JPH11309364A - 流動層装置からの粒子排出方法及び装置 - Google Patents
流動層装置からの粒子排出方法及び装置Info
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- JPH11309364A JPH11309364A JP13770598A JP13770598A JPH11309364A JP H11309364 A JPH11309364 A JP H11309364A JP 13770598 A JP13770598 A JP 13770598A JP 13770598 A JP13770598 A JP 13770598A JP H11309364 A JPH11309364 A JP H11309364A
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大塊を含む粒状物を処理（冷却、乾燥、加
熱、分級等又はこれらの組合せ）する流動層装置におい
て、大塊を効率的に排出する。 【解決手段】 本体４８内の下部に風箱３２、３４を有
し、この風箱の上側にガス分散板１０を介して流動層１
２を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するた
めの被処理物投入口２８を、本体の他端に処理物排出部
１４を、本体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すため
のガス排出口３６、３８を有し、処理物排出部１４に処
理物排出シュート１６が接続された流動層装置におい
て、処理物排出シュート１６内を、ガス分散板側に大塊
排出シュート４４が、本体端部側に粒子排出シュート４
６が形成されるように仕切壁５０で分割し、大塊排出シ
ュート４４の側部に、大塊排出シュート内上部の粒子を
流動化させ大塊を大塊排出シュート内に進入・落下しや
すくするための流動化ガス噴込ノズル４２を設ける。
熱、分級等又はこれらの組合せ）する流動層装置におい
て、大塊を効率的に排出する。 【解決手段】 本体４８内の下部に風箱３２、３４を有
し、この風箱の上側にガス分散板１０を介して流動層１
２を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するた
めの被処理物投入口２８を、本体の他端に処理物排出部
１４を、本体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すため
のガス排出口３６、３８を有し、処理物排出部１４に処
理物排出シュート１６が接続された流動層装置におい
て、処理物排出シュート１６内を、ガス分散板側に大塊
排出シュート４４が、本体端部側に粒子排出シュート４
６が形成されるように仕切壁５０で分割し、大塊排出シ
ュート４４の側部に、大塊排出シュート内上部の粒子を
流動化させ大塊を大塊排出シュート内に進入・落下しや
すくするための流動化ガス噴込ノズル４２を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スラグ、石炭、そ
の他大塊を含む粒状物を処理（冷却、乾燥、加熱、分級
等又はこれらの組合せ）する流動層装置において、大塊
を効率的に排出することができる粒子排出方法及び装置
に関するものである。
の他大塊を含む粒状物を処理（冷却、乾燥、加熱、分級
等又はこれらの組合せ）する流動層装置において、大塊
を効率的に排出することができる粒子排出方法及び装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、大塊を含む粒状物、例えば、スラ
グを冷却する流動層冷却機では、スラグ中に前工程で発
生した大塊が多く含まれているので、大塊が流動層内下
部に残留して流動化異常を起こす原因となる。このた
め、大塊を除去することが必要である。しかし、投入さ
れるスラグは高温（例えば、約１０００℃）のため、ふ
るい等の前処理を行うことが耐熱の点から難しく、その
まま流動層に投入して、流動層内から大塊を除去する方
法が必要となる。一方、処理物である製品についても、
最終的には、大塊を除去して粒度を揃えることが必要と
なるが、非常に硬いスラグを大量にふるい等で処理する
場合、ふるいの摩耗が激しいため、メンテナンスコスト
がかかるという問題がある。
グを冷却する流動層冷却機では、スラグ中に前工程で発
生した大塊が多く含まれているので、大塊が流動層内下
部に残留して流動化異常を起こす原因となる。このた
め、大塊を除去することが必要である。しかし、投入さ
れるスラグは高温（例えば、約１０００℃）のため、ふ
るい等の前処理を行うことが耐熱の点から難しく、その
まま流動層に投入して、流動層内から大塊を除去する方
法が必要となる。一方、処理物である製品についても、
最終的には、大塊を除去して粒度を揃えることが必要と
なるが、非常に硬いスラグを大量にふるい等で処理する
場合、ふるいの摩耗が激しいため、メンテナンスコスト
がかかるという問題がある。
【０００３】図６及び図７は、従来の流動層装置の一例
を示している。大塊を含む粒子からなる被処理物がガス
分散板１０上に投入されるとともに、ガス分散板１０の
下側からガスを導入し粒子を流動化させて流動層１２が
形成され、これにより、被処理物が処理（冷却、乾燥、
加熱、分級等又はこれらの組合せ）され、流動層の端部
近傍に設けられた処理物排出部１４から処理物排出シュ
ート１６を介して粒子が製品として抜き出される。１８
は粒子の移動層、２０は仕切部材である。図６及び図７
に示す装置において、被処理物としてスラグを用い、ガ
スとして冷空気（常温空気）を用いると、スラグ流動層
冷却機が構成される。図６及び図７に示す装置は、２室
型の流動層装置であるが、仕切部材を設けない１室型の
流動層装置も、従来から良く知られている。
を示している。大塊を含む粒子からなる被処理物がガス
分散板１０上に投入されるとともに、ガス分散板１０の
下側からガスを導入し粒子を流動化させて流動層１２が
形成され、これにより、被処理物が処理（冷却、乾燥、
加熱、分級等又はこれらの組合せ）され、流動層の端部
近傍に設けられた処理物排出部１４から処理物排出シュ
ート１６を介して粒子が製品として抜き出される。１８
は粒子の移動層、２０は仕切部材である。図６及び図７
に示す装置において、被処理物としてスラグを用い、ガ
スとして冷空気（常温空気）を用いると、スラグ流動層
冷却機が構成される。図６及び図７に示す装置は、２室
型の流動層装置であるが、仕切部材を設けない１室型の
流動層装置も、従来から良く知られている。
【０００４】特開平６−２８１１１０号公報には、流動
層炉の分散板の底部に凹部を設け、この凹部に風箱を貫
通する大塊排出シュートの上端を挿嵌させた構造の流動
層からの大塊排出装置が開示されている。
層炉の分散板の底部に凹部を設け、この凹部に風箱を貫
通する大塊排出シュートの上端を挿嵌させた構造の流動
層からの大塊排出装置が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】図６及び図７に示され
る流動層装置では、処理物排出シュート１６内及びその
上部は移動層１８となるため、大塊２２が移動層１８内
に取り込まれ難く処理物排出シュート１６前面のガス分
散板上に堆積する。そして、時間の経過とともに大塊２
２の堆積はガス分散板１０全面に至り、流動層自体の流
動化を悪化させる。また、特開平６−２８１１１０号公
報記載の大塊を分散板及び風箱を貫通させて排出させる
型式のものでは、構造が複雑となる。なお、特開平６−
２８１１１０号公報記載の装置でも、大塊を１００％近
く排出することはできず、最終的には、時間の経過とと
もに大塊が堆積し、流動層自体の流動化が悪くなる。
る流動層装置では、処理物排出シュート１６内及びその
上部は移動層１８となるため、大塊２２が移動層１８内
に取り込まれ難く処理物排出シュート１６前面のガス分
散板上に堆積する。そして、時間の経過とともに大塊２
２の堆積はガス分散板１０全面に至り、流動層自体の流
動化を悪化させる。また、特開平６−２８１１１０号公
報記載の大塊を分散板及び風箱を貫通させて排出させる
型式のものでは、構造が複雑となる。なお、特開平６−
２８１１１０号公報記載の装置でも、大塊を１００％近
く排出することはできず、最終的には、時間の経過とと
もに大塊が堆積し、流動層自体の流動化が悪くなる。
【０００６】本発明は上記の諸点に鑑みなされたもの
で、本発明の目的は、処理物排出シュート内を大塊排出
シュートと通常粒子排出シュートとに分割する仕切壁を
設けるか、又は処理物排出シュートの上流側に隣接して
大塊排出シュートを設け、この大塊排出シュートに、こ
のシュート内上部を流動化させ大塊がシュート内に進入
しやすくするためのガス噴込ノズルを設置することによ
り、大塊の排出を効率よく行なうことができるようにし
た流動層装置からの粒子排出方法及び装置を提供するこ
とにある。また、本発明の目的は、上記の構成に加え
て、仕切壁の少なくとも一部をグリズリ構造、金網構造
等のふるい構造として、大塊排出シュート内にもぐり込
んだ小径粒子を通常粒子排出シュート側へバイパスさせ
て戻すことにより、大塊のみを選択的に排出できるよう
にした流動層装置からの粒子排出方法及び装置を提供す
ることにある。
で、本発明の目的は、処理物排出シュート内を大塊排出
シュートと通常粒子排出シュートとに分割する仕切壁を
設けるか、又は処理物排出シュートの上流側に隣接して
大塊排出シュートを設け、この大塊排出シュートに、こ
のシュート内上部を流動化させ大塊がシュート内に進入
しやすくするためのガス噴込ノズルを設置することによ
り、大塊の排出を効率よく行なうことができるようにし
た流動層装置からの粒子排出方法及び装置を提供するこ
とにある。また、本発明の目的は、上記の構成に加え
て、仕切壁の少なくとも一部をグリズリ構造、金網構造
等のふるい構造として、大塊排出シュート内にもぐり込
んだ小径粒子を通常粒子排出シュート側へバイパスさせ
て戻すことにより、大塊のみを選択的に排出できるよう
にした流動層装置からの粒子排出方法及び装置を提供す
ることにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の流動層装置からの粒子排出方法は、大塊
を含む粒子からなる被処理物をガス分散板上に投入する
とともに、ガス分散板下側からガスを導入し粒子を流動
化させて流動層を形成させることにより、被処理物を処
理し、流動層端部近傍に設けられた処理物排出部から処
理物排出シュートを介して粒子を抜き出す方法におい
て、処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部
を設けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュート
を接続し、大塊排出シュートの側部から流動化ガスを噴
き込んで大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ、
大塊を大塊排出シュート内に進入・落下させるように構
成されている（図１〜図５参照）。
めに、本発明の流動層装置からの粒子排出方法は、大塊
を含む粒子からなる被処理物をガス分散板上に投入する
とともに、ガス分散板下側からガスを導入し粒子を流動
化させて流動層を形成させることにより、被処理物を処
理し、流動層端部近傍に設けられた処理物排出部から処
理物排出シュートを介して粒子を抜き出す方法におい
て、処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部
を設けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュート
を接続し、大塊排出シュートの側部から流動化ガスを噴
き込んで大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ、
大塊を大塊排出シュート内に進入・落下させるように構
成されている（図１〜図５参照）。
【０００８】この方法において、大塊排出シュート内上
部における流動化ガス速度が、流動層における流動化開
始速度Ｕmfの１〜３倍、望ましくは１．５〜２倍となる
ように、大塊排出シュートの側部から流動化ガスを噴き
込む。Ｕmfが上記の範囲未満の場合は大塊が移動し難
く、一方、Ｕmfが上記の範囲を超える場合はシュート内
と流動層内の粒子混合が激しすぎて大塊を選択的に排出
することが難しくなる。
部における流動化ガス速度が、流動層における流動化開
始速度Ｕmfの１〜３倍、望ましくは１．５〜２倍となる
ように、大塊排出シュートの側部から流動化ガスを噴き
込む。Ｕmfが上記の範囲未満の場合は大塊が移動し難
く、一方、Ｕmfが上記の範囲を超える場合はシュート内
と流動層内の粒子混合が激しすぎて大塊を選択的に排出
することが難しくなる。
【０００９】本発明の流動層装置からの粒子排出装置
は、本体内の下部に風箱を有し、この風箱の上側にガス
分散板を介して流動層を形成し、本体の一端に大塊を含
む粒子を導入するための被処理物投入口を、本体の他端
に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む排ガスを抜
き出すためのガス排出口を有し、処理物排出部に処理物
排出シュートが接続された流動層装置において、処理物
排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出シュート
が、本体端部側に粒子排出シュートが形成されるように
仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、大塊排出
シュート内上部の粒子を流動化させ大塊を大塊排出シュ
ート内に進入・落下しやすくするための流動化ガス噴込
ノズルを設けたことを特徴としている（図１〜図３参
照）。
は、本体内の下部に風箱を有し、この風箱の上側にガス
分散板を介して流動層を形成し、本体の一端に大塊を含
む粒子を導入するための被処理物投入口を、本体の他端
に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む排ガスを抜
き出すためのガス排出口を有し、処理物排出部に処理物
排出シュートが接続された流動層装置において、処理物
排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出シュート
が、本体端部側に粒子排出シュートが形成されるように
仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、大塊排出
シュート内上部の粒子を流動化させ大塊を大塊排出シュ
ート内に進入・落下しやすくするための流動化ガス噴込
ノズルを設けたことを特徴としている（図１〜図３参
照）。
【００１０】また、本発明の装置は、本体内の下部に風
箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動層
を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するため
の被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、本
体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出
口を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続さ
れた流動層装置において、処理物排出部のガス分散板側
に隣接して大塊排出部を設けるとともに、この大塊排出
部に大塊排出シュートを接続し、大塊排出シュートの側
部に、大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ大塊
を大塊排出シュート内に進入・落下しやすくするための
流動化ガス噴込ノズルを設けたことを特徴としている
（図４参照）。
箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動層
を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するため
の被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、本
体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出
口を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続さ
れた流動層装置において、処理物排出部のガス分散板側
に隣接して大塊排出部を設けるとともに、この大塊排出
部に大塊排出シュートを接続し、大塊排出シュートの側
部に、大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ大塊
を大塊排出シュート内に進入・落下しやすくするための
流動化ガス噴込ノズルを設けたことを特徴としている
（図４参照）。
【００１１】さらに、本発明の装置は、本体内の下部に
風箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動
層を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するた
めの被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、
本体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排
出口を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続
された流動層装置において、処理物排出シュート内を、
ガス分散板側に大塊排出シュートが、本体端部側に粒子
排出シュートが形成されるように仕切壁で分割し、大塊
排出シュートの側部に、大塊排出シュート内上部の粒子
を流動化させ大塊を大塊排出シュート内に進入・落下し
やすくするための流動化ガス噴込ノズルを設け、大塊排
出シュートの下部を傾斜させ、この傾斜部の粒子排出シ
ュート側の仕切壁の少なくとも一部をふるい構造とし、
処理物排出シュート内においてこのふるい構造の下側に
空間部を形成させるように空間形成用仕切壁を設け、大
塊排出シュート内にもぐり込んだ小径粒子を空間部へ落
下させて処理物排出シュートへバイパスさせて戻すよう
に構成されたことを特徴としている（図５参照）。これ
らの装置において、仕切壁の上端をガス分散板の上面よ
り高くすることが好ましい。例えば、スラグを冷却する
場合、スラグの製品（粗粒）は粒径２〜３mm、大塊は粒
径８０〜１００mmである場合が一般的であるので、大塊
が粒子排出シュート内に入らないように、仕切壁の上端
をガス分散板の上面より１００〜２００mm程度高くす
る。
風箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動
層を形成し、本体の一端に大塊を含む粒子を導入するた
めの被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、
本体の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排
出口を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続
された流動層装置において、処理物排出シュート内を、
ガス分散板側に大塊排出シュートが、本体端部側に粒子
排出シュートが形成されるように仕切壁で分割し、大塊
排出シュートの側部に、大塊排出シュート内上部の粒子
を流動化させ大塊を大塊排出シュート内に進入・落下し
やすくするための流動化ガス噴込ノズルを設け、大塊排
出シュートの下部を傾斜させ、この傾斜部の粒子排出シ
ュート側の仕切壁の少なくとも一部をふるい構造とし、
処理物排出シュート内においてこのふるい構造の下側に
空間部を形成させるように空間形成用仕切壁を設け、大
塊排出シュート内にもぐり込んだ小径粒子を空間部へ落
下させて処理物排出シュートへバイパスさせて戻すよう
に構成されたことを特徴としている（図５参照）。これ
らの装置において、仕切壁の上端をガス分散板の上面よ
り高くすることが好ましい。例えば、スラグを冷却する
場合、スラグの製品（粗粒）は粒径２〜３mm、大塊は粒
径８０〜１００mmである場合が一般的であるので、大塊
が粒子排出シュート内に入らないように、仕切壁の上端
をガス分散板の上面より１００〜２００mm程度高くす
る。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、流動層装置が２室型の流動
層装置である場合について、本発明の実施の形態を説明
するが、本発明は２室型に限定されるものではなく、１
室型（仕切のないもの）、３室以上の流動層装置にも適
用できるものである。図１は、本発明の実施の第１形態
による流動層装置からの粒子排出装置を示し、図２は、
図１における処理物排出部まわりの詳細を示し、図３
は、図１における処理物排出部まわりの平断面を示して
いる。図１〜図３に示すように、流動層１２を備える室
が縦方向の仕切部材２０（例えば仕切壁）で２室２４、
２６に仕切られている。上流側の室の流動層１２の上流
側には、大塊を含む粒子を投入するための被処理物投入
口２８が設けられており、下流側の室２６の流動層１２
の下流側には、処理物排出部（処理物排出口）１４が設
けられている。仕切部材２０の下側には、ガス分散板１
０との間に通路３０が形成されている。各室２４、２６
の下側には風箱３２、３４が設けられ、各室２４、２６
の上部には微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出
口３６、３８が設けられ、処理物排出部１４には処理物
排出シュート１６が接続されている。ガス分散板１０と
しては、多孔板型分散板、キャップ型分散板等が用いら
れる。また、風箱へ供給されるガスとしては、冷空気、
加熱空気、燃焼排ガス、Ｎ2 ガス等の不活性ガス等が処
理目的に応じて適宜選択されて用いられる。
層装置である場合について、本発明の実施の形態を説明
するが、本発明は２室型に限定されるものではなく、１
室型（仕切のないもの）、３室以上の流動層装置にも適
用できるものである。図１は、本発明の実施の第１形態
による流動層装置からの粒子排出装置を示し、図２は、
図１における処理物排出部まわりの詳細を示し、図３
は、図１における処理物排出部まわりの平断面を示して
いる。図１〜図３に示すように、流動層１２を備える室
が縦方向の仕切部材２０（例えば仕切壁）で２室２４、
２６に仕切られている。上流側の室の流動層１２の上流
側には、大塊を含む粒子を投入するための被処理物投入
口２８が設けられており、下流側の室２６の流動層１２
の下流側には、処理物排出部（処理物排出口）１４が設
けられている。仕切部材２０の下側には、ガス分散板１
０との間に通路３０が形成されている。各室２４、２６
の下側には風箱３２、３４が設けられ、各室２４、２６
の上部には微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出
口３６、３８が設けられ、処理物排出部１４には処理物
排出シュート１６が接続されている。ガス分散板１０と
しては、多孔板型分散板、キャップ型分散板等が用いら
れる。また、風箱へ供給されるガスとしては、冷空気、
加熱空気、燃焼排ガス、Ｎ2 ガス等の不活性ガス等が処
理目的に応じて適宜選択されて用いられる。
【００１３】上記のように構成された流動層装置におい
て、図１〜図３に示すように、処理物排出シュート１６
内を、ガス分散板１０側に大塊排出シュート４４が、装
置本体４８の端部側に粒子排出シュート４６が形成され
るように仕切壁５０で分割する。すなわち、仕切壁５０
をほぼ排出下端まで設ける。５２は大塊排出部（大塊排
出口）である。そして、大塊排出シュート４４の側部
に、流動化ガス噴込ノズル４２を設ける。大塊排出シュ
ート４４には大塊排出機５４が設けられ、粒子排出シュ
ート４６には粒子排出機５６が設けられている。これら
の排出機５４、５６としては、ゲートダンパ、ロータリ
フィーダ、カム機構を利用して開閉する排出機、おもり
のバランスを利用して開閉する排出機等が用いられる。
て、図１〜図３に示すように、処理物排出シュート１６
内を、ガス分散板１０側に大塊排出シュート４４が、装
置本体４８の端部側に粒子排出シュート４６が形成され
るように仕切壁５０で分割する。すなわち、仕切壁５０
をほぼ排出下端まで設ける。５２は大塊排出部（大塊排
出口）である。そして、大塊排出シュート４４の側部
に、流動化ガス噴込ノズル４２を設ける。大塊排出シュ
ート４４には大塊排出機５４が設けられ、粒子排出シュ
ート４６には粒子排出機５６が設けられている。これら
の排出機５４、５６としては、ゲートダンパ、ロータリ
フィーダ、カム機構を利用して開閉する排出機、おもり
のバランスを利用して開閉する排出機等が用いられる。
【００１４】つぎに、図１〜図３に示す流動層装置から
の粒子排出装置の作用について説明する。大塊を含む粒
子からなる被処理物を被処理物投入口２８からガス分散
板１２上に投入するとともに、ガス分散板１２からガス
を噴出させて粒子を流動化させて流動層１２を形成さ
せ、被処理物を処理（冷却、乾燥、加熱、分級等又はこ
れらの組合せ）し、処理物（粒子）を処理物排出部１４
から粒子排出シュート４６を介して製品として抜き出
す。なお、ガス排出口３６、３８から排出された微粉を
含む排ガスは、サイクロン又は／及びバグフィルタ等の
集塵器に導入されて微粉が捕集・分離される。大塊排出
シュート４４の側部の流動化ガス噴込ノズル４２から流
動化ガスが噴き込まれ、大塊排出シュート４４内上部の
粒子を流動化させ、大塊を大塊排出シュート４４内に進
入・落下させる。流動化ガスとしては、冷空気、加熱空
気、燃焼排ガス、Ｎ2 ガス等の不活性ガスが用いられ、
大塊排出シュート４４内上部における流動化ガス速度
が、流動層１２における流動化開始速度Ｕmfの１〜３
倍、望ましくは１．５〜２倍となるように、流動化ガス
噴込ノズル４２から流動化ガスを噴き込む。
の粒子排出装置の作用について説明する。大塊を含む粒
子からなる被処理物を被処理物投入口２８からガス分散
板１２上に投入するとともに、ガス分散板１２からガス
を噴出させて粒子を流動化させて流動層１２を形成さ
せ、被処理物を処理（冷却、乾燥、加熱、分級等又はこ
れらの組合せ）し、処理物（粒子）を処理物排出部１４
から粒子排出シュート４６を介して製品として抜き出
す。なお、ガス排出口３６、３８から排出された微粉を
含む排ガスは、サイクロン又は／及びバグフィルタ等の
集塵器に導入されて微粉が捕集・分離される。大塊排出
シュート４４の側部の流動化ガス噴込ノズル４２から流
動化ガスが噴き込まれ、大塊排出シュート４４内上部の
粒子を流動化させ、大塊を大塊排出シュート４４内に進
入・落下させる。流動化ガスとしては、冷空気、加熱空
気、燃焼排ガス、Ｎ2 ガス等の不活性ガスが用いられ、
大塊排出シュート４４内上部における流動化ガス速度
が、流動層１２における流動化開始速度Ｕmfの１〜３
倍、望ましくは１．５〜２倍となるように、流動化ガス
噴込ノズル４２から流動化ガスを噴き込む。
【００１５】図４は、本発明の実施の第２形態による流
動層装置からの粒子排出装置の要部を示している。本実
施形態は、処理物排出シュート１６を仕切壁により分割
することなく、処理物排出部１４のガス分散板１０側に
隣接して大塊排出部（大塊排出口）５２ａを設けるとと
もに、この大塊排出部５２ａに大塊排出シュート４４ａ
を接続したものである。他の構成及び作用は、実施の第
１形態の場合と同様である。
動層装置からの粒子排出装置の要部を示している。本実
施形態は、処理物排出シュート１６を仕切壁により分割
することなく、処理物排出部１４のガス分散板１０側に
隣接して大塊排出部（大塊排出口）５２ａを設けるとと
もに、この大塊排出部５２ａに大塊排出シュート４４ａ
を接続したものである。他の構成及び作用は、実施の第
１形態の場合と同様である。
【００１６】図５は、本発明の実施の第３形態による流
動層装置からの粒子排出装置の要部を示している。本実
施形態は、大塊排出シュート４４の下部、例えば流動化
ガス噴込ノズル４２の下側を傾斜させ、この傾斜部５８
の粒子排出シュート側の仕切壁の一部又は全部をふるい
構造部６０とし、処理物排出シュート１６内において、
このふるい構造部６０の下側に空間部６２が形成される
ように空間形成用仕切壁６４を設けて、大塊排出シュー
ト４４内へもぐり込んだ小径粒子を、ふるい構造部６０
で分級して空間部６２へ落下させて処理物排出シュート
１６、詳しくは粒子排出シュート４６へバイパスさせて
戻すように構成したものである。ふるい構造部６０とし
ては、多数のグリズリバーを設けた構成、金網を取り付
けた構成等が採用される。本実施形態は、大塊のみを選
択的に排出することができるという利点がある。他の構
成及び作用は、実施の第１形態の場合と同様である。
動層装置からの粒子排出装置の要部を示している。本実
施形態は、大塊排出シュート４４の下部、例えば流動化
ガス噴込ノズル４２の下側を傾斜させ、この傾斜部５８
の粒子排出シュート側の仕切壁の一部又は全部をふるい
構造部６０とし、処理物排出シュート１６内において、
このふるい構造部６０の下側に空間部６２が形成される
ように空間形成用仕切壁６４を設けて、大塊排出シュー
ト４４内へもぐり込んだ小径粒子を、ふるい構造部６０
で分級して空間部６２へ落下させて処理物排出シュート
１６、詳しくは粒子排出シュート４６へバイパスさせて
戻すように構成したものである。ふるい構造部６０とし
ては、多数のグリズリバーを設けた構成、金網を取り付
けた構成等が採用される。本実施形態は、大塊のみを選
択的に排出することができるという利点がある。他の構
成及び作用は、実施の第１形態の場合と同様である。
【００１７】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。 （１） ガス分散板及び風箱を貫通させて大塊を排出す
る従来方式に比べて、構造が簡単であり、大塊排出シュ
ートは風箱を貫通しないため、処理ガスとして高温ガス
を用いる場合でも、高温ガスに長時間さらされることが
ないので、きわめて安全である。 （２） 流動層内に投入された大塊は、最終的に排出端
付近に集まるため、大塊排出を効率よく行うことができ
る。 （３） 製品粒度を揃える要求がある場合、従来はふる
いで処理していたが、耐熱性の問題や摩耗の問題があっ
た。しかし、本発明の方法及び装置を適用することによ
り、ふるいは不要となり上記の問題を同時に解決するこ
とができる。 （４） 大塊排出シュート下部にグリズリ、金網等のふ
るい構造部を設ける場合は、大塊排出シュートに大塊と
ともに流入した通常粒子を粒子排出シュート側に戻し、
大塊のみを選択的に排出することができる。
で、つぎのような効果を奏する。 （１） ガス分散板及び風箱を貫通させて大塊を排出す
る従来方式に比べて、構造が簡単であり、大塊排出シュ
ートは風箱を貫通しないため、処理ガスとして高温ガス
を用いる場合でも、高温ガスに長時間さらされることが
ないので、きわめて安全である。 （２） 流動層内に投入された大塊は、最終的に排出端
付近に集まるため、大塊排出を効率よく行うことができ
る。 （３） 製品粒度を揃える要求がある場合、従来はふる
いで処理していたが、耐熱性の問題や摩耗の問題があっ
た。しかし、本発明の方法及び装置を適用することによ
り、ふるいは不要となり上記の問題を同時に解決するこ
とができる。 （４） 大塊排出シュート下部にグリズリ、金網等のふ
るい構造部を設ける場合は、大塊排出シュートに大塊と
ともに流入した通常粒子を粒子排出シュート側に戻し、
大塊のみを選択的に排出することができる。
【図１】本発明の実施の第１形態による流動層装置から
の粒子排出装置を示す概略断面構成図である。
の粒子排出装置を示す概略断面構成図である。
【図２】図１における処理物排出部まわりの詳細で、本
発明の実施の第１形態による粒子排出装置の要部を示す
拡大断面説明図である。
発明の実施の第１形態による粒子排出装置の要部を示す
拡大断面説明図である。
【図３】図１における処理物排出部まわりの平断面説明
図である。
図である。
【図４】本発明の実施の第２形態による流動層装置から
の粒子排出装置の要部を示す平断面説明図である。
の粒子排出装置の要部を示す平断面説明図である。
【図５】本発明の実施の第３形態による流動層装置から
の粒子排出装置の要部を示す拡大断面説明図である。
の粒子排出装置の要部を示す拡大断面説明図である。
【図６】従来の流動層装置の一例を示す概略断面構成図
である。
である。
【図７】図６における処理物排出部まわりの詳細を示す
拡大断面説明図である。
拡大断面説明図である。
１０ ガス分散板 １２ 流動層 １４ 処理物排出部 １６ 処理物排出シュート １８ 移動層 ２０ 仕切部材 ２２ 大塊 ２４ 上流側の室 ２６ 下流側の室 ２８ 被処理物投入口 ３０ 通路 ３２、３４ 風箱 ３６、３８ ガス排出口 ４２ 流動化ガス噴込ノズル ４４、４４ａ 大塊排出シュート ４６ 粒子排出シュート ４８ 装置本体 ５０ 仕切壁 ５２、５２ａ 大塊排出部 ５４ 大塊排出機 ５６ 粒子排出機 ５８ 傾斜部 ６０ ふるい構造部 ６２ 空間部 ６４ 空間形成用仕切壁
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年７月５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の流動層装置からの粒子排出方法は、流動
化異常を起こす原因となる大塊を含む粒子からなる被処
理物をガス分散板上に投入するとともに、ガス分散板下
側からガスを導入し粒子を流動化させて流動層を形成さ
せることにより、被処理物を処理し、流動層端部近傍に
設けられた処理物排出部から処理物排出シュートを介し
て粒子を抜き出す方法において、処理物排出部のガス分
散板側に隣接して大塊排出部を設けるとともに、この大
塊排出部に大塊排出シュートを接続し、大塊排出シュー
トの側部から流動化ガスを噴き込んで大塊排出シュート
内上部の粒子を流動化させ、排出端付近に集まった流動
化異常を起こす原因となる大塊を大塊排出シュート内に
進入・落下させるように構成されている（図１〜図５参
照）。
めに、本発明の流動層装置からの粒子排出方法は、流動
化異常を起こす原因となる大塊を含む粒子からなる被処
理物をガス分散板上に投入するとともに、ガス分散板下
側からガスを導入し粒子を流動化させて流動層を形成さ
せることにより、被処理物を処理し、流動層端部近傍に
設けられた処理物排出部から処理物排出シュートを介し
て粒子を抜き出す方法において、処理物排出部のガス分
散板側に隣接して大塊排出部を設けるとともに、この大
塊排出部に大塊排出シュートを接続し、大塊排出シュー
トの側部から流動化ガスを噴き込んで大塊排出シュート
内上部の粒子を流動化させ、排出端付近に集まった流動
化異常を起こす原因となる大塊を大塊排出シュート内に
進入・落下させるように構成されている（図１〜図５参
照）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００９】本発明の流動層装置からの粒子排出装置
は、本体内の下部に風箱を有し、この風箱の上側にガス
分散板を介して流動層を形成し、本体の一端に流動化異
常を起こす原因となる大塊を含む粒子を導入するための
被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、本体
の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出口
を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続され
た流動層装置において、処理物排出シュート内を、ガス
分散板側に大塊排出シュートが、本体端部側に粒子排出
シュートが形成されるように仕切壁で分割し、大塊排出
シュートの側部に、大塊排出シュート内上部の粒子を流
動化させ、排出端付近に集まった流動化異常を起こす原
因となる大塊を大塊排出シュート内に進入・落下しやす
くするための流動化ガス噴込ノズルを設けたことを特徴
としている（図１〜図３参照）。
は、本体内の下部に風箱を有し、この風箱の上側にガス
分散板を介して流動層を形成し、本体の一端に流動化異
常を起こす原因となる大塊を含む粒子を導入するための
被処理物投入口を、本体の他端に処理物排出部を、本体
の上部に微粉を含む排ガスを抜き出すためのガス排出口
を有し、処理物排出部に処理物排出シュートが接続され
た流動層装置において、処理物排出シュート内を、ガス
分散板側に大塊排出シュートが、本体端部側に粒子排出
シュートが形成されるように仕切壁で分割し、大塊排出
シュートの側部に、大塊排出シュート内上部の粒子を流
動化させ、排出端付近に集まった流動化異常を起こす原
因となる大塊を大塊排出シュート内に進入・落下しやす
くするための流動化ガス噴込ノズルを設けたことを特徴
としている（図１〜図３参照）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】また、本発明の装置は、本体内の下部に風
箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動層
を形成し、本体の一端に流動化異常を起こす原因となる
大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、本
体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む排
ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出部
に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部
を設けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュート
を接続し、大塊排出シュートの側部に、大塊排出シュー
ト内上部の粒子を流動化させ、排出端付近に集まった流
動化異常を起こす原因となる大塊を大塊排出シュート内
に進入・落下しやすくするための流動化ガス噴込ノズル
を設けたことを特徴としている（図４参照）。
箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動層
を形成し、本体の一端に流動化異常を起こす原因となる
大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、本
体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む排
ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出部
に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部
を設けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュート
を接続し、大塊排出シュートの側部に、大塊排出シュー
ト内上部の粒子を流動化させ、排出端付近に集まった流
動化異常を起こす原因となる大塊を大塊排出シュート内
に進入・落下しやすくするための流動化ガス噴込ノズル
を設けたことを特徴としている（図４参照）。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】さらに、本発明の装置は、本体内の下部に
風箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動
層を形成し、本体の一端に流動化異常を起こす原因とな
る大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、
本体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む
排ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出
部に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、処理物排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出
シュートが、本体端部側に粒子排出シュートが形成され
るように仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、
大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ、排出端付
近に集まった流動化異常を起こす原因となる大塊を大塊
排出シュート内に進入・落下しやすくするための流動化
ガス噴込ノズルを設け、大塊排出シュートの下部を傾斜
させ、この傾斜部の粒子排出シュート側の仕切壁の少な
くとも一部をふるい構造とし、処理物排出シュート内に
おいてこのふるい構造の下側に空間部を形成させるよう
に空間形成用仕切壁を設け、大塊排出シュート内にもぐ
り込んだ小径粒子を空間部へ落下させて処理物排出シュ
ートへバイパスさせて戻すように構成されたことを特徴
としている（図５参照）。これらの装置において、仕切
壁の上端をガス分散板の上面より高くすることが好まし
い。例えば、スラグを冷却する場合、スラグの製品（粗
粒）は粒径２〜３mm、大塊は粒径８０〜１００mmである
場合が一般的であるので、大塊が粒子排出シュート内に
入らないように、仕切壁の上端をガス分散板の上面より
１００〜２００mm程度高くする。
風箱を有し、この風箱の上側にガス分散板を介して流動
層を形成し、本体の一端に流動化異常を起こす原因とな
る大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、
本体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む
排ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出
部に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、処理物排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出
シュートが、本体端部側に粒子排出シュートが形成され
るように仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、
大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ、排出端付
近に集まった流動化異常を起こす原因となる大塊を大塊
排出シュート内に進入・落下しやすくするための流動化
ガス噴込ノズルを設け、大塊排出シュートの下部を傾斜
させ、この傾斜部の粒子排出シュート側の仕切壁の少な
くとも一部をふるい構造とし、処理物排出シュート内に
おいてこのふるい構造の下側に空間部を形成させるよう
に空間形成用仕切壁を設け、大塊排出シュート内にもぐ
り込んだ小径粒子を空間部へ落下させて処理物排出シュ
ートへバイパスさせて戻すように構成されたことを特徴
としている（図５参照）。これらの装置において、仕切
壁の上端をガス分散板の上面より高くすることが好まし
い。例えば、スラグを冷却する場合、スラグの製品（粗
粒）は粒径２〜３mm、大塊は粒径８０〜１００mmである
場合が一般的であるので、大塊が粒子排出シュート内に
入らないように、仕切壁の上端をガス分散板の上面より
１００〜２００mm程度高くする。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１７】
【発明の効果】本発明は上記のように構成されているの
で、つぎのような効果を奏する。 （１） ガス分散板及び風箱を貫通させて大塊を排出す
る従来方式に比べて、構造が簡単であり、大塊排出シュ
ートは風箱を貫通しないため、処理ガスとして高温ガス
を用いる場合でも、高温ガスに長時間さらされることが
ないので、きわめて安全である。 （２） 流動層内に投入された大塊は、最終的に排出端
付近に集まるため、大塊排出を効率よく行うことができ
る。また、大塊を排出することで、ガス分散板上への大
塊の堆積、さらには、大塊の堆積による流動化異常を防
止することができる。 （３） 製品粒度を揃える要求がある場合、従来はふる
いで処理していたが、耐熱性の問題や摩耗の問題があっ
た。しかし、本発明の方法及び装置を適用することによ
り、ふるいは不要となり上記の問題を同時に解決するこ
とができる。 （４） 大塊排出シュート下部にグリズリ、金網等のふ
るい構造部を設ける場合は、大塊排出シュートに大塊と
ともに流入した通常粒子を粒子排出シュート側に戻し、
大塊のみを選択的に排出することができる。
で、つぎのような効果を奏する。 （１） ガス分散板及び風箱を貫通させて大塊を排出す
る従来方式に比べて、構造が簡単であり、大塊排出シュ
ートは風箱を貫通しないため、処理ガスとして高温ガス
を用いる場合でも、高温ガスに長時間さらされることが
ないので、きわめて安全である。 （２） 流動層内に投入された大塊は、最終的に排出端
付近に集まるため、大塊排出を効率よく行うことができ
る。また、大塊を排出することで、ガス分散板上への大
塊の堆積、さらには、大塊の堆積による流動化異常を防
止することができる。 （３） 製品粒度を揃える要求がある場合、従来はふる
いで処理していたが、耐熱性の問題や摩耗の問題があっ
た。しかし、本発明の方法及び装置を適用することによ
り、ふるいは不要となり上記の問題を同時に解決するこ
とができる。 （４） 大塊排出シュート下部にグリズリ、金網等のふ
るい構造部を設ける場合は、大塊排出シュートに大塊と
ともに流入した通常粒子を粒子排出シュート側に戻し、
大塊のみを選択的に排出することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｆ２６Ｂ 3/08 Ｆ２６Ｂ 3/08 Ｆ２７Ｂ 15/09 Ｆ２７Ｂ 15/09 15/10 15/10
Claims (6)
- 【請求項１】 大塊を含む粒子からなる被処理物をガス
分散板上に投入するとともに、ガス分散板下側からガス
を導入し粒子を流動化させて流動層を形成させることに
より、被処理物を処理し、流動層端部近傍に設けられた
処理物排出部から処理物排出シュートを介して粒子を抜
き出す方法において、 処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部を設
けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュートを接
続し、大塊排出シュートの側部から流動化ガスを噴き込
んで大塊排出シュート内上部の粒子を流動化させ、大塊
を大塊排出シュート内に進入・落下させることを特徴と
する流動層装置からの粒子排出方法。 - 【請求項２】 大塊排出シュート内上部における流動化
ガス速度が、流動層における流動化開始速度の１〜３倍
となるように、大塊排出シュートの側部から流動化ガス
を噴き込む請求項１記載の流動層装置からの粒子排出方
法。 - 【請求項３】 本体内の下部に風箱を有し、この風箱の
上側にガス分散板を介して流動層を形成し、本体の一端
に大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、
本体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む
排ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出
部に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、 処理物排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出シュ
ートが、本体端部側に粒子排出シュートが形成されるよ
うに仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、大塊
排出シュート内上部の粒子を流動化させ大塊を大塊排出
シュート内に進入・落下しやすくするための流動化ガス
噴込ノズルを設けたことを特徴とする流動層装置からの
粒子排出装置。 - 【請求項４】 本体内の下部に風箱を有し、この風箱の
上側にガス分散板を介して流動層を形成し、本体の一端
に大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、
本体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む
排ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出
部に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、 処理物排出部のガス分散板側に隣接して大塊排出部を設
けるとともに、この大塊排出部に大塊排出シュートを接
続し、大塊排出シュートの側部に、大塊排出シュート内
上部の粒子を流動化させ大塊を大塊排出シュート内に進
入・落下しやすくするための流動化ガス噴込ノズルを設
けたことを特徴とする流動層装置からの粒子排出装置。 - 【請求項５】 本体内の下部に風箱を有し、この風箱の
上側にガス分散板を介して流動層を形成し、本体の一端
に大塊を含む粒子を導入するための被処理物投入口を、
本体の他端に処理物排出部を、本体の上部に微粉を含む
排ガスを抜き出すためのガス排出口を有し、処理物排出
部に処理物排出シュートが接続された流動層装置におい
て、 処理物排出シュート内を、ガス分散板側に大塊排出シュ
ートが、本体端部側に粒子排出シュートが形成されるよ
うに仕切壁で分割し、大塊排出シュートの側部に、大塊
排出シュート内上部の粒子を流動化させ大塊を大塊排出
シュート内に進入・落下しやすくするための流動化ガス
噴込ノズルを設け、大塊排出シュートの下部を傾斜さ
せ、この傾斜部の粒子排出シュート側の仕切壁の少なく
とも一部をふるい構造とし、処理物排出シュート内にお
いてこのふるい構造の下側に空間部を形成させるように
空間形成用仕切壁を設け、大塊排出シュート内にもぐり
込んだ小径粒子を空間部へ落下させて処理物排出シュー
トへバイパスさせて戻すように構成されたことを特徴と
する流動層装置からの粒子排出装置。 - 【請求項６】 仕切壁の上端をガス分散板の上面より高
くした請求項３、４又は５記載の流動層装置からの粒子
排出装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10137705A JP3074622B2 (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 流動層装置からの粒子排出方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10137705A JP3074622B2 (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 流動層装置からの粒子排出方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11309364A true JPH11309364A (ja) | 1999-11-09 |
| JP3074622B2 JP3074622B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=15204904
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10137705A Expired - Fee Related JP3074622B2 (ja) | 1998-04-30 | 1998-04-30 | 流動層装置からの粒子排出方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3074622B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006281115A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Kobe Steel Ltd | 乾式分離装置 |
| JP2007216171A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Meiji Univ | 粉体分離装置及び粉体分離方法 |
| JP2007319739A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Kobe Steel Ltd | 乾式分離装置 |
| JP2018096639A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社Ihi | 流動層システム |
-
1998
- 1998-04-30 JP JP10137705A patent/JP3074622B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006281115A (ja) * | 2005-04-01 | 2006-10-19 | Kobe Steel Ltd | 乾式分離装置 |
| JP2007216171A (ja) * | 2006-02-17 | 2007-08-30 | Meiji Univ | 粉体分離装置及び粉体分離方法 |
| JP2007319739A (ja) * | 2006-05-30 | 2007-12-13 | Kobe Steel Ltd | 乾式分離装置 |
| JP2018096639A (ja) * | 2016-12-15 | 2018-06-21 | 株式会社Ihi | 流動層システム |
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|---|---|
| JP3074622B2 (ja) | 2000-08-07 |
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