JPH11312736A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH11312736A
JPH11312736A JP10117985A JP11798598A JPH11312736A JP H11312736 A JPH11312736 A JP H11312736A JP 10117985 A JP10117985 A JP 10117985A JP 11798598 A JP11798598 A JP 11798598A JP H11312736 A JPH11312736 A JP H11312736A
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JP
Japan
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analysis information
circuit device
integrated circuit
semiconductor integrated
information storage
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Withdrawn
Application number
JP10117985A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Endo
秀一 遠藤
Isao Tagaya
功 多賀谷
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Hitachi Ltd
Hitachi Solutions Technology Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi ULSI Systems Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi ULSI Systems Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 パッケージを分解することなく、容易に、か
つ短時間で半導体チップの解析情報を取得する。 【解決手段】 予めプローブ検査工程などにおいてヒュ
ーズFN1〜FNn,FM1〜FMmをレーザなどによ
って切断し、それらNビットのデータからなるX方向の
半導体ウエハ座標とMビットのデータからなるY方向の
半導体ウエハ座標との設定を行う。不良解析時などに
は、テスト信号を所定の外部ピンから入力することによ
って、シフトレジスタSRが、これらN+Mビットのデ
ータを解析情報としてクロック信号CKに同期させて所
定の外部ピンを介して出力する。
(57) [Summary] [Problem] To obtain analysis information of a semiconductor chip easily and in a short time without disassembling a package. SOLUTION: In a probe inspection step or the like, fuses FN1 to FNn and FM1 to FMm are cut by a laser or the like, and a semiconductor wafer coordinate in the X direction consisting of N-bit data and a semiconductor wafer in the Y direction consisting of M-bit data. Set the coordinates. At the time of failure analysis or the like, by inputting a test signal from a predetermined external pin, the shift register SR outputs these N + M bits of data as analysis information via a predetermined external pin in synchronization with the clock signal CK. .

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路装
置に関し、特に、個々の半導体チップの配列情報の検出
に適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a technique which is effective when applied to detection of arrangement information of individual semiconductor chips.

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、各
々の半導体チップには、半導体ウエハにおける座標位置
が、たとえば、半導体チップ表面の絶縁膜などに形成さ
れており、不良解析、半導体集積回路装置の製造工程に
おける電気的特性や歩留まりなどの半導体装置の解析を
行う場合には、その位置座標を調査することによって半
導体ウエハ位置と製品となった半導体集積回路装置との
特性相関、すなわち、半導体ウエハ処理状態の分布の取
得を行っている。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, each semiconductor chip has a coordinate position on a semiconductor wafer, for example, formed on an insulating film on the surface of the semiconductor chip. When analyzing a semiconductor device such as an electrical characteristic or a yield in a circuit device manufacturing process, a characteristic correlation between a semiconductor wafer position and a product semiconductor integrated circuit device by examining its position coordinates, that is, The distribution of the processing status of the semiconductor wafer is obtained.

【0003】なお、この種の半導体集積回路装置の不良
解析について詳しく述べてある例としては、1985年
5月25日、株式会社工業調査会発行、前田和夫
(著)、「最新LSIプロセス技術」P527〜P53
1があり、この文献には、半導体集積回路装置における
信頼性不良解析の手法が記載されている。
As an example which describes in detail the failure analysis of this type of semiconductor integrated circuit device, see “Latest LSI Process Technology” published by the Industrial Research Institute, Inc. on May 25, 1985, Kazuo Maeda (author). P527-P53
This document describes a method for analyzing reliability failure in a semiconductor integrated circuit device.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体チップの位置表示では、次のような問題点があ
ることが本発明者により見い出された。
However, it has been found by the present inventor that the above-described semiconductor chip position display has the following problems.

【0005】すなわち、半導体チップの位置情報が、半
導体チップの表面に形成されているので、製品となった
半導体集積回路装置の場合、樹脂封止されたパッケージ
を分解しなければならず、解析が長時間化してしまい、
効率が悪くなるという問題がある。
That is, since the position information of the semiconductor chip is formed on the surface of the semiconductor chip, in the case of a semiconductor integrated circuit device as a product, the resin-sealed package must be disassembled, and the analysis becomes difficult. It ’s been a long time,
There is a problem that efficiency is deteriorated.

【0006】また、半導体集積回路装置の製造工程にお
ける電気的特性や歩留まりなどの解析を行う場合にも半
導体集積回路装置のパッケージを分解しなればならず、
大量の製品の解析を行うことができないので、製造工程
における半導体ウエハ処理状態の分布などのデータ取得
が困難となる恐れがある。
In analyzing the electrical characteristics and the yield in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit device, the package of the semiconductor integrated circuit device must be disassembled.
Since it is not possible to analyze a large number of products, it may be difficult to obtain data such as the distribution of the processing state of the semiconductor wafer in the manufacturing process.

【0007】本発明の目的は、パッケージを分解するこ
となく、容易に、かつ短時間で個々の半導体チップにお
ける配列の情報などの解析情報を取得することのできる
半導体集積回路装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device capable of easily and quickly obtaining analysis information such as arrangement information on individual semiconductor chips without disassembling a package. is there.

【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0010】すなわち、本発明の半導体集積回路装置
は、解析情報を電気的に格納し、第1の外部引出線から
入力される解析信号に基づいて解析情報を第2の外部引
出線に出力する解析情報格納手段を設けたものである。
That is, the semiconductor integrated circuit device of the present invention electrically stores the analysis information and outputs the analysis information to the second external lead line based on the analysis signal input from the first external lead line. An analysis information storage means is provided.

【0011】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記解析情報格納手段が、解析情報を格納する情報格納部
と、当該情報格納部に格納された解析情報を制御信号に
基づいて出力する解析情報出力部と、第1の外部引出線
から入力される解析信号を検出し、該解析情報出力部の
制御を行い、解析情報出力部から出力される解析情報を
第2の外部引出線に出力する信号検知部とよりなるもの
である。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the analysis information storage means includes an information storage unit for storing the analysis information, and an analysis unit for outputting the analysis information stored in the information storage unit based on a control signal. An information output unit for detecting an analysis signal input from the first external lead line, controlling the analysis information output unit, and outputting the analysis information output from the analysis information output unit to the second external lead line And a signal detection unit that performs the operation.

【0012】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
前記解析情報格納手段が、複数のヒューズよりなり、当
該複数のヒューズの接続状態によって所定ビットの解析
情報を設定するものである。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention,
The analysis information storage means includes a plurality of fuses, and sets analysis information of a predetermined bit according to a connection state of the plurality of fuses.

【0013】また、本発明の半導体集積回路装置は、前
記解析情報出力部が、シフトレジスタよりなり、情報格
納部から出力された解析情報をシリアル信号に変換して
出力するものである。
Further, in the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the analysis information output section includes a shift register, and converts the analysis information output from the information storage section into a serial signal and outputs the serial signal.

【0014】さらに、本発明の半導体集積回路装置は、
前記情報格納手段に格納される解析情報が、個々の半導
体チップにおける配列の情報よりなるものである。
Further, according to the semiconductor integrated circuit device of the present invention,
The analysis information stored in the information storage means is information on an arrangement in each semiconductor chip.

【0015】以上のことにより、個々の半導体チップに
おける配列などの解析情報をパッケージを分解すること
なく取得できるので、半導体ウエハ処理状態の分布など
の解析情報を効率よく、かつ大量に得ることができる。
As described above, since the analysis information such as the arrangement of individual semiconductor chips can be obtained without disassembling the package, the analysis information such as the distribution of the processing state of the semiconductor wafer can be obtained efficiently and in large quantities. .

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1による半導体集積回路装置に設けられた解析情報
格納回路の回路図、図2は、本発明の実施の形態1によ
る解析情報格納回路に設けられた情報出力回路の回路
図、図3は、本発明の実施の形態1による解析情報格納
回路のタイミングチャートである。
(Embodiment 1) FIG. 1 is a circuit diagram of an analysis information storage circuit provided in a semiconductor integrated circuit device according to Embodiment 1 of the present invention. FIG. 2 is an analysis diagram of Embodiment 1 of the present invention. FIG. 3 is a circuit diagram of the information output circuit provided in the information storage circuit, and FIG. 3 is a timing chart of the analysis information storage circuit according to the first embodiment of the present invention.

【0018】本実施の形態1において、半導体集積回路
装置には、解析情報格納回路(解析情報格納手段)1が
設けられており、この解析情報格納回路1は、該半導体
集積回路装置に必要な不良解析などに用いられる解析情
報が電気的に格納されている。
In the first embodiment, an analysis information storage circuit (analysis information storage means) 1 is provided in a semiconductor integrated circuit device, and the analysis information storage circuit 1 is required for the semiconductor integrated circuit device. Analysis information used for failure analysis and the like is stored electrically.

【0019】解析情報格納回路1には、図1に示すよう
に、N個のNチャネルMOS(Metal Oxide
Semiconductor)からなるトランジスタ
TS1〜TSNが設けられている。トランジスタTS1
の一方の接続部には、テスト信号(解析信号)が入力さ
れる外部ピンであるテストピン(第1の外部引出線)T
Pと接続され、トランジスタTSNの他方の接続部に
は、基準電位であるグランド電位が接続されている。
As shown in FIG. 1, the analysis information storage circuit 1 includes N N-channel MOSs (Metal Oxides).
(Transistors TS1 to TSN). Transistor TS1
A test pin (first external lead line) T, which is an external pin to which a test signal (analysis signal) is input,
The transistor TSN is connected to P, and the other connection of the transistor TSN is connected to a ground potential, which is a reference potential.

【0020】また、トランジスタTS1〜TSNは、直
列接続されており、トランジスタTS1〜TSNのゲー
トは、それぞれ一方の接続部と接続され、トランジスタ
TSNのゲートには、トランジスタT1のゲートと接続
されている。
The transistors TS1 to TSN are connected in series, the gates of the transistors TS1 to TSN are respectively connected to one connection part, and the gate of the transistor TSN is connected to the gate of the transistor T1. .

【0021】テストピンTPには、半導体集積回路装置
の動作電圧である電源電圧よりも高い電圧値の電圧がテ
スト信号として入力され、トランジスタTSNのゲート
から降圧された所定の電圧がトランジスタT1のゲート
に出力される。よって、誤って電源電圧などが入力され
ても、解析情報格納回路1が動作しないようになってい
る。
A voltage having a voltage value higher than the power supply voltage, which is the operating voltage of the semiconductor integrated circuit device, is input to the test pin TP as a test signal, and a predetermined voltage stepped down from the gate of the transistor TSN is applied to the gate of the transistor T1. Is output to Therefore, even if a power supply voltage or the like is erroneously input, the analysis information storage circuit 1 does not operate.

【0022】トランジスタT1の一方の接続部には、P
チャネルMOSであるトランジスタT2の他方の接続部
が接続されており、トランジスタT1の他方の接続部に
は、グランド電位が接続されている。
One connecting portion of the transistor T1 has P
The other connection of the transistor T2, which is a channel MOS, is connected to the other connection, and the other connection of the transistor T1 is connected to the ground potential.

【0023】また、トランジスタT2の一方の接続部な
らびにゲートには、電源電圧が供給さており、このトラ
ンジスタT2の他方の接続部には、インバータIv1の
入力部が接続されている。
A power supply voltage is supplied to one connection portion and a gate of the transistor T2, and an input portion of the inverter Iv1 is connected to the other connection portion of the transistor T2.

【0024】インバータIv1の出力部には、インバー
タIv2の入力部が接続され、該インバータIv2の出
力部には、インバータIv3の入力部が接続されてい
る。また、インバータIv2の出力部には、スイッチS
W1〜SW3の制御信号入力部1Cが接続されており、
インバータIv3の出力部には、スイッチSW1〜SW
3の制御信号入力部1Cが接続されている。
The output of the inverter Iv1 is connected to the input of the inverter Iv2, and the output of the inverter Iv2 is connected to the input of the inverter Iv3. The output of the inverter Iv2 has a switch S
The control signal input units 1C of W1 to SW3 are connected,
Switches SW1 to SW are connected to the output section of the inverter Iv3.
3 control signal input units 1C are connected.

【0025】また、スイッチSW1〜SW3は、Nチャ
ネルMOSとPチャネルMOSとのトランジスタが並列
接続された構成からなる。NチャネルMOSトランジス
タのゲートが制御信号入力部1Cとなり、PチャネルM
OSトランジスタのゲートが制御信号入力部1Cとな
り、これら制御信号入力部C,/Cに入力される制御信
号に基づいてスイッチSW1〜SW3の導通制御が行わ
れる。
Each of the switches SW1 to SW3 has a structure in which N-channel MOS and P-channel MOS transistors are connected in parallel. The gate of the N-channel MOS transistor becomes the control signal input section 1C, and the P-channel M
The gate of the OS transistor serves as the control signal input unit 1C, and the conduction control of the switches SW1 to SW3 is performed based on the control signals input to the control signal input units C and / C.

【0026】さらに、スイッチSW1〜SW3の一方の
接続部には、それぞれ外部ピンP1,外部ピンP2、外
部ピン(第2の外部引出線)P3が接続されている。外
部ピンP1には、クロック信号CKが入力され、外部ピ
ンP2には、シフトパルスSPが入力される。
Further, an external pin P1, an external pin P2, and an external pin (second external lead-out line) P3 are connected to one connection portion of the switches SW1 to SW3, respectively. The clock signal CK is input to the external pin P1, and the shift pulse SP is input to the external pin P2.

【0027】また、外部ピンP3は、情報出力回路2か
ら出力される解析情報をシリアル信号の出力データDt
として出力する。解析情報をシリアル信号によって出力
するので、外部ピンP3は1本でよく、解析情報を出力
する外部ピンの節約を行うことができる。
The external pin P3 is connected to the analysis information output from the information output circuit 2 to output serial signal output data Dt.
Output as Since the analysis information is output by a serial signal, only one external pin P3 is required, and the number of external pins for outputting the analysis information can be reduced.

【0028】そして、これらトランジスタTS1〜TS
N,T1,T2、インバータIv1〜Iv3ならびにス
イッチSW1〜SW3によって信号検知部が構成されて
いる。
The transistors TS1 to TS1
N, T1, T2, inverters Iv1 to Iv3, and switches SW1 to SW3 constitute a signal detection unit.

【0029】スイッチSW1〜SW3には、情報出力回
路2が接続されている。この情報出力回路2は、解析情
報として個々の半導体チップにおける配列の情報、すな
わち、半導体ウエハの座標位置データを格納しており、
テスト信号に基づいて解析情報を出力する。
The information output circuit 2 is connected to the switches SW1 to SW3. The information output circuit 2 stores, as analysis information, arrangement information on individual semiconductor chips, that is, coordinate position data of a semiconductor wafer.
Output analysis information based on the test signal.

【0030】情報出力回路2は、図2に示すように、シ
フトレジスタ(解析情報出力部)SR、複数のヒューズ
(情報格納部)FN1〜FNn,FM1〜FMmならび
に該複数のヒューズFN1〜FNn,FM1〜FMmと
同数のNチャネルMOSのトランジスタTN1〜TN
n,TM1〜TMmから構成されている。
As shown in FIG. 2, the information output circuit 2 includes a shift register (analysis information output unit) SR, a plurality of fuses (information storage units) FN1 to FNn, FM1 to FMm, and a plurality of fuses FN1 to FNn. N-channel MOS transistors TN1 to TN as many as FM1 to FMm
n, TM1 to TMm.

【0031】シフトレジスタSRには、スイッチSW1
〜SW3の他方の接続部が接続されており、これらスイ
ッチSW1,SW2を介して信号同期のクロック信号C
Kならびに該シフトレジスタSRの制御を行うシフトパ
ルスSPが入力される。また、スイッチSW3を介して
シフトレジスタSRから出力されるシリアル信号の出力
データDtが出力される。
The shift register SR has a switch SW1
To SW3 are connected to each other, and the signal synchronous clock signal C is output through these switches SW1 and SW2.
K and a shift pulse SP for controlling the shift register SR are input. Further, output data Dt of a serial signal output from the shift register SR via the switch SW3 is output.

【0032】また、シフトレジスタSRには、パラレル
データが入力される。パラレルデータが入力されるデー
タ入力部DN1〜DNn,DM1〜DMmには、ヒュー
ズFN1〜FNn,FM1〜FMmの他方の接続部がそ
れぞれ接続されており、このヒューズFN1〜FNn,
FM1〜FMmの一方の接続部には、電源電圧が供給さ
れるように接続されている。
The shift register SR receives parallel data. The other input portions of the fuses FN1 to FNn and FM1 to FMm are connected to the data input portions DN1 to DNn and DM1 to DMm to which the parallel data is input, respectively.
One of the connecting portions of FM1 to FMm is connected so that a power supply voltage is supplied.

【0033】ヒューズFN1〜FNn,FM1〜FMm
の他方の接続部には、トランジスタTN1〜TNn,T
M1〜TMmの一方の接続部が接続されており、これら
トランジスタTN1〜TNn,TM1〜TMmの他方の
接続部には、基準電位であるグランド電位が接続され、
トランジスタTN1〜TNn,TM1〜TMmのゲート
には、定電圧電源VIEが供給されている。
Fuse FN1 to FNn, FM1 to FMm
Are connected to transistors TN1-TNn, T
One of the connection portions of M1 to TMm is connected, and the other connection portion of these transistors TN1 to TNn and TM1 to TMm is connected to a ground potential as a reference potential.
Transistor TN1~TNn, to the gates of TM1~TMm, a constant voltage source V IE is supplied.

【0034】そして、ヒューズFN1〜FNnのNビッ
トによってX方向の半導体ウエハ座標が表され、ヒュー
ズFM1〜FMmのMビットによってY方向の半導体ウ
エハ座標が表される。
The semiconductor wafer coordinates in the X direction are represented by N bits of the fuses FN1 to FNn, and the semiconductor wafer coordinates in the Y direction are represented by M bits of the fuses FM1 to FMm.

【0035】次に、本実施の形態の作用について、図
1、図2および図3のタイミングチャートを用いて説明
する。
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to the timing charts of FIGS. 1, 2 and 3.

【0036】図3においては、上方から下方にかけて、
外部ピンP1から入力されるクロック信号CK、外部ピ
ンP2から入力されるシフトパルスSP、外部ピンP3
から出力されるデータ出力Dtの信号を示している。
In FIG. 3, from top to bottom,
Clock signal CK input from external pin P1, shift pulse SP input from external pin P2, external pin P3
3 shows a signal of a data output Dt output from the data output device.

【0037】半導体集積回路装置に設けられたテストピ
ンTPから電源電圧よりも高い所定の電圧値のテスト信
号が入力されると、トランジスタTS1〜TSNによっ
て設定された電圧まで降圧された信号がトランジスタT
1のゲートに出力される。
When a test signal having a predetermined voltage value higher than the power supply voltage is input from a test pin TP provided in the semiconductor integrated circuit device, a signal stepped down to the voltage set by the transistors TS1 to TSN is applied to the transistor T
1 is output to the gate.

【0038】また、シフトレジスタSRのデータ入力部
DN1〜DNn,DM1〜DMmに入力されるN+Mビ
ットのデータは、予めプローブ検査工程などにおいてヒ
ューズFN1〜FNnならびにヒューズFM1〜FMm
を任意にレーザなどによって切断し、それらNビットの
データからなるX方向の半導体ウエハ座標とMビットの
データからなるY方向の半導体ウエハ座標との設定が行
われている。
The N + M-bit data input to the data input sections DN1 to DNn and DM1 to DMm of the shift register SR are stored in advance in the probe inspection step or the like by using the fuses FN1 to FNn and the fuses FM1 to FMm.
Are arbitrarily cut by a laser or the like, and the setting of the X-direction semiconductor wafer coordinates composed of the N-bit data and the Y-direction semiconductor wafer coordinates composed of the M-bit data is performed.

【0039】トランジスタT1のゲートには、Hi信号
が入力されるのでONとなり、インバータIv1の入力
部にはLo信号が入力されるので、インバータIv2の
出力部はLo信号、インバータIv3の出力部はHi信
号出力となる。
Since the Hi signal is input to the gate of the transistor T1, the transistor T1 is turned ON, and the Lo signal is input to the input section of the inverter Iv1, so that the output section of the inverter Iv2 has the Lo signal, and the output section of the inverter Iv3 has the Lo section. Hi signal output.

【0040】よって、スイッチSW1〜SW3の制御信
号入力部CにはHi信号、制御信号入力部/CにはLo
信号がそれぞれ入力されるので、スイッチSW1〜SW
3は導通状態となる。
Therefore, a Hi signal is applied to the control signal input section C of the switches SW1 to SW3, and a Lo signal is applied to the control signal input section / C.
Since the signals are respectively input, the switches SW1 to SW
3 becomes conductive.

【0041】シフトレジスタSRは、シフトパルスSP
がLo信号の場合にデータ出力が行われるので、外部ピ
ンP2から入力しているシフトパルスSPをHi信号か
らLo信号に反転させる。
The shift register SR has a shift pulse SP
Is a Lo signal, the shift pulse SP input from the external pin P2 is inverted from the Hi signal to the Lo signal.

【0042】シフトパルスSPがLo信号となると、シ
フトレジスタSRは、スイッチSW1を介して入力され
ているクロック信号CKに同期してデータ入力部DN1
〜DNn,DM1〜DMmに入力されているN+Mビッ
トのデータが、データ出力Dtとしてシリアル信号で出
力される。
When the shift pulse SP becomes the Lo signal, the shift register SR synchronizes with the clock signal CK inputted via the switch SW1 to the data input section DN1.
To DNn and DM1 to DMm are output as data output Dt as serial signals.

【0043】よって、スイッチSW3を介して外部ピン
P3から出力されるデータ出力Dtをテスタなどによっ
て読み出しを行うことにより、解析情報が検出でき、そ
れぞれの半導体集積回路装置に用いられる半導体チップ
における半導体ウエハ座標位置の情報を取得することが
できる。
Therefore, by reading out the data output Dt output from the external pin P3 via the switch SW3 by a tester or the like, analysis information can be detected, and the semiconductor wafer in the semiconductor chip used in each semiconductor integrated circuit device can be detected. Information on the coordinate position can be obtained.

【0044】それにより、本実施の形態1においては、
半導体集積回路装置に解析情報格納回路1を設けること
によって半導体ウエハ座標位置を電気的に読み出すこと
ができるので、半導体ウエハ処理状態の分布などの特性
相関データを容易に取得することができる。
Thus, in the first embodiment,
By providing the analysis information storage circuit 1 in the semiconductor integrated circuit device, the coordinate position of the semiconductor wafer can be electrically read, so that characteristic correlation data such as the distribution of the processing state of the semiconductor wafer can be easily obtained.

【0045】また、パッケージを分解することなく解析
情報の取得が可能となるので、製造工程における電気的
特性や歩留まりなどの解析を行った半導体集積回路装置
を製品として出荷でき、製造効率が大幅に向上でき、か
つ大量の製品の解析を行うことができる。
Further, since it is possible to obtain analysis information without disassembling the package, a semiconductor integrated circuit device which has been analyzed for electrical characteristics and yield in a manufacturing process can be shipped as a product, and the manufacturing efficiency is greatly reduced. It can improve and analyze a large number of products.

【0046】さらに、本実施の形態1では、シフトレジ
スタSRのデータ入力部DN1〜DNn,DM1〜DM
mに入力されるN+MビットのデータをヒューズFN1
〜FNn,ヒューズFM1〜FMmによって設定した
が、たとえば、図4に示すように、N+Mビットのデー
タをEPROM(Erasable and Prog
rammable Read Only Memor
y)などのメモリ(情報格納部)3に格納し、このメモ
リ3に格納されたデータをシフトレジスタSRによって
読み出すようにしてもよい。
Further, in the first embodiment, the data input sections DN1 to DNn, DM1 to DM
m + N-bit data input to the fuse FN1
To FNn and fuses FM1 to FMm. For example, as shown in FIG. 4, N + M-bit data is stored in an EPROM (Erasable and Prog).
ramble Read Only Memor
y) or the like, and the data stored in the memory 3 may be read by the shift register SR.

【0047】(実施の形態2)図5は、本発明の実施の
形態2による半導体集積回路装置に設けられた解析情報
格納回路の回路図である。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a circuit diagram of an analysis information storage circuit provided in a semiconductor integrated circuit device according to Embodiment 2 of the present invention.

【0048】本実施の形態2においては、半導体集積回
路装置に設けられたN+M本の外部ピンのそれぞれに解
析情報格納回路(解析情報格納手段)1aが設けられて
いる。この外部ピンは、たとえば、DRAMなどのメモ
リの場合では、N+M本のアドレスピン(第1、第2の
外部引出線)A0〜Anとなる。
In the second embodiment, an analysis information storage circuit (analysis information storage means) 1a is provided for each of the (N + M) external pins provided in the semiconductor integrated circuit device. These external pins are, for example, N + M address pins (first and second external lead lines) A0 to An in the case of a memory such as a DRAM.

【0049】また、解析情報格納回路1aは、N個のN
チャネルMOSのトランジスタTSS1〜TSSNおよ
びヒューズ(情報格納部)FAから構成されており、こ
れらトランジスタTSS1〜TSSNとヒューズFAと
によって、解析情報出力部ならびに信号検知部が構成さ
れている。
The analysis information storage circuit 1a includes N N
The transistor TSS1 comprises a channel MOS transistor TSS1 to TSSN and a fuse (information storage unit) FA. The transistor TSS1 to TSSN and the fuse FA constitute an analysis information output unit and a signal detection unit.

【0050】たとえば、アドレスピンA0に接続されて
いる解析情報格納回路1aの場合について説明する。
For example, the case of the analysis information storage circuit 1a connected to the address pin A0 will be described.

【0051】アドレスピンA0にはアドレスバファBが
接続され、通常の動作時には、このアドレスバッファB
を介してアドレス信号が周辺回路などに出力される。ま
た、アドレスピンA0には、トランジスタTSS1の一
方の接続部およびゲートが接続されている。
An address buffer B is connected to the address pin A0.
, An address signal is output to peripheral circuits and the like. Further, one connection portion and the gate of the transistor TSS1 are connected to the address pin A0.

【0052】そして、トランジスタTSS1〜トランジ
スタTSSN−1は、直列接続されており、トランジス
タTSSN−1の他方の接続部には、ヒューズFAの一
方の接続部が接続され、ヒューズFAの他方の接続部に
は、トランジスタTSSNの一方の接続部が接続されて
いる。
The transistors TSS1 to TSSN-1 are connected in series. One connection of the fuse FA is connected to the other connection of the transistor TSSN-1, and the other connection of the fuse FA is connected. Is connected to one connection of the transistor TSSN.

【0053】また、トランジスタTSSNの他方の接続
部には、グランド電位が接続されており、トランジスタ
TSSNのゲートならびに一方の接続部には、定電圧電
源VIEが供給されている。さらに、トランジスタTSS
1〜TSSN−1の各々のゲートは、それぞれトランジ
スタTSS1〜TSSN−1の一方の接続部と接続され
ている。
A ground potential is connected to the other connection of the transistor TSSN, and a constant voltage power supply V IE is supplied to the gate and one connection of the transistor TSSN. Further, the transistor TSS
Each of the gates of 1 to TSSN-1 is connected to one connection of the transistors TSS1 to TSSN-1, respectively.

【0054】この解析情報格納回路1aが、N+M本の
アドレスピンA0〜Anのそれぞれに接続されているの
でヒューズFAもN+M本となり、N本ヒューズFAに
よってX方向の半導体ウエハ座標を設定し、M本のヒュ
ーズFAによってY方向の半導体ウエハ座標の設定が行
われる。
Since the analysis information storage circuit 1a is connected to each of the N + M address pins A0 to An, the number of the fuses FA is also N + M. The N fuses FA set the semiconductor wafer coordinates in the X direction. The semiconductor wafer coordinates in the Y direction are set by the fuses FA.

【0055】よって、予めプローブ検査工程などにおい
てN+M本のヒューズFAを任意にレーザなどによって
切断することによって、それらN+Mビットのデータ設
定が行われる。
Therefore, in the probe inspection process or the like, the N + M fuses FA are arbitrarily cut by a laser or the like, so that the N + M bits of data are set.

【0056】また、解析情報の出力を行う場合には、ア
ドレスピンテストピンA0〜Anに電源電圧よりも高い
電圧値の電圧を入力し、この時にアドレスピンA0〜A
nに電流が流れるか否かをテスタなどによって測定し、
半導体ウエハ座標位置の情報を取得する。
To output the analysis information, a voltage having a voltage value higher than the power supply voltage is input to the address pin test pins A0 to An.
n is measured by a tester to determine whether current flows
Acquires information on a semiconductor wafer coordinate position.

【0057】それにより、本実施の形態2においても、
半導体集積回路装置に解析情報格納回路1aを設けるこ
とによって半導体ウエハ座標位置を電気的に読み出すこ
とができるので、半導体ウエハ処理状態の分布などの特
性相関のデータを容易に取得することができる。
Thus, also in the second embodiment,
By providing the semiconductor integrated circuit device with the analysis information storage circuit 1a, the coordinate position of the semiconductor wafer can be electrically read out, so that characteristic correlation data such as the distribution of the processing state of the semiconductor wafer can be easily obtained.

【0058】また、パッケージを分解することなく半導
体ウエハ座標位置を読み出すことができるので、製造工
程における電気的特性や歩留まりなどの解析を行った半
導体集積回路装置を製品として出荷できるので製造効率
が向上し、大量の製品の解析を行うことができる。
Further, since the semiconductor wafer coordinate position can be read out without disassembling the package, the semiconductor integrated circuit device analyzed in the electric characteristics and the yield in the manufacturing process can be shipped as a product, so that the manufacturing efficiency is improved. In addition, it is possible to analyze a large number of products.

【0059】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0060】たとえば、前記実施の形態1、2では、解
析情報格納回路に格納される解析情報が、半導体ウエハ
座標位置の情報のみであったが、製造年月日や半導体デ
バイスのパラメータなどの不良解析などに必要な様々な
情報を格納するようにしてもよい。それにより、不良解
析などをより効率よく行うことができる。
For example, in the first and second embodiments, the analysis information stored in the analysis information storage circuit is only the information on the coordinate position of the semiconductor wafer. Various information necessary for analysis and the like may be stored. Thereby, failure analysis and the like can be performed more efficiently.

【0061】[0061]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0062】(1)本発明によれば、第2の外部引出線
から解析情報を出力する解析情報格納手段を設けたこと
により、個々の半導体チップにおける配列などの解析情
報をパッケージを分解することなく取得できるので、不
良解析や半導体ウエハ処理状態の分布などの半導体集積
回路装置の解析を効率よく行うことができる。
(1) According to the present invention, by providing the analysis information storage means for outputting the analysis information from the second external lead line, the analysis information such as the arrangement in each semiconductor chip can be disassembled into a package. Therefore, it is possible to efficiently analyze a semiconductor integrated circuit device such as failure analysis and distribution of a processing state of a semiconductor wafer.

【0063】(2)また、本発明では、パッケージの分
解が不要となるので、製品となった半導体集積回路装置
の解析情報を出荷前に得ることができ、大量の解析情報
をむだなく、短時間で取得することができる。
(2) Further, according to the present invention, since the package does not need to be disassembled, the analysis information of the semiconductor integrated circuit device as a product can be obtained before shipment, so that a large amount of analysis information can be obtained without waste. Can be obtained in time.

【0064】(3)さらに、本発明においては、上記
(1)、(2)により、半導体集積回路装置の製造効率
を向上でき、かつコストを下げることができる。
(3) Further, in the present invention, according to the above (1) and (2), the manufacturing efficiency of the semiconductor integrated circuit device can be improved and the cost can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1による半導体集積回路装
置に設けられた解析情報格納回路の回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram of an analysis information storage circuit provided in a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1による解析情報格納回路
に設けられた情報出力回路の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of an information output circuit provided in the analysis information storage circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の実施の形態1による解析情報格納回路
のタイミングチャートである。
FIG. 3 is a timing chart of the analysis information storage circuit according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の他の実施の形態による解析情報格納回
路に設けられた情報出力回路の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of an information output circuit provided in an analysis information storage circuit according to another embodiment of the present invention.

【図5】本発明の実施の形態2による半導体集積回路装
置に設けられた解析情報格納回路の回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of an analysis information storage circuit provided in a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 解析情報格納回路(解析情報格納手段) 1a 解析情報格納回路(解析情報格納手段) 2 情報出力回路 3 メモリ(情報格納部) TS1〜TSN トランジスタ T1,T2 トランジスタ TN1〜TNn,TM1〜TMm トランジスタ TSS1〜TSSN トランジスタ TP テストピン(第1の外部引出線) Iv1〜Iv3 インバータ SW1〜SW3 スイッチ SR シフトレジスタ(解析情報出力部) FN1〜FNn,FM1〜FMm ヒューズ(情報格納
部) FA ヒューズ(情報格納部) C,/C 制御信号入力部 P1 外部ピン P2 外部ピン P3 外部ピン(第2の外部引出線) DN1〜DNn データ入力部 DM1〜DMm データ入力部 A0〜An アドレスピン(第1、第2の外部引出線) SP シフトパルス Dt 出力データ CK クロック信号 VIE 定電圧電源
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Analysis information storage circuit (analysis information storage means) 1a Analysis information storage circuit (analysis information storage means) 2 Information output circuit 3 Memory (information storage part) TS1-TSN transistor T1, T2 transistor TN1-TNn, TM1-TMm transistor TSS1 To TSSN transistor TP test pin (first external lead line) Iv1 to Iv3 inverter SW1 to SW3 switch SR shift register (analysis information output unit) FN1 to FNn, FM1 to FMm fuse (information storage unit) FA fuse (information storage unit) ) C, / C control signal input section P1 external pin P2 external pin P3 external pin (second external lead line) DN1 to DNn data input section DM1 to DMm data input section A0 to An address pin (first and second) External lead wire) SP shift pulse Dt output data CK clock signal V IE constant voltage power supply

フロントページの続き (72)発明者 多賀谷 功 東京都小平市上水本町5丁目22番1号 株 式会社日立超エル・エス・アイ・システム ズ内Continued on the front page (72) Inventor Isao Tagaya 5-22-1, Kamimizuhoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside Hitachi Cho LSI Systems, Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 解析情報を電気的に格納し、第1の外部
引出線から入力される解析信号に基づいてその解析情報
を第2の外部引出線に出力する解析情報格納手段を設け
たことを特徴とする半導体集積回路装置。
1. An analysis information storage means for electrically storing analysis information and outputting the analysis information to a second external lead line based on an analysis signal input from the first external lead line. A semiconductor integrated circuit device characterized by the above-mentioned.
【請求項2】 請求項1記載の半導体集積回路装置にお
いて、 前記解析情報格納手段が、 解析情報を格納する情報格納部と、 前記情報格納部に格納された解析情報を制御信号に基づ
いて出力する解析情報出力部と、 前記第1の外部引出線から入力される解析信号を検出
し、前記解析情報出力部の制御を行い、前記解析情報出
力部から出力される解析情報を前記第2の外部引出線に
出力する信号検知部とよりなることを特徴とする半導体
集積回路装置。
2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein said analysis information storage means outputs an information storage section for storing analysis information based on a control signal. An analysis information output unit that detects an analysis signal input from the first external leader line, controls the analysis information output unit, and outputs the analysis information output from the analysis information output unit to the second A semiconductor integrated circuit device comprising: a signal detection unit that outputs to an external lead line.
【請求項3】 請求項2記載の半導体集積回路装置にお
いて、前記情報格納部が複数のヒューズよりなり、前記
複数のヒューズの接続状態によって所定ビットの解析情
報を設定することを特徴とする半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein said information storage section comprises a plurality of fuses, and analysis information of a predetermined bit is set according to a connection state of said plurality of fuses. Circuit device.
【請求項4】 請求項2または3記載の半導体集積回路
装置において、解析情報出力部が、シフトレジスタより
なり、前記情報格納部から出力された解析情報をシリア
ル信号に変換して出力することを特徴とする半導体集積
回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 2, wherein the analysis information output unit includes a shift register, and converts the analysis information output from the information storage unit into a serial signal and outputs the serial signal. A semiconductor integrated circuit device, characterized by:
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の半
導体集積回路装置において、前記情報格納手段に格納さ
れる解析情報が、個々の半導体チップにおける配列の情
報であることを特徴とする半導体集積回路装置。
5. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the analysis information stored in the information storage means is information on an arrangement in each semiconductor chip. Semiconductor integrated circuit device.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20020033955A (en) * 2000-10-31 2002-05-08 윤종용 Method for obtaining fuse coordinates contained in semiconductor device, and Method for repairing semiconductor device using the same
US7106675B1 (en) 1999-11-22 2006-09-12 Sanyo Electric Co., Ltd. Data recorder
JP2019215724A (en) * 2018-06-13 2019-12-19 ラピスセミコンダクタ株式会社 Semiconductor device

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