】（式中、Ｒ⁵ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示す。）

【００１９】

【化５】

【００２０】（式中、Ｒ⁶ は、ピリジン、ピリミジン、
トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる
窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基を示し、Ｘ
は２価の有機基を示し、複数存在するＸは、同一でも異
なっていてもよい。）

【００２１】下記式（Ｖ）で表されるモノ置換フェニレ
ンジアミン類；下記式（VI）で表されるジアミノオルガ
ノシロキサン；

【００２２】

【化６】

【００２３】（式中、Ｒ⁷ は、−Ｏ−、−ＣＯＯ−、−
ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−および−ＣＯ−
から選ばれる２価の有機基を示し、Ｒ⁸ は、ステロイド
骨格、トリフルオロメチル基およびフルオロ基から選ば
れる基を有する１価の有機基または炭素数６〜３０のア
ルキル基を示す。）

【００２４】

【化７】

【００２５】（式中、Ｒ⁹ は炭素数１〜１２の炭化水素
基を示し、複数存在するＲ⁹ は、それぞれ同一でも異な
っていてもよく、ｐは１〜３の整数であり、ｑは１〜２
０の整数である。）

【００２６】下記式（９）〜（１３）で表される化合物
などを挙げることができる。これらのジアミン化合物
は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることがで
きる。

【００２７】

【化８】

【００２８】（式中、ｙは２〜１２の整数であり、ｚは
１〜５の整数である。）

【００２９】これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、
４,４’−ジアミノジフェニルメタン、４,４’−ジアミ
ノジフェニルスルフィド、１,５−ジアミノナフタレ
ン、２,７−ジアミノフルオレン、４,４’−ジアミノジ
フェニルエーテル、２,２−ビス［４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル］プロパン、９,９−ビス（４−ア
ミノフェニル）フルオレン 、２,２−ビス［４−（４
−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパ
ン、２,２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオ
ロプロパン、４,４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピ
リデン）ビスアニリン、４,４’−（ｍ−フェニレンジ
イソプロピリデン）ビスアニリン、１,４−シクロヘキ
サンジアミン、４,４’−メチレンビス（シクロヘキシ
ルアミン）、１,４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベ
ンゼン、４,４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフ
ェニル、上記式（９）〜（１３）で表される化合物、
２,６−ジアミノピリジン、３,４−ジアミノピリジン、
２,４−ジアミノピリミジン、３,６−ジアミノアクリジ
ン、上記式（III） で表される化合物のうち下記式
（１４）で表される化合物、上記式（IV）で表される化
合物のうち下記式（１５）で表される化合物および上記
式（Ｖ）で表される化合物のうち下記式（１６）〜（２
１）で表される化合物が好ましい。

【００３０】

【化９】

【００３１】（ａ）ポリアミック酸 ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸
二無水物とジアミン化合物の使用割合は、ジアミン化合
物に含まれるアミノ基１当量に対して、テトラカルボン
酸二無水物の酸無水物基が０.２〜２当量となる割合が
好ましく、より好ましくは０.３〜１.２当量となる割合
である。ポリアミック酸の合成反応は、有機溶媒中で、
通常０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃の反応温度
で１〜４８時間にわたって行われる。上記有機溶媒とし
ては、反応で生成する反応物を溶解しうるものであれば
特に制限はない。例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリド
ン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクト
ン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミ
ドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシ
レノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフ
ェノール系溶媒を挙げることができる。有機溶媒の使用
量は、通常、テトラカルボン酸二無水物およびジアミン
化合物の総量が、反応溶液の全量に対して０.１〜３０
重量％になるようにするのが好ましい。

【００３２】なお、上記有機溶媒には、ポリアミック酸
の貧溶媒であるアルコール類、ケトン類、エステル類、
エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類など
を、生成するポリアミック酸が析出しない範囲で併用す
ることができる。かかる貧溶媒の具体例としては、例え
ばメチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピル
アルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、１,４−ブタンジオール、
トリエチレングリコール、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチ
ルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチ
レングリコールエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノフェニルエーテル、エチレングリコールメチルフェニ
ルエーテル、エチレングリコールエチルフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチル
エーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルア
セテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールメチルエーテルアセテー
ト、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２,４−
ペンタンジオン、２,５−ヘキサンジオン、２−ヒドロ
キシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチル
プロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロ
ピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸
エチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、
３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピ
オン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−
エトキシプロピオン酸メチル、ピルビン酸メチル、ピル
ビン酸エチル、ピルビン酸ヒドロキシメチル、アセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、メチルメトキシブタノー
ル、エチルメトキシブタノール、メチルエトキシブタノ
ール、エチルエトキシブタノール、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロフルフリルアルコール、テトラヒドロ
−３−フランメタノール、１,３−ジオキソラン、１,３
−ジオキセパン、４−メチル−１,３−ジオキソラン、
ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタン、１,４−ジク
ロロブタン、トリクロロエタン、クロルベンゼン、ｏ−
ジクロルベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベ
ンゼン、トルエン、キシレンなどを挙げることができ
る。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用い
られる。

【００３３】以上の合成反応によって、ポリアミック酸
を溶解してなる反応溶液が得られる。そして、この反応
溶液を大量の貧溶媒中に注いで析出物を得、この析出物
を減圧下乾燥することによりポリアミック酸を得ること
ができる。また、このポリアミック酸を再び有機溶媒に
溶解させ、次いで貧溶媒で析出する工程を１回または数
回行うことにより、ポリアミック酸の精製を行うことが
できる。

【００３４】（ｂ）イミド化重合体 本発明の液晶配向剤の構成成分であるイミド化重合体
は、上記ポリアミック酸を脱水閉環することにより調製
することができる。ポリアミック酸の脱水閉環は、
（ｉ）ポリアミック酸を加熱する方法により、または
（ii）ポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中
に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱
する方法により行われる。上記（ｉ）のポリアミック酸
を加熱する方法における反応温度は、通常５０〜２００
℃とされ、好ましくは６０〜１７０℃とされる。反応温
度が５０℃未満では脱水閉環反応が十分に進行せず、反
応温度が２００℃を超えると得られるイミド化重合体の
分子量が低下することがある。一方、上記（ii）のポリ
アミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加
する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、
無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水
物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミ
ック酸の繰り返し単位１モルに対して０.０１〜２０モ
ルとするのが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、
例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミ
ンなどの３級アミンを用いることができる。しかし、こ
れらに限定されるものではない。脱水閉環触媒の使用量
は、使用する脱水剤１モルに対して０.０１〜１０モル
とするのが好ましい。なお、脱水閉環反応に用いられる
有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられる
ものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。そ
して、脱水閉環反応の反応温度は、通常０〜１８０℃、
好ましくは１０〜１５０℃とされる。また、このように
して得られる反応溶液に対し、ポリアミック酸の精製方
法と同様の操作を行うことにより、イミド化重合体を精
製することができる。また、本発明に用いられるイミド
化重合体は、イミド化率の低い重合体であっても良い。
上記方法（ｉ）および（ii）における脱水閉環反応の反
応条件をコントロールすることにより、イミド化率を調
製することができる。また、テトラカルボン酸二無水
物、ジアミン化合物およびジイソシアネート化合物を混
合し、必要に応じて加熱して縮合させることによって、
イミド化率の低い重合体を調製することもできる。ここ
で、「イミド化率」とは、重合体中の全ての繰り返し単
位における、イミド基またはイソイミド基を有する繰り
返し単位の割合を％で表したものである。

【００３５】＜特定重合体（Ｂ）＞本発明の液晶配向剤
の構成成分である特定重合体（Ｂ）は、（iii） テトラ
カルボン酸二無水物とＮ，Ｎ′−ビスシリル化ジアミン
化合物および／またはＮ−シリル化ジアミン化合物を反
応させる方法により、または（iv）ポリアミック酸とシ
リル化剤を反応させる方法により得ることができる。上
記（iii） の方法において使用するＮ，Ｎ′−ビスシリ
ル化ジアミン化合物および／またはＮ−シリル化ジアミ
ン化合物は、例示したジアミン化合物とシリル化剤を反
応させることによって得られる。上記反応に用いるシリ
ル化剤としては、例えば、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリ
ルアセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルトリフ
ルオロアセトアミド、クロロトリメチルシラン、１，
１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラザン、Ｎ−メ
トキシ−Ｎ，Ｏ−ビストリメチルシリルカルバメート、
Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−
メチル−Ｎ−トリメチルシリルヘプタフルオロブチルア
ミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリフルオロ
アセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾール、Ｎ
−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−トリメチルシリ
ルジエチルアミン、Ｎ−トリメチルシリルジメチルアミ
ン、クロロジメチルシラン、１，１，３，３−テトラメ
チルジシラザン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルクロロシラ
ン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルイミダゾール、Ｎ
−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−Ｎ−メチルトリフ
ルオロアセトアミド、ジメチルエチルクロロシラン、ジ
メチルエチルシリルイミダゾール、ジメチルイソプロピ
ルクロロシラン、ジメチルイソプロピルシリルイミダゾ
ール、ジメチル−ｎ−プロピルクロロシラン、ジメチル
−ｎ−プロピルシリルイミダゾール、１，３−ビスクロ
ロメチルテトラメチルジシラザン、ブロモメチルジメチ
ルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラン、
アリルジメチルクロロシラン、Ｎ，Ｏ−ビスジエチルハ
イドロジェンシリルトリフルオロアセトアミド、１−シ
アノエチルジエチルアミノジメチルシラン、ジクロロジ
エチルシラン、１，３−ジフェニルテトラメチルジシラ
ザン、ペンタフルオロフェニルジメチルクロロシラン、
パンタフルオロフェニルジメチルシリルジエチルアミン
などを挙げることができる。これらの内、Ｎ，Ｏ−ビス
トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ，Ｏ−ビストリメチ
ルシリルトリフルオロアセトアミド、クロロトリメチル
シラン、１，１，１，３，３，３−ヘキサメチルジシラ
ザン、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルアセトアミ
ド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルヘプタフルオロ
ブチルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−トリメチルシリルトリ
フルオロアセトアミド、Ｎ−トリメチルシリルイミダゾ
ール、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド、Ｎ−トリメ
チルシリルジエチルアミン、Ｎ−トリメチルシリルジメ
チルアミン、１，１，３，３−テトラメチルジシラザン
を好ましい例として挙げることができる。テトラカルボ
ン酸二無水物とＮ，Ｎ′−ビスシリル化ジアミン化合物
および／またはＮ−シリル化ジアミン化合物の反応に用
いられる溶剤としては、ポリアミック酸の合成に用いら
れるものとして例示した有機溶剤を挙げることができ
る。また、Ｎ，Ｎ′−ビスシリル化ジアミン化合物およ
び／またはＮ−シリル化ジアミン化合物とジアミン化合
物を反応時に共存させることによって、任意にシリル化
率を調整することができる。上記（iv）の方法による
と、特定重合体（Ｂ）は、上記ポリアミック酸の溶液に
シリル化剤を添加し、攪拌することで得られる。この際
用いるシリル化剤は、先に例示したシリル化剤を挙げる
ことができる。反応に用いられる溶剤としては、ポリア
ミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶
剤を挙げることができる。合成反応は、有機溶剤中で、
通常０〜１００℃、好ましくは０〜５０℃の反応温度で
０．５〜４８時間に亘って行われる。以上の（iii） お
よび／または（iv）の方法で特定重合体（Ｂ）を得るこ
とができるが、該重合体のシリル化率としては、通常１
０〜１００％、好ましくは３０〜１００％である。ここ
で言う「シリル化率」とは、特定重合体（Ｂ）中の全て
の繰り返し単位における、シリル化された繰り返し単位
の割合を％で表したものである。上記（iii） の方法に
おいては、Ｎ，Ｎ′−ビスシリル化ジアミン化合物およ
び／またはＮ−シリル化ジアミン化合物とシリル化され
ていないジアミンとをテトラカルボン酸二無水物と反応
させることで、上記（iv）の方法においては添加するシ
リル化剤の量を調節することで、特定重合体（Ｂ）のシ
リル化率を任意に調整することができる。また、シリル
化率が１００％未満である特定重合体（Ｂ）は、シリル
化されていない繰り返し単位の全部または一部が脱水閉
環された重合体であっても良い。

【００３６】＜末端修飾型の重合体＞本発明の液晶配向
剤を構成する特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）
は、分子量が調節された末端修飾型のものであってもよ
い。この末端修飾型の重合体を用いることにより、本発
明の効果が損われることなく液晶配向剤の塗布特性など
を改善することができる。このような末端修飾型のもの
は、ポリアミック酸を合成する際に、酸一無水物、モノ
アミン化合物、モノイソシアネート化合物などを反応系
に添加することにより合成することができる。ここで、
酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタ
ル酸、無水イタコン酸、ｎ−デシルサクシニック酸無水
物、ｎ−ドデシルサクシニック酸無水物、ｎ−テトラデ
シルサクシニック酸無水物、ｎ−ヘキサデシルサクシニ
ック酸無水物などを挙げることができる。また、モノア
ミン化合物としては、例えばアニリン、シクロヘキシル
アミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−
ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルア
ミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン、ｎ−ウン
デシルアミン、ｎ−ドデシルアミン、ｎ−トリデシルア
ミン、ｎ−テトラデシルアミン、ｎ−ペンタデシルアミ
ン、ｎ−ヘキサデシルアミン、ｎ−ヘプタデシルアミ
ン、ｎ−オクタデシルアミン、ｎ−エイコシルアミンな
どを挙げることができる。また、モノイソシアネート化
合物としては、例えばフェニルイソシアネート、ナフチ
ルイソシアネートなどを挙げることができる。

【００３７】＜重合体の対数粘度＞本発明の液晶配向剤
を構成する特定重合体（Ａ）および特定重合体（Ｂ）
は、その対数粘度（ηｌｎ）の値が、好ましくは０.０
５〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０.０５〜５ｄｌ
／ｇのものである。ここに、対数粘度（ηｌｎ）の値
は、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを溶媒として用い、重
合体の濃度が０.５ｇ／１００ミリリットルである溶液
について３０℃で粘度の測定を行い、下記式（１）で示
される式によって求められるものである。

【００３８】

【数１】

【００３９】＜液晶配向剤＞本発明の液晶配向剤は、特
定重合体（Ａ）と特定重合体（Ｂ）とを含有してなり、
その配合割合は、重合体全体を１００重量部としたと
き、通常、特定重合体（Ａ）が５〜９５重量部、好まし
くは１０〜９０重量部である。本発明の液晶配向剤にお
ける重合体の含有割合は、粘性、揮発性などを考慮して
選択されるが、好ましくは液晶配向剤全体に対して０.
１〜２０重量％、さらに好ましくは１〜１０重量％の範
囲とされる。すなわち、重合体溶液からなる液晶配向剤
は、印刷法、スピンコート法などにより基板表面に塗布
され、次いでこれを乾燥することにより、配向膜材料で
ある被膜が形成されるのであるが、重合体の含有割合が
０.１重量％未満である場合には、この被膜の膜厚が過
少となって良好な液晶配向膜を得ることができない場合
があり、２０重量％を越える場合には、被膜の膜厚が過
大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向
剤の粘度が増大して塗布特性に劣るものとなる場合があ
る。重合体を溶解させる有機溶媒としては、重合体を溶
解できるものであれば特に制限されるものではなく、例
えばポリアミック酸の合成反応や脱水閉環反応に用いら
れるものとして例示した溶媒を挙げることができる。ま
た、ポリアミック酸の合成反応の際に併用することがで
きるものとして例示した貧溶媒も適宜選択して併用する
ことができる。

【００４０】本発明の液晶配向剤は、重合体と塗布され
る基板表面との接着性を向上させる観点から、官能性シ
ラン含有化合物やエポキシ化合物が配合されていてもよ
い。このような官能性シラン含有化合物としては、例え
ば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプ
ロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリ
エトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノ
プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル
−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエ
トキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−ト
リメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１
０−トリメトキシシリル−１,４,７−トリアザデカン、
１０−トリエトキシシリル−１,４,７−トリアザデカ
ン、９−トリメトキシシリル−３,６−ジアザノニルア
セテート、９−トリエトキシシリル−３,６−ジアザノ
ニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルト
リメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピル
トリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス
（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシ
シランなどを挙げることができる。これら官能性シラン
含有化合物の配合割合は、重合体１００重量部に対し
て、通常、２０重量部以下、好ましくは０.０１〜１０
重量部である。また、エポキシ基含有化合物としては、
例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリ
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレン
グリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリ
コールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコー
ルジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグ
リシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシ
ジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２,
２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエー
テル、１,３,５,６−テトラグリシジル−２,４−ヘキサ
ンジオール、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−テトラグリシジル−ｍ
−キシレンジアミン、１,３−ビス（Ｎ,Ｎ−ジグリシジ
ルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ’,Ｎ’,−
テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタ
ンなどを好ましいものとして挙げることができる。これ
ら官能性シラン含有化合物やエポキシ基含有化合物の配
合割合は、重合体１００重量部に対して、通常、４０重
量部以下、好ましくは０.１〜３０重量部である。

【００４１】＜液晶表示素子＞本発明の液晶配向剤を用
いて得られる液晶表示素子は、例えば次の方法によって
製造することができる。 （１）パターニングされた透明導電膜が設けられた基板
の透明導電膜側に、本発明の液晶配向剤を、例えばロー
ルコーター法、スピンナー法、印刷法などの方法によっ
て塗布し、次いで塗布面を加熱することにより被膜を形
成する。ここに基板としては、例えばフロートガラス、
ソーダガラスなどのガラス、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネートなどのプラスチックフィルムなど
からなる透明基板を用いることができる。基板の一面に
設けられた透明導電膜としては、ＳｎＯ₂からなるＮＥ
ＳＡ膜、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂からなるＩＴＯ膜などを用
いることができ、これらの透明導電膜のパターニングに
は、フォト・エッチング法、予めマスクを用いる方法な
どが用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板お
よび透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするた
めに、基板および透明導電膜上に、予め官能性シラン含
有化合物、チタネートなどを塗布することもできる。ま
た加熱温度は、好ましくは８０〜２５０℃とされ、より
好ましくは１２０〜２００℃とされる。形成される被膜
の膜厚は、通常０.００１〜１μｍ、好ましくは０.００
５〜０.５μｍである。

【００４２】（２）形成された被膜は、ナイロンなどの
合成繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦
るラビング処理を行うことにより、液晶分子の配向能が
被膜に付与されて液晶配向膜となる。また、ラビング処
理による方法以外に、被膜表面に偏光紫外線を照射して
配向能を付与する方法や、一軸延伸法、ラングミュア・
ブロジェット法などで被膜を得る方法などにより、液晶
配向膜を形成することもできる。なお、ラビング処理時
に発生する微粉末（異物）を除去して表面を清浄な状態
とするために、形成された液晶配向膜をイソプロピルア
ルコールなどによって洗浄することが好ましい。また、
本発明の液晶配向剤により形成された液晶配向膜に、例
えば特開平６−２２２３６６号公報や特開平６−２８１
９３７号公報に示されているような、紫外線を部分的に
照射することによってプレチルト角を変化させるような
処理、あるいは特開平５−１０７５４４号公報に示され
ているような、ラビング処理された液晶配向膜上にレジ
スト膜を部分的に形成し、先行のラビング処理とは異な
る方向にラビング処理を行った後、前記レジスト膜を除
去して、液晶配向膜の配向能を変化させるような処理を
行うことによって、液晶表示素子の視界特性を改善する
ことが可能である。

【００４３】（３）上記のようにして液晶配向膜が形成
された基板を２枚作成し、それぞれの液晶配向膜におけ
るラビング方向が直交または逆平行となるように、２枚
の基板を間隙（セルギャップ）を介して対向させ、２枚
の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板の
表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に
液晶を充填し、充填孔を封止して液晶セルを構成する。
そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成
するそれぞれの基板の他面側に、偏光板を、その偏光方
向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜のラビング
方向と一致または直交するように貼り合わせることによ
り、液晶表示素子が得られる。上記シール剤としては、
例えば硬化剤およびスペーサーとしての酸化アルミニウ
ム球を含有したエポキシ樹脂などを用いることができ
る。上記液晶としては、例えばネマティック型液晶、ス
メクティック型液晶を挙げることができる。その中でも
ネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系
液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシ
クロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系
液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系
液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キ
ュバン系液晶などが用いられる。また、これらの液晶
に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエ
ート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック
液晶や商品名「Ｃ−１５」、「ＣＢ−１５」（メルク社
製）として販売されているようなカイラル剤などを添加
して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシベ
ンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
トなどの強誘電性液晶も使用することができる。また、
液晶セルの外側に使用される偏光板としては、ポリビニ
ルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させ
たＨ膜と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟ん
だ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板などを挙げ
ることができる。

【００４４】

【実施例】以下、本発明を実施例により、さらに具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるも
のではない。本明細書の実施例および比較例により作製
された各液晶表示素子における評価方法を以下に示す。

【００４５】［液晶の配向性］液晶表示素子に電圧をオ
ン・オフさせた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を
顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と
判断した。 ［残像消去時間］液晶表示素子に１５Ｖ直流電圧を８時
間印加した後電圧をＯＦＦとし、目視で残像が消去する
までの時間を測定した。 ［液晶配向剤の保存安定性］８０℃の恒温槽中に液晶配
向剤を１０時間放置し、放置前と放置後の液晶配向剤の
粘度をＥ型粘度計を用いて測定した。

【００４６】合成例１ テトラカルボン酸二無水物として２，３，５−トリカル
ボキシシクロペンチル酢酸二無水物２２４．１７ｇ
（１．００モル）、ジアミン化合物としてｐ−フェニレ
ンジアミン９７．３３ｇ（０.９０モル）および式（２
０）の化合物４２．２４ｇ（０.１０モル）をＮ−メチ
ル−２−ピロリドン１３００ｇに溶解させ、この溶液を
４０℃で６時間反応させた。次いで、得られた反応溶液
を大過剰のアセトンに注いで反応生成物を沈澱させた。
その後、固形物を分離してアセトンで洗浄し、減圧下４
０℃で１５時間乾燥させることにより、対数粘度（ηｌ
ｎ）１.３５ｄｌ／ｇのポリアミック酸（Ａａ−１）３
３３．９ｇを得た。 合成例２ 合成例１で得られた重合体（ａ−１）３０.０ｇをγ−
ブチロラクトン５７０ｇに溶解させ、ピリジン３３.３
ｇおよび無水酢酸２５.８ｇを添加して１１０℃で４時
間脱水閉環させた。次いで、合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）１.３６ｄｌ／ｇ、イミド化率９０
％のイミド化重合体（Ａｂ−２）２７.３ｇを得た。

【００４７】合成例３ 合成例１においてテトラカルボン酸二無水物として１,
３,３ａ,４,５,９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−
（テトラヒドロ−２,５−ジオキソ−３−フラニル）−
ナフト［１,２−ｃ］フラン−１,３−ジオン３１４．３
０ｇ（１.００モル）を用いた以外は合成例１と同様に
して、対数粘度（ηｌｎ）１．３２／ｇのポリアミック
酸（Ａａ−３）４１６．７６ｇを得た。その後、ポリア
ミック酸（Ａａ−１）に代えてポリアミック酸（Ａａ−
３）３０.０ｇを用い、脱水閉環における反応温度を８
０℃とした以外は合成例２と同様にして、対数粘度（η
ｌｎ）１．２８ｄｌ／ｇ、イミド化率１００％のイミド
化重合体（Ａｂ−４）２７．５ｇを得た。 合成例４ 合成例１において、テトラカルボン酸二無水物としてピ
ロメリット酸二無水物２１８．１２ｇ（１．００モ
ル）、ジアミン化合物として４，４′−ジアミノジフェ
ニルメタン１９８．２７ｇ（１．００モル）を用いた以
外は合成例１と同様にして、対数粘度（ηｌｎ）１．９
０ｄｌ／ｇのポリアミック酸（Ａａ−５）３７４．８ｇ
を得た。

【００４８】合成例５ 合成例１で得られた重合体（Ａａ−１）３０.０ｇをγ
−ブチロラクトン５７０ｇに溶解させ、Ｎ，Ｏ−ビスト
リメチルシリルアミド１６．８ｇを添加して２５℃で２
４時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）１.０６ｄｌ／ｇ、シリル化率９２
％のポリアミック酸シリルエステル（Ｂ−１）２５．１
ｇを得た。 合成例６ 合成例４で得られた重合体（Ａａ−５）３０.０ｇをγ
−ブチロラクトン５７０ｇに溶解させ、Ｎ，Ｏ−ビスト
リメチルシリルアミド７．３ｇを添加して２５℃で２４
時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反応
生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、対
数粘度（ηｌｎ）１.５６ｄｌ／ｇ、シリル化率４８％
のポリアミック酸シリルエステル（Ｂ−２）２５．７ｇ
を得た。 合成例７ 合成例４で得られた重合体（Ａａ−５）３０.０ｇをγ
−ブチロラクトン５７０ｇに溶解させ、Ｎ，Ｏ−ビスト
リメチルシリルアミド１４．７ｇを添加して２５℃で２
４時間反応させた。次いで、合成例１と同様にして、反
応生成物の沈殿・分離・洗浄・乾燥を行うことにより、
対数粘度（ηｌｎ）１.４６ｄｌ／ｇ、シリル化率９５
％のポリアミック酸シリルエステル（Ｂ−３）２５．４
ｇを得た。 合成例８ テトラカルボン酸二無水物としてピロメリット酸二無水
物２１８．１２ｇ（１．００モル）、Ｎ，Ｎ’−ビスシ
リル化ジアミン化合物としてＮ，Ｎ’−ビストリメチル
シリル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン３２２．
４８ｇ（１．００モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン
１３００ｇに溶解させ、この溶液を４０℃で６時間反応
させた。次いで、得られた反応溶液を大過剰のアセトン
に注いで反応生成物を沈澱させた。その後、固形物を分
離してアセトンで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥
させることにより、対数粘度（ηｌｎ）１.５４ｄｌ／
ｇ、シリル化率９８％のポリアミック酸シリルエステル
（Ｂ−４）４５７．７ｇを得た。

【００４９】実施例１ 合成例２で得られた重合体（Ａｂ−２）２．０ｇと、合
成例６で得られた重合体（Ｂ−１）８．０ｇをγ−ブチ
ロラクトンに溶解させて、固形分濃度４重量％の溶液と
し、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液晶
配向剤を調製した。上記液晶配向剤を、液晶配向膜塗布
用印刷機を用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス
基板の透明電極面に塗布し、１８０℃のホットプレート
上で２０分間乾燥し、乾燥膜厚０.０５μｍの被膜を形
成した。この被膜にレーヨン製の布を巻き付けたロール
を有するラビングマシーンにより、ロールの回転数５０
０ｒｐｍ、ステージの移動速度１ｃｍ／秒、毛足押し込
み長さ０.４ｍｍでラビング処理を行った。上記配向膜
塗布基板を、イソプロピルアルコール中に１分間浸漬し
た後、双方の基板を１００℃のホットプレート上で５分
間乾燥した。次に、一対のラビング処理された液晶挟持
基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径１７
μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をス
クリーン印刷塗布した後、一対の液晶挟持基板を液晶配
向膜面が相対するように、しかもラビング方向が逆平行
になるように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させ
た。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマティ
ック型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−５０８１）を充填し
た後、エポキシ系接着剤で液晶注入口を封止し、基板の
外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光方向がそれぞれの
基板の液晶配向膜のラビング方向と一致するように張り
合わせ、液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素
子の液晶の配向性および残像消去について評価を行った
ところ、液晶の配向性は良好で、残像消去時間は１．３
秒と小さい値であった。また、当該液晶配向剤について
保存安定性を調べたところ、当初の粘度は４０ｃＰ、８
０℃で１０時間放置後の粘度は３９ｃＰであり、優れた
保存安定性を有することが認められた。これらの結果を
表１にしめす。

【００５０】実施例２〜７、比較例１〜３ 表１および表２に示す処方に従い、合成例１〜８で得ら
れた重合体［（Ａ）成分］および重合体［（Ｂ）成分］
を用い、実施例１と同様にして液晶配向剤を調製した。
次いで、このようにして得られた液晶配向剤の各々を用
い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。得
られた液晶配向剤の各々について、液晶の配向性、残像
消去時間および保存安定性について評価した。結果を表
１および表２に示す。

【００５１】

【表１】

【００５２】

【表２】

【００５３】

【発明の効果】本発明の液晶配向剤によれば、液晶表示
素子とした場合、液晶配向性が良好で、残像消去時間が
短く、かつ長期に亘る保存安定性に優れた液晶配向剤が
得られる。本発明の液晶配向剤を用いて形成した液晶配
向膜を有する液晶表示素子は、ＴＮ型およびＳＴＮ型液
晶表示素子に好適に使用できる以外に、使用する液晶を
選択することにより、ＳＨ（Super Homeotropic）型、
ＩＰＳ（In-Plane Switching）型、強誘電性および反
強誘電性の液晶表示素子などにも好適に使用することが
できる。さらに、本発明の液晶配向剤を用いて形成した
液晶配向膜を有する液晶表示素子は、種々の装置に有効
に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数
表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータ
ー、液晶テレビなどの表示装置に用いられる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松木 安生 東京都中央区築地二丁目11番24号 日本合 成ゴム株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）（ａ）ポリアミック酸構造を有す
   る重合体および（ｂ）当該ポリアミック酸を脱水閉環し
   て得られるイミド構造を有する重合体よりなる群から選
   ばれる１種以上の重合体と、（Ｂ）ポリアミック酸シリ
   ルエステル構造を有する重合体とを含有することを特徴
   とする液晶配向剤。