JPH11314342A

JPH11314342A - オフセット印刷方法、およびこれを用いた画像形成装置

Info

Publication number: JPH11314342A
Application number: JP12233998A
Authority: JP
Inventors: Masako Midorikawa; 理子緑川; Kazunari Yonemoto; 一成米元; Nobuyuki Ishikawa; 信行石川; Nobuyuki Nakahara; 伸之中原
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1998-05-01
Filing date: 1998-05-01
Publication date: 1999-11-16

Abstract

(57)【要約】【課題】オフセット輪転機やオフセット校正機で版に
インキ組成物を充填しドクタリングを行なう際、インク
切れが悪く、版に刻まれたパターンが正しく印刷され
ず、更にインク組成物の利用効率の改善の問題があっ
た。【解決手段】オフセット印刷におけるインクのドクタ
リングに際して、ドクタリングブレード、インクおよび
凹版の何れか１つまたは２以上を好ましくは３０〜１０
０℃に加熱することによりインキ切れを向上するオフセ
ット印刷方法および画像形成装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、たとえばプリント
配線基板あるいは画像表示装置等の部品の高精度印刷に
適したオフセット印刷方法およびその装置に係わり、詳
しくはドクタリングによるインキの充填手段に改良を施
したオフセット印刷方法およびその装置に関する。更に
詳細には、印刷版に形成された原版パターンを被印刷物
の上に高精度に転写印刷形成する印刷方法、および転写
印刷形成した印刷パターンを用いた画像表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、大きく重いブラウン管に代わる画
像形成装置として、薄型の平板状画像形成装置が注目さ
れている。平板状画像形成装置としては液晶表示装置が
盛んに研究開発されているが、液晶表示装置には画像が
暗い、視野角が狭いといった課題が依然として残ってい
る。液晶表示装置に代わるものとして自発光型のディス
プレイ、即ちプラズマディスプレイ、蛍光表示管、表面
伝導型電子放出素子などの電子放出素子を用いたディス
プレイなどがある。自発光のディスプレイは液晶表示装
置に比べ明るい画像が得られるとともに視野角も広い。

【０００３】一方、最近では３０インチ以上の画面表示
部を有するブラウン管も登場しつつあり、さらなる大型
化が望まれている。しかしながらブラウン管は大型化の
際にはスペースを大きくとることから適しているとは言
い難い。このような大型で明るいディスプレイには自発
光型の平板状のディスプレイが適している。本出願人は
自発光型の平板状画像形成装置の中でも電子放出素子を
用いた画像形成装置、特に簡単な構造で電子の放出が得
られるM.I.Elinsonらによって発表された（Radio.Eng.E
lectron Phys., 10,1290,(1965)）表面伝導型電子放出
素子を用いた画像形成装置に着目している。

【０００４】表面伝導型電子放出素子は、基板上に形成
された小面積の薄膜に膜面に平行に電流を流すことによ
り、電子放出が生ずる。この表面伝導型電子放出素子と
しては、前記エリンソン等によるＳｎＯ２薄膜を用い
たもの、Ａｕ薄膜によるもの［G.Dittmer: Thin Solid
Films, 9,317(1972)］、Ｉｎ２Ｏ３／ＳｎＯ２薄膜
によるもの［M.Hartwell and C.G.Fonstad: IEEE Tran
s. ED Conf., 519(1975)］、カーボン薄膜によるもの
［荒木久他：真空、第２６巻、第１号、２２頁（１９
８３）］等が報告されている。

【０００５】これらの表面伝導型電子放出素子の典型的
な例として前述のＭ．ハートウェルの素子構成を図４に
模式的に示す。同図において１００１は基板である。１
００４は導電性薄膜で、Ｈ型形状のパターンにスパッタ
で形成された金属酸化物薄膜等からなり、後述の通電フ
ォーミングと呼ばれる通電処理により電子放出部１００
５が形成される。尚、図中の素子電極間隔Ｌは０．５〜
１ｍｍ、Ｗ′は０．１ｍｍで設定されている。

【０００６】また本出願人は先に米国特許５，０６６，
８８３において一対の素子電極間に電子を放出せしめる
微粒子を分散配置させた表面伝導型電子放出素子を提案
した。この電子放出素子は上記従来の表面伝導型電子放
出素子に対し、電子放出位置を精密に制御できる。この
表面伝導型電子放出素子の典型的な素子構成を図５に示
す。図５（ａ）は素子構成の平面図、図５（ｂ）は素子
構成の断面図を示す。本図において１１０１は絶縁性基
板、１１０２、１１０３は電気的接続を得るための素子
電極、１１０４は分散配置された微粒子導電材からなる
導電薄膜である。この表面伝導型電子放出素子において
前記一対の素子電極の間隔Ｌ１は０．０１μｍ〜１００
μｍ、導電薄膜１１０４の電子放出部のシート抵抗は１
×１０^-3Ω／□〜１×１０^-9Ω／□が適当である。また
素子電極は微粒子導電材からなる薄膜と電気的な接続を
保つためにその膜厚ｄを２００ｎｍ以下に薄く形成する
のが望ましい。

【０００７】本発明者らはこの表面伝導型電子放出素子
を多数、基板上に配置させた画像形成装置の大面積化に
ついて検討を行っている。電子放出素子および配線を基
板上に配置させた電子源基板を作成する方法は様々な方
法が考えられ、その一つとして素子電極、配線等全てフ
ォトリソグラフィ法で作成する方法がある。

【０００８】一方、スクリーン印刷、オフセット印刷な
どの印刷技術を転用してこの表面伝導型電子放出素子お
よびそれを含む電子源基板を作成する方法が考えられ
る。印刷法は大面積のパターンを形成するのに適してお
り、表面伝導型電子放出素子の素子電極を印刷法により
作成することによって多数の表面伝導型電子放出素子を
基板上に形成することが可能となる。またコスト的にも
有利である。印刷法による素子電極の形成においては薄
膜の形成に適しているオフセット印刷技術が素子電極を
形成するのに適している。このオフセット印刷技術を回
路基板に応用した例としては特開平４−２９０２９５号
公報に開示されたものがある。当該公報に開示された基
板は印刷時のパターン伸縮を原因とする電極ピッチ寸法
のバラツキによる接合不良をなくすために回路部品に接
続される複数の接合電極の角度を変化させたものであ
る。そして当該特開平４−２９０２９５号公報には電極
パターンをオフセット印刷により形成することが記載さ
れている。

【０００９】従来より、この種の高精度印刷には、例え
ばオフセット輪転機やオフセット校正機等が多用されて
いる。

【００１０】以下に電極パターンやカラーフィルター等
を形成するための一般的なオフセット印刷装置および印
刷方法について説明する。

【００１１】図６はオフセット印刷法を行なう平台校正
機型オフセット印刷装置を示す図である。本図において
１０１はインキローラー１０４でインキ１０７を展開す
るインキ練り台であり、１０２は凹版１０５を固定する
版定盤である。また１０３は被印刷物であるワーク１０
６を固定するワーク定盤であり本体フレーム１０８の上
に固定配置されている。この一列に並んだ３つの定盤の
両側に２本のラックギヤー１０９、１１０を配置し、そ
のラックギヤー１０９、１１０の上にギヤー１１１、１
１２を噛み合わせたブランケット１１３が配置されてい
る。ブランケット１１３はその軸を両端のキャリッジ１
１４、１１５で固定され、このキャリッジ１１４、１１
５が本体下部からのクランクアーム１１６のクランク動
作によって前後進し、ブランケット１１３はインキ練り
台１０１、凹版１０５、ワーク１０６の上を順次回転摺
動する。ブランケット１１３の表面はゴム状のブランケ
ットラバーが取付けてある。１１８はアライメントスコ
ープであり、ワーク１０６上に印刷されたインキパター
ン位置情報を取り込みワーク交換毎にワーク定盤１０３
の微調整により所定の位置にアライメントをおこなうも
のである。

【００１２】図７ａ〜ｄはオフセット印刷工程を示す図
である。本図に於て１０１はインキ練り台、１０５は凹
版、１０６はワークとなるガラス基板であり同一平面に
直列に配置されている。１０４はインキロールでありイ
ンキ練り台１０１で練ったインキ１０７を凹版１０５上
に転移させる（図７ａ）。１１７はドクターブレードで
あり凹版１０５上面を摺動して転移したインキ１０７の
うち、凹部に充填されたインキ以外をかきとる（図７
ｂ）。１１３はブランケットであり凹版１０５、ガラス
基板１０６上面を順に回転接触することにより、凹版１
０５の凹部に充填されたインキを受理し（図７ｃ）、ガ
ラス基板１０６上に凹版１０５の有するパターン状にイ
ンキ１０７を転移する（図７ｄ）。

【００１３】以上により印刷工程が終了する。印刷イン
キ１０７は作製するパターンの機能によって適宜選択す
ることができる。即ち記録用サーマルヘッド等の電極パ
ターンには主にＡｕレジネートペーストと呼ばれる有機
Ａｕ金属を含むインキを用い、また、液晶表示装置等に
用いられるカラーフィルターであればＲ、Ｇ、Ｂ各色の
顔料を分散したインキや有機色素を含んだインキ等が用
いられる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来のオフセット輪転機やオフセット校正機で、版
にインキを充填する為にドクタリングを行なう際には、
インキの切れが悪く、結果的に版に刻まれたパターン
が、被印刷物上にパターン通りに印刷されないという問
題があった。

【００１５】すなわち、インキがドクタリング時に切れ
にくいために、いったん版に入ったインキがドクターブ
レードに引きずられ持ちさられ、版内に残るインキは不
定形となり、またはインキによっては殆ど残らず、ある
いはドクターブレードに引きずられたインキがパターン
外の別の場所に残留し、いわゆるかき残りが発生して、
版へのインキ充填を完全にまたは安定的に行なわせるこ
とが非常に困難であった。したがって、これまでの方法
による印刷後のパターンは、必然的に版のパターンを忠
実に再現することが非常に困難であるという問題があっ
た。

【００１６】本発明の目的は、上述の課題を解決し、ド
クタリング時のインキの切れをよくし、版内に完全にま
たは安定的にインキを充填する印刷方法および印刷装置
を提供することである。また、これを用いて版のパター
ン形状を三次元的に出来る限り忠実に、インキ層として
被印刷物上に印刷することができる、安価で取り扱いの
容易な画像形成装置を提供することである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の本発
明によって達成される。

【００１８】すなわち、本発明は、オフセット印刷にお
けるインキのドクタリングに際して、ドクタリングブレ
ード、インキおよび凹版の何れか１つまたは２以上を加
熱することによりインキ切れを向上させることを特徴と
するオフセット印刷方法であり、この方法において、加
熱温度は３０〜１００℃の温度範囲であることが好まし
い。

【００１９】また本発明は、オフセット印刷におけるイ
ンキのドクタリングに際してドクタリングブレード、イ
ンキおよび凹版の何れか１つまたは２以上を加熱するオ
フセット印刷方法により基板上に電子放出素子の素子電
極を印刷形成し、該素子電極に導電薄膜と配線を形成し
て得られる電子源基板を組込んでなる画像形成装置を提
供するものである。この適用方法において採用される加
熱温度は３０〜１００℃の温度範囲であることが好まし
い。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の内容を添付概略図
を用いて詳細に説明する。

【００２１】図１はオフセット印刷において、ドクタリ
ングによる版へのインキの充填を模式的に表した図であ
る。本図において１はドクターブレード、２は凹版、３
はインキ、４はヒーターを表す。（ａ）はインキング後
ドクタリング開始時、（ｂ）はドクタリング時、（ｃ）
はドクタリング終了時を表す。

【００２２】本発明で使用するドクターブレード１は、
ドクタリング時に於て、その温度が変化することを特徴
とする。温度を変化させる方法はいかなる方法であって
も良く、例えば、ブレードに接触させたヒーター４等に
よる加熱によっても良い。

【００２３】図１（ａ）のように、凹版の一部の凹部等
にインキ注入後、図１（ｂ）→図２（ｃ）のようにドク
タリングして版にインキを充填していく。このとき、ド
クターブレードが加温されていることによって、インキ
がドクターブレードに触れるとその接触部分のインキが
加温されて流動性が上昇し、結果的にインキが切れやす
くなる。

【００２４】ドクターブレード１の材質はアルミニウム
製、ステンレス製等が好適に用いられるが、これに限定
されず、温度を変化させることが出来かつ熱伝導性が良
好で、印刷インキに良く熱を伝えるような材質であれば
いかなる材料であっても良い。しかしながら、通常印刷
しようとするインキの物性に応じて適宜、選択される。

【００２５】凹版２は、銅をエッチングして希望のパタ
ーンを形成し、クロム処理したものや、アルミニウム
製、ガラス製等、一般的な凹版が用いられる。

【００２６】印刷インキ３は、通常の、カラーフィルタ
ー材料や、各種配線材料、そのほか、必要とする印刷の
使用目的に応じて選択された各種インキ材料が用いられ
る。これらは、市販されているものをそのまま使用する
ほか、溶剤により希釈したり、増粘剤を添加したりし
て、行なおうとする印刷とその方法に適したレオロジー
特性を有するものとして手を加えても構わない。また、
必要に応じて、各種材料成分を混練し、調整しても良
い。

【００２７】いずれにしても、ドクターブレードに接触
する際に生じる温度の変化によって切れやすくなる性質
を持つインキであれば何れでもよい。例えば加熱される
ことによって流動性が高くなったり、劈開性が生じるよ
うな性質を有するものであれば良い。但し、インキの切
れが生じる方式はこれに限定されるものではない。

【００２８】ヒーター４は、どのようなものを用いても
良い、また、ドクターブレードの加温機構は、いわゆる
ヒーターに限定されるものではない。ドクタリング時に
おいて、ドクターブレードが暖まった状態を保持できる
ものであれば、あらゆる方法が適用される。また、ヒー
ターを用いている場合は、そのヒーターに、温度制御の
サーモスタット等の機構が装備されていればなお良い。

【００２９】被印刷物であるワーク１０６は青板ガラ
ス、シリカガラス、その他の各種ガラス材、セラミック
ス、他の一般的な基板が用いられる。

【００３０】（作用）本発明による、印刷方法、画像形
成装置を用いることにより、前述の技術的問題点が解決
される。

【００３１】すなわち、ドクタリングに際して、加温さ
れた印刷用ドクターブレードが凹版の擦り切り部をイン
キをかきとりながら通過する際、ドクターブレードに接
触したインキがブレードによって加温されて切れやすく
なり、ドクターブレードのかきとり動作によって忠実に
かきとられ、版内にはドクターブレード刃先の軌跡通り
にインキが残って充填される。したがって、このとき、
インキは凹版の凹部のパターンに忠実に充填され、ドク
タリング時のドクターブレードの刃先の軌跡を制御する
ことによって、版内へは安定的に必要な量のインキを充
填させることができる。

【００３２】次に、実施例をあげて本発明を説明する。

【００３３】

【実施例】以下実施例により本発明を更に説明する。

【００３４】実施例１ガラス製の凹版２にインキ３をインキングし、ステンレ
ス製のドクターブレード１にヒーター４を装備したオフ
セット印刷装置を用いてドクタリングした［図１］。こ
の時、ドクターブレードは常に５５℃を保つように調節
した。また、本実施例で使用したインキは有機金属から
成るＰｔレジネートペースト（エヌ・イー・ケムキャッ
ト（株）社製エム・オー・ペーストＥ−３１００）
である。

【００３５】ドクタリングの直後にレーザー顕微鏡によ
り、版のパターンを観察したところ、インキの版の凹部
への充填率は１００％であった。また、版のパターン部
を顕微鏡観察したところ、かき残りは発生していなかっ
た。

【００３６】実施例２インキ３（有機金属から成るＰｔレジネートペースト
（エヌ・イー・ケムキャット（株）社製エム・オー・
ペーストＥ−３１００）を、５０℃の恒温槽にて攪拌
しながら５０℃に加温した。これをガラス製の凹版２に
インキングし、すぐにステンレス製のドクターブレード
１でドクタリングした。その直後にレーザー顕微鏡によ
り、凹版のパターンを観察したところインキは凹版の凹
部一杯に充填されていた。

【００３７】実施例３ステンレス製の版の下にヒーターを付設し、凹版パター
ン表面が５０℃を保つように制御した。この凹版のイン
キ（有機金属から成るＰｔレジネートペースト（エヌ・
イー・ケムキャット（株）社製エム・オー・ペースト
Ｅ−３１００））をインキングし、ポリプロピレン製
のドクターブレードを用いてドクタリングした。

【００３８】この直後にレーザー顕微鏡により、版のパ
ターンを観察したところインキは版の凹部一杯に充填さ
れていた。

【００３９】実施例４以下、オフセット印刷により形成された電子放出素子の
素子電極を用いた画像形成装置の製造方法について説明
する。

【００４０】上記の各実施例で説明したオフセットブラ
ンケットを用いたオフセット印刷装置によってガラス基
板上に電子放出素子の素子電極を印刷形成した。この実
施例においてインキは有機金属から成るＰｔレジネート
ペースト（エヌ・イー・ケムキャット（株）社製エム
・オー・ペーストＥ−３１００）を用いた。ガラス基
板上に転移されたインキは、約８０℃の乾燥と約５８０
℃の焼成によって、Ｐｔから成る素子電極として利用で
きる。印刷乾燥後のガラス基板上のインキ転写厚みは約
２ミクロン程度と小さく、且つ均一であり、印刷電極パ
ターン幅の太りは非常に小さかった。さらに、焼成後の
Ｐｔ電極厚みは約４００オングストロームと薄く形成す
ることができた。ここで、素子電極のパターン形状とし
ては、電子放出材を配置する素子電極間隔を有し、その
寸法を約２０ミクロンに設定した。

【００４１】以上のようにして形成した素子電極に対し
て配線とＰｄ微粒子から成る薄膜を形成することによっ
て電子源基板を作製することができる。以下、図面を用
いて説明する。

【００４２】図３において、４０１は青板ガラスから成
る電子源基板。４０２、４０３、４０４は本発明によっ
てオフセット印刷形成された素子電極である。４０７、
４０８、４０９は、Ａｇペーストインキのスクリーン印
刷および焼成で得られた厚み約７ミクロンの印刷配線で
ある。素子電極４０２、４０３、４０４は印刷配線４０
７、４０８、４０９と各々接続している。４０５、４０
６は有機金属溶液の塗布焼成で得られた厚み約２００オ
ングストロームのＰｄ微粒子から成る薄膜であり、素子
電極４０２、４０３、４０４およびその電極間隔部に配
置するようにＣｒ薄膜のリバースエッチ法によってパタ
ーニングした。４１０、４１１、４１２はメッキ配線
で、印刷配線４０７、４０８、４０９上に厚み約５０ミ
クロン、幅４００ミクロンのＣｕメッキによって形成し
た。

【００４３】また、４１５は青板ガラスから成るガラス
基板で、電子源基板４０１と５ｍｍ隔たれて対向してい
る。４１６、４１７は蛍光体で、基板４１５上に配置さ
れており、対向した電子源基板４０１上に配置された素
子電極４０２、４０３、４０４から成る電極間隔部に対
応した位置に形成されている。蛍光体４１６、４１７は
感光性樹脂を蛍光体に混ぜてスラリー状とし、塗布乾燥
した後、ホトリソグラフィ法によってパターニング形成
したものである。４１８は蛍光体４１６、４１７上にフ
ィルミング工程を施した後、真空蒸着によって厚み約３
００オングストロームのＡｌ薄膜を成膜し、これを焼成
してフィルム層を焼失することによって得られたメタル
バックである。以上の、蛍光体およびメタルバックをガ
ラス基板４１５上に形成したものをフェースプレートと
呼ぶ。

【００４４】４１９は素子基板とフェースプレート間に
配置されたグリッド電極である。以上を真空外囲器の中
に配置した後、メッキ配線４１０、４１１、４１２間に
電圧を印加して、薄膜４０５、４０６の通電処理を行
い、電子放出部４１３、４１４を得た。この後、メタル
バック４１８をアノード電極としての電子の引き出し電
圧５ｋＶを印加し、メッキ配線４１０、４１１、４１２
間を通して素子電極４０２、３０４から電子放出部４１
３へ１４Ｖの電圧を印加したところ、電子が放出され
た。この放出電子をグリッド４１９の電圧を変化させる
ことによって変調し、蛍光体４１８へ照射される放出電
子量を調整することができた。これにより蛍光体４１６
を任意に発光させることができた。同様に素子電極４０
３、４０４から電子放出部４１４へ１４Ｖの電圧を印加
したところ、電子が放出された。この放出電子をグリッ
ド４１９の電圧を変化させることによって変調し、蛍光
体４１７へ照射される放出電子量を調整することができ
た。これにより蛍光体４１７を任意に発光させることが
できた。

【００４５】なお図面上では２個の表示画素に対する構
成で説明したが、表示画素数はこれに限るものではな
い。従って、配線とグリッドをマトリックス状に形成
し、多数個の電子放出素子を配置、駆動することによっ
て多数個の表示画素によって任意の画像表示を可能とす
ることができる。

【００４６】このとき、本発明による、印刷用ドクター
ブレードを用いたことによって、ドクタリング時のかき
残り、かきとりすぎなどが発生しなかったため、素子電
極の形状精度が向上し、素子間が均一に形成されてお
り、素子の欠陥が原因の画素欠陥は見られなかった。

【００４７】比較例１ガラス製の凹版２にインキ３（Ｐｔレジネートペースト
（エヌ・イー・ケムキャット（株）社製エム・オー・
ペーストＥ−３１００））をインキングし、ステンレ
ス製のドクターブレード１を用いてドクタリングした
［図２］。

【００４８】ドクタリングの直後にレーザー顕微鏡によ
り、版のパターンを観察したところ、インキは版の凹部
に３０％しか残っていなかった。また、パターン部を観
察したところ、凹部以外の場所にもあちこちでかき残り
が発生していた。

【００４９】

【発明の効果】以上のように、本発明のオフセット印刷
方法および画像形成装置によれば、インキの充填時に於
て、その刃先の温度がインキが切れやすくなるように高
温に調節されているため、インキの充填が版の凹部にほ
ぼ完全に行なわれ、その結果、このあとの受理・転移に
おいて印刷パターンは版の形状を忠実に再現することが
可能となる。さらには、その結果、膜厚など三次元形状
まで含めた形状のきわめて均一なパターニングが行なわ
れ、特に、大画面の液晶ディスプレー等、薄型ディスプ
レーの基板の配線材料やカラーフィルターなどの印刷に
非常に有効である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のオフセット印刷工程を示す実施例１の
説明図。

【図２】従来のオフセット印刷工程を示す比較例１の説
明図。

【図３】本発明の実施例４の画像形成装置を示す上面
図。

【図４】表面伝導型電子放出素子を示す上面図。

【図５】表面伝導型電子放出素子を示す上面図。

【図６】従来例のオフセット印刷装置を示す上面図。

【図７】従来例のオフセット印刷工程を示す側面図。

【符号の説明】

１ドクターブレード２凹版３インキ４ヒーター１０５凹版１０６青板ガラス１０７インキ１１３ブランケット１１７ドクターブレード４０２、４０３、４０４素子電極４０５、４０６薄膜４０７、４０８、４０９印刷配線４１０、４１１、４１２メッキ配線４１３、４１４電子放出部４１５ガラス基板４１６、４１７、４１８蛍光体４１９グリッド５０１素子電極５０２下層印刷配線５０３絶縁層５０４開口５０５上層印刷配線５０９薄膜１００１基板１００４導電性薄膜１００５電子放出部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中原伸之東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤノン株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】オフセット印刷におけるインキのドクタ
リングに際して、ドクタリングブレード、インキおよび
凹版の何れか１つまたは２以上を加熱することによりイ
ンキ切れを向上させることを特徴とするオフセット印刷
方法。
【請求項２】加熱温度が３０〜１００℃の温度範囲で
あることを特徴とするオフセット印刷方法。
【請求項３】オフセット印刷におけるインキのドクタ
リングに際してドクタリングブレード、インキおよび凹
版の何れか１つまたは２以上を加熱するオフセット印刷
方法により基板上に電子放出素子の素子電極を印刷形成
し、該素子電極に導電薄膜と配線を形成して得られる電
子源基板を組込んでなる画像形成装置。
【請求項４】加熱温度が３０〜１００℃の温度範囲で
あることを特徴とする画像形成装置。